JP2020092210A - Printed wiring board and manufacturing method of the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は凹部を備えるプリント配線板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board having a recess.
特許文献1には、両面銅張積層板を加工して形成されたコア基板上に第1のビルドアップ層が形成され、第1のビルドアップ層に形成されたキャビティに電子部品が搭載された電子部品内蔵基板が開示されている。キャビティの底面は銅からなるストッパー層で構成され、そのストッパー層に電子部品が接着剤を介して固定されている。
In
特許文献1の電子部品内蔵基板では、キャビティは、レーザー光による加工速度が樹脂よりなる絶縁層に比べて遅いストッパー層を用いてレーザー加工を行うことによって形成されている。キャビティの底面を平坦に形成することは困難であると考えられる。
In the electronic component-embedded substrate of
本発明の凹部を備えるプリント配線板の製造方法は、第1面を有する絶縁層を準備することと、前記第1面上に金属保護層を形成することと、前記金属保護層上に、導体層と絶縁層とが交互に積層されたビルドアップ層を形成することと、前記ビルドアップ層の一部を除去することにより前記金属保護層を露出する凹部を形成することと、前記凹部に露出された前記金属保護層の一部を除去することと、を含む。そして、前記金属保護層を形成することは、第1金属保護層を形成することと、前記第1金属保護層上に平面視で重なるように前記第1金属保護層の材料とは異なる材料からなる第2金属保護層を形成することを含み、前記金属保護層の一部を除去することは、前記第2金属保護層をエッチング液を用いて除去することによって前記第1金属保護層を露出させることと、を含んでいる。 A method of manufacturing a printed wiring board having a recess according to the present invention comprises: preparing an insulating layer having a first surface; forming a metal protective layer on the first surface; and forming a conductor on the metal protective layer. Forming a build-up layer in which layers and insulating layers are alternately laminated, forming a recess for exposing the metal protective layer by removing a part of the build-up layer, and exposing the recess Removing a portion of the metal protective layer that has been removed. Then, forming the metal protective layer includes forming a first metal protective layer and forming a metal protective layer from a material different from the material of the first metal protective layer so as to overlap the first metal protective layer in a plan view. Removing a portion of the metal protective layer comprises exposing the first metal protective layer by removing the second metal protective layer with an etchant. It includes making things happen.
本発明の実施形態によれば、底面の平坦性に優れた凹部をプリント配線板のビルドアップ層中の任意の位置に形成することができる。 According to the embodiment of the present invention, it is possible to form the recess having excellent flatness on the bottom surface at an arbitrary position in the buildup layer of the printed wiring board.
本発明のプリント配線板の製造方法の一実施形態が、図面を参照して説明される。図1には、本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法により製造されるプリント配線板の一例であるプリント配線板1の一部の断面図が示されている。一実施形態の製造方法は、図2A〜2Hに示されている。図1に示されるように、プリント配線板1は、第1面10Fを備える第1絶縁層10と、第1絶縁層10の第1面10F上に設けられている第1導体層11と、第1絶縁層10および第1導体層11の上に積層されている少なくとも一組の絶縁層10aおよび導体層11aと、第1導体層11を底面に露出させる凹部2と、を備えている。図1の例では、第1絶縁層10の第1面10F上および第1導体層11の上に、全部で5つの絶縁層10aと全部で5つの導体層11aとが交互に積層されており、5組の絶縁層10aおよび導体層11aが積層されている。凹部2は、この少なくとも一組の絶縁層10aおよび導体層11aを貫通している。
An embodiment of a method for manufacturing a printed wiring board of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a partial cross-sectional view of a printed
凹部2の底面は、第1導体層11における第1絶縁層10と反対側の表面の露出部によって構成されている。凹部2の内部には、プリント配線板1に実装される半導体装置等の電子部品が、凹部2の底部に露出する第1導体層11に導電性接着剤等により接着されることで搭載される。凹部2の内部には、複数の電子部品が搭載されてもよい。任意の数の電子部品が搭載され得る。また、プリント配線板1には、複数の凹部2が所望の位置に設けられていてもよい。
The bottom surface of the
本実施形態において、凹部2の底面は平坦性に優れた、かつ、清浄な表面をもつ金属層で構成されている。プリント配線板1の使用時に、凹部2の内部に電子部品が、安定して信頼性高く搭載され得る。後述する実施形態のプリント配線板1の製造方法では、このような底面をもつことを特徴とする凹部2をプリント配線板内の任意の位置に形成する方法が説明される。
In the present embodiment, the bottom surface of the
第1絶縁層10および絶縁層10aと第1導体層11および導体層11aとは、いわゆるビルドアップ層3を構成している。図1に示される例では、ビルドアップ層3は、6つの導体層(第1導体層11および導体層11a)と、各導体層間に介在する絶縁層(第1絶縁層10および絶縁層10a)との積層体によって構成されている。導体層(第1導体層11および導体層11a)のそれぞれは、所望の導体パッドおよび/または配線パターンを有するように適宜パターニングされている。そして、各絶縁層(第1絶縁層10および絶縁層10a)は、それぞれの絶縁層における上下両側の導体層同士を接続する複数のビア導体12を含んでいる。
The first
図1に示される例では、プリント配線板1はビルドアップ層3の最外層の絶縁層10aおよび導体層11a上にソルダーレジスト層5を備えている。ソルダーレジスト層5は、ビルドアップ層3の最外層の導体層11aが有する導体パッドを露出させる開口5cを備えている。
In the example shown in FIG. 1, the printed
各導体層(第1導体層11および各導体層11a)ならびに各ビア導体12は、好ましくは金属製の導電体、例えば、銅箔などの金属箔、および/または、銅の電解もしくは無電解めっき膜によって構成される。図示されていないが、例えば、図1のプリント配線板1のビルドアップ層3の第1導体層11および各導体層11aは、それぞれ、無電解めっき膜および電解めっき膜を含む2層構造で形成され得る。
Each conductor layer (
第1絶縁層10および絶縁層10aは、例えばエポキシ樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂(BT樹脂)またはフェノール樹脂などの有機樹脂材料によって形成される。有機樹脂材料は、補強材などを含まないエポキシ樹脂などでもよいが、ガラス繊維のような補強材にエポキシまたは他の樹脂組成物を含浸させた材料であってもよい。エポキシなどの樹脂組成物には、シリカなどの無機フィラーが含有されていてもよい。また、実装時に凹部2内に載置される電子部品は、特に限定されない。マイコン、ゲートアレイおよびメモリなどの半導体集積回路装置が主に例示される。
The first insulating
凹部2は上述のように、ビルドアップ層3内の少なくとも一組の絶縁層10aおよび導体層11aを貫通して形成されている。図1の例では、凹部2は5組の絶縁層10aおよび導体層11aを貫通している。凹部2の底面を構成する第1導体層11の導体パターンの平面視における大きさは、凹部2の開口面積よりも大きく、この導体パターンの平面視における外縁は、凹部2の内壁よりも凹部2の外周側に位置している。また、凹部2の内壁は、凹部2の底面付近において凹部2の外側に向って凹む窪みを有している。
As described above, the
凹部2の大きさは、搭載される電子部品のサイズに合わせて設計され得る。例えば凹部2の深さD、すなわち、ビルドアップ層3の最外層(図1の例では、ソルダーレジスト層5)の表面と第1導体層11の凹部2内への露出面との、ビルドアップ層3の積層方向における高さの差は、図1の例に限定される訳ではない。凹部2の深さDは、内部に載置される電子部品の高さにあわせて貫通させる絶縁層10aおよび導体層11aの組数を適宜選択することによって、簡便に調整され得る。
The size of the
このような凹部2をプリント配線板1に形成することを含む、実施形態(第1実施形態)のプリント配線板の製造方法の一例が、図1に示されるプリント配線板1を例に、図2A〜2Hを参照して具体的に説明される。なお、添付の図面においてプリント配線板の各構成要素のサイズや形状の正確な比率を示すことは意図されていない。
An example of the method for manufacturing the printed wiring board of the embodiment (first embodiment) including forming
まず、例えばコア基板などの一面上にビルドアップ層3が形成される。コア基板としては、例えばコア部となる絶縁層を含む両面銅張積層板が使用され得る。そして、両面銅張積層板にサブトラクティブ法を用いて導体層が形成されたものなどが使用され得る。しかし、両面銅張積層板を用いずに、絶縁層の一面上にアディティブ法によって、導体層が形成されていてもよい。次いで、コア部となる絶縁層上および導体層上に、ビルドアップ層3の絶縁層と導体層とが交互に積層される。
First, the
図2Aは、ビルドアップ層3を形成する絶縁層および導体層のうち、所定の数の絶縁層と導体層とが交互に積層された後、凹部2の底面となる第1導体層11が形成される工程を示している。第1導体層11はビルドアップ層3の任意の位置に形成することができる。したがって、所望される凹部2の深さDに合わせて、第1導体層11を形成する位置は適宜選択される。
FIG. 2A shows that, after a predetermined number of insulating layers and conductive layers among the insulating layers and the conductive layers forming the build-up
まず、図2Aに示されるように、第1導体層11よりコア基板側に一層内側である導体層11cを被覆する第1絶縁層10がフィルム状のエポキシ樹脂等を熱圧着することにより形成される。次いで、ビア導体12の形成場所に第1絶縁層10を貫通する貫通孔101が例えば炭酸ガスレーザー光を所定の位置に照射することで形成される。そして、例えばセミアディティブ法を用いて、例えば銅の無電解めっき膜(図示せず)および銅の電解めっき膜(図示せず)を含み、所望の導体パターンを有する第1導体層11が形成される。同時に、銅の無電解めっき膜(図示せず)および電解めっき膜(図示せず)を含むビア導体12が形成される。
First, as shown in FIG. 2A, the first insulating
第1導体層11は、所望の導体パターンを有するように形成される。特に図1に例示されるプリント配線板1が製造される場合は、図2Aに示されるように、第1導体層11は、導体パターンの一部として、凹部2が形成される所定の領域に、第1金属保護層21である第1パターン11pを含むように形成される。この第1金属保護層21の第1絶縁層10と反対側の表面が、図1に示されるように、凹部2の底面を形成する。
The
図2Bに示されるように、続いて、第1金属保護層21の上に平面視で重なるように第2金属保護層22が、例えばパターンめっき法により積層される。第1金属保護層21と第2金属保護層22とは、異なる材料で形成されることが好ましい。例えば第1金属保護層21は銅からなり、例えば第2金属保護層22はニッケルからなる。図2A〜2Hで示されているプリント配線板1の製造方法の実施形態では、第1金属保護層21と第2金属保護層22とで金属保護層20が形成されている。なお、第1金属保護層21上に2以上の金属保護層が形成されて金属保護層20が形成されていてもよい。すなわち、図2Bにおいて二点鎖線で示されるように、第2金属保護層22上にさらに平面視で重なるように第3金属保護層23が形成され、第1〜第3の金属保護層21〜23で金属保護層20が構成されていてもよい。この場合、第3金属層23は、第2金属保護層22の材料とは異なる材料、例えば銅で形成される。
As shown in FIG. 2B, subsequently, the second metal
次いで、図2Cに示されるように、第1絶縁層10、第1導体層11および金属保護層20の上に、例えばフィルム状のエポキシ樹脂またはプリプレグを積層することによって絶縁層10aが形成される。
Next, as shown in FIG. 2C, the insulating
続いて、図2Dに示されるように、絶縁層10aに、ビア導体12(図1参照)用の貫通孔101がレーザー加工またはドリル加工などによって形成される。
Subsequently, as shown in FIG. 2D, a through
そして図2Eに示されるように、例えばセミアディティブ法を用いて、所望の導体パターンを有する導体層11aおよびビア導体12が、それぞれ形成される。同様の工程を所望の回数(図2Eの例では4回)繰り返すことによって、ビルドアップ層3が完成される。なお、図2Eの例では形成されていないが、凹部2の形成領域内の各導体層11aに、ダミーパターンが設けられていてもよい。
Then, as shown in FIG. 2E, the
図1に例示のプリント配線板1の製造では、図2Fに示されるように、ビルドアップ層3上にソルダーレジスト層5が形成される。ソルダーレジスト層5は、例えば、感光性のエポキシ樹脂またはポリイミド樹脂などを用いて形成される。ソルダーレジスト層5には、露光および現像によって開口5cが形成される。
In the manufacture of the printed
その後、図2Gに示されるように、ビルドアップ層3の一部に凹部2が形成される。凹部2の形成は、ビルドアップ層3の所定の領域をソルダーレジスト5側からのドリル加工等の機械加工で掘削することによって行われ得る。凹部2が形成される領域に対応する、ビルドアップ層3内の絶縁層10aおよび導体層11aならびにソルダーレジスト層5の一部が除去される。除去は、金属保護層20の第1絶縁層10と反対側の表面(図2Gの例では、第2金属保護層22の第1金属保護層21と反対側の表面)の全面が露出するように掘削することにより行われる。金属保護層20が底部に露出する凹部2が形成される。
After that, as shown in FIG. 2G, the
次いで、図2Hに示されるように、金属保護層20の凹部2の底部に露出している部分である第2金属保護層22が、エッチング液を用いたエッチングによって除去され、第1金属保護層21が凹部2の底部に露出する。エッチング液としては、例えば、第2金属保護層22に対するエッチング速度が、第1金属保護層21に対するエッチング速度よりも速いエッチング液が用いられる。これにより、第2金属保護層22のみを除去することができる。この結果、凹部2の底部に第1金属保護層21が露出する。
Next, as shown in FIG. 2H, the second metal
上述のように、掘削をドリル加工により行って凹部2が形成される場合、掘削後に凹部2の底部に露出する金属保護層20の表面は、ドリルによる切削痕により粗面にされている。また、露出した金属保護層20の表面上には、ドリル加工で生じた残渣等が残ってしまう場合があり、このような場合には、残渣を凹部2内から除去する必要がある。上述の図2A〜2Hに例示された製造方法によれば、金属保護層20のドリル加工による切削痕が形成されている部分は、第2金属保護層22内に含まれており、この部分は、第2金属保護層22がエッチングにより除去されることによって除去されることになる。エッチングにより、第2金属保護層22と第1金属保護層21との界面が露出する。すなわち、凹部2の底面として清浄かつ平坦な第1金属保護層21の表面が露出することになる。エッチングの際には、ドリル加工等によって発生した残渣も併せて除去されるので、凹部2の底面の平坦性はより向上される。凹部2の内部に搭載される電子部品は安定して信頼性高く搭載され得る。
As described above, when excavation is performed by drilling to form the recessed
金属保護層20が3以上の金属保護層から構成されている場合、例えば、第2金属保護層22の上に第3金属保護層23が形成されて、第1〜第3の金属保護層21、22、23で金属保護層20が形成されている場合、例えば、第3金属保護層23を銅で形成し、第2金属保護層22をニッケルで形成し、第1金属保護層21を第1導体層11の一部として銅で形成することができる。このような場合、まず、銅に対するエッチング速度がニッケルに対するエッチング速度と比較して速い、例えば硫酸と過酸化水素を混合した酸性のエッチング液により、第3金属保護層23がエッチングされる。その結果、第2金属保護層22が露出される。続いて、ニッケルに対するエッチング速度が銅に対するエッチング速度と比較して速い、例えば硝酸および硫酸を主成分とした水溶液からなるエッチング液を使用して、第2金属保護層22がエッチングされる。第3金属保護層23がレーザー光のストッパーとして用いられるが、第3金属保護層23は銅で形成されているため、ストッパーとして良好に機能すると考えられる。また、第1および第3の金属保護層21、23と比べて、第2金属保護層22に対して強力なエッチング液が使用できるため、第2金属保護層22のエッチング後に露出する第1金属保護層21表面がより清浄な表面となり得る。
When the metal
図2A〜2Hに例示された製造方法によれば、ビルドアップ層3の任意の位置に、底面の平坦性に優れた凹部2を形成することができる。しかしながら、例えば、金属保護層20がその上に設けられる第1絶縁層10は、コア基板の絶縁層であってもよい。この場合、凹部2をコア基板上に設けることができる。
According to the manufacturing method illustrated in FIGS. 2A to 2H, it is possible to form the
図3A〜3Gを参照して、凹部2をコア基板上に設ける実施形態(第2実施形態)が、以下に説明される。まず、図3Aに示されるように、コア部となる絶縁層として絶縁層30aを有する両面銅張積層板が用意される。両面銅張積層板は、絶縁層30aの第1面30Fに第1導体層11となる銅箔301を備えると共に、絶縁層30aの第2面30Sに第2導体層32となる銅箔302を備えている。
An embodiment (second embodiment) in which the
図3Bに示されるように、絶縁層30aへのドリル加工またはレーザー加工などによって、スルーホール導体35の形成位置に貫通孔が形成される。そして、例えばサブトラクティブ法を用いて、例えば銅箔(図示せず)、銅の無電解めっき膜(図示せず)および銅の電解めっき膜(図示せず)を含み、所望の導体パターンを有する第1導体層11および第2導体層32が形成される。同時に、銅の無電解めっき膜および電解めっき膜を含むスルーホール導体35が形成される。なお、第1および第2の導体層11、32ならびにスルーホール導体35の形成には、アディティブ法が用いられてもよい。
As shown in FIG. 3B, a through hole is formed at the position where the through-
第1および第2の導体層11、32は、所望の導体パターンを有するように形成される。図2A〜2Hに例示された製造方法と同様に、第1導体層11は、導体パターンの一部として、凹部2が形成される所定の領域に、第1金属保護層21である第1パターン11pを含むように形成される。
The first and second conductor layers 11 and 32 are formed so as to have a desired conductor pattern. Similar to the manufacturing method illustrated in FIGS. 2A to 2H, the
続いて、図3Cに示されるように、例えば図2Bに示される工程と同様の方法で、第1金属保護層21の上に平面視で重なるように第2金属保護層22が積層されて、金属保護層20が形成される。
Subsequently, as shown in FIG. 3C, the second metal
次いで、図3Dおよび図3Eに示されるように、例えば図2C〜2Eに示される工程と同様の方法で、絶縁層30aの第1面30F、第1導体層11および金属保護層20の上にそれぞれ複数の絶縁層10aおよび導体層11aを交互に積層することによって、ビルドアップ層3が形成される。さらに、ビルドアップ層3の上にソルダーレジスト層5が形成される。好ましくはビルドアップ層3の形成と同時に、絶縁層30aの第2面30Sおよび第2導体層32の上に、それぞれ複数の絶縁層10aおよび導体層11aが積層されてビルドアップ層33が形成される。
Then, as shown in FIGS. 3D and 3E, for example, in the same manner as the steps shown in FIGS. 2C to 2E, the
その後、図3Fに示されるように、例えば図2F〜2Hに示される工程と同様の方法で、ビルドアップ層3内に凹部2が形成される。金属保護層20の第1絶縁層10と反対側の表面が露出するまで、図3Fに示されるソルダーレジスト5側からビルドアップ層3が掘削され、凹部2が形成される領域のビルドアップ層3が除去される。
After that, as shown in FIG. 3F, the
その後、図3Gに示されるように、凹部2の底部に露出した第2金属保護層22が、エッチング液を用いたエッチングによって除去される。清浄かつ平坦な第1金属保護層21の表面が露出する。本実施形態のプリント配線板1aでは、コア基板30上の第1導体層11が第1金属保護層21を構成しており、凹部2の底面に露出している。プリント配線板1aは、凹部2内に搭載される電子部品から発生した熱を、コア基板30の第1導体層11およびスルーホール導体35を利用してビルドアップ層33を通じて、コア基板30の凹部2が形成されている側と反対側へと、効率よく放熱させることができる。
Then, as shown in FIG. 3G, the second metal
図4A〜4Eを参照して、コア基板30を貫通するように凹部2が形成される参考例が説明される。本参考例では、金属保護層20は、コア基板30の下側、すなわちコア基板30において凹部2が形成される側(第1面30F)とは反対側の面である第2面30S上に設けられる。図4A〜4Eの例では、金属保護層20は第1〜第3の金属保護層21〜23で構成される。
A reference example in which the
図4Aに示されるように、まず、コア基板30の絶縁層30aの第2面30Sに、金属保護層20を構成する第1〜第3の金属保護層21〜23のうち、第3金属保護層23が、絶縁層30aと接するように凹部2が形成される所定の領域に形成される。
As shown in FIG. 4A, first, on the
次いで、図4Bに示されるように、第3金属保護層23の上に平面視で重なるように第2金属保護層22が積層され、さらに第2金属保護層22の上に平面視で重なるように第1金属保護層21が積層される。第2および第1の金属保護層22、21は、例えばパターンめっき法により積層される。その結果、3層構造の金属保護層20が形成される。第3金属保護層23および第1金属保護層21は、例えば銅で形成され、第2金属保護層22は、例えばニッケルで形成される。
Next, as shown in FIG. 4B, the second metal
その後、図4Cに示されるように、絶縁層30aの第1面30F上、ならびに、第2面30Sおよび金属保護層20上に、それぞれ、任意の方法で、少なくとも一組の絶縁層10aおよび導体層11aを含むビルドアップ層3および33が形成される。さらにソルダーレジスト層5が形成される。
Thereafter, as shown in FIG. 4C, at least one set of insulating
その後、図4Dに示されるように、例えばドリル加工によるビルドアップ層3の掘削によって凹部2が形成される。本参考例においては、凹部2を形成するための掘削は、コア基板30の金属保護層20が設けられている側と反対側に形成されているビルドアップ層3の表面から(図4Dに示されている例では、ビルドアップ層3の表面に設けられているソルダーレジスト層5の側から)、コア基板30を貫通するように行われる。
掘削後、図4Dに示されるように、凹部2の底面には、第3金属保護層23の表面が露出している。
Then, as shown in FIG. 4D, the
After excavation, as shown in FIG. 4D, the surface of the third metal
図4Eに示されるように、第3金属保護層23がエッチングによって除去され、さらに第2金属保護層22がエッチングによって除去される。第3および第2の金属保護層23、22のエッチングによる除去により、凹部2の底面は清浄かつ平坦な第1金属保護層21の表面が露出する。本参考例においては、凹部2がコア基板30を貫通して形成されるため、より深さの深い凹部2をプリント配線板内に簡便に形成することができる。
As shown in FIG. 4E, the third metal
図5A〜5Fを参照して、凹部2がレーザー加工によって形成される実施形態(第3実施形態)が説明される。本実施形態のように、凹部2の形成のためのビルドアップ層3の除去は、ドリル加工でなくレーザー加工によって行われてもよい。
An embodiment (third embodiment) in which the
図5Aに示されるように、まず、図2Bと同様に、第1絶縁層10上に、第1金属保護層21となる第1パターン11pを含む第1導体層11が形成される。そして、第1金属保護層21上に第2金属保護層22が積層されて、第1金属保護層21および第2金属保護層2とからなる金属保護層20が形成される。
As shown in FIG. 5A, first, similarly to FIG. 2B, the
続いて、図5Bに示されるように、金属保護層20上の金属保護層20と平面視で重なる位置にすなわち凹部2の形成領域に、金属保護層20(図5Bの場合では、第2金属保護層22)と強固には接着せず剥離が容易であるがビルドアップ層3の絶縁層10aとは強固に接着する剥離膜25が設けられる。
Subsequently, as shown in FIG. 5B, the metal protective layer 20 (in the case of FIG. 5B, the second metal is formed) at a position overlapping with the metal
次いで、図5Cに示されるように、第1絶縁層10、第1導体層11および剥離膜25上に、任意の方法でビルドアップ層3が形成される。
Next, as shown in FIG. 5C, the
さらに、図5Dに示されるように、凹部2が形成される領域の周縁全周に、炭酸ガスレーザーまたはYAGレーザー等のレーザー光の照射によって、金属保護層20(図5Dの場合では、第2金属保護層22)を底部とする枠状の溝が形成される。第2金属保護層22はこの際、レーザー光のストッパーとして機能し得る。
Further, as shown in FIG. 5D, the metal protective layer 20 (in the case of FIG. 5D, the second
図5Eに示されるように、ビルドアップ層3のうち溝で囲まれている領域が、例えば治工具などに固定されてこの治工具などを引き上げることにより除去される。第2金属保護層22と剥離膜25との接着はビルドアップ層3の絶縁層10aと剥離膜25との接着と比較して強固でないため、第2金属保護層22と剥離膜25とは比較的容易に剥離され得る。ビルドアップ層3のうち溝で囲まれている領域が剥離膜25と共に除去される。これにより第2金属保護層22の表面が露出される。
As shown in FIG. 5E, a region of the
その後、図5Fに示されるように、ビルドアップ層3における凹部2の形成領域がドリル加工によって除去された場合と同様に、第2金属保護層22がエッチングにより除去される。その結果、図5Fに示されるプリント配線板1cが完成される。本実施形態では、剥離膜25が直接貼り付けられていた第2金属保護層22はエッチングによって除去される。このため、凹部2の形成時に剥離膜25が剥離される際に、たとえ第2金属保護層22上に剥離膜25の残渣が残っていた場合でも、第2金属保護層22がエッチングによって除去される際に、剥離膜25の残渣も第2金属保護層22とともに除去されると考えられる。清浄な金属保護層20(図5Fの場合では、第1金属保護層21)の表面が凹部2の底面に露出するため、電子部品が良好に搭載されると考えられる。
Then, as shown in FIG. 5F, the second metal
各実施形態のプリント配線板は、各図面に例示される構造や、本明細書において例示された構造や材料を備えるものに限定されない。また、プリント配線板の製造方法は、各図面を参照して説明された方法に限定されず、その条件や順序等は適宜変更されてよい。現に製造されるプリント配線板の構造に応じて、一部の工程が省略されてもよく、別の工程が追加されてもよい。 The printed wiring board of each embodiment is not limited to the structure illustrated in each drawing or the structure or material illustrated in this specification. The method for manufacturing the printed wiring board is not limited to the method described with reference to the drawings, and the conditions, order, etc. may be changed as appropriate. Some steps may be omitted or another step may be added depending on the structure of the printed wiring board actually manufactured.
1、1a、1b、1c プリント配線板
2 凹部
3 ビルドアップ層
5 ソルダーレジスト層
10F 第1面
10S 第2面
10 第1絶縁層
10a 絶縁層
11 第1導体層
11a 導体層
12 ビア導体
20 金属保護層
21 第1金属保護層
22 第2金属保護層
23 第3金属保護層
25 剥離膜
30 コア基板
30a コア基板の絶縁層
32 第2導体層
35 スルーホール導体
1, 1a, 1b, 1c Printed
Claims (5)
前記第1面上に金属保護層を形成することと、
前記金属保護層上に、導体層と絶縁層とが交互に積層されたビルドアップ層を形成することと、
前記ビルドアップ層の一部を除去することにより前記金属保護層を露出する凹部を形成することと、
前記凹部に露出された前記金属保護層の一部を除去することと、
を含む凹部を備えるプリント配線板の製造方法であって、
前記金属保護層を形成することは、第1金属保護層を形成することと、前記第1金属保護層上に平面視で重なるように前記第1金属保護層の材料とは異なる材料からなる第2金属保護層を形成することを含み、
前記金属保護層の一部を除去することは、前記第2金属保護層をエッチング液を用いて除去することによって前記第1金属保護層を露出させることとを含んでいる。 Providing an insulating layer having a first surface;
Forming a metal protective layer on the first surface;
On the metal protective layer, forming a buildup layer in which conductive layers and insulating layers are alternately laminated,
Forming a recess exposing the metal protective layer by removing a portion of the buildup layer;
Removing a portion of the metal protective layer exposed in the recess,
A method of manufacturing a printed wiring board having a recess including:
Forming the metal protective layer includes forming a first metal protective layer and forming a first metal protective layer from a material different from the material of the first metal protective layer so as to overlap the first metal protective layer in a plan view. Forming a two metal protective layer,
Removing a part of the metal protective layer includes exposing the first metal protective layer by removing the second metal protective layer with an etchant.
前記第1金属保護層を露出させることは、前記第2金属保護層に対するエッチング速度が前記第1金属保護層に対するエッチング速度よりも速いエッチング液を利用して前記第2金属保護層を除去することを含んでいる。 The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein
Exposing the first metal protective layer may include removing the second metal protective layer using an etchant having an etching rate with respect to the second metal protective layer higher than that with respect to the first metal protective layer. Is included.
前記金属保護層を形成することは、さらに、前記第2金属保護層上に平面視で重なるように前記第2金属保護層の材料とは異なる材料からなる第3金属保護層を形成することを含み、
前記金属保護層の一部を除去することは、さらに、前記第3金属保護層をエッチング液を用いて除去することによって前記第2金属保護層を露出させることを含んでいる。 The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein
Forming the metal protective layer may further include forming a third metal protective layer made of a material different from the material of the second metal protective layer so as to overlap the second metal protective layer in a plan view. Including,
Removing a portion of the metal protective layer further comprises exposing the second metal protective layer by removing the third metal protective layer with an etchant.
前記第2金属保護層を露出させることは、前記第3金属保護層に対するエッチング速度が前記第2金属保護層に対するエッチング速度よりも速いエッチング液を利用して前記第3金属保護層を除去することを含んでいる。 The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 3,
Exposing the second metal protection layer may include removing the third metal protection layer using an etchant having an etching rate with respect to the third metal protection layer higher than that with respect to the second metal protection layer. Is included.
前記金属保護層を露出する凹部を形成することは、前記ビルドアップ層に対してレーザー加工またはドリル加工を行うことを含む。 The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein
Forming the recess that exposes the metal protective layer includes performing laser processing or drill processing on the buildup layer.
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