JP2005244007A - Method for manufacturing printed wiring board with cavity - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体チップ及び受動部品等を実装するためのキャビティーを有するキャビティー付プリント配線板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board with a cavity having a cavity for mounting a semiconductor chip, a passive component, and the like.
半導体装置の高集積化は年々高まる傾向にあり、また、この種の半導体装置を高密度にプリント配線板に実装することが求められている。半導体装置のプリント配線板への高密度実装を実現するために、パッケージングされた半導体装置をプリント配線板に実装するのではなく、プリント配線板にパッケージングされていない半導体チップ及び受動部品等を直接実装する技術がいくつか提案されている(例えば、特許文献1参照)。 High integration of semiconductor devices tends to increase year by year, and it is required to mount this type of semiconductor device on a printed wiring board at high density. In order to realize high-density mounting of a semiconductor device on a printed wiring board, a packaged semiconductor device is not mounted on a printed wiring board, but semiconductor chips and passive components that are not packaged on the printed wiring board are mounted. Several techniques for direct mounting have been proposed (see, for example, Patent Document 1).
また、プリント配線板の表面上に各種の電子部品を実装する、いわゆる面実装においても、片面実装や両面実装のような平面による2次元的な実装構造では、同一平面内で幾種類ものベアチップ実装を駆使しても、実装の更なる高密度化へは対応が難しくなってきている。このため、最近では実装形態を同一平面に限らない、3次元実装構造や積層型実装構造が提案されるようになってきた。3次元あるいは積層型実装構造を実現する手段として、プリント配線板を多層配線板とし、この多層配線板に対して、予めキャビティーと呼ばれる凹型の窪みを施しておき、そのキャビティーに半導体チップ及び受動部品等を実装するキャビティー構造が多く使用されるようになっている。 Also, in the so-called surface mounting, where various electronic components are mounted on the surface of a printed wiring board, two-dimensional mounting structures using a flat surface such as single-sided mounting or double-sided mounting, several types of bare chip mounting are performed within the same plane. Even if it makes full use of it, it has become difficult to respond to further higher density mounting. For this reason, recently, a three-dimensional mounting structure and a stacked mounting structure, in which the mounting form is not limited to the same plane, have been proposed. As a means for realizing a three-dimensional or stacked type mounting structure, a printed wiring board is a multilayer wiring board, and a concave depression called a cavity is applied to the multilayer wiring board in advance, and a semiconductor chip and a cavity are formed in the cavity. A cavity structure for mounting passive components and the like is often used.
図5(a)に従来のキャビティー付プリント配線板の一例を示す模式構成断面図を、図5(b)に、図5(a)をB−B’面で見た模式上面図をそれぞれ示す。
図5(a)において、キャビティー付プリント配線板200は、絶縁材112の所定位置にキャビティー151が形成されたもので、キャビティー151内には、電極パッド122’と電極パッド122’に接続された配線層123’が形成されている。
さらに、キャビティー151には半導体チップ及び受動部品等が実装され、キャビティー型実装基板装置を得ることができる。
FIG. 5 (a) is a schematic cross-sectional view showing an example of a conventional printed wiring board with a cavity, FIG. 5 (b) is a schematic top view of FIG. 5 (a) as seen from the BB ′ plane, respectively. Show.
In FIG. 5A, a printed
Furthermore, a semiconductor chip, passive components, etc. are mounted in the
以下、上記キャビティー付プリント配線板200の製造方法について説明する。
図6(a)〜(e)及び図7(f)〜(i)は、上記キャビティー付プリント配線板200の製造方法の一例を示す模式構成部分断面図である。
Hereinafter, the manufacturing method of the printed
6 (a) to 6 (e) and FIGS. 7 (f) to (i) are schematic configuration partial cross-sectional views illustrating an example of a method for manufacturing the printed
まず、ガラスエポキシからなる絶縁基材111の両面に銅箔121を積層した両面銅張り積層板を準備する(図6(a)参照)。
次に、この両面銅張り積層板の両面に、ドライフィルム等をラミネートする等の方法で感光層131を形成し(図6(b)参照)、パターン露光、現像等のパターニング処理を行って、レジストパターン131a及び131bを形成する(図6(c)参照)。
First, a double-sided copper-clad laminate in which
Next, a
次に、レジストパターン131a及び131bをエッチングマスクにして、塩化第2鉄液等のエッチング液を用いて銅箔121をエッチングし、レジストパターン131a及び131bを専用の剥離液で剥離処理し、絶縁基材111の一方の面にパッド電極122、パッド電極122に接続された配線層123及び配線層124を、絶縁基材111の他方の面にランド125を形成する(図6(d)参照)。
Next, using the
次に、プリプレグ(ガラスエポキシ)シート及び銅箔141を加熱、加圧して積層し、絶縁層112及び銅箔141が積層された積層板を得る(図6(d)参照)。
次に、積層板の銅箔141上に、ドライフィルム等をラミネートする等の方法で感光層1
32を形成し(図7(f)参照)、パターン露光、現像等のパターニング処理を行って、レジストパターン132aを形成する(図7(g)参照)。
Next, the prepreg (glass epoxy) sheet and the
Next, the photosensitive layer 1 is laminated by a method such as laminating a dry film on the
32 is formed (see FIG. 7F), and a patterning process such as pattern exposure and development is performed to form a
次に、絶縁基材111のランド125上にマスクテープを貼付して保護層151を形成し、、レジストパターン132aをエッチングマスクにして、塩化第2銅等のエッチング液を用いて銅箔141をエッチングし、レジストパターン132aを専用の剥離液で剥離処理し、保護層151を剥離し、絶縁層112上の所定位置にランド142を形成する(図7(h)参照)。
Next, a
次に、絶縁層112の所定位置をルータービットで座ぐり加工して、キャビティー151を形成する(図7(i)参照)。
ここで、パッド電極122及びパッド電極122に接続された配線層123の上部はパッド電極122の電気的接続面を確保するためにルータービットで削られる。切削量は銅箔121の厚みにもよるが、6〜12μm程度になる。銅箔121として35μmの銅箔を使用した場合キャビティー151内のパッド電極122’及びパッド電極122’に接続された一部の配線層123’の膜厚は29〜23μmとなる。
Here, the
上記したように、絶縁材をルータービットで座ぐり加工して、キャビティーを形成する方法は、ルータービットで座ぐり加工する際パッド電極及び配線層の一部が削られること及びキャビティー周辺部ではルータービットのストレスが大きくかかり、積層板の反り等により、加工面高さのバラツキが発生すると、キャビティーを形成した後キャビティー周辺部の配線層が部分的に欠損したり、ディッシュダウン(皿のように凹んだ欠損)が発生し、配線層の断線につながるような問題が発生することがある。 As described above, the method of forming the cavity by spotting the insulating material with the router bit is that the pad electrode and a part of the wiring layer are scraped when the router bit is spotted and the periphery of the cavity. Then, when the stress of the router bit is greatly applied and the processed surface height varies due to the warping of the laminated board, the wiring layer around the cavity is partially lost or dished down ( There is a case in which a deficient defect such as a dish occurs) and a problem that leads to disconnection of the wiring layer may occur.
そこで本発明は、キャビティー内に形成されたキャビティー周辺部かかる配線層の断線を防止するためのキャビティー付プリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a printed wiring board with a cavity for preventing disconnection of a wiring layer around the cavity formed in the cavity.
本発明は、上記課題を達成するために、半導体チップ及び受動部品等を実装するためのキャビティーをNC加工機の座ぐり加工にて形成してなるキャビティー付プリント配線板の製造方法において、キャビティー周辺部にかかる配線層の所定位置に線幅補正領域を設け、予め前記線幅補正領域の配線層の線幅を大きくして座ぐり加工を行うことを特徴とするキャビティー付プリント配線板の製造方法としたものである。 In order to achieve the above object, the present invention provides a method for manufacturing a printed wiring board with a cavity, in which a cavity for mounting a semiconductor chip, a passive component, and the like is formed by spot facing of an NC processing machine. A printed wiring with a cavity, characterized in that a line width correction region is provided at a predetermined position of the wiring layer on the periphery of the cavity, and the line width of the wiring layer in the line width correction region is increased in advance to perform spot facing processing. This is a method for manufacturing a plate.
本発明のキャビティー付プリント配線板の製造方法は、半導体チップ及び受動部品等を実装するためのキャビティーをNC加工機の座ぐり加工にて形成する際キャビティー周辺部にかかる配線層の所定位置に線幅補正領域を設けて、予め線幅補正領域の配線層の線幅を太く補正しておくことにより、欠損・ディッシュダウン等が発生しても配線層の断線までに至らない信頼性のあるプリント配線板を提供することが可能となる。 The method for manufacturing a printed wiring board with a cavity according to the present invention provides a predetermined wiring layer applied to the periphery of the cavity when a cavity for mounting a semiconductor chip, a passive component, or the like is formed by spot facing of an NC processing machine. By providing a line width correction area at the position and correcting the line width of the wiring layer in the line width correction area thickly in advance, reliability that does not lead to disconnection of the wiring layer even if loss or dishdown occurs It is possible to provide a printed wiring board having the same.
図1(a)は、本発明のキャビティー付プリント配線板の製造方法で得られたキャビティー付プリント配線板の一例を示す模式構成断面図である。図1(b)は、図1(a)をA−A’面で見た模式上面図で、キャビティー51周辺部の配線層23及び線幅補正領域
23aの形状を示す説明図である。
図1(a)に示すキャビティー付プリント配線板100は、絶縁材12の所定位置にキャビティー51を形成した4層プリント配線板の事例である。
図1(b)には、キャビティー51内に形成されたパッド電極及びキャビティー51周辺部にかかる配線層23及び線幅補正領域23aの形状を示したもので、キャビティー51周辺部にかかる配線層23の一部の線幅が太く補正されているのが分かる。
FIG. 1A is a schematic cross-sectional view showing an example of a printed wiring board with cavities obtained by the method for manufacturing a printed wiring board with cavities of the present invention. FIG. 1B is a schematic top view of FIG. 1A viewed along the plane AA ′, and is an explanatory view showing the shapes of the
A printed wiring board with a
FIG. 1B shows the shape of the pad electrode formed in the
以下本発明のキャビティー付プリント配線板の製造方法について説明する。
図2(a)〜(e)及び図3(f)〜(i)は、本発明のキャビティー付プリント配線板の製造方法の一実施例を工程順に示す模式構成断面図である。
Hereinafter, a method for producing a printed wiring board with a cavity according to the present invention will be described.
2 (a) to 2 (e) and FIGS. 3 (f) to 3 (i) are schematic cross-sectional views showing an embodiment of the method for producing a printed wiring board with a cavity according to the present invention in the order of steps.
まず、ガラスエポキシ等からなる絶縁基材11の両面に銅箔21を積層した両面銅張り積層板を準備する(図2(a)参照)。
次に、この両面銅張り積層板の両面に、ドライフィルム等をラミネートする等の方法で感光層31を形成し(図2(b)参照)、パターン露光、現像等のパターニング処理を行って、レジストパターン31a及び31bを形成する(図2(c)参照)。
First, a double-sided copper-clad laminate in which
Next, on both sides of this double-sided copper-clad laminate, a
次に、レジストパターン31a及び31bをエッチングマスクにして、塩化第2鉄液等のエッチング液を用いて銅箔21をエッチングし、レジストパターン31a及び31bを専用の剥離液で剥離処理し、絶縁基材11の一方の面にパッド電極22、パッド電極22に接続された配線層23及び線幅補正領域23aを、絶縁基材11の他方の面に配線層25を形成する(図2(d)及び図4参照)。
Next, using the resist
ここで、配線層23及び線幅補正領域23aについて説明する。
図4に、絶縁基材11上のキャビティー内に形成されたパッド電極22、配線層23及び線幅補正領域23aの部分拡大平面図を示す。
パッド電極22に接続された配線層23は、通常であれば同じ線幅で形成されるが、配線層23の一部がキャビティー51形成領域(特に、キャビティー周辺部)にかかる場合キャビティー51周辺部にかかる配線層23の所定位置に線幅補正領域23aを設け、配線層23の線幅を太く補正する。
線幅補正領域23aの線幅は配線層23の1.5〜2倍程度が好ましい。
Here, the
FIG. 4 shows a partially enlarged plan view of the
The
The line width of the line
次に、プリプレグ(ガラスエポキシ)シート及び銅箔41を加熱、加圧して積層し、絶縁材12及び銅箔41が積層された積層板を得る(図2(d)参照)。
次に、積層板の銅箔41上に、ドライフィルム等をラミネートする等の方法で感光層32を形成し(図3(f)参照)、パターン露光、現像等のパターニング処理を行って、レジストパターン32a及びレジストパターン32bを形成する(図3(g)参照)。
Next, the prepreg (glass epoxy) sheet and the
Next, a
次に、レジストパターン32a及びレジストパターン32bをエッチングマスクにして、塩化第2鉄液等のエッチング液を用いて銅箔41をエッチングし、レジストパターン32a及びレジストパターン32bを専用の剥離液で剥離処理し、絶縁材12上の所定位置にランド42及びランド43を形成する(図3(h)参照)。
Next, using the resist
次に、絶縁材12の所定位置をルータービットで座ぐり加工して、キャビティー51を形成し、キャビティー51内に電極及び配線層の上部がルータービットで削り取られたパッド電極22’、配線層23’及び線幅補正領域23a’を形成する(図3(i)及び図1(b)参照)。また、キャビティー51内のパッド電極22’、配線層23’及び線幅補正領域23a’の周辺部にはパッド電極22’、配線層23’及び線幅補正領域23a’と同一高さの絶縁層12aが形成される。
ここで、絶縁基材11上に形成されたパッド電極22、配線層23及び線幅補正領域23
aは、絶縁材12をルータービットで座ぐり加工する際びパッド電極22、配線層23及び線幅補正領域23aの上部が、パッド電極22の上部に電気的接続面を確保するためルータービットで所定量削られる。切削量は銅箔21の厚みにもよるが、6〜12μm程度になる。銅箔21として35μmの銅箔を使用した場合キャビティー51内のパッド電極22’、配線層23’及び線幅補正領域23a’の膜厚は29〜23μmとなる。
Next, a predetermined position of the insulating
Here, the
a is a router bit when the insulating
上記したように、本発明のキャビティー付プリント配線板の製造方法は、半導体チップ及び受動部品等を実装するためのキャビティーをNC加工機の座ぐり加工にて形成する際キャビティー周辺部にかかる配線層の所定位置に線幅補正領域を設け、予め線幅補正領域の配線層の線幅を太く補正しておくことにより、欠損・ディッシュダウン等が発生しても配線層の断線までに至らない信頼性のあるプリント配線板を提供することが可能となる。 As described above, the method for manufacturing a printed wiring board with a cavity according to the present invention has a cavity for mounting a semiconductor chip, a passive component, and the like in a cavity peripheral portion when the cavity is formed by a spot machining of an NC processing machine. By providing a line width correction area at a predetermined position in such a wiring layer and correcting the line width of the wiring layer in the line width correction area to be large in advance, even if a defect or dishdown occurs, the wiring layer is disconnected. It is possible to provide an unreliable printed wiring board.
まず、エポキシ樹脂系からなる絶縁基材11に35μmの銅箔21を積層した両面銅張り積層板の両面に、感光性ドライフィルムを圧力1.5MPa、ラミネートスピード1.0m/minにてラミネートして、25μm厚の感光層31を形成した(図2(a)及び(b)参照)。
First, a photosensitive dry film was laminated at a pressure of 1.5 MPa and a laminating speed of 1.0 m / min on both sides of a double-sided copper-clad laminate obtained by laminating a 35
次に、露光マスクを用いて50mj/cm2の露光量の紫外線でパターン露光し、30℃の1%炭酸化ナトリウム水溶液を1.5MPaの圧力にてスプレー現像し、レジストパターン31a及び31bを形成した(図2(c)参照)。
Next, pattern exposure is performed with an ultraviolet ray having an exposure amount of 50 mj / cm 2 using an exposure mask, and a 1% sodium carbonate aqueous solution at 30 ° C. is spray-developed at a pressure of 1.5 MPa to form resist
次に、レジストパターン31a及び31bをエッチングマスクにして、塩化第2銅からなる銅エッチング液を1.5MPaの圧力で、60秒間スプレーエッチングすることにより、銅箔21をエッチングした。さらに、レジストパターン31a及び31bを50℃、2.5%の水酸化ナトリウム水溶液を1.5MPaの圧力でスプレー剥離処理し、絶縁基材11の一方の面にパッド電極22、パッド電極22に接続された配線層23及び線幅補正領域23aを、絶縁基材11の他方の面に配線層25を形成した(図2(d)及び図4参照)。
Next, using the resist
次に、プリプレグ(ガラスエポキシ)シート及び35μmの銅箔41を加熱、加圧して、絶縁材12及び銅箔41が積層された積層板を得た(図2(d)参照)。
次に、積層板の銅箔41上に、感光性ドライフィルムを圧力1.5MPa、ラミネートスピード1.0m/minにてラミネートして、25μm厚の感光層32を形成した(図3(f)参照)。
Next, the prepreg (glass epoxy) sheet and the 35
Next, the photosensitive dry film was laminated on the
次に、露光マスクを用いて50mj/cm2の露光量の紫外線でパターン露光し、30℃の1%炭酸化ナトリウム水溶液を1.5MPaの圧力にてスプレー現像し、レジストパターン32a及び32bを形成した(図3(g)参照)。
Next, pattern exposure is performed with an ultraviolet ray having an exposure amount of 50 mj / cm 2 using an exposure mask, and a 1% sodium carbonate aqueous solution at 30 ° C. is spray-developed at a pressure of 1.5 MPa to form resist
次に、レジストパターン32a及び32bをエッチングマスクにして、塩化第2銅からなる銅エッチング液を1.5MPaの圧力で、60秒間スプレーエッチングすることにより、銅箔41をエッチングした。さらに、レジストパターン31a及び31bを50℃、2.5%の水酸化ナトリウム水溶液を1.5MPaの圧力でスプレー剥離処理し、絶縁材12上の所定位置にランド42及びランド43を形成した(図3(h)参照)。
Next, using the resist
次に、絶縁材12の所定位置をNC加工機に取り付けられたルータービット径1.0mmφのルータービットを用いて、回転数20000〜30000rpm、送り速度0.1〜0.5m/minで絶縁材12の所定位置を座ぐり加工して、キャビティー51を形成し、キャビティー51内にパッド電極22’、配線層23’及び線幅補正領域23a’を
形成し、キャビティー付プリント配線板を得た(図3(i)及び図1(b)参照)。
ここで、パッド電極22’、配線層23’及び線幅補正領域23a’の厚みは26μmであった。
配線層23’及び線幅補正領域23a’の断線は確認されず、良好なキャビティー付プリント配線板が得られた。
Next, using a router bit having a router bit diameter of 1.0 mmφ attached to the NC processing machine at a predetermined position of the insulating
Here, the thicknesses of the
The disconnection of the
(b)は、(a)をA−A’面で見た模式上面図である。
(b)は、(a)をB−B’面で見た上面図である。
11、111……絶縁基材
12、112……絶縁材
12a、112a……絶縁層
21、41、121、141……銅箔
22、22’、122……パッド電極
23、23’、24、25、123、124……配線層
23a、23a’……線幅補正領域
31、32、131、132……感光層
31a、31b、32a、32b、131a、131b、132a……レジストパターン42、43、125……ランド
51……キャビティー
100、200……キャビティー付プリント配線板
151……保護層
11, 111 ...... Insulating
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004053150A JP2005244007A (en) | 2004-02-27 | 2004-02-27 | Method for manufacturing printed wiring board with cavity |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012119911A (en) * | 2010-11-30 | 2012-06-21 | Kyocera Kinseki Corp | Piezoelectric device |
JP2016208020A (en) * | 2015-04-22 | 2016-12-08 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Method of manufacturing circuit board, method of manufacturing light-emitting device, and light-emitting device |
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2004
- 2004-02-27 JP JP2004053150A patent/JP2005244007A/en active Pending
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JP2012119911A (en) * | 2010-11-30 | 2012-06-21 | Kyocera Kinseki Corp | Piezoelectric device |
JP2016208020A (en) * | 2015-04-22 | 2016-12-08 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Method of manufacturing circuit board, method of manufacturing light-emitting device, and light-emitting device |
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