JP2005242323A - Display device and its driving method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display device, its driving method and an element substrate that can make high in image quality and can improve deterioration of a light emitting element. <P>SOLUTION: Provided is a display device which has a plurality of pixels arranged in matrix and is characterized in that the plurality of pixels each have a light emitting element, a transistor, and a bypass element for AC driving, the light emitting element and transistor are connected in series, and the bypass element for AC driving and transistor are connected in parallel. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、自発光素子を有する表示装置及びその駆動方法に関する。また、絶縁表面上に素子を有する素子基板に関する。   The present invention relates to a display device having a self-luminous element and a driving method thereof. The present invention also relates to an element substrate having elements on an insulating surface.

近年、EL(Electro Luminescence)素子を代表とする自発光素子を有する表示装置の研究開発が進められており、自発光型ゆえの高画質、広視野角、バックライトが不必要であることによる薄型、軽量等の利点を活かして、幅広い利用が期待されている。一般に、EL素子に流す電流値とEL素子の輝度は比例関係にある。そのため、電圧値で輝度を制御するLCDとは異なる画素構成が提案されており、例えば、電流値で輝度を制御する画素構成が提案されている(特許文献1参照)。
国際公開第01/06484号パンフレット
In recent years, research and development of a display device having a self-luminous element typified by an EL (Electro Luminescence) element has been advanced, and the thinness due to the high image quality, wide viewing angle, and no need for a backlight due to the self-luminous type. Utilizing advantages such as light weight, it is expected to be widely used. In general, the value of current flowing through the EL element and the luminance of the EL element are in a proportional relationship. For this reason, a pixel configuration that is different from that of an LCD that controls luminance with a voltage value has been proposed. For example, a pixel configuration that controls luminance with a current value has been proposed (see Patent Document 1).
International Publication No. 01/06484 Pamphlet

発光素子の不良の一例として、発光素子の両電極間にショート箇所が発生する不良が挙げられる。この不良は、発光素子の形成時、画素電極上にゴミ、突起等があり、電界発光層の成膜に不良が生じ、発光素子の両電極が電界発光層を介することなく接触してしまうことによって生ずる。このように発光素子の両電極間にショート箇所が発生した場合、発光素子に順方向バイアスが印加されている状態では、発光素子の全面に電流が流れて発光するが、ショート箇所においては、両電極間を貫通する電流が流れる。ショート箇所に流れる電流は発光に寄与しない。   As an example of the defect of the light emitting element, there is a defect in which a short portion is generated between both electrodes of the light emitting element. This defect is due to dust, protrusions, etc. on the pixel electrode during the formation of the light emitting element, resulting in a defect in the formation of the electroluminescent layer, and the two electrodes of the light emitting element contacting each other without going through the electroluminescent layer. Caused by. As described above, when a short-circuit portion is generated between both electrodes of the light-emitting element, current flows through the entire surface of the light-emitting element in a state where a forward bias is applied to the light-emitting element. A current that passes between the electrodes flows. The current that flows through the short circuit does not contribute to light emission.

また、発光素子の不良の一例として、発光素子の成膜工程におけるゴミの付着等により、電界発光層の膜厚が薄くなる不良も挙げられる。この場合、初期は発光するが、膜厚の薄い部分は周辺部よりもストレスが大きく、やがて前述のショート箇所と同様の不良が生じてくる。この不良は、実際の駆動時間に伴った進行性の不良のため、初期のエージング処理等では対応出来ない場合がある。   In addition, as an example of a defect in a light-emitting element, a defect in which the thickness of the electroluminescent layer becomes thin due to adhesion of dust or the like in the light-emitting element deposition process can be given. In this case, although light is emitted in the initial stage, the portion with a small film thickness is more stressed than the peripheral portion, and eventually a defect similar to the short portion described above occurs. This defect may not be dealt with by the initial aging process or the like because it is a progressive defect with the actual driving time.

上記の実情を鑑み、本発明は、高画質化を実現し、発光素子の劣化を改善することができる表示装置及びその駆動方法、並びに素子基板の提供を課題とする。   In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to provide a display device that can realize high image quality and can improve deterioration of a light-emitting element, a driving method thereof, and an element substrate.

上述した従来技術の課題を解決する方法として、本発明は、発光素子の信頼性向上の一手段として、発光素子に逆方向バイアスを印加する方法を用いる。発光素子に逆方向バイアスを印加すると、発光素子は電気的特性としてダイオードのような整流性を有する。従って、逆方向の電流は流れないが、ショート箇所に電流が流れるため、集中的に電流を流すことで、当該ショート箇所を焼ききるリペアが可能となる。   As a method for solving the above-described problems of the prior art, the present invention uses a method of applying a reverse bias to the light emitting element as one means for improving the reliability of the light emitting element. When a reverse bias is applied to the light emitting element, the light emitting element has a rectifying property like a diode as an electrical characteristic. Therefore, although current does not flow in the reverse direction, current flows through the short-circuited portion. Therefore, repair that burns out the short-circuited portion can be performed by supplying current in a concentrated manner.

本発明の表示装置は、マトリクス状に配置された複数の画素を有し、前記複数の画素はそれぞれ、発光素子と、トランジスタと、交流駆動用バイパス素子とを有し、前記発光素子と前記トランジスタは直列に接続し、前記交流駆動用バイパス素子と前記トランジスタは並列に接続することを特徴とする。   The display device of the present invention includes a plurality of pixels arranged in a matrix, and each of the plurality of pixels includes a light emitting element, a transistor, and an AC drive bypass element, and the light emitting element and the transistor Are connected in series, and the AC drive bypass element and the transistor are connected in parallel.

上記の表示装置は、電流源を有し、前記トランジスタは、前記電流源から供給された信号電流の大きさに依存した電流を前記発光素子に出力することを特徴とする。   The display device includes a current source, and the transistor outputs a current depending on a magnitude of a signal current supplied from the current source to the light emitting element.

本発明の表示装置は、マトリクス状に配置された複数の画素を有し、前記複数の画素はそれぞれ、発光素子、第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、第3のトランジスタ、第4のトランジスタ、保持容量素子、交流駆動用バイパス素子を有する。   The display device of the present invention includes a plurality of pixels arranged in a matrix, and each of the plurality of pixels includes a light emitting element, a first transistor, a second transistor, a third transistor, a fourth transistor, It has a storage capacitor element and an AC drive bypass element.

そして、前記第3のトランジスタのゲート端子は第3の配線に接続し、前記第3のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方は第1の配線に接続し、他方は前記第2のトランジスタのゲート端子に接続し、前記第2のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方は第2の配線を接続し、他方は前記第2のトランジスタのゲート端子に接続し、前記第4のトランジスタのゲート端子は第4の配線に接続し、前記第4のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方は前記第2のトランジスタのゲート端子に接続し、他方は前記第1のトランジスタのゲート端子に接続し、前記第1のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方は前記第2の配線に接続し、他方は発光素子の第1の電極に接続し、前記発光素子の第2の電極は対向電源に接続し、前記保持容量素子の一方の端子は前記第2の配線に接続し、他方は第1のトランジスタのゲート端子に接続し、前記交流駆動用バイパス素子の一方の端子は前記第2の配線に接続し、他方は前記発光素子の第1の電極に接続することを特徴とする。   The gate terminal of the third transistor is connected to a third wiring, one of the source and drain terminals of the third transistor is connected to the first wiring, and the other is the gate terminal of the second transistor. One of the source and drain terminals of the second transistor is connected to the second wiring, the other is connected to the gate terminal of the second transistor, and the gate terminal of the fourth transistor is the fourth terminal. One of the source and drain terminals of the fourth transistor is connected to the gate terminal of the second transistor, and the other is connected to the gate terminal of the first transistor. One of the source / drain terminals of the light-emitting element is connected to the second wiring, the other is connected to the first electrode of the light-emitting element, and the second electrode of the light-emitting element is connected to the counter power source, One terminal of the storage capacitor element is connected to the second wiring, the other terminal is connected to the gate terminal of the first transistor, and one terminal of the AC drive bypass element is connected to the second wiring. The other is connected to the first electrode of the light emitting element.

また、前記第3のトランジスタのゲート端子は第3の配線に接続し、前記第3のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方は第1の配線に接続し、他方は前記第2のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方に接続し、前記第2のトランジスタのソース・ドレイン端子の他方の端子は第2の配線と接続し、前記第4のトランジスタのゲート端子は第4の配線に接続し、前記第4のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方は前記第2のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方と前記第3のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方との接続点に接続し、他方は前記第1のトランジスタのゲート端子と前記第2のトランジスタのゲート端子との接続点に接続し、前記第1のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方は前記第2の配線に接続し、他方は発光素子の第1の電極を接続し、前記発光素子の第2の電極は対向電源に接続し、前記保持容量素子の一方の端子は前記第2の配線に接続し、他方は第1のトランジスタのゲート端子に接続し、前記交流駆動用バイパス素子の一方の端子は前記第2の配線に接続し、他方は前記発光素子の第1の電極に接続することを特徴とする。   The gate terminal of the third transistor is connected to a third wiring, one of the source / drain terminals of the third transistor is connected to the first wiring, and the other is connected to the source / drain of the second transistor. Connected to one of the drain terminals, the other of the source and drain terminals of the second transistor is connected to a second wiring, the gate terminal of the fourth transistor is connected to a fourth wiring, and One of the source and drain terminals of the transistor 4 is connected to a connection point between one of the source and drain terminals of the second transistor and one of the source and drain terminals of the third transistor, and the other is connected to the first transistor. One of the source and drain terminals of the first transistor is connected to the connection point between the gate terminal of the transistor and the gate terminal of the second transistor. The other electrode is connected to the first electrode of the light emitting element, the second electrode of the light emitting element is connected to a counter power source, and one terminal of the storage capacitor element is connected to the second wiring. The other is connected to the gate terminal of the first transistor, one terminal of the AC driving bypass element is connected to the second wiring, and the other is connected to the first electrode of the light emitting element. And

また、交流駆動用バイパス素子はダイオード、ゲート端子とドレイン端子が接続するトランジスタであることを特徴とする。   Further, the AC drive bypass element is a diode, a transistor having a gate terminal and a drain terminal connected to each other.

また、前記発光素子は、第1の電極及び第2の電極の一方は透光性を有し、他方は反射性を有することを特徴とする。また前記発光素子の第1の電極及び第2の電極は透光性を有することを特徴とする。   The light-emitting element is characterized in that one of the first electrode and the second electrode has a light-transmitting property and the other has a reflecting property. In addition, the first electrode and the second electrode of the light-emitting element have a light-transmitting property.

また、本発明は、上記構成を有する表示装置において、発光素子の画素電極までを形成した状態である素子基板を提供する。より詳しくは、素子基板は、絶縁表面上に、トランジスタと、前記トランジスタに接続する画素電極までを形成した状態のものであり、電界発光層と対向電極を形成していない状態に相当する。   In addition, the present invention provides an element substrate in a state where the pixel electrode of the light emitting element is formed in the display device having the above structure. More specifically, the element substrate is a state where a transistor and a pixel electrode connected to the transistor are formed on an insulating surface, and corresponds to a state where an electroluminescent layer and a counter electrode are not formed.

上記構成を有する本発明は、トランジスタの特性ばらつきによる影響、特に駆動用TFTの特性ばらつきによる影響を抑制し、高画質化を実現した表示装置を提供することができる。また、発光素子の劣化を改善し、信頼性の高い表示装置を提供することができる。   The present invention having the above structure can provide a display device which can suppress the influence due to the characteristic variation of the transistor, in particular, the influence due to the characteristic variation of the driving TFT and realize high image quality. In addition, deterioration of the light-emitting element can be improved and a highly reliable display device can be provided.

本発明の実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する本発明の構成において、同じものを指す符号は異なる図面間で共通して用いる。   Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following description, and it is easily understood by those skilled in the art that modes and details can be variously changed without departing from the spirit and scope of the present invention. Therefore, the present invention should not be construed as being limited to the description of the embodiments below. Note that in the structures of the present invention described below, the same reference numerals are used in common in different drawings.

本発明の表示装置の構成について説明する。本発明の表示装置は、ソース駆動回路402から信号が出力される複数のソース線S1〜Sl(lは自然数)、第1のゲート駆動回路403から信号が出力される第1のゲート線Ga1〜Gam(mは自然数)、第2のゲート駆動回路404から信号が出力される第2のゲート線Gb1〜Gbn(nは自然数)がマトリクス状に配置された表示領域401を有する(図4参照)。また、表示領域401は、ソース線Sx(xは自然数、1≦x≦l)と第1のゲート線Gy(yは自然数、1≦y≦m)および第2のゲート線Gz(zは自然数、1≦z≦n)が絶縁体を介して交差する領域に複数の素子を含む画素400を複数有する。   The structure of the display device of the present invention will be described. In the display device of the present invention, a plurality of source lines S1 to S1 (l is a natural number) from which signals are output from the source driver circuit 402, and first gate lines Ga1 to Ga1 to which signals are output from the first gate driver circuit 403. The display area 401 includes Gam (m is a natural number) and second gate lines Gb1 to Gbn (n is a natural number) from which signals are output from the second gate driving circuit 404 (see FIG. 4). . The display region 401 includes a source line Sx (x is a natural number, 1 ≦ x ≦ l), a first gate line Gy (y is a natural number, 1 ≦ y ≦ m), and a second gate line Gz (z is a natural number). 1 ≦ z ≦ n) includes a plurality of pixels 400 including a plurality of elements in a region intersecting with an insulator.

画素400は、発光素子113、スイッチ用TFT103、保持用TFT104、駆動用TFT101、変換用TFT102と交流駆動用バイパス素子115と保持容量112とを有する(図1参照)。
スイッチ用TFT103のゲート電極は第1のゲート線107に接続し、ソース電極およびドレイン電極の一方はソース線105に接続し、他方は変換用TFT102のゲート電極に接続される。また、変換用TFT102のソース電極およびドレイン電極の一方は電源線110に接続し他方は変換用TFT102のゲート電極と接続されている。保持用TFT104のゲート電極は第2のゲート線108に接続し、ソース電極およびドレイン電極の一方は変換用TFT102のゲート電極と接続し、他方は駆動用TFT101のゲート電極に接続する。駆動用TFT101のソース電極およびドレイン電極の一方は電源線110に接続し、他方は発光素子113の第1の電極に接続する。また、発光素子113の第2の電極は第2の電源114に接続する。保持容量112は駆動用TFT101のゲート電極と電源線110の間に接続され、交流駆動用バイパス素子115は、発光素子113の第1の電極と電源線110の間に接続される。ソース線105には輝度情報に応じて制御される電流源106が接続され、電源線110には第1の電源111が接続される。
The pixel 400 includes a light emitting element 113, a switching TFT 103, a holding TFT 104, a driving TFT 101, a conversion TFT 102, an AC driving bypass element 115, and a holding capacitor 112 (see FIG. 1).
The gate electrode of the switching TFT 103 is connected to the first gate line 107, one of the source electrode and the drain electrode is connected to the source line 105, and the other is connected to the gate electrode of the conversion TFT 102. One of the source electrode and the drain electrode of the conversion TFT 102 is connected to the power supply line 110 and the other is connected to the gate electrode of the conversion TFT 102. The gate electrode of the holding TFT 104 is connected to the second gate line 108, one of the source electrode and the drain electrode is connected to the gate electrode of the conversion TFT 102, and the other is connected to the gate electrode of the driving TFT 101. One of the source electrode and the drain electrode of the driving TFT 101 is connected to the power supply line 110, and the other is connected to the first electrode of the light emitting element 113. Further, the second electrode of the light emitting element 113 is connected to the second power source 114. The storage capacitor 112 is connected between the gate electrode of the driving TFT 101 and the power supply line 110, and the AC driving bypass element 115 is connected between the first electrode of the light emitting element 113 and the power supply line 110. A current source 106 controlled in accordance with luminance information is connected to the source line 105, and a first power source 111 is connected to the power line 110.

スイッチ用TFT103、保持用TFT104の導電型は制約されず、N型、P型のどちらの導電型でもよい。また、駆動用TFT101と変換用TFT102の導電型も制約されないが、両者とも同じ導電型である必要がある。発光素子113の極性が、第1の電極から第2の電極に電流が流れる方向が順方向であるならば、図1の様に駆動用TFT101と変換用TFT102はP型である方が望ましい。また、第2の電極から第1の電極に電流が流れる方向が順方向である場合は、駆動用TFT101と変換用TFT102はN型である方が望ましい。   The conductivity type of the switching TFT 103 and the holding TFT 104 is not limited, and may be either N-type or P-type. Further, the conductivity types of the driving TFT 101 and the conversion TFT 102 are not limited, but both must be the same conductivity type. If the polarity of the light-emitting element 113 is the forward direction in which current flows from the first electrode to the second electrode, it is desirable that the driving TFT 101 and the conversion TFT 102 be P-type as shown in FIG. In the case where the current flows from the second electrode to the first electrode in the forward direction, the driving TFT 101 and the conversion TFT 102 are desirably N-type.

交流駆動用バイパス素子115は、発光素子113に順方向のバイアスがかかる時にはオフし、発光素子113に逆方向のバイアスがかかる時にオンすればよい。例えば、図2(A)の様に、ダイオード201で構成されてもよく、当該ダイオード201はどのような構成でもよい。また、図2(B)の様にダイオード接続(ゲート端子とドレイン端子が接続)したトランジスタ202を用いてもよいし、PN接合ダイオード、PIN接合ダイオードなどを用いてもよい。また、図2(C)の様にTFT203を用いてもよい。そして、TFT203のゲート端子は、制御線204により画素400の外部から制御し、発光素子113に逆方向バイアスがかかるときのみ、オンするようにしてもよい。   The AC drive bypass element 115 may be turned off when a forward bias is applied to the light emitting element 113 and may be turned on when a reverse bias is applied to the light emitting element 113. For example, as shown in FIG. 2A, the diode 201 may be configured, and the diode 201 may have any configuration. Further, a transistor 202 having a diode connection (a gate terminal and a drain terminal are connected) as shown in FIG. 2B may be used, or a PN junction diode, a PIN junction diode, or the like may be used. Further, a TFT 203 may be used as shown in FIG. The gate terminal of the TFT 203 may be controlled from the outside of the pixel 400 by the control line 204 and may be turned on only when a reverse bias is applied to the light emitting element 113.

図1に示す画素400の動作について説明する。画素400の動作はプログラミング期間、発光期間、逆バイアス印加期間に分けることができる(図3参照)。まず、図3(A)に示すプログラミング期間では、第1のゲート線107、第2のゲート線108にHレベルの信号が入力され、スイッチ用TFT103および保持用TFT104はオンし、電流源106と変換用TFT102を接続することで、輝度情報に応じた信号電流Idataが変換用TFT102のソース・ドレイン間に流れる。このとき、変換用TFT102のゲート電極とドレイン電極は互いに接続しているため、変換用TFT102は飽和領域で動作し、変換用TFT102のソース・ドレイン間に信号電流Idataが流れるのに必要なゲート・ソース間電圧が、保持容量112に蓄えられる。この後、第1のゲート線107および第2のゲート線108にLレベルの信号が入力され、スイッチ用TFT103および保持用TFT104がオフし、プログラミング期間が終了し、発光期間に推移する。このとき、第1のゲート線107よりも先に、第2のゲート線108にLレベルの信号を出力し、また、スイッチ用TFT103よりも保持用TFT104が先にオフする方が好ましい。   An operation of the pixel 400 illustrated in FIG. 1 will be described. The operation of the pixel 400 can be divided into a programming period, a light emission period, and a reverse bias application period (see FIG. 3). First, in the programming period shown in FIG. 3A, an H level signal is input to the first gate line 107 and the second gate line 108, the switching TFT 103 and the holding TFT 104 are turned on, and the current source 106 By connecting the conversion TFT 102, a signal current Idata corresponding to the luminance information flows between the source and drain of the conversion TFT 102. At this time, since the gate electrode and the drain electrode of the conversion TFT 102 are connected to each other, the conversion TFT 102 operates in a saturation region, and the gate / drain necessary for the signal current Idata to flow between the source and drain of the conversion TFT 102. A source-to-source voltage is stored in the storage capacitor 112. Thereafter, an L level signal is input to the first gate line 107 and the second gate line 108, the switching TFT 103 and the holding TFT 104 are turned off, the programming period ends, and the light emission period starts. At this time, it is preferable that an L level signal is output to the second gate line 108 before the first gate line 107 and the holding TFT 104 is turned off before the switching TFT 103.

図3(B)で示す発光期間では、プログラミング期間において、保持容量112に蓄えられた電位差に応じて駆動用TFT101により発光素子113に電流Idrivが供給される。ただし、駆動用TFT101が飽和領域で動作するように、第2の電源114を制御する必要がある。この時、発光素子113に供給される電流値Idrivは、駆動用TFT101と変換用TFT102の移動度および閾値が同一であるならば、信号電流Idata、前記駆動用TFT101および前記変換用TFT102のチャネル幅とチャネル長の比によって決まり、駆動用TFT101のチャネル長をL1、チャネル幅をW1、変換用TFT102のチャネル長をL2、チャネル幅をW2とすると、発光素子113に供給される電流値Idrivは式(1)で表される。   In the light emission period shown in FIG. 3B, a current Idriv is supplied to the light emitting element 113 by the driving TFT 101 in accordance with the potential difference stored in the storage capacitor 112 in the programming period. However, it is necessary to control the second power supply 114 so that the driving TFT 101 operates in a saturation region. At this time, if the mobility and threshold value of the driving TFT 101 and the conversion TFT 102 are the same, the current value Idriv supplied to the light emitting element 113 is the signal current Idata, the channel width of the driving TFT 101 and the conversion TFT 102. The channel length of the driving TFT 101 is L1, the channel width is W1, the channel length of the conversion TFT 102 is L2, and the channel width is W2. It is represented by (1).

Idriv=(W1/L1)/(W2/L2)・Idata・・・(1)   Idriv = (W1 / L1) / (W2 / L2) · Idata (1)

このように、表示領域401内の画素400間でTFTの特性にばらつきがあったとしても、隣接するTFT(駆動用TFT101と変換用TFT102)で移動度および閾値にばらつきがない場合には、各画素400の発光素子に供給される電流は、電流源106から供給される信号電流Idataにのみ依存するため、発光輝度にばらつきのない高画質な表示が可能となる。   As described above, even if the TFT characteristics vary among the pixels 400 in the display region 401, each of the adjacent TFTs (the driving TFT 101 and the conversion TFT 102) has no variation in mobility and threshold value. Since the current supplied to the light emitting element of the pixel 400 depends only on the signal current Idata supplied from the current source 106, high-quality display without variation in light emission luminance is possible.

次に、図3(C)で示される逆バイアス印加期間では、第1の電源111と第2の電源114の電位の関係をプログラミング期間や発光期間とは逆にする。プログラミング期間や発光期間では第1の電源111の電位を第2の電源114よりも高く、発光素子113には順方向バイアスをかけており、交流駆動用バイパス素子115には電流は流れないようにする。一方、逆バイアス印加期間では第2の電源114の電位を第1の電源111よりも高くし、さらに、交流駆動用バイパス素子115がオンすることで、発光素子113に逆方向バイアスを印加する。通常発光素子113は逆方向にバイアスを印加しても電流は流れないが、発光素子113内にショート箇所がある場合にはショート箇所に電流が集中するため、ショート箇所を焼き切り、発光素子113の劣化を低減し信頼性を高めることができる。本発明は、初期のショート箇所だけでなく、進行性のショート箇所を焼き切り、発光素子113の劣化を低減し信頼性を高めることができる。   Next, in the reverse bias application period shown in FIG. 3C, the relationship between the potentials of the first power supply 111 and the second power supply 114 is reversed from the programming period and the light emission period. In the programming period and the light emission period, the potential of the first power supply 111 is higher than that of the second power supply 114, the light emitting element 113 is forward-biased, and no current flows through the AC drive bypass element 115. To do. On the other hand, in the reverse bias application period, the potential of the second power source 114 is set higher than that of the first power source 111, and the AC drive bypass element 115 is turned on, whereby a reverse bias is applied to the light emitting element 113. Normally, no current flows even if a bias is applied in the reverse direction in the light emitting element 113, but when there is a short part in the light emitting element 113, the current concentrates in the short part, so the short part is burned out and the light emitting element 113 Deterioration can be reduced and reliability can be increased. In the present invention, not only the initial short-circuited portion but also the progressive short-circuited portion can be burned out, so that deterioration of the light emitting element 113 can be reduced and reliability can be improved.

なお、本実施の形態は代表例として、図1に示される画素の回路構成を用いて説明したが、回路構成は図1に示されるものに限らない。例えば、図9の様に保持用TFT104の接続位置を変更してもよい。   Although this embodiment has been described using the circuit configuration of the pixel illustrated in FIG. 1 as a representative example, the circuit configuration is not limited to that illustrated in FIG. For example, the connection position of the holding TFT 104 may be changed as shown in FIG.

上記構成を有する本発明は、発光素子113に電流を供給する駆動用TFT101と並列に接続する交流駆動用バイパス素子115を設けることで、発光期間と別の逆バイアス印加期間に、発光素子に逆方向バイアスを印加する。そして、発光素子内にショート箇所があったときに、ショート箇所に電流を流れやすくし、ショート箇所を焼き切ることが容易にすることができる。また本発明は、TFTばらつきに関わらず高画質であり、信頼性の高い表示装置を提供することができる。   In the present invention having the above-described configuration, the AC driving bypass element 115 connected in parallel to the driving TFT 101 for supplying current to the light emitting element 113 is provided, so that the reverse bias application period is different from the light emitting period. Apply directional bias. When there is a short-circuited portion in the light emitting element, current can easily flow through the short-circuited portion, and the short-circuited portion can be easily burned out. In addition, the present invention can provide a display device with high image quality and high reliability regardless of TFT variations.

本発明の構成要素である発光素子の構造について説明する。発光素子は、ガラス、石英、金属や有機物等の絶縁表面を有する基板の一表面に設けられた導電層、電界発光層及び導電層の積層体に相当する。発光素子は、電界発光層が複数の層からなる積層型、電界発光層が一つの層からなる単層型、電界発光層が複数の層からなるがその境界が明確ではない混合型のいずれでもよい。また、発光素子の積層構造には、下から陽極に相当する導電層\電界発光層\陰極に相当する導電層を積層する順積み構造、下から陰極に相当する導電層\電界発光層\陽極に相当する導電層を積層する逆積み構造があるが、光の発する方向に従って、適切な構造を選択するとよい。   A structure of a light emitting element which is a constituent element of the present invention will be described. The light-emitting element corresponds to a stacked body of a conductive layer, an electroluminescent layer, and a conductive layer provided over one surface of a substrate having an insulating surface such as glass, quartz, metal, or an organic substance. The light emitting element may be any of a stacked type in which the electroluminescent layer is composed of a plurality of layers, a single layer type in which the electroluminescent layer is composed of one layer, and a mixed type in which the electroluminescent layer is composed of a plurality of layers but the boundary is not clear. Good. In addition, the laminated structure of the light emitting element includes a stacked structure in which a conductive layer corresponding to the anode from the bottom \ electroluminescent layer \ conductive layer corresponding to the cathode is stacked, and a conductive layer corresponding to the cathode from the bottom \ electroluminescent layer \ anode. Although there is a reverse stacking structure in which conductive layers corresponding to the above are stacked, an appropriate structure may be selected according to the direction of light emission.

電界発光層は、有機化合物又は無機化合物を含む電荷注入輸送物質及び発光材料で形成し、その分子数から低分子系有機化合物、中分子系有機化合物(昇華性を有さず、且つ分子数が20以下、又は連鎖する分子の長さが10μm以下の有機化合物を指していう)、高分子系有機化合物から選ばれた一種又は複数種の層を含み、電子注入輸送性又は正孔注入輸送性の無機化合物と組み合わせても良い。   The electroluminescent layer is formed of a charge injecting and transporting material containing an organic compound or an inorganic compound and a light emitting material. From the number of molecules thereof, a low molecular weight organic compound or a medium molecular weight organic compound (having no sublimation property and having a molecular number of 20 or less, or an organic compound having a chain molecule length of 10 μm or less), including one or a plurality of layers selected from high molecular weight organic compounds, and having an electron injection / transport property or a hole injection / transport property You may combine with an inorganic compound.

電荷注入輸送物質のうち、特に電子輸送性の高い物質としては、例えばトリス(8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Alq3)、トリス(5−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Almq3)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]−キノリナト)ベリリウム(略称:BeBq2)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)−4−フェニルフェノラト−アルミニウム(略称:BAlq)など、キノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体等が挙げられる。また正孔輸送性の高い物質としては、例えば4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニル−アミノ]−ビフェニル(略称:α−NPD)や4,4’−ビス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニル−アミノ]−ビフェニル(略称:TPD)や4,4’,4’’−トリス(N,N−ジフェニル−アミノ)−トリフェニルアミン(略称:TDATA)、4,4’,4’’−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニル−アミノ]−トリフェニルアミン(略称:MTDATA)などの芳香族アミン系(即ち、ベンゼン環−窒素の結合を有する)の化合物が挙げられる。 Among the charge injecting and transporting materials, materials having a particularly high electron transporting property include, for example, tris (8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Alq 3 ), tris (5-methyl-8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Almq 3 ), Bis (10-hydroxybenzo [h] -quinolinato) beryllium (abbreviation: BeBq 2 ), bis (2-methyl-8-quinolinolato) -4-phenylphenolato-aluminum (abbreviation: BAlq), quinoline skeleton or benzoquinoline Examples thereof include metal complexes having a skeleton. As a substance having a high hole-transport property, for example, 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenyl-amino] -biphenyl (abbreviation: α-NPD), 4,4′-bis [ N- (3-methylphenyl) -N-phenyl-amino] -biphenyl (abbreviation: TPD) or 4,4 ′, 4 ″ -tris (N, N-diphenyl-amino) -triphenylamine (abbreviation: TDATA) ), 4,4 ′, 4 ″ -tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenyl-amino] -triphenylamine (abbreviation: MTDATA) (ie, benzene ring-nitrogen) And a compound having a bond of

また、電荷注入輸送物質のうち、特に電子注入性の高い物質としては、フッ化リチウム(LiF)、フッ化セシウム(CsF)、フッ化カルシウム(CaF2)等のようなアルカリ金属又はアルカリ土類金属の化合物が挙げられる。また、この他、Alq3のような電子輸送性の高い物質とマグネシウム(Mg)のようなアルカリ土類金属との混合物であってもよい。 Among the charge injecting and transporting materials, materials having particularly high electron injecting properties include alkali metals or alkaline earths such as lithium fluoride (LiF), cesium fluoride (CsF), calcium fluoride (CaF 2 ) and the like. Metal compounds can be mentioned. In addition, a mixture of a substance having a high electron transport property such as Alq 3 and an alkaline earth metal such as magnesium (Mg) may be used.

また、低分子系有機発光材料では、4−ジシアノメチレン−2−メチル−6−(1,1,7,7−テトラメチルジュロリジル−9−エニル) −4H−ピラン(略称:DCJT)、4−ジシアノメチレン−2−t−ブチル−6−(1,1,7,7−テトラメチルジュロリジル−9−エニル) −4H−ピラン(略称:DPA)、ペリフランテン、2,5−ジシアノ−1,4−ビス(10−メトキシ−1,1,7,7−テトラメチルジュロリジル−9−エニル)ベンゼン、N,N’−ジメチルキナクリドン(略称:DMQd)、クマリン6、クマリン545T、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Alq3)、9,9’−ビアントリル、9,10−ジフェニルアントラセン(略称:DPA)や9,10−ビス(2−ナフチル)アントラセン(略称:DNA)等を用いることができる。また、この他の物質でもよい。 In a low molecular weight organic light emitting material, 4-dicyanomethylene-2-methyl-6- (1,1,7,7-tetramethyljulolidyl-9-enyl) -4H-pyran (abbreviation: DCJT), 4-dicyanomethylene-2-t-butyl-6- (1,1,7,7-tetramethyljulolidyl-9-enyl) -4H-pyran (abbreviation: DPA), perifrantene, 2,5-dicyano- 1,4-bis (10-methoxy-1,1,7,7-tetramethyljulolidyl-9-enyl) benzene, N, N′-dimethylquinacridone (abbreviation: DMQd), coumarin 6, coumarin 545T, tris (8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Alq 3 ), 9,9′-bianthryl, 9,10-diphenylanthracene (abbreviation: DPA) and 9,10-bis (2-naphthyl) anthra Sen (abbreviation: DNA) or the like can be used. Other substances may also be used.

一方、高分子系有機発光材料は低分子系に比べて物理的強度が高く、素子の耐久性が高い。また塗布により成膜することが可能であるので、素子の作製が比較的容易である。高分子系有機発光材料を用いた発光素子の構造は、低分子系有機発光材料を用いたときと基本的には同じであり、陰極/有機発光層/陽極となる。しかし、高分子系有機発光材料を用いた発光層を形成する際には、低分子系有機発光材料を用いたときのような積層構造を形成させることは難しく、多くの場合2層構造となる。具体的には、陰極/発光層/正孔輸送層/陽極という構造である。 On the other hand, the high molecular organic light emitting material has higher physical strength than the low molecular weight material, and the durability of the device is high. In addition, since the film can be formed by coating, the device can be manufactured relatively easily. The structure of the light emitting element using the high molecular weight organic light emitting material is basically the same as that when the low molecular weight organic light emitting material is used, and is cathode / organic light emitting layer / anode. However, when forming a light emitting layer using a high molecular weight organic light emitting material, it is difficult to form a laminated structure as in the case of using a low molecular weight organic light emitting material. . Specifically, the structure is cathode / light-emitting layer / hole transport layer / anode.

発光色は、発光層を形成する材料で決まるため、これらを選択することで所望の発光を示す発光素子を形成することができる。発光層の形成に用いることができる高分子系の電界発光材料は、ポリパラフェニレンビニレン系、ポリパラフェニレン系、ポリチオフェン系、ポリフルオレン系が挙げられる。   Since the light emission color is determined by the material for forming the light emitting layer, a light emitting element exhibiting desired light emission can be formed by selecting these materials. Examples of the polymer electroluminescent material that can be used for forming the light emitting layer include polyparaphenylene vinylene, polyparaphenylene, polythiophene, and polyfluorene.

ポリパラフェニレンビニレン系には、ポリ(パラフェニレンビニレン) [PPV] の誘導体、ポリ(2,5−ジアルコキシ−1,4−フェニレンビニレン) [RO−PPV]、ポリ(2−(2’−エチル−ヘキソキシ)−5−メトキシ−1,4−フェニレンビニレン)[MEH−PPV]、ポリ(2−(ジアルコキシフェニル)−1,4−フェニレンビニレン)[ROPh−PPV]等が挙げられる。ポリパラフェニレン系には、ポリパラフェニレン[PPP]の誘導体、ポリ(2,5−ジアルコキシ−1,4−フェニレン)[RO−PPP]、ポリ(2,5−ジヘキソキシ−1,4−フェニレン)等が挙げられる。ポリチオフェン系には、ポリチオフェン[PT]の誘導体、ポリ(3−アルキルチオフェン)[PAT]、ポリ(3−ヘキシルチオフェン)[PHT]、ポリ(3−シクロヘキシルチオフェン)[PCHT]、ポリ(3−シクロヘキシル−4−メチルチオフェン)[PCHMT]、ポリ(3,4−ジシクロヘキシルチオフェン)[PDCHT]、ポリ[3−(4−オクチルフェニル)−チオフェン][POPT]、ポリ[3−(4−オクチルフェニル)−2,2ビチオフェン][PTOPT]等が挙げられる。ポリフルオレン系には、ポリフルオレン[PF]の誘導体、ポリ(9,9−ジアルキルフルオレン)[PDAF]、ポリ(9,9−ジオクチルフルオレン)[PDOF]等が挙げられる。   Examples of the polyparaphenylene vinylene include poly (paraphenylene vinylene) [PPV] derivatives, poly (2,5-dialkoxy-1,4-phenylene vinylene) [RO-PPV], poly (2- (2′- Ethyl-hexoxy) -5-methoxy-1,4-phenylenevinylene) [MEH-PPV], poly (2- (dialkoxyphenyl) -1,4-phenylenevinylene) [ROPh-PPV] and the like. Examples of polyparaphenylene include derivatives of polyparaphenylene [PPP], poly (2,5-dialkoxy-1,4-phenylene) [RO-PPP], poly (2,5-dihexoxy-1,4-phenylene). ) And the like. Polythiophene series includes polythiophene [PT] derivatives, poly (3-alkylthiophene) [PAT], poly (3-hexylthiophene) [PHT], poly (3-cyclohexylthiophene) [PCHT], poly (3-cyclohexyl). -4-methylthiophene) [PCHMT], poly (3,4-dicyclohexylthiophene) [PDCHT], poly [3- (4-octylphenyl) -thiophene] [POPT], poly [3- (4-octylphenyl) -2,2 bithiophene] [PTOPT] and the like. Examples of the polyfluorene series include polyfluorene [PF] derivatives, poly (9,9-dialkylfluorene) [PDAF], poly (9,9-dioctylfluorene) [PDOF], and the like.

なお、正孔輸送性の高分子系有機発光材料を、陽極と発光性の高分子系有機発光材料の間に挟んで形成すると、陽極からの正孔注入性を向上させることができる。一般にアクセプター材料と共に水に溶解させたものをスピンコート法などで塗布する。また、有機溶媒には不溶であるため、上述した発光性の有機発光材料との積層が可能である。正孔輸送性の高分子系有機発光材料としては、PEDOTとアクセプター材料としてのショウノウスルホン酸(CSA)の混合物、ポリアニリン[PANI]とアクセプター材料としてのポリスチレンスルホン酸[PSS]の混合物等が挙げられる。   Note that when a hole-transporting polymer-based organic light-emitting material is sandwiched between an anode and a light-emitting polymer-based organic light-emitting material, hole injection properties from the anode can be improved. In general, an acceptor material dissolved in water is applied by spin coating or the like. In addition, since it is insoluble in an organic solvent, it can be stacked with the above-described light-emitting organic light-emitting material. Examples of the hole-transporting polymer organic light emitting material include a mixture of PEDOT and camphor sulfonic acid (CSA) as an acceptor material, a mixture of polyaniline [PANI] and polystyrene sulfonic acid [PSS] as an acceptor material, and the like. .

また、電界発光層は、発光波長帯の異なる発光層を画素毎に形成して、カラー表示を行う構成としても良い。典型的には、R(赤)、G(緑)、B(青)の各色に対応した発光層を形成する。この場合にも、画素の光放射側にその発光波長帯の光を透過するフィルター(着色層)を設けた構成とすることで、色純度の向上や、画素部の鏡面化(映り込み)の防止を図ることができる。フィルター(着色層)を設けることで、従来必要であるとされていた円偏光版などを省略することが可能となり、発光層から放射される光の損失を無くすことができる。さらに、斜方から画素部(表示画面)を見た場合に起こる色調の変化を低減すことができる。   Further, the electroluminescent layer may be configured to perform color display by forming a light emitting layer having a different emission wavelength band for each pixel. Typically, a light emitting layer corresponding to each color of R (red), G (green), and B (blue) is formed. In this case as well, by providing a filter (colored layer) that transmits light in the emission wavelength band on the light emission side of the pixel, the color purity is improved and the pixel portion is mirrored (reflected). Prevention can be achieved. By providing the filter (colored layer), it is possible to omit a circularly polarized plate that has been considered necessary in the past, and it is possible to eliminate the loss of light emitted from the light emitting layer. Furthermore, a change in color tone that occurs when the pixel portion (display screen) is viewed obliquely can be reduced.

または、電界発光層は、単色又は白色の発光を呈する構成としてもよい。白色発光材料を用いる場合には、画素の光放射側に特定の波長の光を透過するフィルター(着色層)を設けた構成としてカラー表示を可能にすることができる。   Alternatively, the electroluminescent layer may be configured to emit monochromatic or white light. In the case of using a white light emitting material, color display can be made possible by providing a filter (colored layer) that transmits light of a specific wavelength on the light emission side of the pixel.

白色に発光する電界発光層を形成するには、例えば、Alq3、部分的に赤色発光色素であるナイルレッドをドープしたAlq3、Alq3、p−EtTAZ、TPD(芳香族ジアミン)を蒸着法により順次積層することで白色を得ることができる。また、スピンコートを用いた塗布法によりELを形成する場合には、塗布した後、真空加熱で焼成することが好ましい。例えば、正孔注入層として作用するポリ(エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(スチレンスルホン酸)水溶液(PEDOT/PSS)を全面に塗布、焼成し、その後、発光層として作用する発光中心色素(1,1,4,4−テトラフェニル−1,3−ブタジエン(TPB)、4−ジシアノメチレン−2−メチル−6−(p−ジメチルアミノ−スチリル)−4H−ピラン(DCM1)、ナイルレッド、クマリン6など)ドープしたポリビニルカルバゾール(PVK)溶液を全面に塗布、焼成すればよい。 To form the electroluminescent layer that emits white light, for example, Alq 3, Alq 3 partially doped with Nile red that is a red light emitting pigment, Alq 3, p-EtTAZ, evaporation method TPD (aromatic diamine) The white color can be obtained by laminating sequentially. In the case where the EL is formed by a coating method using spin coating, it is preferable that baking is performed by vacuum heating after coating. For example, a poly (ethylenedioxythiophene) / poly (styrenesulfonic acid) aqueous solution (PEDOT / PSS) that acts as a hole injection layer is applied and baked on the entire surface, and then a luminescent center dye (1, 1,4,4-tetraphenyl-1,3-butadiene (TPB), 4-dicyanomethylene-2-methyl-6- (p-dimethylamino-styryl) -4H-pyran (DCM1), Nile Red, Coumarin 6 Etc.) A doped polyvinyl carbazole (PVK) solution may be applied to the entire surface and fired.

電界発光層は単層で形成することもでき、ホール輸送性のポリビニルカルバゾール(PVK)に電子輸送性の1,3,4−オキサジアゾール誘導体(PBD)を分散させてもよい。また、30wt%のPBDを電子輸送剤として分散し、4種類の色素(TPB、クマリン6、DCM1、ナイルレッド)を適当量分散することで白色発光が得られる。ここで示した白色発光が得られる発光素子の他にも、発光層の材料を適宜選択することによって、赤色発光、緑色発光、または青色発光が得られる発光素子を作製することができる。   The electroluminescent layer can be formed as a single layer, and an electron transporting 1,3,4-oxadiazole derivative (PBD) may be dispersed in hole transporting polyvinyl carbazole (PVK). Further, white light emission can be obtained by dispersing 30 wt% PBD as an electron transporting agent and dispersing an appropriate amount of four kinds of dyes (TPB, coumarin 6, DCM1, Nile red). In addition to the light-emitting element that can emit white light as shown here, a light-emitting element that can obtain red light emission, green light emission, or blue light emission can be manufactured by appropriately selecting the material of the light-emitting layer.

なお、正孔輸送性の高分子系有機発光材料を、陽極と発光性の高分子系有機発光材料の間に挟んで形成すると、陽極からの正孔注入性を向上させることができる。一般にアクセプター材料と共に水に溶解させたものをスピンコート法などで塗布する。また、有機溶媒には不溶であるため、上述した発光性の有機発光材料との積層が可能である。正孔輸送性の高分子系有機発光材料としては、PEDOTとアクセプター材料としてのショウノウスルホン酸(CSA)の混合物、ポリアニリン[PANI]とアクセプター材料としてのポリスチレンスルホン酸[PSS]の混合物等が挙げられる。   Note that when a hole-transporting polymer-based organic light-emitting material is sandwiched between an anode and a light-emitting polymer-based organic light-emitting material, hole injection properties from the anode can be improved. In general, an acceptor material dissolved in water is applied by spin coating or the like. In addition, since it is insoluble in an organic solvent, it can be stacked with the above-described light-emitting organic light-emitting material. Examples of the hole-transporting polymer organic light emitting material include a mixture of PEDOT and camphor sulfonic acid (CSA) as an acceptor material, a mixture of polyaniline [PANI] and polystyrene sulfonic acid [PSS] as an acceptor material, and the like. .

さらに、電界発光層は、一重項励起発光材料の他、金属錯体などを含む三重項励起材料を用いても良い。例えば、赤色の発光性の画素、緑色の発光性の画素及び青色の発光性の画素のうち、輝度半減時間が比較的短い赤色の発光性の画素を三重項励起発光材料で形成し、他を一重項励起発光材料で形成する。三重項励起発光材料は発光効率が良いので、同じ輝度を得るのに消費電力が少なくて済むという特徴がある。すなわち、赤色画素に適用した場合、発光素子に流す電流量が少なくて済むので、信頼性を向上させることができる。低消費電力化として、赤色の発光性の画素と緑色の発光性の画素とを三重項励起発光材料で形成し、青色の発光性の画素を一重項励起発光材料で形成しても良い。人間の視感度が高い緑色の発光素子も三重項励起発光材料で形成することで、より低消費電力化を図ることができる。   Further, for the electroluminescent layer, a triplet excitation material containing a metal complex or the like may be used in addition to the singlet excitation luminescent material. For example, among red light emitting pixels, green light emitting pixels, and blue light emitting pixels, a red light emitting pixel having a relatively short luminance half time is formed of a triplet excitation light emitting material, and the other A singlet excited luminescent material is used. The triplet excited luminescent material has a feature that the light emission efficiency is good, so that less power is required to obtain the same luminance. That is, when applied to a red pixel, the amount of current flowing through the light emitting element can be reduced, so that reliability can be improved. As a reduction in power consumption, a red light-emitting pixel and a green light-emitting pixel may be formed using a triplet excitation light-emitting material, and a blue light-emitting pixel may be formed using a singlet excitation light-emitting material. By forming a green light-emitting element having high human visibility with a triplet excited light-emitting material, power consumption can be further reduced.

三重項励起発光材料の一例としては、金属錯体をドーパントとして用いたものがあり、第三遷移系列元素である白金を中心金属とする金属錯体、イリジウムを中心金属とする金属錯体などが知られている。三重項励起発光材料としては、これらの化合物に限られることはなく、上記構造を有し、且つ中心金属に周期表の8〜10属に属する元素を有する化合物を用いることも可能である。   Examples of triplet excited luminescent materials include those using a metal complex as a dopant, and metal complexes having a third transition series element platinum as the central metal and metal complexes having iridium as the central metal are known. Yes. The triplet excited light-emitting material is not limited to these compounds, and a compound having the above structure and having an element belonging to group 8 to 10 in the periodic table as a central metal can also be used.

なお、以上に掲げる発光層を形成する物質は一例であり、正孔注入輸送層、正孔輸送層、電子注入輸送層、電子輸送層、発光層、電子ブロック層、正孔ブロック層などの機能性の各層を適宜積層することで発光素子を形成することができる。また、これらの各層を合わせた混合層又は混合接合を形成しても良い。発光層の層構造は変化しうるものであり、特定の電子注入領域や発光領域を備えていない代わりに、もっぱらこの目的用の電極を備えたり、発光性の材料を分散させて備えたりする変形は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において許容されうるものである。   In addition, the substance which forms the light emitting layer mentioned above is an example, and functions, such as a positive hole injection transport layer, a positive hole transport layer, an electron injection transport layer, an electron transport layer, a light emitting layer, an electron block layer, a hole block layer, etc. A light-emitting element can be formed by appropriately stacking each of the properties. Moreover, you may form the mixed layer or mixed junction which combined these each layer. The layer structure of the light-emitting layer can be changed, and instead of having a specific electron injection region or light-emitting region, it is possible to provide a modification with an electrode for this purpose or a dispersed light-emitting material. Can be permitted without departing from the spirit of the present invention.

上記のような材料で形成した発光素子は、順方向にバイアスすることで発光する。発光素子を用いて形成する表示装置の画素は、単純マトリクス方式、若しくはアクティブマトリクス方式で駆動することができる。いずれにしても、個々の画素は、ある特定のタイミングで順方向バイアスを印加して発光させることとなるが、ある一定期間は非発光状態となっている。この非発光時間に逆方向のバイアスを印加することで発光素子の信頼性を向上させることができる。発光素子では、一定駆動条件下で発光強度が低下する劣化や、画素内で非発光領域が拡大して見かけ上輝度が低下する劣化モードがあるが、順方向及び逆方向にバイアスを印加する交流的な駆動を行うことで、劣化の進行を遅くすることができ、発光装置の信頼性を向上させることができる。   A light-emitting element formed using the above materials emits light by being forward-biased. A pixel of a display device formed using a light-emitting element can be driven by a simple matrix method or an active matrix method. In any case, each pixel emits light by applying a forward bias at a specific timing, but is in a non-light emitting state for a certain period. By applying a reverse bias during this non-light emitting time, the reliability of the light emitting element can be improved. The light emitting element has a degradation mode in which the light emission intensity decreases under a constant driving condition and a degradation mode in which the non-light emitting area is enlarged in the pixel and the luminance is apparently decreased. However, alternating current that applies a bias in the forward and reverse directions. By performing a typical drive, the progress of deterioration can be slowed, and the reliability of the light emitting device can be improved.

発光素子が光を発する方向は、以下の3つに分別することが可能であり、1つは、発光素子が基板側に発光する場合(下面出射)、1つは基板と対向する対向基板側に発光する場合(上面出射)、1つは基板側と対向基板側に発光する場合、つまり基板の一表面及び反対の表面に発光する場合(両面出射)である。両面出射を行う場合、基板及び対向基板は透光性を有することが必須の要件となる。また発光素子から発せられる光には、一重項励起状態から基底状態に戻る際の発光(蛍光)と三重項励起状態から基底状態に戻る際の発光(リン光)とが含まれて、本発明はその一方又は両方を用いることができる。   The direction in which the light emitting element emits light can be classified into the following three types: one is when the light emitting element emits light on the substrate side (lower surface emission), and one is the counter substrate side facing the substrate One is a case where light is emitted from the substrate side and the opposite substrate side, that is, a case where light is emitted from one surface of the substrate and the opposite surface (double-side emission). In the case of performing dual emission, it is essential that the substrate and the counter substrate have translucency. The light emitted from the light emitting element includes light emission (fluorescence) when returning from the singlet excited state to the ground state and light emission (phosphorescence) when returning from the triplet excited state to the ground state. One or both of them can be used.

発光素子は、広視野角、バックライトを必要としないことによる薄型、軽量を実現し、また応答速度が速いために動画の表示に適する。このような発光素子を用いた表示装置を用いることにより、高機能化と高付加価値化が実現する。本実施例は、上記の実施の形態と自由に組み合わせることができる。   The light-emitting element realizes a wide viewing angle, thinness and lightness by not requiring a backlight, and is suitable for displaying moving images because of its high response speed. By using a display device using such a light emitting element, higher functionality and higher added value are realized. This embodiment can be freely combined with the above embodiment modes.

本発明の表示装置の一形態である、表示領域及び駆動回路を搭載したパネルについて図5を用いて説明する。基板405上には、発光素子を含む画素を複数含む表示領域401、ソース駆動回路402、第1及び第2のゲート駆動回路403、404、接続端子415及び接続フィルム407が設けられる(図5(A)参照)。接続端子415は、異方導電性粒子等を介して、接続フィルム407と接続する。接続フィルム407はICチップと接続する。   A panel including a display region and a driver circuit, which is one embodiment of the display device of the present invention, will be described with reference to FIGS. Over the substrate 405, a display region 401 including a plurality of pixels each including a light-emitting element, a source driver circuit 402, first and second gate driver circuits 403 and 404, a connection terminal 415, and a connection film 407 are provided (FIG. A)). The connection terminal 415 is connected to the connection film 407 through anisotropic conductive particles or the like. The connection film 407 is connected to the IC chip.

図5(B)はパネルのA−A’における断面図を示し、表示領域401に設けられた駆動用TFT101と、ソース駆動回路402に設けられたCMOS回路414を示す。また、表示領域401に設けられた導電層411、電界発光層412及び導電層413を示す。導電層411は駆動用TFT101のソース電極又はドレイン電極に接続する。また、導電層411は画素電極として機能し、導電層413は対向電極として機能する。導電層411、電界発光層412及び導電層413の積層体は発光素子に相当する。   FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line A-A ′ of the panel, and shows the driving TFT 101 provided in the display region 401 and the CMOS circuit 414 provided in the source driving circuit 402. In addition, a conductive layer 411, an electroluminescent layer 412, and a conductive layer 413 provided in the display region 401 are shown. The conductive layer 411 is connected to the source electrode or the drain electrode of the driving TFT 101. In addition, the conductive layer 411 functions as a pixel electrode, and the conductive layer 413 functions as a counter electrode. A stacked body of the conductive layer 411, the electroluminescent layer 412, and the conductive layer 413 corresponds to a light-emitting element.

表示領域401と駆動回路402〜404の周囲にはシール材408が設けられ、発光素子は、該シール材408と対向基板406により封止される。この封止処理は、発光素子を水分から保護するための処理であり、ここではカバー材(ガラス、セラミックス、プラスチック、金属等)により封止する方法を用いるが、熱硬化性樹脂や紫外光硬化性樹脂を用いて封止する方法、金属酸化物や窒化物等のバリア能力が高い薄膜により封止する方法を用いてもよい。   A sealant 408 is provided around the display region 401 and the drive circuits 402 to 404, and the light-emitting element is sealed with the sealant 408 and the counter substrate 406. This sealing process is a process for protecting the light emitting element from moisture. Here, a method of sealing with a cover material (glass, ceramics, plastic, metal, etc.) is used, but thermosetting resin or ultraviolet light curing is used. A method of sealing with a functional resin or a method of sealing with a thin film having a high barrier ability such as a metal oxide or a nitride may be used.

基板405上に形成される素子は、非晶質半導体に比べて移動度等の特性が良好な結晶質半導体(ポリシリコン)により形成されること好適であり、そうすると、同一表面上におけるモノシリック化が実現される。上記構成を有するパネルは、接続する外部ICの個数が減少するため、小型・軽量・薄型が実現される。   The element formed over the substrate 405 is preferably formed using a crystalline semiconductor (polysilicon) having favorable characteristics such as mobility as compared with an amorphous semiconductor. Realized. Since the number of external ICs to be connected is reduced, the panel having the above configuration can be made small, light, and thin.

また、図5(B)において、導電層411は透光性を有する透明導電膜で形成し、導電層413は反射性を有する反射膜で形成される。よって、電界発光層412から発せられる光は、矢印で示すとおり、導電層411を透過して、基板405側に出射される。一般的にこのような構成は下面出射方式と呼ばれる。   5B, the conductive layer 411 is formed using a light-transmitting transparent conductive film, and the conductive layer 413 is formed using a reflective film having reflectivity. Therefore, light emitted from the electroluminescent layer 412 passes through the conductive layer 411 and is emitted to the substrate 405 side as indicated by an arrow. Such a configuration is generally called a bottom emission method.

これに対し、導電層411を反射膜で形成し、導電層413を透明導電膜で形成することにより、図6(A)に示すように、電界発光層412から発せられる光を対向基板406側に出射させる構成も可能である。一般的にこのような構成は上面出射方式と呼ばれる。   In contrast, when the conductive layer 411 is formed using a reflective film and the conductive layer 413 is formed using a transparent conductive film, light emitted from the electroluminescent layer 412 can be emitted from the counter substrate 406 side as illustrated in FIG. A configuration in which the light is emitted from the light source is also possible. Such a configuration is generally called a top emission method.

また、駆動用TFT101のソース電極又はドレイン電極と導電層411とは、絶縁層を介することなく、同一の層に積層形成され、膜の重なりによって直接接続されている。よって、導電層411の形成領域は、駆動用TFT101等が配置されている領域を除いた領域となるため、画素の高精細化等に伴い、開口率の低下が避けられない。よって、図6(B)に示すように、層間膜416を追加し、独立した層に画素電極を設け、上面出射方式とすることにより、TFT等が形成されている領域も有効に発行領域として活用出来る。このとき、電界発光層412の膜厚によっては、導電層411と駆動用TFT101のソース電極又はドレイン電極とのコンタクト領域において、導電層411と導電層413とのショートが生ずる可能性があるので、バンク417等を設け、ショートを防止する構成が望ましい。   Further, the source or drain electrode of the driving TFT 101 and the conductive layer 411 are stacked in the same layer without an insulating layer interposed therebetween, and are directly connected by overlapping of films. Therefore, since the formation region of the conductive layer 411 is a region excluding the region where the driving TFTs 101 and the like are disposed, a reduction in aperture ratio is unavoidable due to high definition of pixels and the like. Therefore, as shown in FIG. 6B, an interlayer film 416 is added, a pixel electrode is provided in an independent layer, and a top emission method is used, so that a region where a TFT or the like is formed can be effectively used as an issue region. Can be used. At this time, depending on the film thickness of the electroluminescent layer 412, a short circuit between the conductive layer 411 and the conductive layer 413 may occur in the contact region between the conductive layer 411 and the source electrode or the drain electrode of the driving TFT 101. A configuration in which a bank 417 or the like is provided to prevent a short circuit is desirable.

さらに、図8に示すように、導電層411と導電層413とをいずれも透明導電膜で形成することにより、基板405側と対向基板406側の両方に電界発光層412からの出射光を取り出す構成も可能である。このような構成は両面出射方式と呼ばれる。   Further, as shown in FIG. 8, the conductive layer 411 and the conductive layer 413 are both formed of a transparent conductive film, whereby light emitted from the electroluminescent layer 412 is extracted to both the substrate 405 side and the counter substrate 406 side. Configuration is also possible. Such a configuration is called a double-sided emission method.

図8の場合、上面出射側と下面出射側の発光面積はおおむね等しいが、前述のように、層間膜を追加して画素電極の面積を大きくすれば、上面出射側の開口率が高く出来ることは言うまでも無い。   In the case of FIG. 8, the light emission areas on the top emission side and the bottom emission side are substantially equal, but as described above, the aperture ratio on the top emission side can be increased by adding an interlayer film to increase the area of the pixel electrode. Needless to say.

なお、発光素子が含む電界発光層412をRGBの各色に対応して作り分けると、発光素子から発せられる光を赤、青、緑と分けて、フルカラー表示を行うことができる。但し、フルカラー表示を行う方法として、電界発光層412を作り分けずに、電界発光層412を青色又は白色に対応して作り、カラーフィルタ又は色変換層454、455を設けてもよい(図6(A)(B)参照)。   Note that when the electroluminescent layer 412 included in the light-emitting element is separately formed corresponding to each color of RGB, light emitted from the light-emitting element can be divided into red, blue, and green to perform full-color display. However, as a method for performing full color display, the electroluminescent layer 412 may be formed corresponding to blue or white without forming the electroluminescent layer 412, and color filters or color conversion layers 454 and 455 may be provided (FIG. 6). (See (A) and (B)).

また、図8の両面出射方式を採用する場合は、基板405と対向基板406の両基板上に偏光板450、452を設けるとよい。このように、偏光板450、452を貼り付けると、パネル自体が透明ではなくなるため、周囲のものが透けて見えることはない。偏光板450、452は、その偏光方向が交差するように配置することで外光を遮断することができる。交差する角度は、40度乃至90度、好ましくは70度乃至90度、より好ましくは90度とすればよい。上記構成により、表示を行う領域以外は、黒の表示を行うため、どちらの側から見ても、背景が透けてみえることがない。つまり、偏光板450、452の配置により、両面表示パネルに外光が透過することなく、発光素子から発光した光のみが透過するため、コントラストが向上する。また、偏光板450、452は、一方又は双方を回動自在とする手段を付加して、交差する角度を変えることによりパネル自体の透過率を変化させることもできる。すなわち、調光機能を付加することもできる。また、偏光板450、452の外側には、反射防止膜または反射防止フィルム451、453を設けて、反射率を低減させると表示品位を高めることができる。その他にも1/2波長板又は1/4波長板(若しくは当該フィルム)を付加しても良い。このように光学機能性フィルムを付加することで、表示品質が向上し、特に黒色のしずみ込みが良いものとすることができる。   In the case where the dual emission method of FIG. 8 is employed, polarizing plates 450 and 452 may be provided over both the substrate 405 and the counter substrate 406. As described above, when the polarizing plates 450 and 452 are attached, the panel itself is not transparent, so that the surroundings are not seen through. The polarizing plates 450 and 452 can block outside light by being arranged so that their polarization directions intersect. The intersecting angle may be 40 to 90 degrees, preferably 70 to 90 degrees, and more preferably 90 degrees. With the above configuration, since the display is performed in a region other than the display region, the background is not seen through from either side. In other words, the arrangement of the polarizing plates 450 and 452 allows only the light emitted from the light emitting element to pass through without transmitting external light to the double-sided display panel, thereby improving the contrast. In addition, the polarizing plates 450 and 452 can change the transmittance of the panel itself by adding a means for rotating one or both of them and changing the intersecting angle. That is, a dimming function can be added. Further, by providing antireflection films or antireflection films 451 and 453 outside the polarizing plates 450 and 452 to reduce the reflectance, display quality can be improved. In addition, a half-wave plate or a quarter-wave plate (or the film) may be added. By adding the optical functional film in this way, display quality can be improved, and in particular, black smearing can be improved.

なお、本発明は上記の実施例に制約されない。例えば、図5(A)の表示領域401は絶縁表面上に形成された非晶質半導体(アモルファスシリコン)をチャネル部としたTFTにより構成し、駆動回路402〜404はICチップにより構成してもよい。ICチップは、COG方式により基板上に貼り合わせたり、基板に接続する接続フィルムに貼り合わせたりしてもよい。非晶質半導体は、CVD法を用いることで、大面積の基板に形成することができ、かつ結晶化の工程が不要であることから、安価なパネルの提供を可能とする。また、この際、インクジェット法に代表される液滴吐出法により導電層を形成すると、より安価なパネルの提供を可能とする。本実施例は、上記の実施の形態、実施例と自由に組み合わせることができる。   In addition, this invention is not restrict | limited to said Example. For example, the display region 401 in FIG. 5A may be configured by a TFT using an amorphous semiconductor (amorphous silicon) formed over an insulating surface as a channel portion, and the driver circuits 402 to 404 may be configured by an IC chip. Good. The IC chip may be bonded onto the substrate by a COG method, or may be bonded to a connection film connected to the substrate. An amorphous semiconductor can be formed over a large-area substrate by using a CVD method, and a crystallization step is unnecessary, so that an inexpensive panel can be provided. At this time, if a conductive layer is formed by a droplet discharge method typified by an ink jet method, a cheaper panel can be provided. This embodiment can be freely combined with the above embodiment modes and embodiments.

発光素子を含む表示領域を備えた電子機器として、テレビ装置、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、携帯電話装置(携帯電話機)、PDA等の携帯情報端末、携帯型ゲーム機、モニター、ノート型パソコン、カーオーディオ等の音響再生装置、家庭用ゲーム機等の記録媒体を備えた画像再生装置等が挙げられる。以下にはその具体例について説明する。   As electronic devices having a display area including a light emitting element, a television device, a digital camera, a digital video camera, a mobile phone device (mobile phone), a personal digital assistant such as a PDA, a portable game machine, a monitor, a notebook computer, a car Examples thereof include an audio reproduction device such as an audio, and an image reproduction device including a recording medium such as a home game machine. Specific examples will be described below.

図7(A)は携帯情報端末であり、本体9201、表示部9202等を含む。図7(B)はデジタルビデオカメラであり、表示部9701、本体9702等を含む。図7(C)は携帯端末であり、本体9101、表示部9102等を含む。図7(D)は携帯型テレビ装置であり、本体9301、表示部9302等を含む。図7(E)は携帯型コンピュータであり、本体2202、表示部2203等を含む。図7(F)はテレビ装置であり、本体2001、表示部2003等を含む。本発明は、表示部を含む表示装置の構成に適用される。本発明の適用により、高画質化と高信頼性を実現した表示画面を提供することができるため、高機能化と高付加価値化を実現した電子機器を提供することができる。本実施例は、上記の実施の形態、実施例と自由に組み合わせることができる。   FIG. 7A illustrates a portable information terminal, which includes a main body 9201, a display portion 9202, and the like. FIG. 7B illustrates a digital video camera, which includes a display portion 9701, a main body 9702, and the like. FIG. 7C illustrates a portable terminal, which includes a main body 9101, a display portion 9102, and the like. FIG. 7D illustrates a portable television device including a main body 9301, a display portion 9302, and the like. FIG. 7E illustrates a portable computer, which includes a main body 2202, a display portion 2203, and the like. FIG. 7F illustrates a television device which includes a main body 2001, a display portion 2003, and the like. The present invention is applied to a configuration of a display device including a display unit. By applying the present invention, a display screen that realizes high image quality and high reliability can be provided; therefore, an electronic device that realizes high functionality and high added value can be provided. This embodiment can be freely combined with the above embodiment modes and embodiments.

本発明の実施の形態を説明する図。The figure explaining embodiment of this invention. 本発明の実施の形態を説明する図。The figure explaining embodiment of this invention. 本発明の実施の形態を説明する図。The figure explaining embodiment of this invention. 本発明の表示装置の構成を説明する図。FIG. 6 illustrates a structure of a display device of the present invention. 本発明の実施例2を説明する図。The figure explaining Example 2 of this invention. 本発明の実施例2を説明する図。The figure explaining Example 2 of this invention. 本発明の実施例3を説明する図。The figure explaining Example 3 of this invention. 本発明の実施例2を説明する図。The figure explaining Example 2 of this invention. 本発明の実施の形態を説明する図。The figure explaining embodiment of this invention.

Claims (8)

マトリクス状に配置された複数の画素を有し、
前記複数の画素はそれぞれ、発光素子と、トランジスタと、交流駆動用バイパス素子とを有し、
前記発光素子と前記トランジスタは直列に接続し、
前記交流駆動用バイパス素子と前記トランジスタは並列に接続することを特徴とする表示装置。
Having a plurality of pixels arranged in a matrix;
Each of the plurality of pixels includes a light emitting element, a transistor, and an AC driving bypass element,
The light emitting element and the transistor are connected in series,
The AC drive bypass element and the transistor are connected in parallel.
請求項1に記載の前記表示装置は電流源を有し、
前記トランジスタは、前記電流源から供給された信号電流の大きさに依存した電流を前記発光素子に出力することを特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1 has a current source,
The display device, wherein the transistor outputs a current depending on a magnitude of a signal current supplied from the current source to the light emitting element.
マトリクス状に配置された複数の画素を有し、
前記複数の画素はそれぞれ、発光素子と、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、第4のトランジスタと、保持容量素子と、交流駆動用バイパス素子とを有し、
前記第3のトランジスタのゲート端子は第3の配線に接続し、前記第3のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方は第1の配線に接続し、他方は前記第2のトランジスタのゲート端子に接続し、
前記第2のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方は第2の配線を接続し、他方は前記第2のトランジスタのゲート端子に接続し、
前記第4のトランジスタのゲート端子は第4の配線に接続し、前記第4のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方は前記第2のトランジスタのゲート端子に接続し、他方は前記第1のトランジスタのゲート端子に接続し、
前記第1のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方は前記第2の配線に接続し、他方は発光素子の第1の電極に接続し、
前記発光素子の第2の電極は対向電源に接続し、
前記保持容量素子の一方の端子は前記第2の配線に接続し、他方は第1のトランジスタのゲート端子に接続し、
前記交流駆動用バイパス素子の一方の端子は前記第2の配線に接続し、他方は前記発光素子の第1の電極に接続することを特徴とする表示装置。
Having a plurality of pixels arranged in a matrix;
Each of the plurality of pixels includes a light emitting element, a first transistor, a second transistor, a third transistor, a fourth transistor, a storage capacitor element, and an AC driving bypass element.
The gate terminal of the third transistor is connected to a third wiring, one of the source / drain terminals of the third transistor is connected to the first wiring, and the other is connected to the gate terminal of the second transistor. And
One of the source and drain terminals of the second transistor is connected to the second wiring, and the other is connected to the gate terminal of the second transistor,
The gate terminal of the fourth transistor is connected to a fourth wiring, one of the source and drain terminals of the fourth transistor is connected to the gate terminal of the second transistor, and the other is connected to the first transistor. Connect to the gate terminal,
One of the source and drain terminals of the first transistor is connected to the second wiring, the other is connected to the first electrode of the light emitting element,
A second electrode of the light emitting element is connected to a counter power source;
One terminal of the storage capacitor is connected to the second wiring, and the other terminal is connected to the gate terminal of the first transistor;
One terminal of the AC drive bypass element is connected to the second wiring, and the other terminal is connected to the first electrode of the light emitting element.
マトリクス状に配置された複数の画素を有し、
前記複数の画素はそれぞれ、発光素子と、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、第4のトランジスタと、保持容量素子と、交流駆動用バイパス素子とを有し、
前記第3のトランジスタのゲート端子は第3の配線に接続し、前記第3のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方は第1の配線に接続し、他方は前記第2のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方に接続し、
前記第2のトランジスタのソース・ドレイン端子の他方の端子は第2の配線と接続し、
前記第4のトランジスタのゲート端子は第4の配線に接続し、前記第4のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方は前記第2のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方と前記第3のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方との接続点に接続し、他方は前記第1のトランジスタのゲート端子と前記第2のトランジスタのゲート端子との接続点に接続し、
前記第1のトランジスタのソース・ドレイン端子の一方は前記第2の配線に接続し、他方は発光素子の第1の電極を接続し、
前記発光素子の第2の電極は対向電源に接続し、
前記保持容量素子の一方の端子は前記第2の配線に接続し、他方は第1のトランジスタのゲート端子に接続し、
前記交流駆動用バイパス素子の一方の端子は前記第2の配線に接続し、他方は前記発光素子の第1の電極に接続することを特徴とする表示装置。
Having a plurality of pixels arranged in a matrix;
Each of the plurality of pixels includes a light emitting element, a first transistor, a second transistor, a third transistor, a fourth transistor, a storage capacitor element, and an AC driving bypass element.
The gate terminal of the third transistor is connected to a third wiring, one of the source / drain terminals of the third transistor is connected to the first wiring, and the other is the source / drain terminal of the second transistor. Connected to one of the
The other terminal of the source / drain terminals of the second transistor is connected to the second wiring,
The gate terminal of the fourth transistor is connected to a fourth wiring, and one of the source / drain terminals of the fourth transistor is one of the source / drain terminals of the second transistor and the source of the third transistor. The drain terminal is connected to a connection point with one of the drain terminals, and the other is connected to a connection point between the gate terminal of the first transistor and the gate terminal of the second transistor;
One of the source and drain terminals of the first transistor is connected to the second wiring, and the other is connected to the first electrode of the light emitting element,
A second electrode of the light emitting element is connected to a counter power source;
One terminal of the storage capacitor is connected to the second wiring, and the other terminal is connected to the gate terminal of the first transistor;
One terminal of the AC drive bypass element is connected to the second wiring, and the other terminal is connected to the first electrode of the light emitting element.
請求項1乃至請求項4のいずれか一項において、
交流駆動用バイパス素子はダイオードであることを特徴とする表示装置。
In any one of Claims 1 thru | or 4,
A display device, wherein the AC drive bypass element is a diode.
請求項1乃至請求項4のいずれか一項において、
交流駆動用バイパス素子はゲート端子とドレイン端子が接続するトランジスタであることを特徴とする表示装置。
In any one of Claims 1 thru | or 4,
The display device, wherein the AC drive bypass element is a transistor having a gate terminal and a drain terminal connected to each other.
請求項1乃至請求項4のいずれか一項において、
前記発光素子は、第1の電極及び第2の電極の一方が透光性を有し、他方が反射性を有することを特徴とする表示装置。
In any one of Claims 1 thru | or 4,
In the light-emitting element, one of the first electrode and the second electrode has a light-transmitting property and the other has a reflecting property.
請求項1乃至請求項4のいずれか一項において、
前記発光素子の第1の電極及び第2の電極は透光性を有することを特徴とする表示装置。
In any one of Claims 1 thru | or 4,
The display device is characterized in that the first electrode and the second electrode of the light-emitting element have a light-transmitting property.
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