JP2005223251A - 半導体装置の検査方法及びその検査装置、並びにその検査装置の制御プログラム - Google Patents
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Abstract
【課題】 プローブの先端が摩耗していたり、所定の位置からずれていたりする場合でも、確実に電極と接触して検査をすることが可能な半導体装置の検査方法及びその検査プログラム並びにその検査装置を提供する。
【解決手段】 プローブカードと半導体装置との暫定的な位置合わせ(ステップS52)を行った後、すべての電極のオープン・ショートチェックを行う(ステップS53)。次いで、半導体装置を+X方向にΔXだけずらし(ステップS55)、再度オープン・ショートチェックを行い(ステップS56)、ステップS58においてオープン又はショートが検出されるまでステップS55〜S58を繰り返す。−X方向についても同様の動作処理を行うことにより、X方向の導通可能範囲が定まり、その範囲の中心位置が、プローブ先端のX方向の変位に対して最もマージンがある位置Xcとなる。
【選択図】 図2
【解決手段】 プローブカードと半導体装置との暫定的な位置合わせ(ステップS52)を行った後、すべての電極のオープン・ショートチェックを行う(ステップS53)。次いで、半導体装置を+X方向にΔXだけずらし(ステップS55)、再度オープン・ショートチェックを行い(ステップS56)、ステップS58においてオープン又はショートが検出されるまでステップS55〜S58を繰り返す。−X方向についても同様の動作処理を行うことにより、X方向の導通可能範囲が定まり、その範囲の中心位置が、プローブ先端のX方向の変位に対して最もマージンがある位置Xcとなる。
【選択図】 図2
Description
本発明は、半導体装置に備えられた複数の電極に、プローブカードに備えられた複数のプローブを接触させて電気的検査を行う半導体装置の検査方法及びその検査装置、並びにその検査装置の制御プログラムに関する。
従来、複数の半導体装置が形成された半導体ウェハの電気的な検査をする際には、半導体装置上に備えられた電極に接続するためのプローブを備えたプローブカードが用いられている(例えば特許文献1)。
検査の前に、半導体ウェハとプローブカードとの位置合わせをする際には、例えば、すべてのプローブのうち、4隅等の互いに離れた位置にある複数のプローブ(アライメントピン)の先端位置が、検査装置に備えられた認識カメラで認識される。プローブカードに備えられた複数のプローブは、その先端が各電極の所定の位置(例えば中央部)に接触するように配置されているが、実際には、プローブ毎にXY方向にばらつきを有しているため、これを考慮して、各アライメントピンの先端位置とそれに対応する電極の中央部とのずれ量の平均値が最小となるように半導体ウェハの位置が調整される。
同様に、プローブ先端のZ方向の位置についても、すべてのプローブにおいて同一平面上に位置させることは困難であり、ばらつきを有している。このため、プローブを半導体ウェハに接触させる際には、前記アライメントピンのZ方向の位置を前記認識カメラで認識し、例えば、複数のアライメントピンのうち、最も半導体装置から離れた位置に変位しているピン(ラストコンタクトピン)が電極に接触するまでの移動量を導き出す。この移動量に、所望の接触力を得るために必要なオーバードライブ量をさらに加えた量だけプローブカードと半導体装置とを近づけることで、すべてのプローブが電極と適度な接触を維持できるようにしている。
しかしながら、プローブは、電極との接触を繰り返すうちに、摩耗等によって先端形状が崩れてしまうという問題を有している。また、多数のプローブのうち、一部のプローブのみをアライメントピンとして用いているため、アライメントピンとそれ以外のプローブとで摩耗の程度が異なったり、先端位置のずれの傾向が異なったりしていると、すべてのプローブにおいて正常な接触が困難になるという問題を有している。
この結果、例えば、アライメントピンとして使用するプローブの先端が摩耗していると、認識カメラによる認識時に誤差を生じてしまい、位置合わせの精度が低くなってしまう。逆に、認識カメラで認識しない他のプローブの先端位置が大きくずれていると、アライメントピンによる位置合わせを行っても、そのプローブ(アライメントピン以外のプローブ)が電極上からずれてしまい正常に接触することができなくなってしまう。
また、Z方向に関しても、アライメントピンとして使用するプローブの先端が大きく摩耗していると、摩耗がさほど進行していない他のプローブにおいて、プローブカードと半導体装置を所定量近づけただけで、その位置に過剰なオーバードライブがかかってしまう。そのため、電極に傷をつけたり、プローブが電極上を滑って電極の外に外れ、オープンやショートの原因になったりする。逆に、アライメントピンと比べて、摩耗が進行している他のプローブがある場合には、その位置において十分な接触を得ることができなくなってしまう。
さらに、加熱手段を備えたステージ上に半導体ウェハを載置し、高温環境下での電気的検査を実施する際には、プローブと電極との接続を繰り返すうちに、電極からプローブに徐々に熱が伝わり、熱膨張によって過剰なオーバードライブが電極に加わってしまう。このため、予めプローブを加熱(プレヒート)した後に、Z方向の位置認識を行う必要が生じるが、プレヒートには多くの時間を要するため、検査効率が低下するという問題を有している。
本発明は上記問題を鑑みてなされたものであり、その目的は、プローブの先端が摩耗していたり、所定の位置からずれていたりする場合でも、確実に電極と接触して検査をすることが可能な半導体装置の検査方法及びその検査装置、並びにその検査装置の制御プログラムを提供することにある。
本発明の半導体装置の検査方法は、半導体装置に備えられた複数の電極に、プローブカードに備えられた複数のプローブを接触させて電気的検査を行う半導体装置の検査方法であって、前記半導体装置を、XY平面と略平行な載置台上に載置するステップと、前記プローブと前記電極とが互いに対向するように、前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の暫定的な位置合わせを行うステップと、前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の位置関係を、所定の方向に所定量ずらすステップと、前記プローブカードと前記半導体装置とをZ方向に近づけて、前記各プローブと、これに対向する前記電極との導通を確認するステップと、前記XY方向の位置関係を所定量ずらすステップ及び前記導通を確認するステップを複数回繰り返すステップと、複数回にわたる前記導通を確認するステップにおける導通確認結果に基づいて、XY方向における前記プローブカードと前記半導体装置との好適な位置関係を決定するステップと、前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の位置関係を、前記XY方向における好適な位置関係にするステップと、前記プローブカードと前記半導体装置とをZ方向に近づけて、前記半導体装置の電気的検査を行うステップとを有することを特徴とする。
これによれば、認識カメラ等を用いた暫定的な位置合わせを行った後に、プローブカードと半導体装置とのXY方向の位置関係を少しずつずらしながら導通確認を行うことで、導通可能なXY方向の範囲を特定することが可能となる。その結果、各プローブが対応する電極と接触するために十分にマージンのある好適な位置で検査を行うことが可能となるため、プローブの先端が摩耗していたり、所定の位置からXY方向にずれていたりする場合でも、確実に電極と接触して検査をすることが可能となる。さらに、検査を繰り返すことにより、プローブの摩耗やずれが進行する場合でも、前記マージンを確保しているため、正常な検査を維持することが可能となる。
本発明の半導体装置の検査方法は、半導体装置に備えられた複数の電極に、プローブカードに備えられた複数のプローブを接触させて電気的検査を行う半導体装置の検査方法であって、前記半導体装置を、XY平面と略平行な載置台上に載置するステップと、前記プローブと前記電極とが互いに対向するように、前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の位置合わせを行うステップと、前記プローブカードと前記半導体装置とをZ方向に近づけて、少なくとも1つの前記プローブと前記電極とを接触させるステップと、前記プローブカードと前記半導体装置とのZ方向の位置関係を、所定量ずらすステップと、前記各プローブと、これに対向する前記電極との導通を確認するステップと、前記Z方向の位置関係を所定量ずらすステップ及び前記導通を確認するステップを複数回繰り返すステップと、複数回にわたる前記導通を確認するステップにおける導通確認結果に基づいて、Z方向における前記プローブカードと前記半導体装置との好適な位置関係を決定するステップと、前記プローブカードと前記半導体装置とのZ方向の位置関係を、前記Z方向における好適な位置関係にするステップと、前記半導体装置の電気的検査を行うステップとを有することを特徴とする。
これによれば、プローブカードと半導体装置のZ方向の位置関係を少しずつずらしながら導通確認を行うことで、導通可能なZ方向の範囲を特定することが可能となる。その結果、各プローブが対応する電極と接触する際に、適度な接触力を維持することが可能な好適な位置で検査を行うことが可能となるため、プローブの先端が摩耗していたり、所定の位置からZ方向にずれていたりする場合でも、確実に電極と接触して検査をすることが可能となる。
さらに、Z方向の好適な位置の決定を、所定の頻度で実施することにより、プローブの摩耗や、加熱による熱膨張が進行した場合においても、接触不良が起こったり、過剰なオーバードライブが電極に加わったりするのを抑制することが可能となる。
本発明の半導体装置の検査装置は、半導体装置に備えられた複数の電極に、プローブカードに備えられた複数のプローブを接触させて電気的検査を行う半導体装置の検査装置であって、XY平面と略平行で、前記半導体装置を載置するための載置台と、前記プローブと前記電極とが互いに対向するように、前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の暫定的な位置合わせを行う暫定位置決定部と、前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の位置関係を、所定の方向に所定量ずつ複数回にわたってずらし、それぞれの位置で、前記プローブカードと前記半導体装置とをZ方向に近づけて、前記各プローブと、これに対向する前記電極との導通を確認する第1の導通確認部と、前記第1の導通確認部による複数回分の導通確認結果に基づいて、XY方向における前記プローブカードと前記半導体装置との好適な位置関係を決定するXY位置決定部と、前記半導体装置の電気的検査を行う検査部とを有することを特徴とする。
これによれば、前記半導体装置の検査方法と同様の効果を得ることが可能となる。
本発明の半導体装置の検査装置は、半導体装置に備えられた複数の電極に、プローブカードに備えられた複数のプローブを接触させて電気的検査を行う半導体装置の検査装置であって、XY平面と略平行で、前記半導体装置を載置するための載置台と、前記プローブと前記電極とが互いに対向するように、前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の位置を決定するXY位置決定部と、前記プローブカードと前記半導体装置とのZ方向の位置関係を、所定量ずつ複数回にわたってずらし、それぞれの位置で、前記各プローブと、これに対向する前記電極との導通を確認する第2の導通確認部と、前記第2の導通確認部による複数回分の導通確認結果に基づいて、Z方向における前記プローブカードと前記半導体装置との好適な位置関係を決定するZ位置決定部と、前記半導体装置の電気的検査を行う検査部とを有することを特徴とする。
これによれば、前記半導体装置の検査方法と同様の効果を得ることが可能となる。
本発明の検査装置の制御プログラムは、半導体装置に備えられた複数の電極に、プローブカードに備えられた複数のプローブを接触させて電気的検査を行う検査装置が有するコンピュータに、前記半導体装置を、XY平面と略平行な載置台上に載置するステップと、前記プローブと前記電極とが互いに対向するように、前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の暫定的な位置合わせを行うステップと、前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の位置関係を、所定の方向に所定量ずらすステップと、前記プローブカードと前記半導体装置とをZ方向に近づけて、前記各プローブと、これに対向する前記電極との導通を確認するステップと、前記XY方向の位置関係を所定量ずらすステップ及び前記導通を確認するステップを複数回繰り返すステップと、複数回にわたる前記導通を確認するステップにおける導通確認結果に基づいて、XY方向における前記プローブカードと前記半導体装置との好適な位置関係を決定するステップと、前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の位置関係を、前記XY方向における好適な位置関係にするステップと、前記プローブカードと前記半導体装置とをZ方向に近づけて、前記半導体装置の電気的検査を行うステップとを実行させることを特徴とする。
これによれば、前記半導体装置の検査方法と同様の効果を得ることが可能となる。
本発明の検査装置の制御プログラムは、半導体装置に備えられた複数の電極に、プローブカードに備えられた複数のプローブを接触させて電気的検査を行う検査装置が有するコンピュータに、前記半導体装置を、XY平面と略平行な載置台上に載置するステップと、前記プローブと前記電極とが互いに対向するように、前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の位置合わせを行うステップと、前記プローブカードと前記半導体装置とをZ方向に近づけて、少なくとも1つの前記プローブと前記電極とを接触させるステップと、前記プローブカードと前記半導体装置とのZ方向の位置関係を、所定量ずらすステップと、前記各プローブと、これに対向する前記電極との導通を確認するステップと、前記Z方向の位置関係を所定量ずらすステップ及び前記導通を確認するステップを複数回繰り返すステップと、複数回にわたる前記導通を確認するステップにおける導通確認結果に基づいて、Z方向における前記プローブカードと前記半導体装置との好適な位置関係を決定するステップと、前記プローブカードと前記半導体装置とのZ方向の位置関係を、前記Z方向における好適な位置関係にするステップと、前記半導体装置の電気的検査を行うステップとを実行させることを特徴とする。
これによれば、前記半導体装置の検査方法と同様の効果を得ることが可能となる。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下に示す実施形態は、特許請求の範囲に記載された発明の内容を何ら限定するものではない。また、以下に示す構成のすべてが、特許請求の範囲に記載された発明の解決手段として必須であるとは限らない。
(第1実施形態)
本発明の第1実施形態に係る半導体装置の検査装置を、図1を用いて説明する。図1は、本実施形態における検査装置の概略構成を示す模式図である。
本発明の第1実施形態に係る半導体装置の検査装置を、図1を用いて説明する。図1は、本実施形態における検査装置の概略構成を示す模式図である。
図1に示すように、検査装置10は、テストヘッド20、プローバ30及び検査部としてのLSIテスタ40を有しており、半導体ウェハW上に複数形成された半導体装置Cの電気的検査を行う。
テストヘッド20は、テスタ信号ケーブルL1を介してLSIテスタ40と接続されており、電源や信号の授受を行うことが可能になっている。さらに、テストヘッド20は、パフォーマンスボード21、インターフェースボード22を介してプローブカード23に接続されている。プローブカード23には、半導体装置Cの電極PDの位置に対応して、複数のプローブPBが備えられており、プローブPBの先端部PBaと電極PDとが接触することによって、LSIテスタ40と半導体装置Cとが電気的に接続される。
プローバ30には、半導体ウェハWを載置するための載置台としてのステージ31がXYZθの各方向に移動可能に備えられている。ステージ31の上面は、XY平面と平行に形成されており、プローバ30は、ステージ31を駆動することによって、ステージ31上に載置された半導体ウェハWをXYZθの各方向に移動できるようになっている。また、ステージ31には、図示しない加熱手段が備えられており、必要に応じて半導体ウェハWを加熱し、高温環境下での電気的検査を行うことができるようになっている。
また、プローバ30には、2つの認識カメラ32,33が備えられている。一方の認識カメラ32は、ステージ31の上方に備えられており、ステージ31を認識カメラ32の直下に移動させることによって、半導体装置Cの表面を撮像することができる。他方の認識カメラ33は、ステージ31の下方に備えられており、ステージ31をプローブPBの直下から移動させた状態において、プローブPBの先端部PBaを撮像することができる。
さらに、プローバ30は、制御部34及び記憶部35を含むコンピュータを備えている。制御部34は、ステージ31の駆動制御や、認識カメラ32,33の撮像制御、画像認識、さらに、GPIBケーブルL2を介してLSIテスタ40と信号等の授受を行う。また、記憶部35は、プローバ30の動作を制御する制御プログラムが記憶されているとともに、測定値の一時記憶等に用いられる。
LSIテスタ40には、半導体装置Cの電気的検査を行う検査プログラムや検査規格データが格納されている。LSIテスタ40は、プローバ30からGPIBケーブルL2を介して指示を受けると、検査プログラムを実行し、テスタ信号ケーブルL1を介して半導体装置Cの検査を行う。検査によって得られた測定値等は、検査規格と比較されて良否判定された後、判定結果とともにGPIBケーブルL2を介してプローバ30に送信される。
次に、検査装置10において、プローブカード23と半導体ウェハWとの位置合わせをする際の動作処理について、図2〜図4を用いて説明する。図2及び図3は、プローブカード23と半導体ウェハWとの位置合わせをする際の動作処理を示すフローチャートである。また、図4は、プローブPBと電極PDとの接続状態を示す要部の拡大平面図であり、(a)は、導通可能な状態を示す図、(b)は、導通異常となる状態を示す図である。
まず、プローバ30に未検査の半導体ウェハWが1ロット分(例えば25枚)収容されたカセット(図示せず)を載置して、処理を開始すると、プローバ30の記憶部35に記憶された制御プログラムが、制御部34によって実行されて、以下の動作処理が行われる。
ステップS51では、プローバ30が、図示しない搬送機構によってカセットから半導体ウェハWを取り出し、ステージ31上に載置して、ステップS52に移行する。
ステップS52では、プローブカード23と半導体ウェハWとの初期的な位置関係を決定するための暫定的な位置合わせを行う。なお、この位置合わせは、ステージ31が認識カメラ32の直下にある状態で行い、後にステージ31を移動して、プローブPBと半導体装置C上の電極PDとを対向させた状態におけるそれぞれの位置関係を予測して行うものである。具体的には、ステージ31が認識カメラ33の視野を妨げない位置(認識カメラ32の直下)に移動した状態で、プローバ30は、認識カメラ33によってプローブPBの先端部PBaを撮像し、その先端位置を認識する。本実施形態では、認識カメラ33は、すべてのプローブPBのうち、4隅にあるプローブPBを2本ずつ(合計8本)撮像するものとする(以下、撮像対象となる8本のプローブPBをアライメントピンPAと呼ぶ)。
次いで、プローバ30は、ステージ31が認識カメラ32の直下にある状態で、半導体ウェハWの外周近傍にある複数の位置合わせマーク(図示せず)を認識カメラ32で撮像して、半導体ウェハWの位置や向きを認識し、ステージ31をX、Y、θの各方向に駆動して半導体ウェハWの位置や向きを大まかに整える。
次いで、半導体ウェハWの外周近傍及び略中央に位置する合計5ヶ所の半導体装置C上に形成されたアライメントマーク(図示せず)を認識カメラ32で撮像し、半導体ウェハWの詳細な位置や向きを認識する。プローバ30は、後にステージ31をXY方向に所定量移動させてプローブPBと電極PDとを対向させた際のアライメントピンPAと電極PDとのずれを、撮像した画像から認識(予測)し、その際に各アライメントピンPAと電極PDとのずれ量の平均値が最小となるようにステージ31をX、Y、θの各方向に駆動して、半導体ウェハWの位置や向きを微調整する。以上で暫定的な位置合わせが完了する。
さらに、プローバ30は、認識カメラ32,33による撮像によりアライメントピンPA及びこれに対応する電極PDのZ方向の位置を認識する。その後、プローバ30は、最初に検査対象となる半導体装置CがプローブPBの直下に位置するようにステージ31をXY方向に所定量移動させて、各アライメントピンPAと電極PDとのずれ量の平均値が最小となる位置関係とし、ステップS53に移行する。なお、このときの半導体装置Cの位置を、以降の動作処理におけるXY座標の原点(0,0)とする。
ステップS53では、プローブPBと半導体装置C上の電極PDとを接触させて、オープン・ショートチェックを行い、各接点の導通を確認する。具体的には、プローバ30が、ステージ31を+Z方向に移動させ、プローブPBに電極PDを接触させる。ここで、本実施形態におけるステージ31の移動量は、8本のアライメントピンPAのうち、摩耗やずれ等により先端が最も+Z方向に離れた位置にあるアライメントピンPAに対応する電極PDが、前記アライメントピンPAに接するまでの移動量に、適度な接触力を得るためのオーバードライブ量として30μmを加えた量としている。なお、このときのステージ31のZ方向の位置を、以降の動作処理における基準位置Z0とする。その後、プローバ30は、GPIBケーブルL2を介してLSIテスタ40に指示を送り、LSIテスタ40が各電極PDのオープン・ショートチェックを行う。LSIテスタ40は、テスタ信号ケーブルL1を介して、各電極PDのダイオード特性を検知したり、出力端子から高レベルと低レベルの電位を交互に出力させたりすることで、プローブPBと電極PDが接触していなかったり、隣接する電極PDどうしがプローブPBを介して短絡したりしていないかを検出し、ステップS54に移行する。
ステップS54では、プローバ30は、ステージ31を下降させて、プローブPBと電極PDとが離れた状態とし、さらに、前記オープン・ショートチェックの結果をLSIテスタ40から受信し、これをプローバ30の記憶部35に記憶して、ステップS55に移行する。
ステップS55では、プローバ30がステージ31を駆動し、半導体装置Cを+X方向に所定量ΔX(例えば5μm)だけ移動させて、ステップS56に移行する。
ステップS56では、ステップS53と同様に、ステージ31を基準位置Z0まで上昇させて電極PDをプローブPBに接続して、オープン・ショートチェックを行い、ステップS57では、ステージ31を下降させるとともに、前記オープン・ショートチェックの結果をプローバ30の記憶部35に記憶して、ステップS58に移行する。
ステップS58では、プローバ30の制御部34が、ステップS56におけるオープン・ショートチェックの結果から、オープン又はショートが検出されたか否かを判断する。オープン又はショートが検出されなければステップS55に戻って、半導体装置Cをさらに+X方向にΔXだけ移動させて、オープン・ショートチェックを行い、ステップS58にてオープン又はショートが検出されるまでこれを繰り返す。また、オープン又はショートが検出された場合には、ステップS59に移行する。ここで、偏摩耗やずれ等によりプローブPBの先端部PBaが所望の位置からX方向に変位していても、図4(a)に示すように、すべてのプローブPBがそれぞれに対応する電極PDに接していれば、オープン又はショートは検出されない。しかし、半導体装置Cの+X方向への移動を繰り返すうちに、図4(b)に示すように、プローブPB3がこれに対応する電極PD3から外れてオープンとなったり、或いは、プローブPB3が電極PD3と電極PD4の両方に接してショートとなったりする。
ステップS59では、半導体装置CがステップS52で定めた原点(0,0)に位置するように、ステージ31を駆動して、ステップS60に移行する。
ステップS60では、ステージ31を駆動し、半導体装置Cを−X方向に所定量ΔXだけ移動させて、ステップS61に移行する。
ステップS61では、ステージ31を基準位置Z0まで上昇させて電極PDをプローブPBに接続させ、オープン・ショートチェックを行い、ステップS62では、ステージ31を下降させるとともに、前記オープン・ショートチェックの結果をプローバ30の記憶部35に記憶して、ステップS63に移行する。
ステップS63では、プローバ30の制御部34が、前記オープン・ショートチェックの結果から、オープン又はショートが検出されたか否かを判断する。オープン又はショートが検出されなければステップS60に戻り、半導体装置Cをさらに−X方向にΔXだけ移動させて、オープン・ショートチェックを行い、ステップS63にてオープン又はショートが検出されるまでこれを繰り返す。また、オープン又はショートが検出された場合には、ステップS64に移行する。
ステップS64では、プローバ30の制御部34が、記憶部35に記憶された複数回分のオープン・ショートチェックの結果を読み出し、+X方向及び−X方向のそれぞれにおいて、すべてのプローブPBと電極PDとが導通可能な範囲を割り出す。そして、その中心位置を、プローブ先端部PBaのX方向の変位に対するマージンが最大となる半導体装置Cの位置Xcとして定める。
なお、ステップS53における原点でのオープン・ショートチェックにおいて、オープン又はショートが検出されたか否かに関わらず、次のステップに移行している。さらに、半導体装置CをΔXだけずらしてオープン・ショートチェックを行い、最初にオープン又はショートが検出されるまでこれを繰り返している。このため、原点を含まず、原点からΔXだけ離れた位置から導通可能範囲が始まる場合にも導通可能範囲を特定することが可能である。
引き続き、プローブ先端部PBaのY方向の変位に対するマージンが最大となる半導体装置Cの位置を定める動作を、図3を用いて説明する。
まず、ステップS65において、半導体装置Cが(Xc,0)に位置するように、ステージ31を駆動する。次に、X方向の時と同様、さらにステージ31を駆動して、半導体装置Cを+Y方向に所定量ΔY(例えば10μm)だけずらしてオープン・ショートチェックを行い、これをオープン又はショートが検出されるまで繰り返す(ステップS66〜S69)。次いで、ステップS70において、半導体装置Cが(Xc,0)に位置するように、ステージ31を戻した後に、−Y方向にも同様の処理を行う(ステップS71〜S74)。これにより、ステップS75では、プローブ先端部PBaのY方向の変位に対するマージンが最大となる半導体装置Cの位置Ycが定まる。
以上により、プローブ先端部PBaのXY方向の変位に対するマージンが最大となる半導体装置Cの位置(Xc,Yc)が定まり、この位置は、前記マージンが確保されているため、すべてのプローブPBと電極PDとを確実に接続させて電気的検査を実施するうえで、原点(0,0)よりも好適な位置となる。
その後、半導体装置Cが(Xc,Yc)に位置するようにステージ31を駆動し(ステップS76)、LSIテスタ40によって半導体装置Cの電気的検査を実施して(ステップS77)、最初の半導体装置Cの電気的検査が完了する。次に、ステージ31をXY方向に駆動して半導体ウェハWを所定量移動させ、隣接する半導体装置CをプローブPBに対向させて、電気的検査を行い、以降、半導体ウェハW上のすべての半導体装置Cに対して電気的検査を実施する。すべての半導体装置Cの検査が終了した後には、搬送機構によってステージ31上から半導体ウェハWを取り外し、新たな未検査の半導体ウェハWをステージ31上に載置する。半導体ウェハWを交換した後は、再び半導体ウェハW上の位置合わせマークを用いた大まかな位置合わせと、5ヶ所の半導体装置C上のアライメントマークを用いた詳細な位置認識とを行い、ステージ31を駆動して最初に検査対象となる半導体装置Cを(Xc、Yc)に移動した後に、電気的検査を行う。その後、同様にすべての半導体装置Cの検査を実施し、これを1ロット分の検査が終了するまで繰り返す。以降、各ロットの最初の半導体ウェハWを検査する前に、前記フロー(ステップS51〜S75)によって、プローブ先端部PBaのXY方向の変位に対するマージンが最大となる半導体装置Cの位置(Xc,Yc)を定めた後に、すべての半導体ウェハWに対して電気的検査を実施する。
以上説明したように、本実施形態の半導体装置の検査方法及びその検査装置、並びにその検査装置の制御プログラムによれば、以下の効果を得ることができる。
(1)本実施形態によれば、アライメントピンPAを認識カメラ33で認識して暫定的な位置合わせを行った後に、プローブPBと半導体装置CのXY方向の位置関係を少しずつずらしながらオープン・ショートチェックを行い、導通可能なXY方向の範囲を特定している。その結果、各プローブPBの先端部PBaの位置がXY方向に変位していても、対応する電極PDと接触するために十分にマージンのある位置で検査を行うことが可能となるため、プローブPBの先端が摩耗していたり、所定の位置からXY方向にずれていたりする場合でも、確実に電極PDと接触して検査をすることが可能となる。さらに、検査を繰り返すことにより、プローブPBの摩耗やずれが進行する場合でも、前記マージンを確保しているため、正常な検査を維持することが可能となる。
(第2実施形態)
本発明の第2実施形態を、図5を用いて説明する。本実施形態の検査装置は、第1実施形態と同様の構成を有しているが、プローバ30の記憶部35に記憶された制御プログラムには、プローブPBと電極PDとをより確実に接続させるために、検査時におけるプローブカード23と半導体ウェハWとのZ方向の好適な位置関係を定める処理が含まれている。また、本実施形態では、ステージ31に備えられた加熱手段によって半導体ウェハWを加熱しながら検査を行うものとする。図5は、検査時におけるプローブカード23と半導体ウェハWとのZ方向の位置関係を決定する際の動作を示すフローチャートである。
本発明の第2実施形態を、図5を用いて説明する。本実施形態の検査装置は、第1実施形態と同様の構成を有しているが、プローバ30の記憶部35に記憶された制御プログラムには、プローブPBと電極PDとをより確実に接続させるために、検査時におけるプローブカード23と半導体ウェハWとのZ方向の好適な位置関係を定める処理が含まれている。また、本実施形態では、ステージ31に備えられた加熱手段によって半導体ウェハWを加熱しながら検査を行うものとする。図5は、検査時におけるプローブカード23と半導体ウェハWとのZ方向の位置関係を決定する際の動作を示すフローチャートである。
まず、第1実施形態において、図2及び図3で示した動作処理により、ステップS75まで実施し、プローブ先端部PBaのXY方向の変位に対するマージンが最大となる半導体装置Cの位置(Xc,Yc)を求めた後に、図5で示した動作処理を行う。
ステップS81では、半導体ウェハW上の最初に検査対象となる半導体装置Cが(Xc,Yc)の位置になるように、ステージ31を駆動して、ステップS82に移行する。
ステップS82では、ステージ31を駆動して、半導体装置Cを+Z方向に移動させて、プローブPBと電極PDとを接触させる。具体的には、第1実施形態での基準位置Z0に所定量ΔZ(例えば5μm)さらに上昇させた位置にステージ31を移動して、ステップS83に移行する。
ステップS83では、プローバ30がLSIテスタ40に指示をして、各電極PDのオープン・ショートチェックを行い、ステップS84に移行する。
ステップS84では、プローバ30は、前記オープン・ショートチェックの結果をLSIテスタ40から受信し、これをプローバ30の記憶部35に記憶して、ステップS85に移行する。
ステップS85では、プローバ30の制御部34が、前記オープン・ショートチェックの結果から、オープン又はショートが検出されたか否かを判断し、検出されなければステップS86に移行し、検出されればステップS88に移行する。
ステップS86では、ステージ31のZ方向の位置が予め設定した上限に達しているかどうかを判断する。本実施形態では、基準位置Z0から30μm上昇させた位置を、その上限位置としている。ここで、上限位置に達していれば、ステップS88に移行し、上限位置に達していなければ、ステップS87に移行する。
ステップS87に移行した場合には、ステージ31をさらにΔZだけ上昇させた位置に移動してステップS83に戻り、オープン・ショートチェックを行って、オープン又はショートが検出されるかステージ31の位置が上限位置に達するまで、これを繰り返す。
ステップS88では、第1実施形態での基準位置Z0からΔZだけ下降させた位置にステージ31を駆動して、ステップS89に移行する。
ステップS89では、プローバ30がLSIテスタ40に指示をして、各電極PDのオープン・ショートチェックを行い、ステップS90に移行する。
ステップS90では、プローバ30は、前記オープン・ショートチェックの結果をLSIテスタ40から受信し、これをプローバ30の記憶部35に記憶して、ステップS91に移行する。
ステップS91では、プローバ30の制御部34が、前記オープン・ショートチェックの結果から、オープン又はショートが検出されたか否かを判断し、検出されなければステップS92に移行し、検出されればステップS93に移行する。
ステップS92では、ステージ31の位置をさらにΔZだけ下降させた位置に移動してステップS89に戻り、オープン・ショートチェックを行い、オープン又はショートが検出されるまで、これを繰り返す。なお、−Z方向は、プローブPBと電極PDとが離れる方向であるため、実際には、ショートが検出されることはない。
ステップS93では、プローバ30の制御部34が、記憶部35に記憶された複数回分のオープン・ショートチェックの結果を読み出し、Z方向において、すべてのプローブPBと電極PDとが導通可能な範囲を割り出す。さらに、本実施形態では、導通可能範囲の下限位置から+Z方向に30μm加えた位置を、すべてのプローブPBで確実な接続が可能なステージ31の位置Zcとして定める。なお、この位置Zcは、すべてのプローブPBのうち、半導体装置CからZ方向に最も離れた位置に変位しているプローブPBにおいても、適度な接触力を得るのに必要な30μmのオーバードライブ量が確保できる位置である。このため、8本のアライメントピンPAの中で、半導体装置CからZ方向に最も離れた位置に変位しているものを基準に定めた基準位置Z0よりも、すべてのプローブPBと電極PDとを確実に接続させて電気的検査をするうえで好適な位置となる。
その後、図3のステップS76に戻り、半導体装置Cを第1実施形態で定めた位置(Xc,Yc)に移動した後、ステージ31を位置Zcまで上昇させた状態で電気的検査を行う(ステップS77)。また、このステージ位置Zcを定める動作処理は、第1実施形態と同様、定期的(例えば、1ロット毎)に実施されるが、プローブPBが熱膨張することによって電極PDとの接続に影響が出始める時点を実験等によって事前に確認しておき、それよりも早い時点においても、この動作処理を実施するようにしている。
以上説明したように、本実施形態の半導体装置の検査方法及びその検査装置、並びにその検査装置の制御プログラムによれば、前記第1実施形態の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
(1)本実施形態によれば、プローブカード23と半導体ウェハWのZ方向の位置関係を少しずつずらしながらオープン・ショートチェックを行い、導通可能なZ方向の範囲を特定している。その結果、各プローブPBが対応する電極PDと確実に接続するために必要なオーバードライブ量が得られる位置で検査を行うことが可能となるため、プローブPBの先端部PBaが摩耗していたり、所定の位置からZ方向にずれていたりする場合でも、確実に電極PDと接触して検査をすることが可能となる。さらに、検査を繰り返すことにより、プローブPBの摩耗やずれが進行する場合でも、すべてのプローブPBにおいて前記オーバードライブ量が確保されているため、正常な検査を維持することが可能となる。
(2)本実施形態によれば、すべてのプローブPBで確実な接続を維持するのに好適なステージ位置Zcを、所定の頻度で決定するとともに、熱膨張による影響が出始める前にも再決定するようにしているため、プローブPBの摩耗や、ステージ31によって加熱された半導体ウェハWからの伝熱による熱膨張が進行した場合においても、接触不良が起こったり、過剰なオーバードライブが電極PDに加わったりするのを抑制することが可能となる。
(変形例)
なお、本発明の実施形態は、以下のように変更してもよい。
なお、本発明の実施形態は、以下のように変更してもよい。
・前記実施形態では、ステップS58(図2参照)において、最初にオープン又はショートが検出されるまでオープン・ショートチェックを繰り返しているが、これを、複数回続けてオープン又はショートが検出されるまで繰り返すようにしてもよい。
これによれば、原点を含まず、原点から2×ΔX以上離れた位置から導通可能範囲が始まる場合にも導通可能範囲を特定することができるようになる。
・前記実施形態において、導通可能範囲が所定値よりも狭かった場合には、検査を中断して、その旨を通知するようにしてもよい。これにより、プローブカード23のメンテナンスの必要性等を早期に知ることが可能となる。
・前記実施形態では、原点からΔXずつ動かしてオープン又はショートが検出されるまでオープン・ショートチェックを繰り返しているが、これを、原点からの移動範囲や移動回数を制限して、オープン又はショートの検出の有無に関わらず、その範囲内でチェックを継続するようにしてもよい。
・前記実施形態では、XY平面において、X及びYの2方向のマージンを確認しているが、電極PDが細長い長方形である場合等には、その短辺方向(例えばX方向)のみのマージンを確認するようにしてもよい。
・前記実施形態では、XY平面において、X及びY方向のマージンを確認しているが、例えばX軸から45°傾いた方向等でもよく、前記方向に限定されない。
・前記実施形態では、ステップS89〜S92(図5参照)のフローを、最初にオープンが検出されるまで繰り返しているが、これを、すべての電極PDがオープンとなるまで繰り返すようにしてもよい。
これによれば、最初にオープンが検出された位置と、すべての電極PDがオープンとなる位置とから、すべてのプローブPBにおけるZ方向の最大変位差を認識することが可能となり、この変位差が所定値を超えた否かを判断することによって、プローブカード23のメンテナンスの必要性等を早期に知ることが可能となる。
・前記実施形態では、Z方向のステージ31の位置Zcの決定(ステップS81〜S93)を、XY方向の半導体装置Cの位置(Xc,Yc)を決定した後(ステップS75の後)に実施しているが、XY方向の半導体装置Cの位置(Xc,Yc)を決定する前(ステップS55の前)に実施するようにしてもよい。この場合、位置Zcを決定するフロー(図5)におけるオープン・ショートチェックを行う際には、半導体装置CのXY方向の位置は原点(0,0)とし、位置(Xc,Yc)を決定するフロー(図2、図3)においてオープン・ショートチェックを行う際には、ステージ31の位置を、既に決定している位置Zcとするのが望ましい。
・前記第2実施形態では、XY方向における好適な半導体装置Cの位置(Xc,Yc)と、Z方向におけるステージ31の好適な位置Zcとの両方を決定しているが、XY方向のマージンが十分であれば、XY方向については、ステップS52で示した認識カメラ32,33による位置合わせのみを行うようにしてもよい。
・前記実施形態では、1ロット(半導体ウェハ25枚)毎に、XY方向の半導体装置Cの位置(Xc,Yc)やステージ31の位置Zcを定めているが、この頻度は1ロット毎に限定されず、電極PDの数やピッチ等に応じて適宜変更可能である。また、位置(Xc,Yc)と位置Zcとを異なる頻度で決定してもよい。
なお、特許請求の範囲に記載の暫定位置決定部は、本明細書においては、例えば、ステップS52を実行しているときの制御部34と、ステージ31と、認識カメラ32,33と、プローブカード23等とで構成される。特許請求の範囲に記載の第1の導通確認部は、例えば、ステップS55〜S58,S60〜S63,S66〜S69,S71〜S74を実行しているときの制御部34と、ステージ31と、LSIテスタ40と、プローブカード23等とで構成される。特許請求の範囲に記載のXY位置決定部は、例えば、ステップS64,S75を実行しているときの制御部34に対応する。特許請求の範囲に記載の第2の導通確認部は、例えば、ステップS83〜S87,S89〜S92を実行しているときの制御部34と、ステージ31と、LSIテスタ40と、プローブカード23等とで構成される。特許請求の範囲に記載のZ位置決定部は、例えば、ステップS93を実行しているときの制御部34に対応する。
10…検査装置、20…テストヘッド、21…パフォーマンスボード、22…インターフェースボード、23…プローブカード、30…プローバ、31…載置台としてのステージ、32,33…認識カメラ、34…コンピュータを構成する制御部、35…コンピュータを構成する記憶部、40…検査部としてのLSIテスタ、W…半導体ウェハ、C…半導体装置、PB…プローブ、PA…アライメントピン、PD…電極、L1…テスタ信号ケーブル、L2…GPIBケーブル。
Claims (6)
- 半導体装置に備えられた複数の電極に、プローブカードに備えられた複数のプローブを接触させて電気的検査を行う半導体装置の検査方法であって、
前記半導体装置を、XY平面と略平行な載置台上に載置するステップと、
前記プローブと前記電極とが互いに対向するように、前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の暫定的な位置合わせを行うステップと、
前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の位置関係を、所定の方向に所定量ずらすステップと、
前記プローブカードと前記半導体装置とをZ方向に近づけて、前記各プローブと、これに対向する前記電極との導通を確認するステップと、
前記XY方向の位置関係を所定量ずらすステップ及び前記導通を確認するステップを複数回繰り返すステップと、
複数回にわたる前記導通を確認するステップにおける導通確認結果に基づいて、XY方向における前記プローブカードと前記半導体装置との好適な位置関係を決定するステップと、
前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の位置関係を、前記XY方向における好適な位置関係にするステップと、
前記プローブカードと前記半導体装置とをZ方向に近づけて、前記半導体装置の電気的検査を行うステップと、
を有することを特徴とする半導体装置の検査方法。 - 半導体装置に備えられた複数の電極に、プローブカードに備えられた複数のプローブを接触させて電気的検査を行う半導体装置の検査方法であって、
前記半導体装置を、XY平面と略平行な載置台上に載置するステップと、
前記プローブと前記電極とが互いに対向するように、前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の位置合わせを行うステップと、
前記プローブカードと前記半導体装置とをZ方向に近づけて、少なくとも1つの前記プローブと前記電極とを接触させるステップと、
前記プローブカードと前記半導体装置とのZ方向の位置関係を、所定量ずらすステップと、
前記各プローブと、これに対向する前記電極との導通を確認するステップと、
前記Z方向の位置関係を所定量ずらすステップ及び前記導通を確認するステップを複数回繰り返すステップと、
複数回にわたる前記導通を確認するステップにおける導通確認結果に基づいて、Z方向における前記プローブカードと前記半導体装置との好適な位置関係を決定するステップと、
前記プローブカードと前記半導体装置とのZ方向の位置関係を、前記Z方向における好適な位置関係にするステップと、
前記半導体装置の電気的検査を行うステップと、
を有することを特徴とする半導体装置の検査方法。 - 半導体装置に備えられた複数の電極に、プローブカードに備えられた複数のプローブを接触させて電気的検査を行う半導体装置の検査装置であって、
XY平面と略平行で、前記半導体装置を載置するための載置台と、
前記プローブと前記電極とが互いに対向するように、前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の暫定的な位置合わせを行う暫定位置決定部と、
前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の位置関係を、所定の方向に所定量ずつ複数回にわたってずらし、それぞれの位置で、前記プローブカードと前記半導体装置とをZ方向に近づけて、前記各プローブと、これに対向する前記電極との導通を確認する第1の導通確認部と、
前記第1の導通確認部による複数回分の導通確認結果に基づいて、XY方向における前記プローブカードと前記半導体装置との好適な位置関係を決定するXY位置決定部と、
前記半導体装置の電気的検査を行う検査部と、
を有することを特徴とする半導体装置の検査装置。 - 半導体装置に備えられた複数の電極に、プローブカードに備えられた複数のプローブを接触させて電気的検査を行う半導体装置の検査装置であって、
XY平面と略平行で、前記半導体装置を載置するための載置台と、
前記プローブと前記電極とが互いに対向するように、前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の位置を決定するXY位置決定部と、
前記プローブカードと前記半導体装置とのZ方向の位置関係を、所定量ずつ複数回にわたってずらし、それぞれの位置で、前記各プローブと、これに対向する前記電極との導通を確認する第2の導通確認部と、
前記第2の導通確認部による複数回分の導通確認結果に基づいて、Z方向における前記プローブカードと前記半導体装置との好適な位置関係を決定するZ位置決定部と、
前記半導体装置の電気的検査を行う検査部と、
を有することを特徴とする半導体装置の検査装置。 - 半導体装置に備えられた複数の電極に、プローブカードに備えられた複数のプローブを接触させて電気的検査を行う検査装置が有するコンピュータに、
前記半導体装置を、XY平面と略平行な載置台上に載置するステップと、
前記プローブと前記電極とが互いに対向するように、前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の暫定的な位置合わせを行うステップと、
前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の位置関係を、所定の方向に所定量ずらすステップと、
前記プローブカードと前記半導体装置とをZ方向に近づけて、前記各プローブと、これに対向する前記電極との導通を確認するステップと、
前記XY方向の位置関係を所定量ずらすステップ及び前記導通を確認するステップを複数回繰り返すステップと、
複数回にわたる前記導通を確認するステップにおける導通確認結果に基づいて、XY方向における前記プローブカードと前記半導体装置との好適な位置関係を決定するステップと、
前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の位置関係を、前記XY方向における好適な位置関係にするステップと、
前記プローブカードと前記半導体装置とをZ方向に近づけて、前記半導体装置の電気的検査を行うステップと、
を実行させるための検査装置の制御プログラム。 - 半導体装置に備えられた複数の電極に、プローブカードに備えられた複数のプローブを接触させて電気的検査を行う検査装置が有するコンピュータに、
前記半導体装置を、XY平面と略平行な載置台上に載置するステップと、
前記プローブと前記電極とが互いに対向するように、前記プローブカードと前記半導体装置とのXY方向の位置合わせを行うステップと、
前記プローブカードと前記半導体装置とをZ方向に近づけて、少なくとも1つの前記プローブと前記電極とを接触させるステップと、
前記プローブカードと前記半導体装置とのZ方向の位置関係を、所定量ずらすステップと、
前記各プローブと、これに対向する前記電極との導通を確認するステップと、
前記Z方向の位置関係を所定量ずらすステップ及び前記導通を確認するステップを複数回繰り返すステップと、
複数回にわたる前記導通を確認するステップにおける導通確認結果に基づいて、Z方向における前記プローブカードと前記半導体装置との好適な位置関係を決定するステップと、
前記プローブカードと前記半導体装置とのZ方向の位置関係を、前記Z方向における好適な位置関係にするステップと、
前記半導体装置の電気的検査を行うステップと、
を実行させるための検査装置の制御プログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004031978A JP2005223251A (ja) | 2004-02-09 | 2004-02-09 | 半導体装置の検査方法及びその検査装置、並びにその検査装置の制御プログラム |
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JP2004031978A JP2005223251A (ja) | 2004-02-09 | 2004-02-09 | 半導体装置の検査方法及びその検査装置、並びにその検査装置の制御プログラム |
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JP2004031978A Withdrawn JP2005223251A (ja) | 2004-02-09 | 2004-02-09 | 半導体装置の検査方法及びその検査装置、並びにその検査装置の制御プログラム |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009099937A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-05-07 | Tokyo Electron Ltd | プローブ装置及びプロービング方法 |
-
2004
- 2004-02-09 JP JP2004031978A patent/JP2005223251A/ja not_active Withdrawn
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