JP2005235366A - 強誘電体記憶装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 リファレンスセルを有する強誘電体記憶装置において、1個のリファレンスセルと複数個のノーマルセルとが対応する場合に、それ等ノーマルセルの書き込み又は読み出しが繰り返されても、対応するリファレンスセルのデータの書き換え回数特性の劣化を低減する。
【解決手段】 ノーマルセルの“L”データ書き込み時間(1)、“H”データ書き込み時間(2)又はデータ読み出し時間(3)に対して、各々、リファレンスセルの“L”データ書き込み時間(4)、“H”データ書き込み時間(5)又はデータ読み出し時間(6)が短くなるように制御する。これにより、リファレンスセルに印加されるストレスが低減されて、信頼性が向上すると共に、リファレンスセルの再書き込み時間が短縮されて高速化が図られる。
【選択図】 図1

Description

本発明は、ノーマルセル及びリファレンスセルを有する強誘電体記憶装置に関し、特に、リファレンスセルに印加されるストレスの軽減して、高信頼性を実現する技術に関する。
近年、強誘電体記憶装置は、プロセスの微細化と大容量化に伴って、現状の2トランジスタ2強誘電体キャパシタ(2T2C)型のメモリセルから、メモリセルサイズを縮小することができる1トランジスタ1強誘電体キャパシタ(1T1C)型のメモリセルが採用されている。1T1C型のメモリセルは、通常の2T2C型のメモリセルに加えてリファレンスセルを必要とするので、高速化及び高信頼性を実現するためには、リファレンスセルの書き込み時間、又は、読み出し時間を短縮することが重要となってきている。
以下、従来の強誘電体記憶装置について、図面を参照しながら説明する。尚、ここに示す従来例に関する技術は特許文献1や非特許文献1に記載されている。
図7は、強誘電体記憶装置内のメモリセルキャパシタで使用する強誘電体のヒステリシス特性を示す図、図8は従来の強誘電体記憶装置の動作タイミングを示す図、図9は従来の強誘電体記憶装置の回路構成の詳細図、図10は従来の強誘電体記憶装置の回路構成の概略図である。
図9及び図10において、RMC0はデータの書き込み及び読み出しを行う第1のリファレンスセルであり、ドレインが第1のリファレンスビット線BL0に接続され、ゲートがリファレンスワード線RWLに接続される第1のMOSトランジスタT0と、一端が第1のMOSトランジスタT0のソースに接続されて、その接続点を第1のストレージノードST0とし、他端がリファレンスセルプレート線RCPに接続される第1の強誘電体キャパシタC0とから構成される。
RMC1はデータの書き込み及び読み出しを行う第2のリファレンスセルであり、ドレインが第3のリファレンスビット線BL2に接続され、ゲートが前記リファレンスワード線RWLに接続される第2のMOSトランジスタT1と、一端が第2のMOSトランジスタT1のソースに接続されて、その接続点を第2のストレージノードST1とし、他端が前記リファレンスセルプレート線RCPに接続される第2の強誘電体キャパシタC1とから構成される。
RMC2はデータの書き込み及び読み出しを行う第3のリファレンスセルであり、ドレインが第5のリファレンスビット線BL4に接続され、ゲートがリファレンスワード線RWLに接続される第11のMOSトランジスタT10と、一端が第11のMOSトランジスタT10のソースに接続されて、その接続点を第5のストレージノードST4とし、他端がリファレンスセルプレート線RCPに接続される第5の強誘電体キャパシタC4とから構成される。
RMC3はデータの書き込み及び読み出しを行う第4のリファレンスセルであり、ドレインが第7のリファレンスビット線BL6に接続され、ゲートがリファレンスワード線RWLに接続される第12のMOSトランジスタT11と、一端が第12のMOSトランジスタT11のソースに接続されて、その接続点を第6のストレージノードST5とし、他端がリファレンスセルプレート線RCPに接続される第6の強誘電体キャパシタC5とから構成される。
また、図9及び図10において、MC0、MC1、MC2及びMC3、並びにC0n、MC1n、MC2n及びMC3nはノーマルセルである。MC0はデータの書き込み及び読み出しを行う第1のメモリセルであり、ドレインが第2のノーマルビット線BL1に接続され、ゲートがワード線WLに接続される第9のMOSトランジスタT8と、一端が前記第9のMOSトランジスタT8に接続され、他端がセルプレート線CPに接続される第3の強誘電体キャパシタC2とから構成される。
MC1はデータの書き込み及び読み出しを行う第2のメモリセルであり、ドレインが第4のノーマルビット線BL3に接続され、ゲートがワード線WLに接続される第10のMOSトランジスタT9と、一端が第10のMOSトランジスタT9に接続され、他端がセルプレート線CPに接続される第4の強誘電体キャパシタC3とから構成される。
MC2はデータの書き込み及び読み出しを行う第3のメモリセルであり、ドレインが第6のノーマルビット線BL5に接続され、ゲートがワード線WLに接続される第19のMOSトランジスタT18と、一端が第19のMOSトランジスタT18に接続され、他端がセルプレート線CPに接続される第7の強誘電体キャパシタC6とから構成される。
MC3はデータの書き込み及び読み出しを行う第4のメモリセルであり、ドレインが第8のノーマルビット線BL7に接続され、ゲートがワード線WLに接続される第20のMOSトランジスタT19と、一端が第20のMOSトランジスタT19に接続され、他端がセルプレート線CPに接続される第8の強誘電体キャパシタC7とから構成される。
更に、ノーマルセルMC0n〜MC3nも前記ノーマルセルMC0〜MC3と同一構成である。従って、その詳細な説明は省略する。
前記ノーマルセルMC0〜MC3nは、行方向(ワード線方向)及び列方向(ビット線方向)に延びて配置され、同一列方向に配置された2個のノーマルセル(例えばMC0、MC0n)の間には、1個又は複数個の他のノーマルセル(図示せず)が配置されていて、1個のリファレンスセルRMC0には、このリファレンスセルRMC0と同一列に配置された複数個のノーマルセルMC0〜MC0nが対応する。同様に、リファレンスセルRMC1には、このリファレンスセルRMC1と同一列に配置された複数個のノーマルセルMC1〜MC1nが対応し、リファレンスセルRMC2には複数個のノーマルセルMC2〜MC2nが対応し、リファレンスセルRMC3には複数個のノーマルセルMC3〜MC3nが対応する構成となっている。
加えて、図9及び図10において、RST0は第1のリファレンスセルリセット回路であり、ゲートがリファレンスセルリセット起動信号線RSTに接続され、ソースが前記第1のリファレンスセルRMC0の第1のストレージノードST0に接続される第3のMOSトランジスタT2と、ゲートがリファレンスセルリセット起動信号線RSTに接続され、ソースが接地電位に接続され、ドレインが第2のリファレンスセルRMC1の第2のストレージノードST1に接続される第4のMOSトランジスタT3とから構成される。
RST1は第2のリファレンスセルリセット回路であり、ゲートがリファレンスセルリセット起動信号線RSTに接続され、ソースが第3のリファレンスセルRMC2の第5のストレージノードST4に接続される第13のMOSトランジスタT12と、ゲートがリファレンスセルリセット起動信号線RSTに接続され、ソースが接地電位に接続され、ドレインが第4のリファレンスセルRMC3の第6のストレージノードST5に接続される第14のMOSトランジスタT13とから構成される。
RFDR0は第1のリファレンスセルリセットドライバーであり、ゲートが第2のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線XRDIN3に接続され、ソースに電源電位が供給される第5のMOSトランジスタT4と、ゲートが第1のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線XRDIN2に接続され、ソースが接地に接続される第6のMOSトランジスタT5と、ゲートが第3のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線RDIN4に接続され、ソースが接地に接続される第7のMOSトランジスタT6とを有し、3つのMOSトランジスタ各々のドレインは第1のリファレンスセルリセット回路RST0の有する第3のMOSトランジスタT2のソースに接続される。
RFDR1は第2のリファレンスセルリセットドライバーであり、ゲートが第2のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線XRDIN3に接続され、ソースに電源電位が供給される第15のMOSトランジスタT14と、ゲートが第1のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線XRDIN2に接続され、ソースが接地に接続される第16のMOSトランジスタT15と、ゲートが第3のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線RDIN4に接続され、ソースが接地電位に接続される第17のMOSトランジスタT16とを有し、3つのMOSトランジスタ各々のドレインは第2のリファレンスセルリセット回路RST1の有する第13のMOSトランジスタT12のソースに接続される。
T7は第1のリファレンスビット線BL0と第3のリファレンスビット線BL2とをドレイン−ソースで接続し、ゲートがリファレンスレベルイコライズ起動信号線REQに接続される第8のMOSトランジスタであり、T17は第5のリファレンスビット線BL4と第7のリファレンスビット線BL6とをドレイン−ソースで接続し、ゲートがリファレンスレベルイコライズ起動信号線REQに接続される第18のMOSトランジスタである。
SAはセンスアンプであり、第1のリファレンスビット線BL0と第2のノーマルビット線BL1との電位差、第3のリファレンスビット線BL2と第4のノーマルビット線BL3との電位差、第5のリファレンスビット線BL4と第6のノーマルビット線BL5との電位差、及び、第7のリファレンスビット線BL6と第8のノーマルビット線BL7との電位差を、センスアンプ起動信号SAEがHの時に増幅する。
PERI0は第1の周辺回路であり、リファレンスワード線RWL、ワード線WL0〜WLn、リファレンスセルプレート線RCP、セルプレート線CP0〜CPn、リファレンスセルリセット起動信号線RST、リファレンスレベルイコライズ起動信号線REQ、第1のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線XRDIN2、第2のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線XRDIN3、第3のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線RDIN4及びセンスアンプ起動信号線SAEとに接続され、リファレンスセルRMC0〜RMC3、リファレンスセルリセット回路RST0〜RST1、リファレンスセルリセットドライバーRFDR0〜RFDR1、メモリセルMC0〜MC3、センスアンプSA、及びMOSトランジスタT7、T17を制御する。
この従来の強誘電体記憶装置の回路動作について、図8のタイミング図と図7の強誘電体記憶装置内のメモリセルの強誘電体キャパシタC0〜C7を構成する強誘電体のヒステリシス特性を示す図とを参照しながら説明する。
図7において、横軸は強誘電体キャパシタに印加される電圧であり、ビット線電圧を基準としてプレート線に印加される電圧を示す。縦軸はその時の強誘電体キャパシタの電荷を示している。強誘電体キャパシタでは、図7に示すように、両端子間の印加電圧が0の時でも点A及び点Gのように残留分極が生じる。この残留分極特性を利用して不揮発性のデータを記憶する強誘電体記憶装置を実現している。メモリセルキャパシタは、メモリセルのデータが“1”である場合には図7の点Aの状態であり、また、メモリセルのデータが“0”である場合には、図7の点Gの状態である。
ここで、図9における第1の強誘電体キャパシタC0及び第2の強誘電体キャパシタC1をリファレンスセルRMC0、RMC1内のキャパシタ、第3の強誘電体キャパシタC2及び第4の強誘電体キャパシタC3を通常のメモリセルMC0、MC1内のキャパシタとする。第1及び第3の強誘電体キャパシタC0及びC2にデータ“1”が、第2及び第4の強誘電体キャパシタC1及びC3にデータ“0”が書き込まれた状態で、第3及び第4の強誘電体キャパシタC2、C3の各々からデータを読み出す場合、初期状態として、ワード線WL、セルプレート線CP、リファレンスレベルイコライズ起動信号REQ、リファレンスワード線RWL、リファレンスセルプレート線RCP、センスアンプ起動信号SAE、第1のリファレンスビット線BL0、第2のノーマルビット線BL1、第3のリファレンスビット線BL2及び第4のノーマルビット線BL3、リファレンスセルリセット起動信号RST、第3のリファレンスセルリセットドライバー起動信号RDIN4、第1のストレージノードST0、第2のストレージノードST1を論理電圧“L”、第1のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN2、第2のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN3を論理電圧“H”とする。
先ず、図8に示すタイミングt01において、リファレンスレベルイコライズ起動信号REQを論理電圧“H”、タイミングt02において、ワード線WL、リファレンスワード線RWLを各々論理電圧“H”、タイミングt03において、セルプレート線CP、リファレンスセルプレート線RCPを各々論理電圧“H”とする。
これによって、図9における第1のMOSトランジスタT0、第2のMOSトランジスタT1、第9のMOSトランジスタT8、第10のMOSトランジスタT9がオンし、第1の強誘電体キャパシタC0、第2の強誘電体キャパシタC1、第3の強誘電体キャパシタC2及び第4の強誘電体キャパシタC3には電圧が印加され、第8のMOSトランジスタT7がオンし、第1のリファレンスビット線BL0と第3のリファレンスビット線BL2が導通される。このとき、第3の強誘電体キャパシタC2には“1”が書き込まれているので、図7の点Aの状態から点Bの状態になり、電荷Q1が第2のノーマルビット線BL1に読み出され、第4の強誘電体キャパシタC3には、“0”が書き込まれているので、図7の点Gの状態から点Eの状態になり、電荷Q0が第4のノーマルビット線BL3に読み出される。一方、第1の強誘電体キャパシタC0には“1”が書き込まれているので、図7の点Aの状態から点Cの状態になり、第2の強誘電体キャパシタC1には“0”が書き込まれているので、図7の点Gの状態から点Fの状態になり、電荷QRが第1及び第3のリファレンスビット線BL0、BL2に読み出される。
次に、図8に示すタイミングt05で、リファレンスセルプレート線RCPとセルプレート線CPを論理電圧“L”とする。このとき、第3の強誘電体キャパシタC2は、図7の点Bの状態から点Jの状態に、第4の強誘電体キャパシタC3は、図7の点Eの状態から点Gの状態に、第1の強誘電体キャパシタC0は、図7の点Cの状態から点Kの状態に、第2の強誘電体キャパシタC1は、図7の点Fの状態から点Hの状態になる。
その後、図8に示すタイミングt06で、リファレンスワード線RWLを論理電圧“L”にすると、第1の強誘電体キャパシタC0は、図7の点Kの状態から点Lの状態になり、第2の強誘電体キャパシタC1は、図7の点Hの状態から点Pの状態になる。
次に、図8に示すタイミングt09で、センスアンプ起動信号SAEを論理電圧“H”とし、第1のリファレンスビット線BL0と第2のノーマルビット線BL1に読み出された電位差(図7に示す電位差V1)と、第3のリファレンスビット線BL2と第4のノーマルビット線BL3に読み出された電位差(図7に示す電位差V0)を各々センスアンプSAで増幅し、第3の強誘電体キャパシタC2から“1”を、第4の強誘電体キャパシタC3から“0”を読み出す。このとき、第3の強誘電体キャパシタC2は、図7の点Jの状態から点Iの状態に移行し、第4の強誘電体キャパシタC3は、図7の点Gの状態のままである。
一方、図8に示すタイミングt07で、リファレンスレベルイコライズ起動信号REQを論理電圧“L”に、タイミングt09で、第1のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN2を論理電圧“L”に、第2のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN3を論理電圧“L”に、リファレンスセルリセット起動信号RSTを論理電圧“H”とすると、第1の強誘電体キャパシタC0は、図7の点Lの状態から点Kの状態を経由して点Iの状態に、第2の強誘電体キャパシタC1は、図7の点Pの状態のままである。
また、図8に示すタイミングt10で、セルプレート線CPとリファレンスセルプレート線RCPを論理電圧“H”にすると、第1及び第3の強誘電体キャパシタC0及びC2は、図7の点Iの状態から点Aの状態に、第2及び第4の強誘電体キャパシタC1及びC3は、図7の点Gの状態から点Dの状態になる。
その後、図8に示すタイミングt12で、リファレンスセルプレート線RCPとセルプレート線CPを論理電圧“L”にすると、第1及び第3の強誘電体キャパシタC0及びC2は、図7の点Aの状態から点Iの状態に、第2及び第4の強誘電体キャパシタC1及びC3は、図7の点Dの状態から点Gの状態になる。
次に、図8に示すタイミングt14で、センスアンプ起動信号SAEを論理電圧“L”にすると、第3の強誘電体キャパシタC2は、図7の点Iの状態から点Aの状態に、第4の強誘電体キャパシタC3は、図7の点Gの状態のままである。
そして、図8に示すタイミングt14で、第2のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN3を論理電圧“H”にして第5のMOSトランジスタT4をオフし、第3のリファレンスセルリセットドライバー起動信号RDIN4を論理電圧“H”にして第7のMOSトランジスタT6をオンし、図8に示すタイミングt15で第1のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN2を論理電圧“H”にして第6のMOSトランジスタT5をオンし、第3のリファレンスセルリセットドライバー起動信号RDIN4を論理電圧“L”にして第7のMOSトランジスタT6をオフすると、第1の強誘電体キャパシタC0は、図7の点Iの状態から点Aの状態に、第2の強誘電体キャパシタC1は、図7の点Gの状態のままである。
最後に、図8に示すタイミングt17で、ワード線WLとリファレンスセルリセット起動信号RSTを論理電圧“L”にする。このとき、第1及び第3の強誘電体キャパシタC0及びC2は、図7の点Aの状態、第2及び第4の強誘電体キャパシタC1及びC3は、図7の点Gの状態にある。
米国特許第6028783号明細書 Yeonbae Chung et al., "A 3.3V 4Mb Nonvolatile Ferroelectric RAM with a Selectively-Driven Double-Pulsed Plate Read/Write-Back Scheme"; Symposium on VLSI Circuits Digest of Technical Papers , 1999,pp.97-98.
以上のように、従来の強誘電体記憶装置では、リファレンスセルRMC0〜RMC3の“L”データの書き込み時間(図8に示す時間(4))とノーマルセルMC0〜MC3nの“L”データの書き込み時間(図8に示す時間(1))とが同じに設定されている。また、リファレンスセルの“H”データの書き込み時間(図8に示す時間(5))とノーマルセルの“H”データの書き込み時間(図8に示す時間(2))とが同じに設定され、更には、リファレンスセルの読み出し時間(図8に示す時間(6))とノーマルセルの読み出し時間(図8に示す時間(3))とが同じに設定されている。
しかしながら、リファレンスセルを有する強誘電体記憶装置において、多数個の同一列のノーマルセル(例えばMC0〜MC0n)に対して1個のリファレンスセルRMC0が対応する場合に、その多数個のノーマルセルMC0〜MC0nのうち任意の1個がアクセスされる毎に、同時にリファレンスセルRMC0もアクセスされるために、そのノーマルセルMC0〜MC0nとリファレンスセルRMC0との書き込み時間や読み出し時間が同一時間であるために、そのリファレンスセルRMC0には、1個のノーマルセル(例えばMC0)にかかるストレスの数倍(ノーマルセルの個数倍)のストレスが印加される。その結果、ノーマルセルMC0〜MC0nよりもアクセス回数の多いリファレンスセルRMC0の書き換え特性を始めとする各種特性が、ノーマルセルMC0〜MC0nの各種特性よりも悪化することになる。
本発明は、前記従来の問題点に着目し、この問題点を解決するものであり、その目的は、複数個のノーマルセルに対して1個のリファレンスセルが対応する場合に、そのリファレンスセルの総合的なストレスを低減して、高信頼性を実現する強誘電体記憶装置を提供することにある。
前記目的を達成するために、本発明では、複数個のノーマルセルに対して1個のリファレンスセルが対応する場合に、複数個のノーマルセルの書き込み時間又は読み出し時間に対して、対応する1個のリファレンスセルの書き込み時間又は読み出し時間を短く設定することにより、そのリファレンスセルにかかる総合的なストレスを低減して、高信頼性及び高速化を実現することとする。
すなわち、請求項1記載の発明の強誘電体記憶装置は、少なくとも1個のリファレンスセルと、前記1個のリファレンスセルに対応する複数のノーマルセルと、前記リファレンスセル及び前記ノーマルセルに対するアクセスを制御する制御回路とを備え、前記制御回路は、前記リファレンスセルの“H”データの書き込み時間に対する前記各ノーマルセルの“H”データの書き込み時間、前記リファレンスセルの“L”データの書き込み時間に対する前記各ノーマルセルの“L”データの書き込み時間、又は前記リファレンスセルの読み出し時間に対する前記各ノーマルセルの読み出し時間の3組の処理時間において、少なくとも1組については、前記リファレンスセルの処理時間を前記ノーマルセルの処理時間よりも短く設定することを特徴とする。
請求項2記載の発明は、前記請求項1記載の強誘電体記憶装置において、前記複数のノーマルセルのうち1つからのデータが読み出されるノーマルビット線と、前記リファレンスセルからのデータが読み出されるリファレンスビット線と、前記ノーマルビット線と前記リファレンスビット線との電位差を増幅するセンスアンプとを備え、前記制御回路は、前記リファレンスセルの“H”データ又は“L”データの書き込み時間を、前記ノーマルセル及び前記リファレンスセルからの両データの読み出し時に前記ノーマルビット線と前記リファレンスビット線との電位差が前記センスアンプの感度となる時間以上に設定することを特徴とする。
請求項3記載の発明は、前記請求項1記載の強誘電体記憶装置において、前記複数のノーマルセルのうち1つからのデータが読み出されるノーマルビット線と、前記リファレンスセルからのデータが読み出されるリファレンスビット線と、前記ノーマルビット線と前記リファレンスビット線との電位差を増幅するセンスアンプとを備え、前記制御回路は、前記リファレンスセルの読み出し時間を、前記ノーマルセル及び前記リファレンスセルからの両データの読み出し時に前記ノーマルビット線と前記リファレンスビット線との電位差が前記センスアンプの感度となる時間以上に設定することを特徴とする。
請求項4記載の発明は、前記請求項1記載の強誘電体記憶装置において、前記制御回路は、前記リファレンスセルの“H”データの書き込み時間を、前記ノーマルセルの“H”データの書き込み時間よりも短く設定することを特徴とする。
請求項5記載の発明は、前記請求項4記載の強誘電体記憶装置において、前記制御回路は、前記リファレンスセルの“H”データの書き込み時間を、前記リファレンスセルの“L”データの書き込み時間よりも短く設定することを特徴とする。
請求項6記載の発明は、前記請求項1記載の強誘電体記憶装置において、前記制御回路は、前記リファレンスセルの“L”データの書き込み時間を、前記ノーマルセルの“L”データの書き込み時間よりも短く設定することを特徴とする。
請求項7記載の発明は、前記請求項6記載の強誘電体記憶装置において、前記制御回路は、前記リファレンスセルの“L”データの書き込み時間を、前記リファレンスセルの“H”データの書き込み時間よりも短く設定することを特徴とする。
請求項8記載の発明は、前記請求項1記載の強誘電体記憶装置において、前記制御回路は、前記リファレンスセルの読み出し時間を、前記ノーマルセルの読み出し時間よりも短く設定することを特徴とする。
請求項9記載の発明は、前記請求項8記載の強誘電体記憶装置において、前記複数のノーマルセルのうち1つからのデータが読み出されるノーマルビット線と、前記リファレンスセルからのデータが読み出されるリファレンスビット線と、前記ノーマルビット線と前記リファレンスビット線との電位差を増幅するセンスアンプとを備え、前記制御回路は、前記リファレンスセルの読み出し時間を、前記ノーマルセル及びリファレンスセルからの両データの読み出し時に前記ノーマルビット線と前記リファレンスビット線との電位差が前記センスアンプの感度となる時間以上に設定することを特徴とする。
以上により、請求項1〜9記載の発明の強誘電体記憶装置では、複数個のノーマルセルに対して1個のリファレンスセルが対応する場合に、制御回路が、前記1個のリファレンスセルの“H”データの書き込み時間、“L”データの書き込み時間、及びデータの読み出し時間の3者のうち、少なくとも1つを、各ノーマルセルの“H”データの書き込み時間、“L”データの書き込み時間、及びデータの読み出し時間に対して、短く設定するので、前記複数個のノーマルセルからデータの書き込みや読み出しが繰り返し行われても、対応する1個のリファレンスセルのデータの書き込みや読み出しは、それ等のノーマルセルでの書き込みや読み出しの回数と同数回行われるものの、リファレンスセルの1回当りの書き込み時間又は読み出し時間が短い分、その1個のリファレンスセルにかかる総合的なストレスが大幅に低減される。
以上説明したように、請求項1〜9記載の発明の強誘電体記憶装置によれば、複数個のノーマルセルに対して1個のリファレンスセルが対応する場合において、それ等のノーマルセルのデータの書き込み又は読み出し毎に、前記対応する1個のリファレンスセルが参照されるものの、そのリファレンスセルの書き込み時間又は読み出し時間が短かく設定されていて、そのリファレンスセルにかかる総合的なストレスが低減されるので、そのリファレンスセルの劣化を抑制できて、高信頼性を実現することができる。
(第1の実施の形態)
以下に、本発明の第1の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
図2は本発明の第1の実施の形態の強誘電体記憶装置の回路構成の詳細図、図3は本発明の第1の実施の形態の強誘電体記憶装置の回路構成の概略図、図4は本発明の第1の実施の形態の強誘電体記憶装置の動作タイミングを示す図、また、図7は強誘電体記憶装置内のメモリセルキャパシタで使用する強誘電体のヒステリシス特性を示す図である。本実施の形態では、これら図2、図4及び図7を参照しながら説明する。
図2及び図3において、RMC0、RMC1、RMC2及びRMC3はリファレンスセルである。RMC0はデータの書き込み及び読み出しを行う第1のリファレンスセルであり、ドレインが第1のリファレンスビット線BL0に接続され、ゲートがリファレンスワード線RWLに接続される第1のMOSトランジスタT0と、一端が第1のMOSトランジスタT0のソースに接続されて、その接続点を第1のストレージノードST0とし、他端がリファレンスセルプレート線RCPに接続される第1の強誘電体キャパシタC0とから構成される。
RMC1はデータの書き込み及び読み出しを行う第2のリファレンスセルであり、ドレインが第3のリファレンスビット線BL2に接続され、ゲートがリファレンスワード線RWLに接続される第2のMOSトランジスタT1と、一端が第2のMOSトランジスタT1のソースに接続されて、その接続点を第2のストレージノードST1とし、他端がリファレンスセルプレート線RCPに接続される第2の強誘電体キャパシタC1とから構成される。
RMC2はデータの書き込み及び読み出しを行う第3のリファレンスセルであり、ドレインが第5のリファレンスビット線BL4に接続され、ゲートがリファレンスワード線RWLに接続される第11のMOSトランジスタT10と、一端が第11のMOSトランジスタT10のソースに接続されて、その接続点を第5のストレージノードST4とし、他端がリファレンスセルプレート線RCPに接続される第5の強誘電体キャパシタC4とから構成される。
RMC3はデータの書き込み及び読み出しを行う第4のリファレンスセルであり、ドレインが第7のリファレンスビット線BL6に接続され、ゲートがリファレンスワード線RWLに接続される第12のMOSトランジスタT11と、一端が第12のMOSトランジスタT11のソースに接続されて、その接続点を第6のストレージノードST5とし、他端がリファレンスセルプレート線RCPに接続される第6の強誘電体キャパシタC5とから構成される。
また、図2及び図3において、MC0、MC1、MC2及びMC3、並びにC0n、MC1n、MC2n及びMC3nはノーマルセルである。MC0はデータの書き込み及び読み出しを行う第1のメモリセル(ノーマルセル)であり、ドレインが第2のノーマルビット線BL1に接続され、ゲートがワード線に接続される第9のMOSトランジスタと、一端を第9のMOSトランジスタに接続され、他端をセルプレート線に接続される第3の強誘電体キャパシタC2とから構成される。
MC1はデータの書き込み及び読み出しを行う第2のメモリセル(ノーマルセル)であり、ドレインが第4のノーマルビット線BL3に接続され、ゲートがワード線WLに接続される第10のMOSトランジスタT9と、一端を第10のMOSトランジスタT9に接続され、他端をセルプレート線CPに接続される第4の強誘電体キャパシタC3とから構成される。
MC2はデータの書き込み及び読み出しを行う第3のメモリセルであり、ドレインが第6のノーマルビット線BL5に接続され、ゲートがワード線WLに接続される第19のMOSトランジスタT18と、一端を第19のMOSトランジスタT18に接続され、他端をセルプレート線CPに接続される第7の強誘電体キャパシタC6とから構成される。
MC3はデータの書き込み及び読み出しを行う第4のメモリセルであり、ドレインが第8のノーマルビット線BL7に接続され、ゲートがワード線WLに接続される第20のMOSトランジスタT19と、一端を第20のMOSトランジスタT19に接続され、他端をセルプレート線CPに接続される第8の強誘電体キャパシタC7とから構成される。
更に、ノーマルセルMC0n〜MC3nも前記ノーマルセルMC0〜MC3と同一構成である。従って、その詳細な説明は省略する。
前記ノーマルセルMC0〜MC3nは、行方向(ワード線方向)及び列方向(ビット線方向)に延びて配置され、同一列方向に配置された2個のノーマルセル(例えばMC0、MC0n)の間には、1個又は複数個の他のノーマルセル(図示せず)が配置されていて、1個のリファレンスセルRMC0には、このリファレンスセルRMC0と同一列に配置された複数個のノーマルセルMC0〜MC0nが対応する。同様に、リファレンスセルRMC1には、このリファレンスセルRMC1と同一列に配置された複数個のノーマルセルMC1〜MC1nが対応し、リファレンスセルRMC2には複数個のノーマルセルMC2〜MC2nが対応し、リファレンスセルRMC3には複数個のノーマルセルMC3〜MC3nが対応する構成となっている。
加えて、図2及び図3において、RST0は第1のリファレンスセルリセット回路であり、ゲートがリファレンスセルリセット起動信号線RSTに接続され、ソースが第1のリファレンスセルRMC0の第1のストレージノードST0に接続される第3のMOSトランジスタT2と、ゲートがリファレンスセルリセット起動信号線RSTに接続され、ソースが接地電位に接続され、ドレインが第2のリファレンスセルRMC1の第2のストレージノードST1に接続される第4のMOSトランジスタT3とから構成される。
RST1は第2のリファレンスセルリセット回路であり、ゲートがリファレンスセルリセット起動信号線RSTに接続され、ソースが第3のリファレンスセルRMC2の第5のストレージノードST4に接続される第13のMOSトランジスタT12と、ゲートがリファレンスセルリセット起動信号線RSTに接続され、ソースが接地電位に接続され、ドレインが第4のリファレンスセルRMC3の第6のストレージノードST5に接続される第14のMOSトランジスタT13とから構成される。
RFDR0は第1のリファレンスセルリセットドライバーであり、ゲートが第2のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線XRDIN3に接続され、ソースが電源電位に接続される第5のMOSトランジスタT4と、ゲートが第1のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線XRDIN2に接続され、ソースが接地電位に接続される第6のMOSトランジスタT5と、ゲートが第3のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線RDIN4に接続され、ソースが接地電位に接続される第7のMOSトランジスタT6とを有し、3つのMOSトランジスタ各々のドレインは第1のリファレンスセルリセット回路RST0の有する第3のMOSトランジスタT2のソースに接続される。
RFDR1は第2のリファレンスセルリセットドライバーであり、ゲートが第2のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線XRDIN3に接続され、ソースが電源電位に接続される第15のMOSトランジスタT14と、ゲートが第1のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線XRDIN2に接続され、ソースが接地電位に接続される第16のMOSトランジスタT15と、ゲートが第3のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線RDIN4に接続され、ソースが接地電位に接続される第17のMOSトランジスタT16とを有し、3つのMOSトランジスタ各々のドレインは第2のリファレンスセルリセット回路RST1の有する第13のMOSトランジスタT12のソースに接続される。
T7は第1のリファレンスビット線BL0と第3のリファレンスビット線BL2とをドレインーソースで接続し、ゲートがリファレンスセルレベルイコライズ起動信号線REQに接続される第8のMOSトランジスタであり、T17は第5のリファレンスビット線BL4と第7のリファレンスビット線BL6とをドレインーソースで接続し、ゲートがリファレンスセルレベルイコライズ起動信号線REQに接続される第18のMOSトランジスタである。
SAはセンスアンプであり、第1のリファレンスビット線BL0と第2のノーマルビット線BL1との電位差、第3のリファレンスビット線BL2と第4のノーマルビット線BL3との電位差、第5のリファレンスビット線BL4と第6のノーマルビット線BL5との電位差、及び、第7のリファレンスビット線BL6と第8のビット線BL8との電位差をセンスアンプ起動信号SAEがHの時に増幅する。
PERI1は第2の周辺回路(制御回路)であり、リファレンスワード線RWL、ワード線WL、リファレンスセルプレート線RCP、セルプレート線CP、リファレンスセルリセット起動信号線RST、リファレンスセルレベルイコライズ起動信号線REQ、第1のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線XRDIN2、第2のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線XRDIN3、第3のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線RDIN4及びセンスアンプ起動信号線SAEとに接続され、リファレンスセル、リファレンスセルリセット回路、リファレンスセルリセットドライバー、メモリセル、センスアンプSA、及び、MOSトランジスタT7、T17を制御する。
この本発明の第1の実施の形態における強誘電体記憶装置の回路動作について、図4の動作タイミング図と図7の強誘電体記憶装置内のメモリセルキャパシタC0〜C7で使用する強誘電体のヒステリシス特性を示す図とを参照しながら説明する。
図7において、横軸は強誘電体キャパシタに印加される電圧であり、ビット線電圧を基準としてプレート線に印加される電圧を示す。縦軸はその時の強誘電体キャパシタの電荷を示している。強誘電体キャパシタでは、図7に示すように、両端子間の印加電圧が0の時でも点A及び点Gのように残留分極が生じる。この残留分極特性を利用して不揮発性のデータを記憶する強誘電体記憶装置を実現している。メモリセルキャパシタは、メモリセルのデータが“1”である場合には図7の点Aの状態であり、また、メモリセルのデータが“0”である場合には、図7の点Gの状態である。
ここで、図2における第1の強誘電体キャパシタC0及び第2の強誘電体キャパシタC1をリファレンスセル内のキャパシタ、第3の強誘電体キャパシタC2及び第4の強誘電体キャパシタC3を通常のメモリセル内のキャパシタとする。第1及び第3の強誘電体キャパシタC0及びC2にデータ“1”が、第2及び第4の強誘電体キャパシタC1及びC3にデータ“0”が書き込まれた状態で、第3及び第4の強誘電体キャパシタC2、C3の各々からデータを読み出す場合、初期状態として、ワード線WL、セルプレート線CP、リファレンスレベルイコライズ起動信号REQ、リファレンスワード線RWL、リファレンスセルプレート線RCP、センスアンプ起動信号SAE、第1のリファレンスビット線BL0、第2のノーマルビット線BL1、第3のリファレンスビット線BL2及び第4のノーマルビット線BL3、リファレンスセルリセット起動信号RST、第3のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線RDIN4、第1のストレージノードST0、第2のストレージノードST1を論理電圧“L”、第1のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線XRDIN2、第2のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN3を論理電圧“H”とする。
先ず、図4に示すタイミングt01において、リファレンスレベルイコライズ起動信号REQを論理電圧“H”、タイミングt02において、ワード線WL、リファレンスワード線RWLを論理電圧“H”、タイミングt03において、セルプレート線CP、リファレンスセルプレート線RCPを論理電圧“H”とする。
これによって、図2における第1のMOSトランジスタT0、第2のMOSトランジスタT1、第9のMOSトランジスタT8、第10のMOSトランジスタT9がオンし、第1の強誘電体キャパシタC0、第2の強誘電体キャパシタC1、第3の強誘電体キャパシタC2及び第4の強誘電体キャパシタC3には電圧が印加され、第8のMOSトランジスタT7がオンし、第1のリファレンスビット線BL0と第3のリファレンスビット線BL2が導通される。このとき、第3の強誘電体キャパシタC2には“1”が書き込まれているので、図7の点Aの状態から点Bの状態になり、電荷Q1が第2のノーマルビット線BL1に読み出され、第4の強誘電体キャパシタC3には、“0”が書き込まれているので、図7の点Gの状態から点Eの状態になり、電荷Q0が第4のノーマルビット線BL3に読み出される。一方、第1の強誘電体キャパシタC0には“1”が書き込まれているので、図7の点Aの状態から点Cの状態になり、第2の強誘電体キャパシタC1には“0”が書き込まれているので、図7の点Gの状態から点Fの状態になり、電荷QRが第1及び第3のリファレンスビット線BL0、BL2に読み出される。
次に、図4に示すタイミングt05で、リファレンスセルプレート線RCPとセルプレート線CPを論理電圧“L”とする。このとき、第3の強誘電体キャパシタC2は、図7の点Bの状態から点Jの状態に、第4の強誘電体キャパシタC3は、図7の点Eの状態から点Gの状態に、第1の強誘電体キャパシタC0は、図7の点Cの状態から点Kの状態に、第2の強誘電体キャパシタC1は、図7の点Fの状態から点Hの状態になる。
その後、図4に示すタイミングt06で、リファレンスワード線RWLを論理電圧“L”にすると、第1の強誘電体キャパシタC0は、図7の点Kの状態から点Lの状態、第2の強誘電体キャパシタC1は、図7の点Hの状態から点Pの状態になる。
次に、図4に示すタイミングt09で、センスアンプ起動信号SAEを論理電圧“H”とし、第1のリファレンスビット線BL0と第2のノーマルビット線BL1に読み出された電位差(図7に示す電位差V1)と、第3のリファレンスビット線BL2と第4のノーマルビット線BL3に読み出された電位差(図7に示す電位差V0)を各々センスアンプSAで増幅し、第3の強誘電体キャパシタC2から“1”を、第4の強誘電体キャパシタC3から“0”を読み出す。このとき、第3の強誘電体キャパシタC2は、図7の点Jの状態から点Iの状態に、第4の強誘電体キャパシタC3は、図7の点Gの状態のままである。
一方、図4に示すタイミングt07で、リファレンスレベルイコライズ起動信号REQを論理電圧“L”に、タイミングt09で、第1のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN2を論理電圧“L”に、第2のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN3を論理電圧“L”に、リファレンスセルリセット起動信号RSTを論理電圧“H”とすると、第1の強誘電体キャパシタC0は、図7の点Lの状態から点Kの状態を経由して点Iの状態に、第2の強誘電体キャパシタC1は、図7の点Pの状態のままである。
また、図4に示すタイミングt10で、セルプレート線CPとリファレンスセルプレート線RCPを論理電圧“H”にすると、第1及び第3の強誘電体キャパシタC0及びC2は、図7の点Iの状態から点Aの状態に、第2及び第4の強誘電体キャパシタC1及びC3は、図7の点Gの状態から点Dの状態になる。
その後、図4に示すタイミングt12で、リファレンスセルプレート線RCPとセルプレート線CPを論理電圧“L”にすると、第1及び第3の強誘電体キャパシタC0及びC2は、図7の点Aの状態から点Iの状態に、第2及び第4の強誘電体キャパシタC1及びC3は、図7の点Dの状態から点Gの状態になる。
次に、図4に示すタイミングt14で、センスアンプ起動信号SAEを論理電圧“L”にすると、第3の強誘電体キャパシタC2は、図7の点Iの状態から点Aの状態に、第4の強誘電体キャパシタC3は、図7の点Gの状態のままである。
そして、図4に示すタイミングt13で、第2のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN3を論理電圧“H”にして第5のMOSトランジスタT4をオフし、第3のリファレンスセルリセットドライバー起動信号RDIN4を論理電圧“H”にして第7のMOSトランジスタT6をオンし、図4に示すタイミングt14で第1のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN2を論理電圧“H”にして第6のMOSトランジスタT5をオンし、第3のリファレンスセルリセットドライバー起動信号RDIN4を論理電圧“L”にして第7のMOSトランジスタT6をオフすると、第1の強誘電体キャパシタC0は、図7の点Iの状態から点Aの状態に、第2の強誘電体キャパシタC1は、図7の点Gの状態のままである。
最後に、図4に示すタイミングt17で、ワード線WLとリファレンスセルリセット起動信号RSTを論理電圧“L”にする。このとき、第1及び第3の強誘電体キャパシタC0及びC2は、図7の点Aの状態、第2及び第4の強誘電体キャパシタC1及びC3は、図7の点Gの状態にある。
ここで、本第1の実施の形態の強誘電体記憶装置では、リファレンスセルの“H”データの書き込み時間(図4に示す時間(5))を、ノーマルセルの“H”データの書き込み時間(図4に示す時間(2))よりも短くしたので、リファレンスセルに印加される総合的なストレスを低減できると共に、リファレンスセルの“H”データの再書き込み時間を短縮することができる。
すなわち、リファレンスセルを有する強誘電体記憶装置において、複数個のノーマルセル(例えばMC0〜MC0n)に対応して1個のリファレンスセルRMC0が配置される場合に、その複数個のノーマルセルMC0〜MC0nのうち任意の1個がアクセスされる毎に、前記1個のリファレンスセルRMC0も同時にアクセスされるために、このリファレンスセルRMC0には、複数個のノーマルセルMC0〜MC0nの個数に等しい回数のストレスが繰り返し印加されて、ノーマルセルの個数倍の大きなストレスがかかることになる状況であるが、本実施の形態では、リファレンスセルの書き込みアクセス時には、その書き込み時間が短い分、このリファレンスセルRMC0に印加される1回当りのストレスが各ノーマルセルMC0〜MC0nに印加されるストレスよりも小さいので、リファレンスセルRMC0が繰り返しアクセスされても、このリファレンスセルRMC0に印加される総合的なストレスを有効に低減することができて、リファレンスセルRMC0の書き換え特性を始めとする各種特性に対する信頼性を向上させることができる。
(第2の実施の形態)
次に、本発明の第2の実施の形態について、図面に基づいて説明する。
本実施の形態に示す回路構成では、第1の実施の形態に対して周辺回路の制御のみが異なるので、第1の実施の形態における説明に使用した図2の回路構成図を用い、図中の第2の周辺回路PERI1を、ここでは図示しないが、第3の周辺回路PERI2(制御回路)とし、また、動作タイミング図には図5を、強誘電体記憶装置内のメモリセルキャパシタで使用する強誘電体のヒステリシス特性を示す図には図7を参照して説明する。
本実施の形態では、第1の実施の形態で説明した回路構成と同様であるので、その説明を省略し、動作の説明を行う。
先ず、図5に示すタイミングt01において、リファレンスレベルイコライズ起動信号REQを論理電圧“H”、タイミングt02において、ワード線WL、リファレンスワード線RWLを論理電圧“H”、タイミングt03において、セルプレート線CP、リファレンスセルプレート線RCPを論理電圧“H”とする。
これによって、図2における第1のMOSトランジスタT0、第2のMOSトランジスタT1、第9のMOSトランジスタT8、第10のMOSトランジスタT9がオンし、第1の強誘電体キャパシタC0、第2の強誘電体キャパシタC1、第3の強誘電体キャパシタC2及び第4の強誘電体キャパシタC3には電圧が印加され、第8のMOSトランジスタT7がオンし、第1のリファレンスビット線BL0と第3のリファレンスビット線BL2が導通される。このとき、第3の強誘電体キャパシタC2には“1”が書き込まれているので、図7の点Aの状態から点Bの状態になり、電荷Q1が第2のノーマルビット線BL1に読み出され、第4の強誘電体キャパシタC3には、“0”が書き込まれているので、図7の点Gの状態から点Eの状態になり、電荷Q0が第4のノーマルビット線BL3に読み出される。一方、第1の強誘電体キャパシタC0には“1”が書き込まれているので、図7の点Aの状態から点Cの状態になり、第2の強誘電体キャパシタC1には“0”が書き込まれているので、図7の点Gの状態から点Fの状態になり、電荷QRが第1及び第3のビット線に読み出される。
次に、図5に示すタイミングt05で、リファレンスセルプレート線RCPとセルプレート線CPを論理電圧“L”とする。このとき、第3の強誘電体キャパシタC2は、図7の点Bの状態から点Jの状態に、第4の強誘電体キャパシタC3は、図7の点Eの状態から点Gの状態に、第1の強誘電体キャパシタC0は、図7の点Cの状態から点Kの状態に、第2の強誘電体キャパシタC1は、図7の点Fの状態から点Hの状態になる。
その後、図5に示すタイミングt06で、リファレンスワード線RWLを論理電圧“L”にすると、第1の強誘電体キャパシタC0は、図7の点Kの状態から点Lの状態、第2の強誘電体キャパシタC1は、図7の点Hの状態から点Pの状態になる。
次に、図5に示すタイミングt09で、センスアンプ起動信号SAEを論理電圧“H”とし、第1のリファレンスビット線BL0と第2のノーマルビット線BL1に読み出された電位差(図7に示す電位差V1)と、第3のリファレンスビット線BL2と第4のノーマルビット線BL3に読み出された電位差(図7に示す電位差V0)を各々センスアンプSAで増幅し、第3の強誘電体キャパシタC2から“1”を、第4の強誘電体キャパシタC3から“0”を読み出す。このとき、第3の強誘電体キャパシタC2は、図7の点Jの状態から点Iの状態に、第4の強誘電体キャパシタC3は、図7の点Gの状態のままである。
一方、図5に示すタイミングt07で、リファレンスレベルイコライズ起動信号REQを論理電圧“L”に、タイミングt09で、第1のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN2を論理電圧“L”に、第2のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN3を論理電圧“L”に、リファレンスセルリセット起動信号RSTを論理電圧“H”とすると、第1の強誘電体キャパシタC0は、図7の点Lの状態から点Kの状態を経由して点Iの状態に、第2の強誘電体キャパシタC1は、図7の点Pの状態のままである。
また、図5に示すタイミングt10で、セルプレート線CPとリファレンスセルプレート線RCPを論理電圧“H”にすると、第1及び第3の強誘電体キャパシタC0及びC2は、図7の点Iの状態から点Aの状態に、第2及び第4の強誘電体キャパシタC1及びC3は、図7の点Gの状態から点Dの状態になる。
その後、図5に示すタイミングt11で、リファレンスセルプレート線RCPを論理電圧“L”に、タイミングt12で、セルプレート線CPを論理電圧“L”にすると、第1及び第3の強誘電体キャパシタC0及びC2は、図7の点Aの状態から点Iの状態に、第2及び第4の強誘電体キャパシタC1及びC3は、図7の点Dの状態から点Gの状態になる。
次に、図5に示すタイミングt14で、センスアンプ起動信号SAEを論理電圧“L”にすると、第3の強誘電体キャパシタC2は、図7の点Iの状態から点Aの状態に、第4の強誘電体キャパシタC3は、図7の点Gの状態のままである。
また、図5に示すタイミングt13で、第2のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN3を論理電圧“H”にして第5のMOSトランジスタT4をオフし、第3のリファレンスセルリセットドライバー起動信号RDIN4を論理電圧“H”にして第7のMOSトランジスタT6をオンし、図5に示すタイミングt14で第1のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN2を論理電圧“H”にして第6のMOSトランジスタT5をオンし、第3のリファレンスセルリセットドライバー起動信号RFDIN4を論理電圧“L”にして第7のMOSトランジスタT6をオフすると、第1の強誘電体キャパシタC0は、図7の点Iの状態から点Aの状態に、第2の強誘電体キャパシタC1は、図7の点Gの状態のままである。
最後に、図5に示すタイミングt17で、ワード線WLとリファレンスセルリセット起動信号RSTを論理電圧“L”にする。このとき、第1及び第3の強誘電体キャパシタC0及びC2は、図7の点Aの状態、第2及び第4の強誘電体キャパシタC1及びC3は、図7の点Gの状態にある。
リファレンスセルの“L”データの書き込みは、図7に示す点Pの状態から点Dの状態を経由して点Gの状態にすることで実施され、また、リファレンスセルの“H”データの書き込みは、図7に示す点Lの状態から点Iの状態を経由して点Aの状態にすることで実施される。このとき、各々のヒステリシス曲線の軌跡が書き込みに必要な時間になるため、リファレンスセルの“L”データの書き込み時間の軌跡の方が、リファレンスセルの“H”データ書き込み時の軌跡よりも短いため、リファレンスセルの“L”データの書き込み時間(図5に示す時間(4))をリファレンスセルの“H”データの書き込み時間(図5に示す時間(5))よりも短くすることができる。
ここで、本第2の実施の形態の強誘電体記憶装置では、リファレンスセルの“L”データの書き込み時間(図5に示す時間(4))を、ノーマルセルの“L”データの書き込み時間(図5に示す時間(1))よりも短くしたので、リファレンスセルに印加されるストレスを低減できると共に、リファレンスセルの“L”データの書き込み時間(図5に示す時間(4))をリファレンスセルの“H”データの書き込み時間(図5に示す時間(5))よりも短くすることができる。その結果、リファレンスセルに印加するストレスが低減されると共に、リファレンスセルの再書き込み時間を短縮することができる。
すなわち、リファレンスセルを有する強誘電体記憶装置において、複数個のノーマルセルに対応して1個のリファレンスセルが配置される場合に、その複数個のノーマルセルのうち任意の1個がアクセスされる毎に、前記1個のリファレンスセルも同時にアクセスされるために、このリファレンスセルには、複数個のノーマルセルの個数に等しい回数のストレスが繰り返し印加されて、ノーマルセルの個数倍の大きなストレスがかかることになる状況であるが、本実施の形態では、リファレンスセルの書き込みアクセス時には、その書き込み時間が短い分、このリファレンスセルに印加される1回当りのストレスが各ノーマルセルに印加されるストレスよりも小さいので、リファレンスセルが繰り返しアクセスされても、このリファレンスセルに印加される総合的なストレスを有効に低減することができて、リファレンスセルの書き換え特性を始めとする各種特性に対する信頼性を向上させることができる。
(第3の実施の形態)
続いて、本発明の第3の実施の形態について、図に基づいて説明する。
本実施の形態に示す回路構成では、第1の実施の形態に対して周辺回路の制御のみが異なるので、第1の実施の形態における説明に使用した図2の回路構成図を用い、図中の第2の周辺回路PERI1を、ここでは図示しないが、第4の周辺回路PERI3(制御回路)とし、また、動作タイミング図には図6を、強誘電体記憶装置内のメモリセルキャパシタで使用する強誘電体のヒステリシス特性を示す図には図7を参照して説明する。
本実施の形態では、第1の実施の形態で説明した回路構成と同様であるので、その説明を省略し、動作の説明を行う。
先ず、図6に示すタイミングt01において、リファレンスレベルイコライズ起動信号REQを論理電圧“H”、タイミングt02において、ワード線WL、リファレンスワード線RWLを論理電圧“H”、タイミングt03において、セルプレート線CP、リファレンスセルプレート線RCPを論理電圧“H”とする。
これによって、図2における第1のMOSトランジスタT0、第2のMOSトランジスタT1、第9のMOSトランジスタT8、第10のMOSトランジスタT9がオンし、第1の強誘電体キャパシタC0、第2の強誘電体キャパシタC1、第3の強誘電体キャパシタC2及び第4の強誘電体キャパシタC3には電圧が印加され、第8のMOSトランジスタT7がオンし、第1のリファレンスビット線BL0と第3のリファレンスビット線BL2が導通される。このとき、第3の強誘電体キャパシタC2には“1”が書き込まれているので、図7の点Aの状態から点Bの状態になり、電荷Q1が第2のノーマルビット線BL1に読み出され、第4の強誘電体キャパシタC3には、“0”が書き込まれているので、図7の点Gの状態から点Eの状態になり、電荷Q0が第4のノーマルビット線BL3に読み出される。一方、第1の強誘電体キャパシタC0には“1”が書き込まれているので、図7の点Aの状態から点Cの状態になり、第2の強誘電体キャパシタC1には“0”が書き込まれているので、図7の点Gの状態から点Fの状態になり、電荷QRが第1及び第3のビット線に読み出される。
次に、図6に示すタイミングt04で、リファレンスセルプレート線RCPを論理電圧“L”に、タイミングt05でセルプレート線CPを論理電圧“L”とする。このとき、第3の強誘電体キャパシタC2は、図7の点Bの状態から点Jの状態に、第4の強誘電体キャパシタC3は、図7の点Eの状態から点Gの状態になる。
また、第1の強誘電体キャパシタC0は、図7の点Cの状態から点Kの状態に、第2の強誘電体キャパシタC1は、図7の点Fの状態から点Hの状態になる。このとき、点Cを通る接線の傾きに相当する容量値(以下、Cshと記載)と点Fを通る接線の傾きに相当する容量値(以下、Cslと記載)に応じて、点Kと点Hの位置が決定される。言い換えれば、図7に示すV1とV0との値が決定される。図7のヒステリシス曲線においては、Csh>Cslであるため、リファレンスセルの読み出し時間(図6に示す時間(6))とノーマルセルの読み出し時間(図6に示す時間(3))が同じ場合は、V1<V0となる。そのため、リファレンスセルの読み出し時間をノーマルセルよりも短くし、すなわち“L”データよりも読み出し時間のかかる“H”データに着目し、リファレンスセルの“H”データの読み出しをノーマルセルの“H”データの読み出しよりも抑えることにより、V1=V0に近づけることができる。
その後、図6に示すタイミングt06で、リファレンスワード線RWLを論理電圧“L”にすると、第1の強誘電体キャパシタC0は、図7の点Kの状態から点Lの状態、第2の強誘電体キャパシタC1は、図7の点Hの状態から点Pの状態になる。
次に、図6に示すタイミングt09で、センスアンプ起動信号SAEを論理電圧“H”とし、第1のリファレンスビット線BL0と第2のノーマルビット線BL1に読み出された電位差(図7に示す電位差V1)と、第3のリファレンスビット線BL2と第4のノーマルビット線BL3に読み出された電位差(図7に示す電位差V0)を各々センスアンプSAで増幅し、第3の強誘電体キャパシタC2から“1”を、第4の強誘電体キャパシタC3から“0”を読み出す。このとき、第3の強誘電体キャパシタC2は、図7の点Jの状態から点Iの状態に、第4の強誘電体キャパシタC3は、図7の点Gの状態のままである。
一方、図6に示すタイミングt07で、リファレンスレベルイコライズ起動信号REQを論理電圧“L”に、タイミングt09で、第1のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN2を論理電圧“L”に、第2のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN3を論理電圧“L”に、リファレンスセルリセット起動信号RSTを論理電圧“H”とすると、第1の強誘電体キャパシタC0は、図7の点Lの状態から点Kの状態を経由して点Iの状態に、第2の強誘電体キャパシタC1は、図7の点Pの状態のままである。
また、図6に示すタイミングt10で、セルプレート線CPとリファレンスセルプレート線RCPを論理電圧“H”にすると、第1及び第3の強誘電体キャパシタC0及びC2は、図7の点Iの状態から点Aの状態に、第2及び第4の強誘電体キャパシタC1及びC3は、図7の点Gの状態から点Dの状態になる。
その後、図6に示すタイミングt12で、リファレンスセルプレート線RCPとセルプレート線CPを論理電圧“L”にすると、第1及び第3の強誘電体キャパシタC0及びC2は、図7の点Aの状態から点Iの状態に、第2及び第4の強誘電体キャパシタC1及びC3は、図7の点Dの状態から点Gの状態になる。
次に、図6に示すタイミングt14で、センスアンプ起動信号SAEを論理電圧“L”にすると、第3の強誘電体キャパシタC2は、図7の点Iの状態から点Aの状態に、第4の強誘電体キャパシタC3は、図7の点Gの状態のままである。
そして、図6に示すタイミングt14で、第2のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN3を論理電圧“H”にして第5のMOSトランジスタT4をオフし、第3のリファレンスセルリセットドライバー起動信号RDIN4を論理電圧“H”にして第7のMOSトランジスタT6をオンし、図8に示すタイミングt15で第1のリファレンスセルリセットドライバー起動信号XRDIN2を論理電圧“H”にして第6のMOSトランジスタT5をオンし、第3のリファレンスセルリセットドライバー起動信号RFDIN4を論理電圧“L”にして第7のMOSトランジスタT6をオフすると、第1の強誘電体キャパシタC0は、図7の点Iの状態から点Aの状態に、第2の強誘電体キャパシタC1は、図7の点Gの状態のままである。
最後に、図6に示すタイミングt17で、ワード線WLとリファレンスセルリセット起動信号RSTを論理電圧“L”にする。このとき、第1及び第3の強誘電体キャパシタC0及びC2は、図7の点Aの状態、第2及び第4の強誘電体キャパシタC1及びC3は、図7の点Gの状態にある。
ここで、本第3の実施の形態の強誘電体記憶装置では、リファレンスセルの読み出し時間(図6に示す時間(6))をノーマルセルの読み出し時間(図6に示す時間(3))よりも短くすることができる。その結果、リファレンスセルに印加するストレスを低減することができる。
すなわち、リファレンスセルを有する強誘電体記憶装置において、複数個のノーマルセルに対応して1個のリファレンスセルが配置される場合に、その複数個のノーマルセルのうち任意の1個がアクセスされる毎に、前記1個のリファレンスセルも同時にアクセスされるために、このリファレンスセルには、複数個のノーマルセルの個数に等しい回数のストレスが繰り返し印加されて、ノーマルセルの個数倍の大きなストレスがかかることになる状況であるが、本実施の形態では、リファレンスセルの読み出しアクセス時には、その読み出し時間が短い分、このリファレンスセルに印加される1回当りのストレスが各ノーマルセルに印加されるストレスよりも小さいので、リファレンスセルが繰り返しアクセスされても、このリファレンスセルに印加される総合的なストレスを有効に低減することができて、リファレンスセルの読み出し特性を始めとする各種特性に対する信頼性を向上させることができる。
また、リファレンスセルの読み出し時間を最適化することにより、“H”データと“L”データのほぼ中間のリファレンスレベルを発生することができ、低電圧特性やデータ保持特性を向上させることができる。
前記第1から第3の実施の形態において、リファレンスセルの“H”データ、“L”データの書き込み時間、又は、リファレンスセルの読み出し時間は、ノーマルセル及びリファレンスセルの読み出し時にノーマルビット線とリファレンスビット線との電位差がセンスアンプの感度となる時間以上とする。
尚、以上の第1から第3の実施の形態を組み合わせた実施の形態、すなわち、ノーマルセルの“L”データ書き込み時間(図1に示す時間(1))よりもリファレンスセルの“L”データ書き込み時間(図1に示す時間(4))を短く設定し、また、ノーマルセルの“H”データ書き込み時間(図1に示す時間(2))よりもリファレンスセルの“H”データ書き込み時間(図1に示す時間(5))を短く設定し、更には、ノーマルセルの読み出し時間(図1に示す時間(3))よりもリファレンスセルの読み出し時間(図1に示す時間(6))を短く設定したことを示す図1の動作タイミングについても本発明に含まれる。また、本発明は、図4に示したように、リファレンスセルにおいて、“H”データの書き込み時間(図4に示す時間(5))を“L”データの書き込み時間(同図に示す時間(4))よりも短く設定したり、その逆に、図5に示したように、リファレンスセルにおいて、“L”データの書き込み時間(図5に示す時間(4))を“H”データの書き込み時間(同図に示す時間(5))よりも短く設定しても良いのは、勿論である。
以上説明したように、本発明では、リファレンスセルに対するデータの書き込む又は読み出し時間を短縮して、リファレンスセルかかる総合的なストレスを抑制できるので、高速化及び高信頼性の必要な強誘電体記憶装置等として有用である。
本発明の第1から第3の実施の形態を組み合わせた強誘電体記憶装置の動作タイミング図である。 本発明の第1の実施の形態の強誘電体記憶装置の回路構成の詳細図である。 本発明の第1の実施の形態の強誘電体記憶装置の回路構成の概略図である。 本発明の第1の実施の形態の強誘電体記憶装置の動作タイミング図である。 本発明の第2の実施の形態の強誘電体記憶装置の動作タイミング図である。 本発明の第3の実施の形態の強誘電体記憶装置の動作タイミング図である。 強誘電体記憶装置内のメモリセルキャパシタで使用する強誘電体のヒステリシス特性図である。 従来の強誘電体記憶装置の動作タイミング図である。 従来の強誘電体記憶装置の回路構成の詳細図である。 従来の強誘電体記憶装置の回路構成の概略図である。
符号の説明
BL0、BL1、
BL2、BL3 ビット線
WL ワード線
CP セルプレート線
REQ リファレンスレベルイコライズ起動信号線
RWL リファレンスワード線
RCP リファレンスセルプレート線
SAE センスアンプ起動信号線
RST リファレンスセルリセット起動信号線
XRDIN2 第1のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線
XRDIN3 第2のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線
RDIN4 第3のリファレンスセルリセットドライバー起動信号線
RMC0、RMC1、
RMC2、RMC3 リファレンスセル
MC0、MC1、
MC2、MC3 ノーマルセル
RST0、RST1 リファレンスセルリセット回路
SA センスアンプ
RFDR0、RFDR1 リファレンスセルリセットドライバー
PERI0 周辺回路
PERI1、PERI2、
PERI3 周辺回路(制御回路)

Claims (9)

  1. 少なくとも1個のリファレンスセルと、
    前記1個のリファレンスセルに対応する複数のノーマルセルと、
    前記リファレンスセル及び前記ノーマルセルに対するアクセスを制御する制御回路とを備え、
    前記制御回路は、
    前記リファレンスセルの“H”データの書き込み時間に対する前記各ノーマルセルの“H”データの書き込み時間、前記リファレンスセルの“L”データの書き込み時間に対する前記各ノーマルセルの“L”データの書き込み時間、又は前記リファレンスセルの読み出し時間に対する前記各ノーマルセルの読み出し時間の3組の処理時間において、少なくとも1組については、前記リファレンスセルの処理時間を前記ノーマルセルの処理時間よりも短く設定する
    ことを特徴とする強誘電体記憶装置。
  2. 前記請求項1記載の強誘電体記憶装置において、
    前記複数のノーマルセルのうち1つからのデータが読み出されるノーマルビット線と、
    前記リファレンスセルからのデータが読み出されるリファレンスビット線と、
    前記ノーマルビット線と前記リファレンスビット線との電位差を増幅するセンスアンプとを備え、
    前記制御回路は、
    前記リファレンスセルの“H”データ又は“L”データの書き込み時間を、前記ノーマルセル及び前記リファレンスセルからの両データの読み出し時に前記ノーマルビット線と前記リファレンスビット線との電位差が前記センスアンプの感度となる時間以上に設定する
    ことを特徴とする強誘電体記憶装置。
  3. 前記請求項1記載の強誘電体記憶装置において、
    前記複数のノーマルセルのうち1つからのデータが読み出されるノーマルビット線と、
    前記リファレンスセルからのデータが読み出されるリファレンスビット線と、
    前記ノーマルビット線と前記リファレンスビット線との電位差を増幅するセンスアンプとを備え、
    前記制御回路は、
    前記リファレンスセルの読み出し時間を、前記ノーマルセル及び前記リファレンスセルからの両データの読み出し時に前記ノーマルビット線と前記リファレンスビット線との電位差が前記センスアンプの感度となる時間以上に設定する
    ことを特徴とする強誘電体記憶装置。
  4. 前記請求項1記載の強誘電体記憶装置において、
    前記制御回路は、
    前記リファレンスセルの“H”データの書き込み時間を、前記ノーマルセルの“H”データの書き込み時間よりも短く設定する
    ことを特徴とする強誘電体記憶装置。
  5. 前記請求項4記載の強誘電体記憶装置において、
    前記制御回路は、
    前記リファレンスセルの“H”データの書き込み時間を、前記リファレンスセルの“L”データの書き込み時間よりも短く設定する
    ことを特徴とする強誘電体記憶装置。
  6. 前記請求項1記載の強誘電体記憶装置において、
    前記制御回路は、
    前記リファレンスセルの“L”データの書き込み時間を、前記ノーマルセルの“L”データの書き込み時間よりも短く設定する
    ことを特徴とする強誘電体記憶装置。
  7. 前記請求項6記載の強誘電体記憶装置において、
    前記制御回路は、
    前記リファレンスセルの“L”データの書き込み時間を、前記リファレンスセルの“H”データの書き込み時間よりも短く設定する
    ことを特徴とする強誘電体記憶装置。
  8. 前記請求項1記載の強誘電体記憶装置において、
    前記制御回路は、
    前記リファレンスセルの読み出し時間を、前記ノーマルセルの読み出し時間よりも短く設定する
    ことを特徴とする強誘電体記憶装置。
  9. 前記請求項8記載の強誘電体記憶装置において、
    前記複数のノーマルセルのうち1つからのデータが読み出されるノーマルビット線と、
    前記リファレンスセルからのデータが読み出されるリファレンスビット線と、
    前記ノーマルビット線と前記リファレンスビット線との電位差を増幅するセンスアンプとを備え、
    前記制御回路は、
    前記リファレンスセルの読み出し時間を、前記ノーマルセル及びリファレンスセルからの両データの読み出し時に前記ノーマルビット線と前記リファレンスビット線との電位差が前記センスアンプの感度となる時間以上に設定する
    ことを特徴とする強誘電体記憶装置。
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