JP2005244012A5 - - Google Patents
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- 光源からの波長5〜20nmの光で被露光体を露光する露光装置において、
第1のミラーと第2のミラーを含み、前記光を前記被露光体に導く光学系と、
前記第1ミラーの温度が第1ゼロ交差温度になるように制御する第1の制御手段と、
前記第2ミラーの温度が前記第1ゼロ交差温度と異なる第2ゼロ交差温度になるように制御する第2の制御手段と、を有し、
前記第1ゼロ交差温度とは、前記第1ミラーの線膨張係数がゼロになる温度であり、
前記第2ゼロ交差温度とは、前記第2ミラーの線膨張係数がゼロになる温度である
ことを特徴とする露光装置。 - 前記第1制御手段は、輻射を用いて前記第1ミラーの温度を制御し、
前記第2制御手段は、輻射を用いて前記第2ミラーの温度を制御する
ことを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記第1ゼロ交差温度と前記第2ゼロ交差温度との差が、2度以内である
ことを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記第1ゼロ交差温度と前記第2ゼロ交差温度との差が、1度以内である
ことを特徴とする請求項3記載の露光装置。 - 請求項1乃至4のいずれか一項記載の露光装置を用いて被露光体を露光するステップと、
露光された前記被露光体を現像するステップと、を有する
ことを特徴とするデバイス製造方法。
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EP05251193A EP1569036B1 (en) | 2004-02-27 | 2005-02-28 | Exposure apparatus and device manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004053238A JP4393226B2 (ja) | 2004-02-27 | 2004-02-27 | 光学系及びそれを用いた露光装置、デバイスの製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005244012A5 true JP2005244012A5 (ja) | 2009-11-05 |
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ID=35025411
Family Applications (1)
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KR102002269B1 (ko) * | 2010-07-30 | 2019-07-19 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | Euv 노광 장치 |
DE102012213671A1 (de) * | 2012-08-02 | 2014-02-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegelanordnung für eine EUV-Lithographieanlage und Verfahren zur Herstellung derselben |
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2004
- 2004-02-27 JP JP2004053238A patent/JP4393226B2/ja not_active Expired - Fee Related
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