JP2003065679A - コールドクルーシブル溶解鋳造装置 - Google Patents
コールドクルーシブル溶解鋳造装置Info
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- JP2003065679A JP2003065679A JP2001265168A JP2001265168A JP2003065679A JP 2003065679 A JP2003065679 A JP 2003065679A JP 2001265168 A JP2001265168 A JP 2001265168A JP 2001265168 A JP2001265168 A JP 2001265168A JP 2003065679 A JP2003065679 A JP 2003065679A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】溶解金属側面での水冷金属るつぼとの接触を低
減し、水冷金属るつぼへの抜熱を減少させることによ
り、溶解量の増大、および比重の重い、かつ高融点金属
の溶解を可能にする。 【解決手段】コイルは水冷金属るつぼ１外周の上下に２
段に設けるとともに、上コイル２ａに通電する電流の周
波数を下コイル２ｂに通電する電流の周波数より低くす
る。
減し、水冷金属るつぼへの抜熱を減少させることによ
り、溶解量の増大、および比重の重い、かつ高融点金属
の溶解を可能にする。 【解決手段】コイルは水冷金属るつぼ１外周の上下に２
段に設けるとともに、上コイル２ａに通電する電流の周
波数を下コイル２ｂに通電する電流の周波数より低くす
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、高周波電源を用
いてコイルを励磁し、水冷金属るつぼ中の金属材料を誘
導加熱溶解して、溶湯を鋳型に鋳造するコールドクルー
シブル溶解鋳造装置に関する。
いてコイルを励磁し、水冷金属るつぼ中の金属材料を誘
導加熱溶解して、溶湯を鋳型に鋳造するコールドクルー
シブル溶解鋳造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】コールドクルーシブル溶解装置は水冷さ
れた金属製るつぼの周囲に高周波誘導コイルが巻かれた
装置である。水冷金属るつぼの内部に金属を入れ、コイ
ルに高周波電流を流すと金属には渦電流が誘起され、金
属は加熱され溶解する。この方法で溶解した金属は、水
冷金属るつぼからの不純物の混入がないので、高純度の
溶湯ができる。またこの溶湯を鋳型に鋳造することによ
り高純度鋳造製品の生産が可能で例えばチタニウム等の
活性金属、高融点金属（クロム、ニオブ、モリブデ
ン）、シリコン等の溶解に適している。また水冷金属る
つぼに作用する電磁力が強いので溶湯は電磁攪拌され、
均一な組成が要求される合金溶解に適している。
れた金属製るつぼの周囲に高周波誘導コイルが巻かれた
装置である。水冷金属るつぼの内部に金属を入れ、コイ
ルに高周波電流を流すと金属には渦電流が誘起され、金
属は加熱され溶解する。この方法で溶解した金属は、水
冷金属るつぼからの不純物の混入がないので、高純度の
溶湯ができる。またこの溶湯を鋳型に鋳造することによ
り高純度鋳造製品の生産が可能で例えばチタニウム等の
活性金属、高融点金属（クロム、ニオブ、モリブデ
ン）、シリコン等の溶解に適している。また水冷金属る
つぼに作用する電磁力が強いので溶湯は電磁攪拌され、
均一な組成が要求される合金溶解に適している。
【０００３】図８は従来例の構成図を示す。この図８に
おいて、コールドクルーシブル溶解装置は、１つの電源
に繋がれた円形のコイル２の内側に、電気的に絶縁され
た２つ以上のセグメント３をスリット３ａを介してコイ
ル２の周方向に並べて水冷金属るつぼ１を構成してい
る。また水冷金属るつぼ底部は水冷金属やグラファイト
等の断熱材で構成されている。水冷金属るつぼ１内部に
は金属材料が入れられる。
おいて、コールドクルーシブル溶解装置は、１つの電源
に繋がれた円形のコイル２の内側に、電気的に絶縁され
た２つ以上のセグメント３をスリット３ａを介してコイ
ル２の周方向に並べて水冷金属るつぼ１を構成してい
る。また水冷金属るつぼ底部は水冷金属やグラファイト
等の断熱材で構成されている。水冷金属るつぼ１内部に
は金属材料が入れられる。
【０００４】水冷金属るつぼ１を構成するセグメント３
は水等により加熱されないように冷却される。高周波電
源５から供給されるコイル２の電流は、スリット３ａに
より電気的に絶縁されたそれぞれのセグメント３にうず
電流を誘導するとともに、金属材料にもうず電流を誘導
し、金属材料は抵抗損により加熱し続けられ溶解されて
溶湯４になる。この水冷金属るつぼ１と溶湯４に流れる
うず電流の方向は対向面で互いに逆向きなので磁気的に
反発力となり、水冷金属るつぼ１は固定されているので
溶湯４に働く反発力が溶湯４の重量より大きければ溶湯
４は水冷金属るつぼ１の側面から離れる。このため溶湯
４はるつぼ底部が接触しるつぼ側面は溶湯静圧と電磁反
発力がバランスする位置（σ［ｋｇ／ｍ3 ］×ｈ［ｍ］
＝Ｆ［ｋｇ／ｍ2］）より下部では水冷金属るつぼ１と
接触した状態で溶解する。
は水等により加熱されないように冷却される。高周波電
源５から供給されるコイル２の電流は、スリット３ａに
より電気的に絶縁されたそれぞれのセグメント３にうず
電流を誘導するとともに、金属材料にもうず電流を誘導
し、金属材料は抵抗損により加熱し続けられ溶解されて
溶湯４になる。この水冷金属るつぼ１と溶湯４に流れる
うず電流の方向は対向面で互いに逆向きなので磁気的に
反発力となり、水冷金属るつぼ１は固定されているので
溶湯４に働く反発力が溶湯４の重量より大きければ溶湯
４は水冷金属るつぼ１の側面から離れる。このため溶湯
４はるつぼ底部が接触しるつぼ側面は溶湯静圧と電磁反
発力がバランスする位置（σ［ｋｇ／ｍ3 ］×ｈ［ｍ］
＝Ｆ［ｋｇ／ｍ2］）より下部では水冷金属るつぼ１と
接触した状態で溶解する。
【０００５】ここで、
σ：溶湯の単位体積当たり重量［ｋｇ／ｍ3 ］
ｈ：溶湯へツド（上面からの高さ）［ｍ］
Ｆ：溶湯表面に働く電磁反発力［ｋｇ／ｍ2 ］
である。
【０００６】コールドクルーシブル誘導加熱溶解法はる
つぼ材からの不純物混入が無いため、純チタンやＴｉ−
６Ａｌ−４Ｖ等のチタン合金等の溶解に用いられてい
る。この方式の場合、σｈ＞Ｆになる溶湯の深さから下
部では溶湯は水冷金属るつぼと接触するため水冷金属る
つぼへの抜熱があることから溶解能力としては溶湯温度
が１９００℃〜２０００℃以下の金属に限定されてい
る。
つぼ材からの不純物混入が無いため、純チタンやＴｉ−
６Ａｌ−４Ｖ等のチタン合金等の溶解に用いられてい
る。この方式の場合、σｈ＞Ｆになる溶湯の深さから下
部では溶湯は水冷金属るつぼと接触するため水冷金属る
つぼへの抜熱があることから溶解能力としては溶湯温度
が１９００℃〜２０００℃以下の金属に限定されてい
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】溶湯温度が１９００℃
を超えた金属を溶解する場合、上記方式では水冷金属る
つぼとの接触による抜熱の影響によって溶解が困難であ
る。また溶湯温度が１９００℃を超える合金、および純
金属の殆どはその密度が１０ｇ／ｃｍ3 を超えているた
めチタンの密度４．１ｇ／ｃｍ3 と同容積の材料を溶解
した場合と比較するとるつぼ側面の電磁反発力がバラン
スする位置はチタンでの非接触高さの半分以下となるた
め、るつぼへの披熱量はるつぼの接触面積に比例するこ
とから、当然るつほへの抜熱量が増大し、溶解に要する
エネルギーを増大させなければ金属を溶解することが出
来ない。この問題は、従来技術で溶解可能な金属の場合
においても、るつぼ容量を従来最大溶解量の数１００ｋ
ｇからさらに増大させる場合においても、同様にるつぼ
の披熱量を低減させることが必要となることを示してい
る。
を超えた金属を溶解する場合、上記方式では水冷金属る
つぼとの接触による抜熱の影響によって溶解が困難であ
る。また溶湯温度が１９００℃を超える合金、および純
金属の殆どはその密度が１０ｇ／ｃｍ3 を超えているた
めチタンの密度４．１ｇ／ｃｍ3 と同容積の材料を溶解
した場合と比較するとるつぼ側面の電磁反発力がバラン
スする位置はチタンでの非接触高さの半分以下となるた
め、るつぼへの披熱量はるつぼの接触面積に比例するこ
とから、当然るつほへの抜熱量が増大し、溶解に要する
エネルギーを増大させなければ金属を溶解することが出
来ない。この問題は、従来技術で溶解可能な金属の場合
においても、るつぼ容量を従来最大溶解量の数１００ｋ
ｇからさらに増大させる場合においても、同様にるつぼ
の披熱量を低減させることが必要となることを示してい
る。
【０００８】ここで図８の従来例の１コイル式装置につ
いて、金属の溶解能力に応じて設定されている運転周波
数ｆ１と電源容量Ｐ１とを用いて溶湯に作用する電磁反
発力Ｆ１を電磁解析して、該電磁反発力Ｆ１と、溶湯静
圧ｄｈとのバランス状態を図９（ａ）、（ｂ）に示す。
図９（ａ）は溶湯に作用する電磁反発力と溶湯静圧との
バランス状態を模擬的に示した水冷金属るつぼの断面
図、（ｂ）は溶湯表面から底部までの高さ（深さ）を横
軸に、溶湯高さｄｈと該ｄｈ各位置で溶湯に作用する電
磁反発力Ｆ１とを縦軸方向に表した図である。この図９
（ｂ）において、溶湯静圧ｄｈと電磁反発力Ｆ１とが交
わる高さｈ１以降では溶湯とるつぼ側壁とが接触してお
り、そこからの抜熱による影響で溶解温度、もしくは溶
解量に上限が生じる。
いて、金属の溶解能力に応じて設定されている運転周波
数ｆ１と電源容量Ｐ１とを用いて溶湯に作用する電磁反
発力Ｆ１を電磁解析して、該電磁反発力Ｆ１と、溶湯静
圧ｄｈとのバランス状態を図９（ａ）、（ｂ）に示す。
図９（ａ）は溶湯に作用する電磁反発力と溶湯静圧との
バランス状態を模擬的に示した水冷金属るつぼの断面
図、（ｂ）は溶湯表面から底部までの高さ（深さ）を横
軸に、溶湯高さｄｈと該ｄｈ各位置で溶湯に作用する電
磁反発力Ｆ１とを縦軸方向に表した図である。この図９
（ｂ）において、溶湯静圧ｄｈと電磁反発力Ｆ１とが交
わる高さｈ１以降では溶湯とるつぼ側壁とが接触してお
り、そこからの抜熱による影響で溶解温度、もしくは溶
解量に上限が生じる。
【０００９】なお、図９（ａ）は前記ｈ１を水冷金属る
つぼの断面図中に記載したものである。そこで、従来例
では溶解困難な高融点金属や溶解量を従来より増大させ
ることを目的として、従来例の１コイル式装置を用い水
冷金属るつぼへの接触量を低減させるために溶湯静圧に
打ち勝つ運転周波数（従来例より低くして電磁反発力を
増大させる周波数）を選択すると、溶解金属への投入電
力が周波数の低下に応じて減少することが起こり、これ
を補うためにはコイルへの通電電流を増加させなければ
ならないが、コイルでの銅損を冷却する際の冷却効果の
問題から通電電流には限界があり、必用な通電電流が得
られない場合は加熱効果が低減し、例えば鋳造に必用な
スーパーヒート（溶解金属の融点に対する昇温値）が十
分に確保できなくなる可能性がある。一方コイルへの通
電電流を増大させず、溶解材料への投入電力を増大させ
るために運転周波数を高く設定すると、今度は金属表面
に作用する電磁反発力が小さくなるため、るつぼへの接
触面積が上昇し、るつぼへの抜熱量が増え電源容量をさ
らに増大させる必要が生じる。しかし電源容量の増大は
るつぼ自身の冷却効果を高める構造とする必要が生じ、
るつぼ構造上冷却性能を満足できる電源容量にも上限が
あることから必然的に溶解量、および溶解温度に上限が
生じてしまう。
つぼの断面図中に記載したものである。そこで、従来例
では溶解困難な高融点金属や溶解量を従来より増大させ
ることを目的として、従来例の１コイル式装置を用い水
冷金属るつぼへの接触量を低減させるために溶湯静圧に
打ち勝つ運転周波数（従来例より低くして電磁反発力を
増大させる周波数）を選択すると、溶解金属への投入電
力が周波数の低下に応じて減少することが起こり、これ
を補うためにはコイルへの通電電流を増加させなければ
ならないが、コイルでの銅損を冷却する際の冷却効果の
問題から通電電流には限界があり、必用な通電電流が得
られない場合は加熱効果が低減し、例えば鋳造に必用な
スーパーヒート（溶解金属の融点に対する昇温値）が十
分に確保できなくなる可能性がある。一方コイルへの通
電電流を増大させず、溶解材料への投入電力を増大させ
るために運転周波数を高く設定すると、今度は金属表面
に作用する電磁反発力が小さくなるため、るつぼへの接
触面積が上昇し、るつぼへの抜熱量が増え電源容量をさ
らに増大させる必要が生じる。しかし電源容量の増大は
るつぼ自身の冷却効果を高める構造とする必要が生じ、
るつぼ構造上冷却性能を満足できる電源容量にも上限が
あることから必然的に溶解量、および溶解温度に上限が
生じてしまう。
【００１０】この発明は上記の課題を解決するために、
溶解金属側面で水冷金属るつぼとの接触を低減し、水冷
金属るつぼへの抜熱を減少させることにより、溶解量の
増大、および密度が大きい金属や、高融点金属の溶解を
可能にするコールドクルーシブル溶解鋳造装置を提供す
ることにある。
溶解金属側面で水冷金属るつぼとの接触を低減し、水冷
金属るつぼへの抜熱を減少させることにより、溶解量の
増大、および密度が大きい金属や、高融点金属の溶解を
可能にするコールドクルーシブル溶解鋳造装置を提供す
ることにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に請求項１の発明は、高周波電源を用いてコイルを励磁
し、水冷金属るつぼ中の金属材料を誘導加熱溶解するコ
ールドクルーシブル溶解装置で、溶解後の金属を水冷金
属るつぼ底部から引抜により連続的に鋳造する装置にお
いて、コイルは水冷金属るつぼ外周の上下に２段に設け
るとともに、上コイルに通電する電流の周波数を下コイ
ルに通電する電流の周波数より低くすることを特徴とす
る。
に請求項１の発明は、高周波電源を用いてコイルを励磁
し、水冷金属るつぼ中の金属材料を誘導加熱溶解するコ
ールドクルーシブル溶解装置で、溶解後の金属を水冷金
属るつぼ底部から引抜により連続的に鋳造する装置にお
いて、コイルは水冷金属るつぼ外周の上下に２段に設け
るとともに、上コイルに通電する電流の周波数を下コイ
ルに通電する電流の周波数より低くすることを特徴とす
る。
【００１２】ここで、周波数と溶湯表面に誘起する電
力、および周波数と溶湯表面に作用する電磁反発力との
関係は、コイル内に生じる交番磁界が溶湯に沿っている
場合（即ち浸透深さが溶湯の大きさと比較して十分に小
さい場合）には、溶湯への投入電力ｗは次式で与えられ
る。 ｗ＝１／２（πｆμρ）1/2 ・Ｈｍ2 （１） ｗ：溶湯への投入電力［ｗ］ f：運転周波数［Ｈｚ］ μ：金属の透磁率［Ｈ／ｍ］ ρ：金属の抵抗率［Ω・ｍ］ Ｈｍ：溶湯表面に沿う磁界強度［ＡＴ／ｍ］ 一方、溶湯表面に作用する電磁反発力Ｆは次式で与えら
れる。
力、および周波数と溶湯表面に作用する電磁反発力との
関係は、コイル内に生じる交番磁界が溶湯に沿っている
場合（即ち浸透深さが溶湯の大きさと比較して十分に小
さい場合）には、溶湯への投入電力ｗは次式で与えられ
る。 ｗ＝１／２（πｆμρ）1/2 ・Ｈｍ2 （１） ｗ：溶湯への投入電力［ｗ］ f：運転周波数［Ｈｚ］ μ：金属の透磁率［Ｈ／ｍ］ ρ：金属の抵抗率［Ω・ｍ］ Ｈｍ：溶湯表面に沿う磁界強度［ＡＴ／ｍ］ 一方、溶湯表面に作用する電磁反発力Ｆは次式で与えら
れる。
【００１３】
Ｆ＝１／２（μＨｍ2 ） （２）
上式より電磁反発力Ｆと投入電力ｗの関係は次式で与え
られる。 Ｆ＝Ｗ（μ／πｆρ）1/2 （３） この式は溶湯に投入される電力量が一定の時、周波数が
低いほど電磁反発力が大きいことを示している。
られる。 Ｆ＝Ｗ（μ／πｆρ）1/2 （３） この式は溶湯に投入される電力量が一定の時、周波数が
低いほど電磁反発力が大きいことを示している。
【００１４】ここで、るつぼ側壁と溶湯との接触を減少
させる目的でコイルを上下２段にして上コイルは従来例
の運転周波数ｆ１より低い運転周波数ｆ２と電源容量Ｐ
２とに設定し、下コイルはｆ１より高い運転周波数ｆ３
と、上コイルの運転周波数をｆ２に下げたことによる投
入電力の低下を下コイルの運転周波数ｆ３を高くするこ
とでるつぼ側壁と溶湯とが接触する部分には従来例の１
コイル式装置より高い発熱が生じる電源容量Ｐ３に設定
し合計ではＰ２＋Ｐ３＝Ｐ１（従来例の運転周波数ｆ１
のときの電源容量）になるように設定して電磁解析を行
い、その結果を図２（ａ）、（ｂ）に示す。
させる目的でコイルを上下２段にして上コイルは従来例
の運転周波数ｆ１より低い運転周波数ｆ２と電源容量Ｐ
２とに設定し、下コイルはｆ１より高い運転周波数ｆ３
と、上コイルの運転周波数をｆ２に下げたことによる投
入電力の低下を下コイルの運転周波数ｆ３を高くするこ
とでるつぼ側壁と溶湯とが接触する部分には従来例の１
コイル式装置より高い発熱が生じる電源容量Ｐ３に設定
し合計ではＰ２＋Ｐ３＝Ｐ１（従来例の運転周波数ｆ１
のときの電源容量）になるように設定して電磁解析を行
い、その結果を図２（ａ）、（ｂ）に示す。
【００１５】図２（ａ）は溶湯に作用する電磁反発力と
溶湯静圧とのバランス状態を模擬的に示した水冷金属る
つぼの断面図、（ｂ）は溶湯表面から底部までの高さ
（深さ）を横軸に、溶湯高さｄｈと、該ｄｈ各位置で溶
湯に作用する電磁反発力Ｆ２，Ｆ３とを縦軸方向に表し
た図である。この図２（ｂ）において、溶湯静圧ｄｈと
電磁反発力Ｆ２とが交わる高さｈ２以降では溶湯とるつ
ぼ側壁とが接触しているが、上コイルにより溶湯に作用
する電磁反発力Ｆ２は従来例のＦ１より大きくなってい
るので、溶湯とるつぼ側壁とが接触する位置ｈ２はｈ１
より下方に下げられている。
溶湯静圧とのバランス状態を模擬的に示した水冷金属る
つぼの断面図、（ｂ）は溶湯表面から底部までの高さ
（深さ）を横軸に、溶湯高さｄｈと、該ｄｈ各位置で溶
湯に作用する電磁反発力Ｆ２，Ｆ３とを縦軸方向に表し
た図である。この図２（ｂ）において、溶湯静圧ｄｈと
電磁反発力Ｆ２とが交わる高さｈ２以降では溶湯とるつ
ぼ側壁とが接触しているが、上コイルにより溶湯に作用
する電磁反発力Ｆ２は従来例のＦ１より大きくなってい
るので、溶湯とるつぼ側壁とが接触する位置ｈ２はｈ１
より下方に下げられている。
【００１６】なお、図２（ａ）は前記ｈ２を水冷金属る
つぼの断面図中に記載したものである。従って請求項１
の構成により、図２（ａ），（ｂ）に示すように上コイ
ルには従来例の周波数ｆ１より低い周波数ｆ２の高周波
電流を通電して、従来例の周波数ｆ１に対応する電磁反
発力Ｆ１より強いＦ２なる電磁反発力を生じさせること
により水冷金属るつぼと溶湯との接触位置をｈ１からｈ
２に下げ、下コイルには従来例の周波数ｆ１より高い周
波数ｆ３の高周波電流を通電することにより、電磁反発
力Ｆ３は従来例のＦ１より小さくなるが電力投入密度は
周波数が高い分大きくすることができる。これら水冷金
属るつぼと、溶湯との接触位置を下げること、および下
コイルでの電力投入密度を大きくして水冷金属るつぼへ
の抜熱を補うことにより、従来例より溶解量を増大させ
ること、および高融点の金属を溶解することが可能にな
る。
つぼの断面図中に記載したものである。従って請求項１
の構成により、図２（ａ），（ｂ）に示すように上コイ
ルには従来例の周波数ｆ１より低い周波数ｆ２の高周波
電流を通電して、従来例の周波数ｆ１に対応する電磁反
発力Ｆ１より強いＦ２なる電磁反発力を生じさせること
により水冷金属るつぼと溶湯との接触位置をｈ１からｈ
２に下げ、下コイルには従来例の周波数ｆ１より高い周
波数ｆ３の高周波電流を通電することにより、電磁反発
力Ｆ３は従来例のＦ１より小さくなるが電力投入密度は
周波数が高い分大きくすることができる。これら水冷金
属るつぼと、溶湯との接触位置を下げること、および下
コイルでの電力投入密度を大きくして水冷金属るつぼへ
の抜熱を補うことにより、従来例より溶解量を増大させ
ること、および高融点の金属を溶解することが可能にな
る。
【００１７】また、請求項２の発明のように、請求項１
記載のコールドクルーシブル溶解鋳装置において、水冷
金属るつぼ内で溶解した金属を水冷金属るつぼの傾転に
よって水冷金属るつぼ下部に据え付けた鋳型に鋳造する
ことができる。また、請求項３の発明のように、請求項
１記載のコールドクルーシブル溶解鋳造装置において、
水冷金属るつぼ内で溶解した金属を吸引によって水冷金
属るつぼ下部、もしくは上部に設けた鋳型に鋳造しても
良い。
記載のコールドクルーシブル溶解鋳装置において、水冷
金属るつぼ内で溶解した金属を水冷金属るつぼの傾転に
よって水冷金属るつぼ下部に据え付けた鋳型に鋳造する
ことができる。また、請求項３の発明のように、請求項
１記載のコールドクルーシブル溶解鋳造装置において、
水冷金属るつぼ内で溶解した金属を吸引によって水冷金
属るつぼ下部、もしくは上部に設けた鋳型に鋳造しても
良い。
【００１８】上記の請求項２または請求項３の発明の構
成により、水冷金属るつぼ内で溶解した金属を水冷金属
るつぼの傾転、もしくはるつぼからの吸引により鋳型に
鋳造することが可能になる。また、請求項４の発明は、
請求項１記載のコールドクルーシブル溶解鋳造装置にお
いて、水冷金属るつぼと鋳造鋳型がるつぼ下部で直結さ
れていることを特徴とする。
成により、水冷金属るつぼ内で溶解した金属を水冷金属
るつぼの傾転、もしくはるつぼからの吸引により鋳型に
鋳造することが可能になる。また、請求項４の発明は、
請求項１記載のコールドクルーシブル溶解鋳造装置にお
いて、水冷金属るつぼと鋳造鋳型がるつぼ下部で直結さ
れていることを特徴とする。
【００１９】また、請求項５の発明のように、請求項１
または請求項４に記載のコールドクルーシブル溶解鋳造
装置において、水冷金属るつぼ底部に溶解した金属の落
下を防止する栓を設けて、該栓の引抜駆動により鋳造を
行うことができる。また、請求項６の発明のように、請
求項５記載のコールドクルーシブル溶解鋳造装置におい
て、引抜駆動栓が水冷機能を有しており、先端部分が取
り外し交換可能な水冷金属製で作ることができる。
または請求項４に記載のコールドクルーシブル溶解鋳造
装置において、水冷金属るつぼ底部に溶解した金属の落
下を防止する栓を設けて、該栓の引抜駆動により鋳造を
行うことができる。また、請求項６の発明のように、請
求項５記載のコールドクルーシブル溶解鋳造装置におい
て、引抜駆動栓が水冷機能を有しており、先端部分が取
り外し交換可能な水冷金属製で作ることができる。
【００２０】また、請求項７の発明のように、請求項５
または請求項６に記載のコールドクルーシブル溶解鋳造
装置において、引抜駆動栓の上部に材質が溶解した金属
と同種類のとも材で作られた、引抜駆動栓とは着脱可能
に取付けられるとも材栓を設けることができる。上記の
請求項４から請求項７の発明の構成により、水冷金属る
つぼで溶解した金属を、引抜駆動栓を介して冷却された
前記溶解した金属と同じ材質のとも材栓に凝着させて、
るつぼの下部に直結した鋳型に引き込み、該鋳型で冷却
凝固させることにより、不純物などの混入が無い鋳塊を
製造することが可能になる。
または請求項６に記載のコールドクルーシブル溶解鋳造
装置において、引抜駆動栓の上部に材質が溶解した金属
と同種類のとも材で作られた、引抜駆動栓とは着脱可能
に取付けられるとも材栓を設けることができる。上記の
請求項４から請求項７の発明の構成により、水冷金属る
つぼで溶解した金属を、引抜駆動栓を介して冷却された
前記溶解した金属と同じ材質のとも材栓に凝着させて、
るつぼの下部に直結した鋳型に引き込み、該鋳型で冷却
凝固させることにより、不純物などの混入が無い鋳塊を
製造することが可能になる。
【００２１】
【発明の実施の形態】図１は請求項１の発明の実施の形
態の主要部の構成図を示す。この図１において、従来例
と同一の符号を付けた部材はおおよそ同一の機能を有す
るのでその説明は省略する。この図１において、コール
ドクルーシブル溶解装置は、高周波電源５に接続された
円形の上コイル２ａ、および高周波電源５より高い周波
数の高周波電源６に接続された、上コイル２ａとほぼ同
じ内径を有する下コイル２ｂの内側に、電気的に絶縁さ
れた２つ以上のセグメント３をスリット３ａを介して上
下コイル２ａ、２ｂの周方向に並べて水冷金属るつぼ１
を構成している。また水冷金属るつぼ１底部はセグメン
ト３と同じ材質の金属で構成されている。水冷金属るつ
ぼ１内部には金属材料が入れられる。水冷金属るつぼ１
を構成するセグメント３は水等により加熱されないよう
に冷却される。
態の主要部の構成図を示す。この図１において、従来例
と同一の符号を付けた部材はおおよそ同一の機能を有す
るのでその説明は省略する。この図１において、コール
ドクルーシブル溶解装置は、高周波電源５に接続された
円形の上コイル２ａ、および高周波電源５より高い周波
数の高周波電源６に接続された、上コイル２ａとほぼ同
じ内径を有する下コイル２ｂの内側に、電気的に絶縁さ
れた２つ以上のセグメント３をスリット３ａを介して上
下コイル２ａ、２ｂの周方向に並べて水冷金属るつぼ１
を構成している。また水冷金属るつぼ１底部はセグメン
ト３と同じ材質の金属で構成されている。水冷金属るつ
ぼ１内部には金属材料が入れられる。水冷金属るつぼ１
を構成するセグメント３は水等により加熱されないよう
に冷却される。
【００２２】高周波電源５から供給される上コイル２
ａ、および高周波電源６から供給される下コイル２ｂの
電流は、それぞれスリット３ａにより電気的に絶縁され
たセグメント３にうず電流を誘導するとともに、金属材
料にもうず電流を誘導し、金属材料は抵抗損により加熱
し続けられ溶解されて溶湯４になる。この水冷金属るつ
ぼ１と溶湯４に流れるうず電流の方向は対向面では互い
に逆向きなので磁気的に反発力となり、水冷金属るつぼ
１は固定されているので溶湯４に働く反発力が溶湯４の
重量より大きければ溶湯４は水冷金属るつぼ１の側面か
ら離れる。
ａ、および高周波電源６から供給される下コイル２ｂの
電流は、それぞれスリット３ａにより電気的に絶縁され
たセグメント３にうず電流を誘導するとともに、金属材
料にもうず電流を誘導し、金属材料は抵抗損により加熱
し続けられ溶解されて溶湯４になる。この水冷金属るつ
ぼ１と溶湯４に流れるうず電流の方向は対向面では互い
に逆向きなので磁気的に反発力となり、水冷金属るつぼ
１は固定されているので溶湯４に働く反発力が溶湯４の
重量より大きければ溶湯４は水冷金属るつぼ１の側面か
ら離れる。
【００２３】ここで、上コイル２ａに供給される電流の
周波数は下コイル２ｂに供給される電流の周波数より低
い値に設定されているので、図２に示すように溶湯４と
水冷金属るつぼ１の側壁とが接触する位置はｈ２にな
り、水冷金属るつぼ１への抜熱量が軽減されるようにな
っている。図３は請求項２の発明の実施の形態の主要部
の構成図を示す。この図３において、図１の構成とほぼ
同じ構成の水冷金属るつぼ１は傾転中心を中心として傾
転可能な傾転手段を有しており、水冷金属るつぼ１内で
溶解された金属は前記傾転手段により傾転される水冷金
属るつぼ１上端部から出湯されて鋳型７に鋳造される。
なお、この例では水冷金属るつぼ１、および鋳型７はチ
ャンバーとよばれる溶解鋳造室内に収納されており所望
の雰囲気中での溶解および鋳造が可能な構造になってい
る。
周波数は下コイル２ｂに供給される電流の周波数より低
い値に設定されているので、図２に示すように溶湯４と
水冷金属るつぼ１の側壁とが接触する位置はｈ２にな
り、水冷金属るつぼ１への抜熱量が軽減されるようにな
っている。図３は請求項２の発明の実施の形態の主要部
の構成図を示す。この図３において、図１の構成とほぼ
同じ構成の水冷金属るつぼ１は傾転中心を中心として傾
転可能な傾転手段を有しており、水冷金属るつぼ１内で
溶解された金属は前記傾転手段により傾転される水冷金
属るつぼ１上端部から出湯されて鋳型７に鋳造される。
なお、この例では水冷金属るつぼ１、および鋳型７はチ
ャンバーとよばれる溶解鋳造室内に収納されており所望
の雰囲気中での溶解および鋳造が可能な構造になってい
る。
【００２４】図４は請求項３の発明の実施の形態の主要
部の構成図を示す。この図４において、水冷金属るつぼ
１は図１の構成とほぼ同じ構成となっているのでその説
明は省略する。この図４が図３と異なる点は水冷金属る
つぼ１で溶解した金属（溶湯４）を水冷金属るつぼ１の
傾転により出湯して鋳型に鋳込む代りに溶湯４に浸漬し
たノズルに直結した鋳型８を設けて該鋳型８を吸引装置
の中に設置して吸引装置によりノズルを介して吸引した
溶湯４を鋳型８に鋳造するようにした点である。
部の構成図を示す。この図４において、水冷金属るつぼ
１は図１の構成とほぼ同じ構成となっているのでその説
明は省略する。この図４が図３と異なる点は水冷金属る
つぼ１で溶解した金属（溶湯４）を水冷金属るつぼ１の
傾転により出湯して鋳型に鋳込む代りに溶湯４に浸漬し
たノズルに直結した鋳型８を設けて該鋳型８を吸引装置
の中に設置して吸引装置によりノズルを介して吸引した
溶湯４を鋳型８に鋳造するようにした点である。
【００２５】図５は請求項５、および６、７の発明の実
施の形態の主要部の構成図を示す。この図５において、
コールドクルーシブル溶解装置は、高周波電源５に接続
された円形の上コイル２ａ、および高周波電源５より高
い周波数の高周波電源６に接続された、上コイル２ａと
ほぼ同じ内径を有する下コイル２ｂの内側に、電気的に
絶縁された２つ以上のセグメント３をスリット３ａを介
して上下コイル２ａ、２ｂの周方向に並べて水冷金属る
つぼ１を構成している。また水冷金属るつぼ１底部は胴
部と同じ径の底穴になっている。水冷金属るつぼ１内部
には金属材料が入れられ、該水冷金属るつぼ１内で溶解
されて溶湯４になる。水冷金属るつぼ１を構成するセグ
メント３は水等により加熱されないように冷却される。
施の形態の主要部の構成図を示す。この図５において、
コールドクルーシブル溶解装置は、高周波電源５に接続
された円形の上コイル２ａ、および高周波電源５より高
い周波数の高周波電源６に接続された、上コイル２ａと
ほぼ同じ内径を有する下コイル２ｂの内側に、電気的に
絶縁された２つ以上のセグメント３をスリット３ａを介
して上下コイル２ａ、２ｂの周方向に並べて水冷金属る
つぼ１を構成している。また水冷金属るつぼ１底部は胴
部と同じ径の底穴になっている。水冷金属るつぼ１内部
には金属材料が入れられ、該水冷金属るつぼ１内で溶解
されて溶湯４になる。水冷金属るつぼ１を構成するセグ
メント３は水等により加熱されないように冷却される。
【００２６】該水冷金属るつぼ１の底部には、水冷製で
上部にスリットが入った鋳型１０が直結され、その下部
に引抜鋳造装置１５が設けられている。前記水冷金属る
つぼ１の底穴には該底穴に嵌合され、下部で水冷機能を
有したとも材栓１２、および該とも材栓１２を駆動する
引抜駆動栓１１、引抜駆動部昇降台１４が引抜駆動装置
１３に直結して設けられている。
上部にスリットが入った鋳型１０が直結され、その下部
に引抜鋳造装置１５が設けられている。前記水冷金属る
つぼ１の底穴には該底穴に嵌合され、下部で水冷機能を
有したとも材栓１２、および該とも材栓１２を駆動する
引抜駆動栓１１、引抜駆動部昇降台１４が引抜駆動装置
１３に直結して設けられている。
【００２７】図５において、引抜駆動時に溶湯４は鋳型
１０中で凝固するよう電源電力、引抜速度、引抜駆動栓
１１及び水冷鋳型１０の冷却が制御されるため所望の引
抜鋳造が行える。水冷金属るつぼ１と鋳型１０は双方と
も金属製の場合、運転時の両者間での短絡や放電による
損傷を避ける為、電気的に絶縁されるよう微少な空間を
有した構造とするか、水冷金属るつぼ１と鋳型１０との
接触面に薄い絶縁物が挿入されていることが望ましい。
１０中で凝固するよう電源電力、引抜速度、引抜駆動栓
１１及び水冷鋳型１０の冷却が制御されるため所望の引
抜鋳造が行える。水冷金属るつぼ１と鋳型１０は双方と
も金属製の場合、運転時の両者間での短絡や放電による
損傷を避ける為、電気的に絶縁されるよう微少な空間を
有した構造とするか、水冷金属るつぼ１と鋳型１０との
接触面に薄い絶縁物が挿入されていることが望ましい。
【００２８】金属材料溶解時、引抜駆動栓１１は水冷金
属るつぼ１の底穴に嵌合されている。引抜駆動時にるつ
ぼ底穴付近の溶湯４と引抜駆動栓１１の先端部が半溶融
状態を形成する様にする場合、引抜駆動栓１１の先端に
は溶湯４と同じ材質のとも材栓１２を使用し、そのとも
材栓１２は水冷されていないが、下部で冷却された引抜
駆動栓１１からの接触熱伝達で水冷される様な構造とな
っている。引抜駆動時は鋳型１０の位置を固定し、引抜
駆動装置１３を駆動して引抜駆動栓１１、およびとも材
栓１２の駆動を行う。この場合の引抜駆動は、引抜開始
時に上方向に駆動してから引下げを行ったり、引抜鋳造
時には、連続的下引動作、間欠的下引動作、上下方向へ
の可逆動作等、種々の方案が考えられるが、鋳型１０中
で溶湯４を連続的に凝固させて引抜きを行う。鋳型１０
中の溶湯４は溶解時は鋳型１０からも抜熱を受けるが凝
固により容積が収縮するため、鋳型１０に接触せずに引
抜きが行えるが、鋳型１０内径を下部はテーパ状に広げ
たものを使用条件によって使い分ける。
属るつぼ１の底穴に嵌合されている。引抜駆動時にるつ
ぼ底穴付近の溶湯４と引抜駆動栓１１の先端部が半溶融
状態を形成する様にする場合、引抜駆動栓１１の先端に
は溶湯４と同じ材質のとも材栓１２を使用し、そのとも
材栓１２は水冷されていないが、下部で冷却された引抜
駆動栓１１からの接触熱伝達で水冷される様な構造とな
っている。引抜駆動時は鋳型１０の位置を固定し、引抜
駆動装置１３を駆動して引抜駆動栓１１、およびとも材
栓１２の駆動を行う。この場合の引抜駆動は、引抜開始
時に上方向に駆動してから引下げを行ったり、引抜鋳造
時には、連続的下引動作、間欠的下引動作、上下方向へ
の可逆動作等、種々の方案が考えられるが、鋳型１０中
で溶湯４を連続的に凝固させて引抜きを行う。鋳型１０
中の溶湯４は溶解時は鋳型１０からも抜熱を受けるが凝
固により容積が収縮するため、鋳型１０に接触せずに引
抜きが行えるが、鋳型１０内径を下部はテーパ状に広げ
たものを使用条件によって使い分ける。
【００２９】引抜駆動時にとも材栓を使用しないで引抜
駆動栓１１上部で軟接触状態とし、引抜駆動後に栓上部
の凝固層を再溶解し出湯鋳造する場合、引抜駆動栓１１
は栓の上部まで水冷された銅製栓を使用する。この場
合、るつぼ底穴付近は引抜駆動栓への抜熱により再凝固
層が形成されるが、引抜駆動栓１１の引下げによって抜
熱が無くなることと、底部に磁束が侵入することによっ
て再凝固層に渦電流が流れる様になるため、再凝固層を
溶解し出湯することが可能である。この場合は１ショッ
トによる鋳造となるが従来より出湯ストロークが短くな
る利点が挙げられる。
駆動栓１１上部で軟接触状態とし、引抜駆動後に栓上部
の凝固層を再溶解し出湯鋳造する場合、引抜駆動栓１１
は栓の上部まで水冷された銅製栓を使用する。この場
合、るつぼ底穴付近は引抜駆動栓への抜熱により再凝固
層が形成されるが、引抜駆動栓１１の引下げによって抜
熱が無くなることと、底部に磁束が侵入することによっ
て再凝固層に渦電流が流れる様になるため、再凝固層を
溶解し出湯することが可能である。この場合は１ショッ
トによる鋳造となるが従来より出湯ストロークが短くな
る利点が挙げられる。
【００３０】鋳型１０は溶湯４が凝固した金属への不純
物混入を避ける為には、水冷された金属製が望ましい。
また鋳造時の制御を行う為に、図示していないコイルを
鋳型１０周囲に巻くこともでき、鋳型１０にはコイルの
巻かれている位置よりも下部にスリットが入った構造と
することにより、凝固時の温度制御や鋳型への接触等を
制御する構成とすることができる。
物混入を避ける為には、水冷された金属製が望ましい。
また鋳造時の制御を行う為に、図示していないコイルを
鋳型１０周囲に巻くこともでき、鋳型１０にはコイルの
巻かれている位置よりも下部にスリットが入った構造と
することにより、凝固時の温度制御や鋳型への接触等を
制御する構成とすることができる。
【００３１】図６、図７は図５の発明のコールドクルー
シブル溶解鋳造装置を雰囲気制御下で行えるようにした
例の構成図で、図６は鋳造前の状態図、図７は鋳造中の
状態図を示す。この図６、図７が図５と異なる点は図５
が大気中での溶解鋳造としている代りに、水冷金属るつ
ぼ１、および上下コイル２ａ、２ｂ、鋳型１０、とも材
栓１２、引抜駆動栓１１、引抜鋳造装置１５を真空ポン
プ、および雰囲気制御装置を備えた真空チャンバー１６
内に収納するとともに、引抜鋳造装置１５の可動部を引
抜駆動部昇降台と真空チャンバー１６との間で伸縮可能
に密閉して真空状態が保てるようにした伸縮可能なベロ
ーズ１７等で接続した点である。
シブル溶解鋳造装置を雰囲気制御下で行えるようにした
例の構成図で、図６は鋳造前の状態図、図７は鋳造中の
状態図を示す。この図６、図７が図５と異なる点は図５
が大気中での溶解鋳造としている代りに、水冷金属るつ
ぼ１、および上下コイル２ａ、２ｂ、鋳型１０、とも材
栓１２、引抜駆動栓１１、引抜鋳造装置１５を真空ポン
プ、および雰囲気制御装置を備えた真空チャンバー１６
内に収納するとともに、引抜鋳造装置１５の可動部を引
抜駆動部昇降台と真空チャンバー１６との間で伸縮可能
に密閉して真空状態が保てるようにした伸縮可能なベロ
ーズ１７等で接続した点である。
【００３２】このように構成することにより、真空下、
もしくは不活性ガス雰囲気下での溶解鋳造が可能にな
り、溶解材料からの脱ガス、および溶解鋳造時の金属の
酸化防止が行える。
もしくは不活性ガス雰囲気下での溶解鋳造が可能にな
り、溶解材料からの脱ガス、および溶解鋳造時の金属の
酸化防止が行える。
【００３３】
【発明の効果】この発明によれば、水冷るつぼ外周に巻
かれるコイルが周波数の異なる２つ以上のコイルを有
し、水冷るつぼ上部側のコイルには電磁力特性に優れる
低い周波数を採用することでるつぼとの接触面積を低減
してるつぼへの抜熱量を減らすことができ、水冷るつぼ
下部のコイルには加熱特性に優れる上コイルよりも高い
周波数を採用することで溶解金属の加熱を積極的に行い
溶湯下部の凝固を抑制することができる。また上下のコ
イルは各々独自で電力制御することが可能となるので、
従来のコールドクルーシブル溶解鋳造装置で困難だった
高融点金属や合金の溶解及び鋳造品鋳造や従来装置で溶
解可能な金属において溶解量を従来より増大させた場合
においても溶解と鋳造品鋳造の対応が可能になる。
かれるコイルが周波数の異なる２つ以上のコイルを有
し、水冷るつぼ上部側のコイルには電磁力特性に優れる
低い周波数を採用することでるつぼとの接触面積を低減
してるつぼへの抜熱量を減らすことができ、水冷るつぼ
下部のコイルには加熱特性に優れる上コイルよりも高い
周波数を採用することで溶解金属の加熱を積極的に行い
溶湯下部の凝固を抑制することができる。また上下のコ
イルは各々独自で電力制御することが可能となるので、
従来のコールドクルーシブル溶解鋳造装置で困難だった
高融点金属や合金の溶解及び鋳造品鋳造や従来装置で溶
解可能な金属において溶解量を従来より増大させた場合
においても溶解と鋳造品鋳造の対応が可能になる。
【図１】請求項１の発明の実施の形態の主要部の構成図
【図２】（ａ）は溶湯に作用する電磁反発力と溶湯静圧
とのバランス状態を模擬的に示した水冷金属るつぼの断
面図、（ｂ）は溶湯表面から底部までの高さ（深さ）を
横軸に、溶湯高さｄｈと、該ｄｈ各位置で溶湯に作用す
る電磁反発力Ｆ２，Ｆ３とを縦軸方向に表した図
とのバランス状態を模擬的に示した水冷金属るつぼの断
面図、（ｂ）は溶湯表面から底部までの高さ（深さ）を
横軸に、溶湯高さｄｈと、該ｄｈ各位置で溶湯に作用す
る電磁反発力Ｆ２，Ｆ３とを縦軸方向に表した図
【図３】請求項２の発明の実施の形態の主要部の構成図
【図４】請求項３の発明の実施の形態の主要部の構成図
【図５】請求項４の発明の実施の形態の主要部の構成図
【図６】図５の発明のコールドクルーシブル溶解鋳造装
置を雰囲気制御下で行えるようにした例の構成図で、鋳
造前の状態図
置を雰囲気制御下で行えるようにした例の構成図で、鋳
造前の状態図
【図７】図６の鋳造中の状態図
【図８】従来例の構成図
【図９】（ａ）は図８の構成で溶湯に作用する電磁反発
力と溶湯静圧とのバランス状態を模擬的に示した水冷金
属るつぼの断面図、（ｂ）は図８の構成で溶湯表面から
底部までの高さ（深さ）を横軸に、溶湯高さｄｈと、該
ｄｈ各位置で溶湯に作用する電磁反発力Ｆ１とを縦軸方
向に表した図
力と溶湯静圧とのバランス状態を模擬的に示した水冷金
属るつぼの断面図、（ｂ）は図８の構成で溶湯表面から
底部までの高さ（深さ）を横軸に、溶湯高さｄｈと、該
ｄｈ各位置で溶湯に作用する電磁反発力Ｆ１とを縦軸方
向に表した図
１ 水冷金属るつぼ
２ａ 上コイル
２ｂ 下コイル
５、６ 高周波電源
７、８、１０ 鋳型
９ 吸引装置
１１ 引抜駆動栓
１２ とも材栓
１５ 引抜鋳造装置
１６ 真空チャンバー
１７ ベローズ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｆ２７Ｂ 14/18 Ｆ２７Ｂ 14/18
Ｆ２７Ｄ 3/14 Ｆ２７Ｄ 3/14 Ｂ
11/06 11/06 Ａ
Ｈ０５Ｂ 6/26 Ｈ０５Ｂ 6/26
6/44 6/44
Ｆターム(参考） 3K059 AA08 AB15 AB16 AD03 AD07
CD79
4E004 MB11 MB20
4K046 AA01 BA03 CD02 CD12 CE04
CE05 CE08 DA05
4K055 AA04 JA09 JA11
4K063 AA04 BA03 CA01 CA06 FA34
Claims (7)
- 【請求項１】高周波電源を用いてコイルを励磁し、水冷
金属るつぼ中の金属材料を誘導加熱溶解するコールドク
ルーシブル溶解装置で、溶解後の金属を水冷金属るつぼ
底部からの引抜により連続的に鋳造する装置において、
コイルは水冷金属るつぼ外周の上下に２段に設けるとと
もに、上コイルに通電する電流の周波数を下コイルに通
電する電流の周波数より低くすることを特徴とするコー
ルドクルーシブル溶解鋳造装置。 - 【請求項２】請求項１記載のコールドクルーシブル溶解
鋳造装置において、水冷金属るつぼ内で溶解した金属を
水冷金属るつぼの傾転によって水冷金属るつぼ下部に据
え付けた鋳型に鋳造することを特徴とするコールドクル
ーシブル溶解鋳造装置。 - 【請求項３】請求項１記載のコールドクルーシブル溶解
鋳造装置において、水冷金属るつぼ内で溶解した金属を
吸引によって水冷金属るつぼ下部、もしくは上部に設け
た鋳型に鋳造することを特徴とするコールドクルーシブ
ル溶解鋳造装置。 - 【請求項４】請求項１記載のコールドクルーシブル溶解
鋳造装置において、水冷金属るつぼと鋳型がるつぼ下部
で直結されていることを特徴とするコールドクルーシブ
ル溶解鋳造装置。 - 【請求項５】請求項１または請求項４に記載のコールド
クルーシブル溶解鋳造装置において、水冷金属るつぼ底
部に溶解した金属の落下を防止する栓を設けて、該栓の
引抜駆動により鋳造を行うことを特徴とするコールドク
ルーシブル溶解鋳造装置。 - 【請求項６】請求項５記載のコールドクルーシブル溶解
鋳造装置において、引抜駆動栓が水冷機能を有してお
り、先端部分が取り外し交換可能な水冷金属製で作られ
ていることを特徴とするコールドクルーシブル溶解鋳造
装置。 - 【請求項７】請求項５または請求項６に記載のコールド
クルーシブル溶解鋳造装置において、引抜駆動栓の上部
に材質が溶解した金属と同種類のとも材で作られた、引
抜駆動栓とは着脱可能に取付けられるとも材栓を設ける
ことを特徴とするコールドクルーシブル溶解鋳造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001265168A JP4506057B2 (ja) | 2001-06-15 | 2001-09-03 | コールドクルーシブル溶解鋳造装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001-181548 | 2001-06-15 | ||
| JP2001181548 | 2001-06-15 | ||
| JP2001265168A JP4506057B2 (ja) | 2001-06-15 | 2001-09-03 | コールドクルーシブル溶解鋳造装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003065679A true JP2003065679A (ja) | 2003-03-05 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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| JPH07245182A (ja) * | 1994-03-02 | 1995-09-19 | Fuji Electric Co Ltd | 浮揚溶解装置とその出湯方法 |
| JPH1080751A (ja) * | 1996-09-09 | 1998-03-31 | Fuji Electric Co Ltd | 連続鋳造装置 |
-
2001
- 2001-09-03 JP JP2001265168A patent/JP4506057B2/ja not_active Expired - Fee Related
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