JP2005220368A - プラズマcvd装置及び成膜方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のプラズマCVD装置1は、電源装置30a〜30dを複数台有しており、各電源装置30a〜30dはシャワーヘッド20の接続面14に設けられた異なる給電点33a〜33dにそれぞれ接続されている。各電源装置30a〜30dは位相制御装置32によって同じ周波数であって、互いに位相がずらされた高周波電圧を出力するようになっている。位相をずらすことで、電源装置30a〜30dから投入される実効的な電圧が揃い、シャワーヘッド20と基板ホルダ19との間のプラズマ密度が均一になるので、基板15の表面に形成される膜厚は均一になる。
【選択図】図2
Description
請求項2記載の発明は、請求項1記載のプラズマCVD装置であって、前記各電源装置は、前記シャワーヘッドの前記放出面とは反対側の面である接続面にそれぞれ接続されたプラズマCVD装置である。
請求項3記載の発明は、請求項2記載のプラズマCVD装置であって、前記放出面は四角形にされ、前記各電源装置は、前記放出面の四隅位置の上にそれぞれ接続されたプラズマCVD装置である。
請求項4記載の発明は、真空槽内部に配置されたシャワーヘッドから、前記真空槽内部に成膜ガスを供給しながら前記シャワーヘッドに高周波電圧を印加し、前記真空槽内部に前記成膜ガスのプラズマを供給し、前記真空槽内部に配置された成膜対象物の表面に薄膜を形成する成膜方法であって、前記電圧の印加は、複数の電源装置から前記シャワーヘッドの異なる位置に、周波数が同じであって、互いに位相がずらされた高周波電圧を印加する成膜方法である。
請求項5記載の発明は、請求項4記載の成膜方法であって、前記成膜ガスに化学構造中にケイ素を含有するケイ素付与ガスを含有させる成膜方法である。
請求項6記載の発明は、請求項5記載の成膜方法であって、前記ケイ素付与ガスは、テトラエトキシオルソシリケートと、ヘキサメチルジシラザンと、モノシランと、ジシランからなる群より選択されるいずれか1種類のガスを含有する成膜方法である。
請求項7記載の発明は、前記成膜ガスに、窒素付与ガスと、酸素付与ガスと、希釈ガスとからなる群より選択される添加ガスのうち、少なくとも1種類の添加ガスを添加する請求項5又は請求項6のいずれか1項記載の成膜方法であって、前記窒素付与ガスは化学構造中に窒素を含有し、前記酸素付与ガスは化学構造中に酸素を含有し、前記希釈ガスは前記窒素付与ガスと前記ケイ素付与ガスとの反応、前記酸素付与ガスと前記ケイ素付与ガスとの反応、または前記ケイ素付与ガスの分解反応のうち、いずれか1種類以上の反応を促進する成膜方法である。
請求項8記載の発明は、請求項7記載の成膜方法であって、前記酸素付与ガスは、酸素と、亜酸化窒素と、二酸化炭素等分子中に酸素基を有するガスからなる群より選択されるいずれか1種類のガスを含有し、窒素付与ガスはアンモニアと、ヒドラジンと、窒素とからなる群より選択されるいずれか1種類のガスを含有する成膜方法である。
請求項9記載の発明は、請求項7又は請求項8のいずれか1項記載の成膜方法であって、前記希釈ガスはアルゴンと、ヘリウムと、水素と、クリプトンとからなる群より選択されるいずれか1種類のガスを含有する成膜方法である。
上述した第一例の成膜装置1を用い、上述した工程で短辺が1500mm、長辺が1800mmの四角形形状のガラス基板15の表面にアモルファスシリコンからなる薄膜(絶縁膜)を形成した。ここでは、成膜ガスとしてケイ素付与ガス(SiH4)と、反応を促進する希釈ガス(H2)とを一緒にガス供給系27から供給した。
上記実施例1と同じ成膜装置1を用い、電源装置30a〜30dの位相を制御することなく高周波電圧を印加した以外は、上記実施例1と同じ方法で成膜を行った。
シャワーヘッドの接続面の中心部に給電点が1つ設けられ、その給電点に1台の電源装置を接続した従来技術の成膜装置を用い、上記実施例1と同じ成膜ガスを用いて成膜を行った。
実施例1〜2と比較例1の高周波電圧の印加方法により、形成された薄膜について基板15の長辺方向と短辺方向に測定箇所を変え、各測定箇所における薄膜の膜厚を基板の20mm端まで81点測定した。更に、これらの測定結果から、絶縁膜の膜厚分布(Uniformity)を下記式(1)により求めた。
(上記式(1)中、Dmaxは測定点中の最大膜厚であり、Dminは測定点中の最小膜厚である。)
比較例1では一台の電源装置から給電点1点に高周波電圧を印加したため、絶縁膜は基板端部よりも基板中心部の膜厚が小さく、基板中心部においてその膜厚分布が凹部となるような分布となっており、その膜厚分布は±16.8%と悪かった。
Claims (9)
- 真空槽と、前記真空槽内部に配置された基板ホルダと、前記基板ホルダと対向する位置に配置された中空のシャワーヘッドと、前記シャワーヘッドに電圧を印加する電源装置とを有し、
前記シャワーヘッドの前記基板ホルダ側に向けられた放出面には複数の放出口が設けられ、
前記シャワーヘッドの内部に成膜ガスを供給し、前記放出口から前記成膜ガスを放出しながら、前記シャワーヘッドに電圧を印加すると、前記成膜ガスがプラズマ化され、プラズマ化した前記成膜ガスが前記基板ホルダに向けて吹き付けられるように構成されたプラズマCVD装置であって、
前記電源装置を複数個有し、前記各電源装置には位相制御装置が接続され、
前記位相制御装置は、前記各電源装置が出力する高周波電圧の位相をそれぞれ制御し、
前記各電源装置は、前記シャワーヘッドの異なる位置にそれぞれ接続され、前記シャワーヘッドに別々に高周波電圧を供給するプラズマCVD装置。 - 前記各電源装置は、前記シャワーヘッドの前記放出面とは反対側の面である接続面にそれぞれ接続された請求項1記載のプラズマCVD装置。
- 前記放出面は四角形にされ、前記各電源装置は、前記放出面の四隅位置の上にそれぞれ接続された請求項2記載のプラズマCVD装置。
- 真空槽内部に配置されたシャワーヘッドから、前記真空槽内部に成膜ガスを供給しながら前記シャワーヘッドに高周波電圧を印加し、
前記真空槽内部に前記成膜ガスのプラズマを供給し、前記真空槽内部に配置された成膜対象物の表面に薄膜を形成する成膜方法であって、
前記電圧の印加は、複数の電源装置から前記シャワーヘッドの異なる位置に、周波数が同じであって、互いに位相がずらされた高周波電圧を印加する成膜方法。 - 前記成膜ガスに化学構造中にケイ素を含有するケイ素付与ガスを含有させる請求項4記載の成膜方法。
- 前記ケイ素付与ガスは、テトラエトキシオルソシリケートと、ヘキサメチルジシラザンと、モノシランと、ジシランからなる群より選択されるいずれか1種類のガスを含有する請求項5記載の成膜方法。
- 前記成膜ガスに、窒素付与ガスと、酸素付与ガスと、希釈ガスとからなる群より選択される添加ガスのうち、少なくとも1種類の添加ガスを添加する請求項5又は請求項6のいずれか1項記載の成膜方法であって、
前記窒素付与ガスは化学構造中に窒素を含有し、
前記酸素付与ガスは化学構造中に酸素を含有し、
前記希釈ガスは前記窒素付与ガスと前記ケイ素付与ガスとの反応、前記酸素付与ガスと前記ケイ素付与ガスとの反応、または前記ケイ素付与ガスの分解反応のうち、いずれか1種類以上の反応を促進する成膜方法。 - 前記酸素付与ガスは、酸素と、亜酸化窒素と、二酸化炭素等分子中に酸素基を有するガスからなる群より選択されるいずれか1種類のガスを含有し、
窒素付与ガスはアンモニアと、ヒドラジンと、窒素とからなる群より選択されるいずれか1種類のガスを含有する請求項7記載の成膜方法。 - 前記希釈ガスはアルゴンと、ヘリウムと、水素と、クリプトンとからなる群より選択されるいずれか1種類のガスを含有する請求項7又は至請求項8のいずれか1項記載の成膜方法。
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