JP2005211927A - 底部出湯式鋳造装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】真空溶解した金属の溶湯をるつぼ底部から鋳型に出湯する底部出湯式鋳造装置において、装置の小型化と鋳込み品質の向上を図る。
【解決手段】水冷金属るつぼ1の外側にコイル2を備え、底部の出湯口3から出湯する浮揚溶解炉4と、水冷金属るつぼ1の下方に配置される鋳型6と、るつぼ1及び鋳型6の内部を真空排気する真空排気系統とからなり、コイル2に通電してるつぼ1内の金属10を浮揚溶解し、溶湯を出湯口3から鋳型6に鋳込む底部出湯式鋳造装置において、るつぼ1の底面に密閉容器15により密閉した鋳型6を気密に連結する。密閉容器15で鋳型6の密閉を図ることにより、鋳型6の真空・加圧空間が小さくなり、鋳型6内の雰囲気制御(真空排気や加圧制御)の応答性が高まる。
【選択図】 図1
【解決手段】水冷金属るつぼ1の外側にコイル2を備え、底部の出湯口3から出湯する浮揚溶解炉4と、水冷金属るつぼ1の下方に配置される鋳型6と、るつぼ1及び鋳型6の内部を真空排気する真空排気系統とからなり、コイル2に通電してるつぼ1内の金属10を浮揚溶解し、溶湯を出湯口3から鋳型6に鋳込む底部出湯式鋳造装置において、るつぼ1の底面に密閉容器15により密閉した鋳型6を気密に連結する。密閉容器15で鋳型6の密閉を図ることにより、鋳型6の真空・加圧空間が小さくなり、鋳型6内の雰囲気制御(真空排気や加圧制御)の応答性が高まる。
【選択図】 図1
Description
この発明は、精密鋳造が要求される歯科及び医療用の金属性生体代替材料や装飾・工業分野での高融点活性金属合金の溶製・鋳造に用いられる鋳造装置に関する。
歯科医療用の鋳造材料は、高度な安全性、生体親和性、長期にわたる信頼性の要求等から、従来から金合金(12%金‐パラジウム‐銀合金)で代表される高価な金属材料が使用されている。これらの鋳造材料は融点が約1000℃以下と比較的低く比重も小さいため、その溶製には従来の抵抗加熱溶解法でも十分に対応することができた。また、装飾・工業用の高融点金属においても、合金化を要求されない単一金属の場合はアーク加熱溶解法で対応することができた。この種の歯科医療用の鋳造装置については、例えば特許文献1に記載されている。
一方、昨今、歯科・医療用材料として、高価な金合金に代わって、合理的な価格でありながら人体に対して安全で生体適合性の高いチタン系合金の適用が注目されている。しかし、この新しいチタン系合金は、生体適合性を持たせるためにTaやNbなど、融点が3000℃前後と高温で、密度差もTiの4.5g/cm3に対して17g/cm3前後ときわめて大きい高融点活性金属を合金元素とする必要があり、従来の抵抗加熱やアーク加熱では溶解による均一な合金化ができないという問題がある。
その場合、高融点活性金属の合金化には、いわゆる浮揚溶解法が適している。浮揚溶解法は、コイルを巻いた水冷金属るつぼに金属を入れ、コイルに高周波電流を流すもので、るつぼ内に発生する交番磁界により金属にコイル電流と逆向きの渦電流が生じ、金属内のジュール熱で金属が溶解し、かつ両電流間の電磁反発力で金属が浮揚する。浮揚溶解法は融点が3000℃前後ときわめて高い活性金属元素も溶解可能であり、しかも密度差の大きい溶融合金も強力な電磁力で攪拌されるため均質化される。また、金属はるつぼと非接触の状態で溶解されるため、るつぼからの不純物による汚染が少ない。この浮揚溶解法を用いた溶解炉(浮揚溶解炉)については、例えば特許文献2に記載されている。
図3は、上記した浮揚溶解法を用いた底部出湯式鋳造装置の従来構成を示す概略縦断面図である。図3において、鋳造装置は、上面が開口した水冷金属るつぼ(以下、単に「るつぼ」という。)1の外側にコイル2を備え、底部の出湯口3から金属溶湯を出湯する浮揚溶解炉4と、出湯口3に湯口5が対向するようにるつぼ1の下方に配置された鋳型6と、るつぼ1及び鋳型6を真空排気する真空排気系統7とからなっている。すり鉢状のるつぼ1は図示しないスリットにより分割された多数の銅のセグメントからなり、図示しない冷却パイプを流れる冷却水により冷却される。鋳型6は通気性の鋳型材(埋没材)からなり、ロストワックス法により鋳込み空間8が形成されている。るつぼ1及び鋳型6は全体が密閉容器9に組み込まれ、真空排気系統7により真空排気される。
図3の鋳造装置において、溶解金属10をるつぼ1に装填したら、真空排気系統7の図示しない真空ポンプを運転し、るつぼ1及び鋳型6を真空排気する。次いで、高周波電源11からコイル2に通電し、金属10を浮揚溶解する。すでに知られる通り、コイル2に高周波電流を流すと、るつぼ1及び金属10に渦電流が誘導され、これらの電流の間に電磁反発力が発生する。このとき、電磁反発力が金属10の重量よりも大きければ、金属10はるつぼ1から離れて浮揚する。同時に金属10は、渦電流によるジュール熱で溶解する。金属10が溶解したら、コイル2の電流を制御し、金属10に対する浮揚力を金属10の重量より小さくする。これにより、るつぼ内の溶解金属10は出湯口3から鋳型6に出湯され、湯口5から鋳込み空間8に鋳込まれる。
特開2000−176629号公報
特開平10−38468号公報
ところが、図3に示したような従来の底部出湯式鋳造装置には、下記の問題点がある。
(1) 密閉容器に浮揚溶解炉と鋳型の全体を組み込んで真空排気しているが、密閉容器の容積が大きいため、真空排気の応答性が悪い。ちなみに、るつぼは銅セグメント間のスリットを介して密閉容器内に通じており、鋳型は通気性の鋳型材を介して密閉容器内に通じているため、真空排気は密閉容器内の全空間に対して行わなければならない。
(2) コイルが真空雰囲気の密閉容器内に収容されるため、通電中に真空放電が発生する可能性があり、コイル電圧を真空放電の危険のない大きさに制限する必要がある。
(3) 密閉容器内の気密性が確保できる電源導入端子が必要となるので、装置の構造が複雑で高価なものになる。
(4) 溶解金属の自重により溶湯を鋳込み空間に鋳込んでいるが、精密鋳造においては鋳込み空間が細密であるため、溶解金属の自重のみでは緻密な鋳造が困難である。
(1) 密閉容器に浮揚溶解炉と鋳型の全体を組み込んで真空排気しているが、密閉容器の容積が大きいため、真空排気の応答性が悪い。ちなみに、るつぼは銅セグメント間のスリットを介して密閉容器内に通じており、鋳型は通気性の鋳型材を介して密閉容器内に通じているため、真空排気は密閉容器内の全空間に対して行わなければならない。
(2) コイルが真空雰囲気の密閉容器内に収容されるため、通電中に真空放電が発生する可能性があり、コイル電圧を真空放電の危険のない大きさに制限する必要がある。
(3) 密閉容器内の気密性が確保できる電源導入端子が必要となるので、装置の構造が複雑で高価なものになる。
(4) 溶解金属の自重により溶湯を鋳込み空間に鋳込んでいるが、精密鋳造においては鋳込み空間が細密であるため、溶解金属の自重のみでは緻密な鋳造が困難である。
この発明は上記問題に対処し、装置を簡略・小型にして真空排気の応答性を高め、またコイルの真空放電の危険をなくとともに、鋳込み品質を高めることにある。
上記課題を解決するために、この発明は、水冷金属るつぼの外側にコイルを備え底部の出湯口から金属溶湯を出湯する浮揚溶解炉と、前記出湯口に湯口が対向するように前記水冷金属るつぼの下方に配置される鋳型と、前記水冷金属るつぼ及び鋳型の内部を真空排気する真空排気系統とからなり、前記コイルに通電して前記水冷金属るつぼ内の金属を浮揚溶解し、次いで前記金属の溶湯を前記出湯口から前記鋳型に鋳込む底部出湯式鋳造装置において、前記水冷金属るつぼの底面に密閉容器により密閉した鋳型を気密に連結するものとする(請求項1)。
請求項1の発明は、鋳型のみを密閉する密閉容器を設け、この密閉容器により密閉した鋳型をるつぼに気密に連結して鋳型の密閉を図るものである。これにより、鋳型内の雰囲気制御(真空排気や加圧制御)の応答性が高まる。
請求項1の発明において、前記水冷金属るつぼとコイルとの間に密閉容器を配置して前記水冷金属るつぼを密閉するとよい(請求項2)。これにより、るつぼと鋳型とがそれぞれ個別に密閉され、浮揚溶解炉及び鋳型の全体を密閉容器に収容する場合に比べて密閉容器が小型化して容積が必要最小限となり、るつぼ内と鋳型内の雰囲気制御の応答性が一層高まるとともに、設置スペースも節減される。また、コイルは密閉容器の外部に出るため大気圧下となり、るつぼ内を真空排気した場合にも真空放電の危険がなくなるとともに、密閉容器への電源導入端子部分に気密性を必要としなくなるため、装置の構造が簡略化される。
請求項1又は請求項2の発明において、前記水冷金属るつぼ及び通気性を有する前記鋳型の内部をそれぞれ個別に真空排気する第1及び第2の真空排気系統を設け、前記金属の溶湯を前記鋳型に鋳込む際に、前記第1真空排気系統の真空排気を停止し、前記第2真空排気系統の真空排気を実施するようにするのがよい(請求項3)。るつぼと鋳型の真空排気系統をそれぞれ独立させ、鋳込み時にはるつぼ側の第1真空排気系統の真空排気を停止し、鋳型側の第2真空排気系統の真空排気を実施することにより、るつぼと鋳型との間に差圧を発生させ、この差圧で溶湯を鋳込み空間に押し込んで緻密な鋳造を行うことができるようになる。
請求項3の発明において、真空排気した前記水冷金属るつぼ及び鋳型を不活性ガスで置換する加圧系統を設け、この加圧系統により、前記溶湯を前記鋳型に鋳込む際に前記水冷金属るつぼの内部を加圧するようにするとよい(請求項4)。真空排気したるつぼ及び鋳型を不活性ガスで置換することにより、より確実な酸素遮断雰囲気で金属を溶解させることができるとともに、鋳込み時に不活性ガスの加圧系統でるつぼ側を加圧することにより、鋳型側との間の差圧をより大きくして、鋳込み品質を一層高めることができる。
請求項1の発明において、前記溶湯を鋳込んだ前記鋳型を前記浮揚溶解炉と一体に回転させて遠心鋳造を行うようにするとよい(請求項5)。これにより、一層緻密な鋳造が可能になる。
この発明によれば、酸素遮断雰囲気で金属を溶解し、るつぼ底部の出湯口から溶解金属を鋳型に出湯する底部出湯式鋳造装置において、真空排気及び不活性ガス置換のための密閉容器を小型化して真空排気や加圧の応答性を高め、設置スペースを節減することができる。また、コイルを大気圧下に置いて、真空放電の危険をなくすとともに装置を簡略化することができる。更に、鋳込み時のるつぼ側と鋳型側との間の差圧を高め、湯回りを良好にして鋳造品質を高めることができる。
以下、図1及び図2に基づいて、この発明の実施の形態を説明する。なお、従来例と対応する部分には同一の符号を用いるものとする。
図1は、この発明の実施例1を示す底部出湯式鋳造装置の概略縦断面図である。図1において、るつぼ1の上面開口は溶解金属10の装填後に蓋板12で閉塞されるようになっており、この蓋板12を貫通して、るつぼ内を真空排気する第1真空排気系統13及びるつぼ内をアルゴンなどの不活性ガスで置換する第1加圧系統14が接続されている。
一方、円柱状の鋳型6は、密閉容器15により周囲が密閉されている。密閉容器15は底付き円筒体で、鋳型6を通して溶湯からの輻射熱を受けるため、例えばステンレス板などの非磁性金属材からなり、上部フランジを介してるつぼ1の底面にねじにより、図示しないパッキンを挟んで気密に連結されている。通気性の鋳型6の上面及び外周面と密閉容器15との間には通気空間16があけられ、この通気空間16に通じるように、鋳型内を真空排気する第2真空排気系統17及び鋳型内を不活性ガスで置換する第2加圧系統18が接続されている。るつぼ1及び鋳型6の全体は、密閉容器9に組み込まれている。
図1において、るつぼ1に溶解金属10を装填したら、第1及び第2真空排気系統13,17によりるつぼ1及び鋳型6を真空排気する。また、不活性ガス雰囲気とする場合には、第1及び第2加圧系統14,18による不活性ガスの封入操作を行い、るつぼ1及び鋳型6を所定レベルの酸素遮断雰囲気(真空雰囲気又は不活性ガス雰囲気)にする。次いで、高周波電源11からコイル2に高周波電流を供給し、るつぼ1内の金属10を浮揚状態で溶解させ溶湯とする。金属10が溶解したら、コイル2の通電を制御し、溶湯の下部に作用する重力が浮揚力を上回るようにして溶湯を出湯口3から湯口5を通して鋳込み空間8に鋳込む。
その際、溶湯が湯口5に到達したら、又はその到達の直前に、真空雰囲気による溶解(真空溶解)の場合は、第2真空排気系統17により鋳型6の真空排気を実施する。これにより、るつぼ1と鋳型6との間に差圧が生じ、この差圧により溶湯が鋳込み空間8に押し込まれて湯回りが良好になる。また、不活性ガス雰囲気による溶解の場合は、上記した鋳型6の真空排気の開始と同時に、第1加圧系統14から不活性ガスを送入してるつぼ1を加圧する。これにより、上記した差圧が大きくなり、湯回りがより良好になる。鋳込み終了後、コイル2の通電、真空排気、不活性ガスによる加圧等を停止し、鋳込み金属を冷却する。
上記した実施例1において、るつぼ1には鋳型6のみを囲む密閉容器15により密閉された鋳型6が気密に連結されている。そのため、鋳型6の真空・加圧空間は縮小し、鋳型6の真空排気及び加圧の応答性が速くなり、鋳造の所要時間が短縮される。
また、るつぼ1及び鋳型6にはそれぞれ独立に第1及び第2の真空排気系統13,17が設けられている。そこで、鋳込み時にはるつぼ側の真空排気を停止し、鋳型側の真空排気を実施することにより、るつぼ1と鋳型6との間に差圧を発生させ、この差圧により溶湯を鋳込み空間に押し込んで緻密な鋳造を行うことができる。更にその際、第1加圧系統14からるつぼ1に不活性ガスを送入して加圧することにより、上記差圧を増大させ、鋳造品質をより高めることができる。
なお、真空排気は溶解中も実施し、鋳込み時にるつぼ1の真空排気のみを停止し、鋳型6の真空排気を引き続き実施するようにしてもよい。また、溶湯を鋳込んだ鋳型6は浮揚溶解炉4と一体に垂直軸の周りに回転させて遠心鋳造を行うことができ、それにより一層緻密な鋳造が可能になる。
図2は、この発明の実施例2を示す底部出湯式鋳造装置の概略縦断面図である。図2においては、実施例1における全体の密閉容器9に代えて、円筒状のるつぼ1とコイル2との間に密閉容器19が配置され、るつぼ1は密閉容器19により周囲が密閉されている。密閉容器19は円筒状で非金属材、例えばFRP(繊維強化プラスチック)又は石英ガラスからなり、円柱状のるつぼ1に被嵌されている。実施例2のその他の構成及び運転動作は、実施例1と実質的に同じである。
上記した実施例2において、るつぼ1の密閉容器19はコイル2の内側に配置され、このるつぼ1には密閉容器15により密閉された鋳型6が気密に連結されている。そのため、密閉容器19,15の容積は縮小し、実施例2における真空・加圧空間は実質的にるつぼ1及び鋳型6の内部空間に限られる。その結果、真空排気及び加圧の応答性が速くなり、鋳造の所要時間が短縮される。また、コイル2は真空雰囲気外に置かれるので真空放電の危険がなくなり、コイル電圧の高圧化による溶解時間の短縮が可能になるとともに、コイル2に対する電源導入端子部分を気密にする必要がないので密閉容器19の構造が簡略化される。
1 水冷金属るつぼ
2 コイル
3 出湯口
4 浮揚溶解炉
5 湯口
6 鋳型
8 鋳込み空間
9 密閉容器
10 溶解金属
13 第1真空排気系統
14 第1加圧系統
15 密閉容器
17 第2真空排気系統
18 第2加圧系統
19 密閉容器
2 コイル
3 出湯口
4 浮揚溶解炉
5 湯口
6 鋳型
8 鋳込み空間
9 密閉容器
10 溶解金属
13 第1真空排気系統
14 第1加圧系統
15 密閉容器
17 第2真空排気系統
18 第2加圧系統
19 密閉容器
Claims (5)
- 水冷金属るつぼの外側にコイルを備え、底部の出湯口から金属溶湯を出湯する浮揚溶解炉と、前記出湯口に湯口が対向するように前記水冷金属るつぼの下方に配置される鋳型と、前記水冷金属るつぼ及び鋳型の内部を真空排気する真空排気系統とからなり、前記コイルに通電して前記水冷金属るつぼ内の金属を浮揚溶解し、次いで前記金属の溶湯を前記出湯口から前記鋳型に鋳込む底部出湯式鋳造装置において、
前記水冷金属るつぼの底面に密閉容器により密閉した鋳型を気密に連結したことを特徴とする底部出湯式鋳造装置。 - 前記水冷金属るつぼとコイルとの間に密閉容器を配置して前記水冷金属るつぼを密閉したことを特徴とする請求項1記載の底部出湯式鋳造装置。
- 前記水冷金属るつぼ及び通気性を有する前記鋳型の内部をそれぞれ個別に真空排気する第1及び第2の真空排気系統を設け、前記金属の溶湯を前記鋳型に鋳込む際に、前記第1真空排気系統の真空排気を停止し、前記第2真空排気系統の真空排気を実施するようにしたことを特徴とする請求項1又は請求項2記載の底部出湯式鋳造装置。
- 真空排気した前記水冷金属るつぼ及び鋳型を不活性ガスで置換する加圧系統を設け、この加圧系統により、前記溶湯を前記鋳型に鋳込む際に前記水冷金属るつぼの内部を加圧するようにしたことを特徴とする請求項3記載の底部出湯式鋳造装置。
- 前記溶湯を鋳込んだ前記鋳型を前記浮揚溶解炉と一体に回転させて遠心鋳造を行うようにしたことを特徴とする請求項1記載の底部出湯式鋳造装置。
Priority Applications (1)
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JP2004021324A JP2005211927A (ja) | 2004-01-29 | 2004-01-29 | 底部出湯式鋳造装置 |
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JP2004021324A JP2005211927A (ja) | 2004-01-29 | 2004-01-29 | 底部出湯式鋳造装置 |
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5328998B1 (ja) * | 2013-01-25 | 2013-10-30 | 株式会社石原産業 | 金属ガラスの鋳造装置及びそれを用いた鋳造方法 |
JP2015533948A (ja) * | 2012-09-28 | 2015-11-26 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | 材料を結合するための方法およびシステム |
CN108015241A (zh) * | 2017-12-21 | 2018-05-11 | 无锡刚正精密吸铸有限公司 | 一种铜棒的快速加工装置 |
WO2020039465A1 (ja) * | 2018-08-20 | 2020-02-27 | CSG Investments株式会社 | 鋳造装置及び連続鋳造方法 |
CN114850450A (zh) * | 2022-06-15 | 2022-08-05 | 北京理工大学唐山研究院 | 难熔高活多元复杂合金悬浮感应熔炼负压吸铸装置及方法 |
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2004
- 2004-01-29 JP JP2004021324A patent/JP2005211927A/ja active Pending
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