JP2000035676A5 - - Google Patents
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- 230000003287 optical Effects 0.000 description 10
- 230000001174 ascending Effects 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 2
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】 被露光材を載置するワークステージと、マスクパターンを有するマスクを載置するマスクステージと、前記マスクパターンを被露光材上の所定位置に対向させるようにワークステージとマスクステージとを相対的に位置決めするステージ送り機構とを備えた近接露光装置において、
前記ステージ送り機構による送り誤差がないとした場合の送り方向を基準として前記ワークステージに対するマスクの位置をパターン面内で調整するマスク位置調整手段を備えたことを特徴とする分割逐次近接露光装置。
【請求項2】 請求項1記載の分割逐次近接露光装置において、前記ワークステージの複数箇所に設けられたテーブル基準マークと該テーブル基準マークに対応して前記マスクに設けられたマスク基準マークとのずれ量を求める複数のアライメントカメラをさらに備え、前記マスク位置調整手段は前記アライメントカメラにより得られた前記テーブル基準マークとマスク基準マークとのずれ量に基づいて前記マスクの位置を調整することを特徴とする分割逐次近接露光装置。
【請求項3】 請求項1又は2記載の分割逐次近接露光装置において、前記ワークステージに設けられたミラーと、該ミラーからの反射光に基づいて前記ワークステージのヨーイングと真直度を検出するレーザ干渉計とをさらに備え、前記マスク位置調整手段は前記レーザ干渉計の検出結果に基づいて補正を加えて前記マスクの位置を調整することを特徴とする分割逐次近接露光装置。
【請求項4】 請求項2又は3記載の分割逐次近接露光装置において、前記アライメントカメラの光軸方向の位置を調整するピント調整機構をさらに備えたことを特徴とする分割逐次近接露光装置。
【請求項5】 請求項4記載の分割逐次近接露光装置において、前記ワークステージの上面と前記マスクの下面との間のギャップ量を検出するギャップセンサをさらに備え、前記ピント調整機構は前記ギャップセンサからの出力に基づいて前記アライメントカメラの光軸方向の位置を調整することを特徴とする分割逐次近接露光装置。
【請求項6】 請求項4又は5記載の分割逐次近接露光装置において、前記ピント調整機構は前記アライメントカメラにより得られた前記マスク基準マークのコントラストに基づいて前記アライメントカメラの光軸方向の位置を調整することを特徴とする分割逐次近接露光装置。
【請求項7】 請求項2〜6のいずれか一項記載の分割逐次近接露光装置において、前記テーブル基準マークを前記アライメントカメラの下方位置から投影するテーブルマーク投影光学系をさらに備えてなることを特徴とする分割逐次近接露光装置。
【請求項8】 前記テーブルマーク投影光学系は前記テーブル基準マークと前記マスク基準マークとの間に配される結像レンズを有し、該結像レンズは前記テーブル基準マークの形成位置と前記マスク基準マークの形成位置にそれぞれ焦点を有することを特徴とする請求項7記載の分割逐次近接露光装置。
【請求項9】 請求項1〜8のいずれか一項記載の分割逐次近接露光装置において、前記マスクステージ上の被露光材と前記マスクステージに保持されたマスクとのすき間を調整するギャップ調整手段をさらに備えたことを特徴とする分割逐次近接露光装置。
【請求項10】 前記ギャップ調整手段は前記ワークステージを上下方向に駆動する上下粗動装置と、該上下粗動装置の昇降ピッチよりも小さいピッチで前記ワークステージを上下方向に駆動する上下微動機構とからなり、前記ワークステージは予め設定された目標位置まで前記上下粗動装置により上昇駆動された後、前記上下微動機構により上昇駆動されて前記マスクステージとのギャップ調整が行なわれることを特徴とする請求項9記載の分割逐次近接露光装置。
【請求項11】 前記上下微動機構は3台の可動くさび機構からなることを特徴とする請求項10記載の分割逐次近接露光装置。
【請求項12】 前記マスクステージは前記マスクを吸着する真空式吸着装置を有し、前記マスクは該マスクの下面が前記マスクステージの下面よりも下方に位置するように前記真空式吸着装置に吸着されることを特徴とする請求項1〜11のいずれか一項記載の分割逐次近接露光装置。
【請求項13】 請求項1〜12のいずれか一項記載の分割逐次近接露光装置において、前記マスク位置調整手段は、少なくとも一層目のパターンが形成された被露光材に別のパターンを露光するに際して、前記ステージ送り機構による基準となる送り方向に対する前記ステージ送り機構による実際の送り方向のずれ角と、前記被露光材の前記ワークステージ上への搭載時における姿勢と、前記ワークステージ送り機構による送り量と、に基づいてマスクの位置を調整することを特徴とする分割逐次近接露光装置。
【請求項1】 被露光材を載置するワークステージと、マスクパターンを有するマスクを載置するマスクステージと、前記マスクパターンを被露光材上の所定位置に対向させるようにワークステージとマスクステージとを相対的に位置決めするステージ送り機構とを備えた近接露光装置において、
前記ステージ送り機構による送り誤差がないとした場合の送り方向を基準として前記ワークステージに対するマスクの位置をパターン面内で調整するマスク位置調整手段を備えたことを特徴とする分割逐次近接露光装置。
【請求項2】 請求項1記載の分割逐次近接露光装置において、前記ワークステージの複数箇所に設けられたテーブル基準マークと該テーブル基準マークに対応して前記マスクに設けられたマスク基準マークとのずれ量を求める複数のアライメントカメラをさらに備え、前記マスク位置調整手段は前記アライメントカメラにより得られた前記テーブル基準マークとマスク基準マークとのずれ量に基づいて前記マスクの位置を調整することを特徴とする分割逐次近接露光装置。
【請求項3】 請求項1又は2記載の分割逐次近接露光装置において、前記ワークステージに設けられたミラーと、該ミラーからの反射光に基づいて前記ワークステージのヨーイングと真直度を検出するレーザ干渉計とをさらに備え、前記マスク位置調整手段は前記レーザ干渉計の検出結果に基づいて補正を加えて前記マスクの位置を調整することを特徴とする分割逐次近接露光装置。
【請求項4】 請求項2又は3記載の分割逐次近接露光装置において、前記アライメントカメラの光軸方向の位置を調整するピント調整機構をさらに備えたことを特徴とする分割逐次近接露光装置。
【請求項5】 請求項4記載の分割逐次近接露光装置において、前記ワークステージの上面と前記マスクの下面との間のギャップ量を検出するギャップセンサをさらに備え、前記ピント調整機構は前記ギャップセンサからの出力に基づいて前記アライメントカメラの光軸方向の位置を調整することを特徴とする分割逐次近接露光装置。
【請求項6】 請求項4又は5記載の分割逐次近接露光装置において、前記ピント調整機構は前記アライメントカメラにより得られた前記マスク基準マークのコントラストに基づいて前記アライメントカメラの光軸方向の位置を調整することを特徴とする分割逐次近接露光装置。
【請求項7】 請求項2〜6のいずれか一項記載の分割逐次近接露光装置において、前記テーブル基準マークを前記アライメントカメラの下方位置から投影するテーブルマーク投影光学系をさらに備えてなることを特徴とする分割逐次近接露光装置。
【請求項8】 前記テーブルマーク投影光学系は前記テーブル基準マークと前記マスク基準マークとの間に配される結像レンズを有し、該結像レンズは前記テーブル基準マークの形成位置と前記マスク基準マークの形成位置にそれぞれ焦点を有することを特徴とする請求項7記載の分割逐次近接露光装置。
【請求項9】 請求項1〜8のいずれか一項記載の分割逐次近接露光装置において、前記マスクステージ上の被露光材と前記マスクステージに保持されたマスクとのすき間を調整するギャップ調整手段をさらに備えたことを特徴とする分割逐次近接露光装置。
【請求項10】 前記ギャップ調整手段は前記ワークステージを上下方向に駆動する上下粗動装置と、該上下粗動装置の昇降ピッチよりも小さいピッチで前記ワークステージを上下方向に駆動する上下微動機構とからなり、前記ワークステージは予め設定された目標位置まで前記上下粗動装置により上昇駆動された後、前記上下微動機構により上昇駆動されて前記マスクステージとのギャップ調整が行なわれることを特徴とする請求項9記載の分割逐次近接露光装置。
【請求項11】 前記上下微動機構は3台の可動くさび機構からなることを特徴とする請求項10記載の分割逐次近接露光装置。
【請求項12】 前記マスクステージは前記マスクを吸着する真空式吸着装置を有し、前記マスクは該マスクの下面が前記マスクステージの下面よりも下方に位置するように前記真空式吸着装置に吸着されることを特徴とする請求項1〜11のいずれか一項記載の分割逐次近接露光装置。
【請求項13】 請求項1〜12のいずれか一項記載の分割逐次近接露光装置において、前記マスク位置調整手段は、少なくとも一層目のパターンが形成された被露光材に別のパターンを露光するに際して、前記ステージ送り機構による基準となる送り方向に対する前記ステージ送り機構による実際の送り方向のずれ角と、前記被露光材の前記ワークステージ上への搭載時における姿勢と、前記ワークステージ送り機構による送り量と、に基づいてマスクの位置を調整することを特徴とする分割逐次近接露光装置。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、請求項1に係る本発明は、被露光材を載置するワークステージと、マスクパターンを有するマスクを載置するマスクステージと、前記マスクパターンを被露光材上の所定位置に対向させるようにワークステージとマスクステージとを相対的に位置決めするステージ送り機構とを備えた近接露光装置において、前記ステージ送り機構による送り誤差がないとした場合の送り方向を基準として前記ワークステージに対するマスクの位置をパターン面内で調整するマスク位置調整手段を備えたことを特徴とする。
請求項2に係る本発明は、請求項1記載の分割逐次近接露光装置において、前記ワークステージの複数箇所に設けられたテーブル基準マークと該テーブル基準マークに対応して前記マスクに設けられたマスク基準マークとのずれ量を求める複数のアライメントカメラをさらに備え、前記マスク位置調整手段が前記アライメントカメラにより得られた前記テーブル基準マークとマスク基準マークとのずれ量に基づいて前記マスクの位置を調整することを特徴とする。
請求項3に係る本発明は、請求項1又は2記載の分割逐次近接露光装置において、前記ワークステージに設けられたミラーと、該ミラーからの反射光に基づいて前記ワークステージのヨーイングと真直度を検出するレーザ干渉計とをさらに備え、前記マスク位置調整手段が前記レーザ干渉計の検出結果に基づいて補正を加えて前記マスクの位置を調整することを特徴とする。
請求項4に係る本発明は、請求項2又は3記載の分割逐次近接露光装置において、前記アライメントカメラの光軸方向の位置を調整するピント調整機構をさらに備えたことを特徴とする。
請求項5に係る本発明は、請求項4記載の分割逐次近接露光装置において、前記ワークステージの上面と前記マスクの下面との間のギャップ量を検出するギャップセンサをさらに備え、前記ピント調整機構が前記ギャップセンサからの出力に基づいて前記アライメントカメラの光軸方向の位置を調整することを特徴とする。
請求項6に係る本発明は、請求項4又は5記載の分割逐次近接露光装置において、前記ピント調整機構は前記アライメントカメラにより得られた前記マスク基準マークのコントラストに基づいて前記アライメントカメラの光軸方向の位置を調整することを特徴とする。
請求項7に係る本発明は、請求項2〜6のいずれか一項記載の分割逐次近接露光装置において、前記テーブル基準マークを前記アライメントカメラの下方位置から投影するテーブルマーク投影光学系をさらに備えてなることを特徴とする。
請求項8に係る本発明は、請求項7記載の分割逐次近接露光装置において、前記テーブルマーク投影光学系が前記テーブル基準マークと前記マスク基準マークとの間に配される結像レンズを有し、該結像レンズが前記テーブル基準マークの形成位置と前記マスク基準マークの形成位置にそれぞれ焦点を有することを特徴とする。
請求項9に係る本発明は、請求項1〜8のいずれか一項記載の分割逐次近接露光装置において、前記マスクステージ上の被露光材と前記マスクステージに保持されたマスクとのすき間を調整するギャップ調整手段をさらに備えたことを特徴とする。
請求項10に係る本発明は、請求項9記載の分割逐次近接露光装置において、前記ギャップ調整手段は前記ワークステージを上下方向に駆動する上下粗動装置と、該上下粗動装置の昇降ピッチよりも小さいピッチで前記ワークステージを上下方向に駆動する上下微動機構とからなり、前記ワークステージは予め設定された目標位置まで前記上下粗動装置により上昇駆動された後、前記上下微動機構により上昇駆動されて前記マスクステージとのギャップ調整が行なわれることを特徴とする。
請求項11に係る本発明は、請求項10記載の分割逐次近接露光装置において、前記上下微動機構が3台の可動くさび機構からなることを特徴とする。
請求項12に係る本発明は、請求項1〜11のいずれか一項記載の分割逐次近接露光装置において、前記マスクステージが前記マスクを吸着する真空式吸着装置を有し、前記マスクは該マスクの下面が前記マスクステージの下面よりも下方に位置するように前記真空式吸着装置に吸着されることを特徴とする。
請求項13に係る本発明は、請求項1〜12のいずれか一項記載の分割逐次近接露光装置において、前記マスク位置調整手段が、少なくとも一層目のパターンが形成された被露光材に別のパターンを露光するに際して、前記ステージ送り機構による基準となる送り方向に対する前記ステージ送り機構による実際の送り方向のずれ角と、前記被露光材の前記ワークステージ上への搭載時における姿勢と、前記ワークステージ送り機構による送り量と、に基づいてマスクの位置を調整することを特徴とする。
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、請求項1に係る本発明は、被露光材を載置するワークステージと、マスクパターンを有するマスクを載置するマスクステージと、前記マスクパターンを被露光材上の所定位置に対向させるようにワークステージとマスクステージとを相対的に位置決めするステージ送り機構とを備えた近接露光装置において、前記ステージ送り機構による送り誤差がないとした場合の送り方向を基準として前記ワークステージに対するマスクの位置をパターン面内で調整するマスク位置調整手段を備えたことを特徴とする。
請求項2に係る本発明は、請求項1記載の分割逐次近接露光装置において、前記ワークステージの複数箇所に設けられたテーブル基準マークと該テーブル基準マークに対応して前記マスクに設けられたマスク基準マークとのずれ量を求める複数のアライメントカメラをさらに備え、前記マスク位置調整手段が前記アライメントカメラにより得られた前記テーブル基準マークとマスク基準マークとのずれ量に基づいて前記マスクの位置を調整することを特徴とする。
請求項3に係る本発明は、請求項1又は2記載の分割逐次近接露光装置において、前記ワークステージに設けられたミラーと、該ミラーからの反射光に基づいて前記ワークステージのヨーイングと真直度を検出するレーザ干渉計とをさらに備え、前記マスク位置調整手段が前記レーザ干渉計の検出結果に基づいて補正を加えて前記マスクの位置を調整することを特徴とする。
請求項4に係る本発明は、請求項2又は3記載の分割逐次近接露光装置において、前記アライメントカメラの光軸方向の位置を調整するピント調整機構をさらに備えたことを特徴とする。
請求項5に係る本発明は、請求項4記載の分割逐次近接露光装置において、前記ワークステージの上面と前記マスクの下面との間のギャップ量を検出するギャップセンサをさらに備え、前記ピント調整機構が前記ギャップセンサからの出力に基づいて前記アライメントカメラの光軸方向の位置を調整することを特徴とする。
請求項6に係る本発明は、請求項4又は5記載の分割逐次近接露光装置において、前記ピント調整機構は前記アライメントカメラにより得られた前記マスク基準マークのコントラストに基づいて前記アライメントカメラの光軸方向の位置を調整することを特徴とする。
請求項7に係る本発明は、請求項2〜6のいずれか一項記載の分割逐次近接露光装置において、前記テーブル基準マークを前記アライメントカメラの下方位置から投影するテーブルマーク投影光学系をさらに備えてなることを特徴とする。
請求項8に係る本発明は、請求項7記載の分割逐次近接露光装置において、前記テーブルマーク投影光学系が前記テーブル基準マークと前記マスク基準マークとの間に配される結像レンズを有し、該結像レンズが前記テーブル基準マークの形成位置と前記マスク基準マークの形成位置にそれぞれ焦点を有することを特徴とする。
請求項9に係る本発明は、請求項1〜8のいずれか一項記載の分割逐次近接露光装置において、前記マスクステージ上の被露光材と前記マスクステージに保持されたマスクとのすき間を調整するギャップ調整手段をさらに備えたことを特徴とする。
請求項10に係る本発明は、請求項9記載の分割逐次近接露光装置において、前記ギャップ調整手段は前記ワークステージを上下方向に駆動する上下粗動装置と、該上下粗動装置の昇降ピッチよりも小さいピッチで前記ワークステージを上下方向に駆動する上下微動機構とからなり、前記ワークステージは予め設定された目標位置まで前記上下粗動装置により上昇駆動された後、前記上下微動機構により上昇駆動されて前記マスクステージとのギャップ調整が行なわれることを特徴とする。
請求項11に係る本発明は、請求項10記載の分割逐次近接露光装置において、前記上下微動機構が3台の可動くさび機構からなることを特徴とする。
請求項12に係る本発明は、請求項1〜11のいずれか一項記載の分割逐次近接露光装置において、前記マスクステージが前記マスクを吸着する真空式吸着装置を有し、前記マスクは該マスクの下面が前記マスクステージの下面よりも下方に位置するように前記真空式吸着装置に吸着されることを特徴とする。
請求項13に係る本発明は、請求項1〜12のいずれか一項記載の分割逐次近接露光装置において、前記マスク位置調整手段が、少なくとも一層目のパターンが形成された被露光材に別のパターンを露光するに際して、前記ステージ送り機構による基準となる送り方向に対する前記ステージ送り機構による実際の送り方向のずれ角と、前記被露光材の前記ワークステージ上への搭載時における姿勢と、前記ワークステージ送り機構による送り量と、に基づいてマスクの位置を調整することを特徴とする。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10307426A JP2000035676A (ja) | 1998-05-15 | 1998-10-28 | 分割逐次近接露光装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13387898 | 1998-05-15 | ||
JP10-133878 | 1998-05-15 | ||
JP10307426A JP2000035676A (ja) | 1998-05-15 | 1998-10-28 | 分割逐次近接露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000035676A JP2000035676A (ja) | 2000-02-02 |
JP2000035676A5 true JP2000035676A5 (ja) | 2005-12-08 |
Family
ID=26468117
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10307426A Pending JP2000035676A (ja) | 1998-05-15 | 1998-10-28 | 分割逐次近接露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000035676A (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4736277B2 (ja) * | 2001-08-28 | 2011-07-27 | 凸版印刷株式会社 | カラーフィルターの着色画素の形成方法及びカラーフィルターのブラックマトリックスの形成方法 |
JP4522142B2 (ja) * | 2004-05-18 | 2010-08-11 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 露光装置、露光方法、及び基板製造方法 |
JP4529606B2 (ja) * | 2004-09-15 | 2010-08-25 | 日本精工株式会社 | 近接露光装置及び近接露光装置の制御方法 |
JP2006100590A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Nsk Ltd | 近接露光装置 |
JP5166681B2 (ja) * | 2005-07-26 | 2013-03-21 | Nskテクノロジー株式会社 | ステップ式近接露光装置 |
CN101460897B (zh) * | 2006-06-07 | 2013-03-27 | 株式会社V技术 | 曝光方法以及曝光装置 |
JP4799324B2 (ja) * | 2006-09-05 | 2011-10-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP5104107B2 (ja) * | 2007-08-02 | 2012-12-19 | ウシオ電機株式会社 | 帯状ワークの露光装置及び帯状ワークの露光装置におけるフォーカス調整方法 |
JP5029786B2 (ja) * | 2010-03-12 | 2012-09-19 | パナソニック株式会社 | アライメント方法およびフラットパネルディスプレイの製造方法 |
JP5537466B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2014-07-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 露光装置 |
JP5958491B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2016-08-02 | ウシオ電機株式会社 | 偏光光照射装置 |
CN106158715B (zh) * | 2015-04-24 | 2021-04-02 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 用于晶圆的预对准装置及方法 |
JP6723112B2 (ja) * | 2016-08-29 | 2020-07-15 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光装置及び露光方法 |
-
1998
- 1998-10-28 JP JP10307426A patent/JP2000035676A/ja active Pending
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