JP2005203760A - 照明光学装置、露光装置、および露光方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 レイアウトに応じて引き回し距離が変化しても露光装置本体の入口において所望の大きさの断面を有する光束を得ることのできる平行送光系タイプの照明光学装置。
【解決手段】 所定面(7a)において所望の大きさの断面を有する平行光束を得るために、光軸(AX)に対して最大の角度で光源(1)から射出される光線を光軸に対してほぼ平行に変換する光線変換手段(2)を備えている。光線変換手段は、第1面内において最大の第1角度で光源から射出される光線を光軸に対してほぼ平行に変換するために第1角度に応じた有限焦点距離を有する第1変換光学系と、第1面と直交する第2面内において最大の第2角度で光源から射出される光線を光軸に対してほぼ平行に変換するために第2角度に応じた有限焦点距離を有する第2変換光学系とを備えている。
【選択図】 図1
【解決手段】 所定面(7a)において所望の大きさの断面を有する平行光束を得るために、光軸(AX)に対して最大の角度で光源(1)から射出される光線を光軸に対してほぼ平行に変換する光線変換手段(2)を備えている。光線変換手段は、第1面内において最大の第1角度で光源から射出される光線を光軸に対してほぼ平行に変換するために第1角度に応じた有限焦点距離を有する第1変換光学系と、第1面と直交する第2面内において最大の第2角度で光源から射出される光線を光軸に対してほぼ平行に変換するために第2角度に応じた有限焦点距離を有する第2変換光学系とを備えている。
【選択図】 図1
Description
本発明は、照明光学装置、露光装置、および露光方法に関し、特に半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等のマイクロデバイスをリソグラフィー工程で製造するための露光装置に関するものである。
この種の露光装置の本体は、全体的にかなり大きな装置であり、設置のための所要床面積は大きい。また、露光装置の光源として、たとえばKrFエキシマレーザ光源やArFエキシマレーザ光源が用いられるが、エキシマレーザ光源もかなり大きな装置である。したがって、特にエキシマレーザ光源を用いる露光装置では、光源装置を露光装置本体からある程度離間させて配置することが多い。
そこで、エキシマレーザ光源から供給される矩形状の平行光束を露光装置本体の入口(入射位置)まで導くための送光系としての照明光学装置が必要になる。ここで、この種の照明光学装置として、エキシマレーザ光源のレーザ射出面(出力部)と露光装置本体の入口とを光学的にほぼ共役に配置するリレー光学系を含む共役送光系と、エキシマレーザ光源のレーザ射出面と露光装置本体の入口とを光学的にほぼ共役に配置するリレー光学系を含むことなく平行光束のまま露光装置本体の入口まで導く平行送光系とがある。
図9は、共役送光系タイプの照明光学装置の不都合を説明する図である。ただし、図9では、説明の簡単のために、1つの等倍リレー光学系だけを含む最も単純な例を示している。図9に示す共役送光系タイプの照明光学装置では、エキシマレーザ光源のレーザ射出面100と露光装置本体の入口101とが、1つの等倍リレー光学系102により光学的に共役に配置されている。
この場合、レーザ射出面100と入口101との間の距離(以下、「引き回し距離」という)をLとするとき、等倍リレー光学系102の前側レンズ群102aおよび後側レンズ群102bはともにL/4の焦点距離を有する。そして、レーザ射出面100は前側レンズ群102aの前側焦点位置に配置され、入口101は後側レンズ群102bの後側焦点位置に配置され、前側レンズ群102aの後側焦点位置と後側レンズ群102bの前側焦点位置とが一致するように配置される。
共役送光系タイプの照明光学装置では、レイアウトに応じて引き回し距離Lが変化した場合、前側レンズ群102aおよび後側レンズ群102bの焦点距離を変化させること、ひいてはリレー光学系102の設計を変化させることが必要になる。また、引き回し距離Lが変化しない場合においても、たとえば障害物を避けるために前側レンズ群102aまたは後側レンズ群102bの光軸に沿った位置を自由に変化させることができない。このように、共役送光系タイプの照明光学装置では、引き回し距離およびリレー光学系の配置に制限があり、レイアウトに応じて引き回し距離が変化したり途中に障害物があったりすると、リレー光学系の設計をその度に変更しなければならないという不都合があった。
一方、平行送光系タイプの照明光学装置では、共役送光系タイプとは異なり、レイアウトに応じて光学系の設計をその度に変更する必要は一般的にない。しかしながら、たとえばエキシマレーザ光源から供給される光束は僅かな発散角によって広がっていくため、引き回し距離が大きくなるほど露光装置本体の入口に達する光束の断面が大きくなってしまう。換言すれば、平行送光系タイプの照明光学装置では、レイアウトに応じて引き回し距離が変化すると、露光装置本体の入口に達する光束の断面サイズが変化するという不都合があった。
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、レイアウトに応じて引き回し距離が変化しても、たとえば露光装置本体の入口において所望の大きさの断面を有する光束を得ることのできる平行送光系タイプの照明光学装置を提供することを目的とする。また、本発明は、レイアウトに応じて引き回し距離が変化しても露光装置本体の入口において所望の大きさの断面を有する光束を得ることのできる光束平行送光系タイプの照明光学装置を用いて、所望の照明に基づいて良好な露光を行うことのできる露光装置および露光方法を提供することを目的とする。
前記課題を解決するために、本発明の第1形態では、光源から射出されたほぼ平行光束を所定面まで導く照明光学装置において、
前記所定面において所望の大きさの断面を有するほぼ平行光束を得るために、前記照明光学装置の光軸に対して最大の角度で前記光源から射出される光線を前記光軸に対してほぼ平行に変換するための光線変換手段を備えていることを特徴とする照明光学装置を提供する。
前記所定面において所望の大きさの断面を有するほぼ平行光束を得るために、前記照明光学装置の光軸に対して最大の角度で前記光源から射出される光線を前記光軸に対してほぼ平行に変換するための光線変換手段を備えていることを特徴とする照明光学装置を提供する。
第1形態の好ましい態様によれば、前記光線変換手段は、前記光軸を含む第1面内において前記光軸に対して最大の第1角度で前記光源から射出される光線を前記光軸に対してほぼ平行に変換するために前記第1角度に応じた有限焦点距離を有する第1変換光学系を備えている。この場合、前記光線変換手段は、前記光軸を含み且つ前記第1面とほぼ直交する第2面内において前記光軸に対して最大の第2角度で前記光源から射出される光線を前記光軸に対してほぼ平行に変換するために前記第2角度に応じた有限焦点距離を有する第2変換光学系をさらに備えていることが好ましい。
また、第1形態の好ましい態様によれば、前記第1変換光学系は、前記光源側から順に、前記第1面内に負の屈折力を有し且つ前記第2面内に無屈折力のシリンドリカルレンズと、前記第1面内に正の屈折力を有し且つ前記第2面内に無屈折力のシリンドリカルレンズとを有し、前記第2変換光学系は、前記光源側から順に、前記第2面内に負の屈折力を有し且つ前記第1面内に無屈折力のシリンドリカルレンズと、前記第2面内に正の屈折力を有し且つ前記第1面内に無屈折力のシリンドリカルレンズとを有する。また、前記光線変換手段は、前記光源の近傍に配置されていることが好ましい。
前記課題を解決するために、本発明の第2形態では、光源から射出されたほぼ平行光束を所定面まで導く照明光学装置において、
前記所定面において所望の大きさの断面を有するほぼ平行光束を得るために、前記照明光学装置の光軸とほぼ平行に前記光源から射出される光線を前記所定面または前記所定面の近傍で前記光軸と交差するように変換するための光線変換手段を備えていることを特徴とする照明光学装置を提供する。
前記所定面において所望の大きさの断面を有するほぼ平行光束を得るために、前記照明光学装置の光軸とほぼ平行に前記光源から射出される光線を前記所定面または前記所定面の近傍で前記光軸と交差するように変換するための光線変換手段を備えていることを特徴とする照明光学装置を提供する。
第2形態の好ましい態様によれば、前記光線変換手段は、前記光軸を含む第1面内において前記所定面または前記所定面の近傍に第1の後側焦点位置を有する第1変換光学系を備えている。この場合、前記光線変換手段は、前記光軸を含み且つ前記第1面とほぼ直交する第2面内において前記所定面または前記所定面の近傍に第2の後側焦点位置を有する第2変換光学系をさらに備えていることが好ましい。
また、第2形態の好ましい態様によれば、前記第1変換光学系は、前記光源側から順に、前記第1面内に負の屈折力を有し且つ前記第2面内に無屈折力のシリンドリカルレンズと、前記第1面内に正の屈折力を有し且つ前記第2面内に無屈折力のシリンドリカルレンズとを有し、前記第2変換光学系は、前記光源側から順に、前記第2面内に負の屈折力を有し且つ前記第1面内に無屈折力のシリンドリカルレンズと、前記第2面内に正の屈折力を有し且つ前記第1面内に無屈折力のシリンドリカルレンズとを有する。
また、第2形態の好ましい態様によれば、前記第1変換光学系の前記第1の後側焦点位置および前記第2変換光学系の前記第2の後側焦点位置の少なくとも一方の後側焦点位置は、前記光源から前記所定面までの距離に応じて調整可能である。
また、第1形態または第2形態の好ましい態様によれば、前記光線変換手段を介した前記光源からの光束に基づいて、前記光源からの前記光束の位置を検出するための位置検出系と、前記光線変換手段を介した前記光源からの前記光束に基づいて、前記光源からの前記光束の前記光軸に対する角度を検出するための角度検出系とをさらに備えている。この場合、前記位置検出系は、前記光源からの前記光束をほぼ平行光束状態で光電検出するための第1光電検出器と、該第1光電検出器の検出面において計測方向と交差する方向に細長い光束を得るために入射光束を前記交差方向に回折するための第1回折光学素子とを有することが好ましい。
また、第1形態または第2形態の好ましい態様によれば、前記角度検出系は、前記光源からの前記光束を集光するための集光光学系と、該集光光学系を介して集光された光束を光電検出するための第2光電検出器と、該第2光電検出器の検出面において計測方向と交差する方向に細長い光束を得るために入射光束を前記交差方向に拡散するように回折するための第2回折光学素子とを有する。また、前記光源と前記所定面との間の光路中に配置されて所定の軸線廻りに回転可能な第1反射部材と、前記第1反射部材と前記所定面との間の光路中に配置されて所定の軸線廻りに回転可能な第2反射部材と、前記位置検出系の出力および前記角度検出系の出力に基づいて前記第1反射部材および前記第2反射部材の回転を制御するための制御部とを備えていることが好ましい。
本発明の第3形態では、露光光を供給するための光源と、第1形態または第2形態の照明光学装置とを備え、該照明光学装置を介した光でマスクを照明し、前記マスクのパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光装置を提供する。
本発明の第4形態では、第1形態または第2形態の照明光学装置を介した光源からの光でマスクを照明し、前記マスクのパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光方法を提供する。
本発明の第5形態では、所定の光路中から取り出したほぼ平行光束に基づいて、前記ほぼ平行光束の位置を検出するための位置検出装置において、
前記所定の光路中から取り出した光束をほぼ平行光束状態で光電検出するための第1光電検出器と、
前記第1光電検出器の検出面において計測方向と交差する方向に細長い光束を得るために入射光束を前記交差方向に回折するための第1回折光学素子とを備えていることを特徴とする位置検出装置を提供する。
前記所定の光路中から取り出した光束をほぼ平行光束状態で光電検出するための第1光電検出器と、
前記第1光電検出器の検出面において計測方向と交差する方向に細長い光束を得るために入射光束を前記交差方向に回折するための第1回折光学素子とを備えていることを特徴とする位置検出装置を提供する。
本発明の第6形態では、所定の光路中から取り出したほぼ平行光束に基づいて、前記ほぼ平行光束の光軸に対する角度を検出するための角度検出装置において、
前記光源からの前記光束を集光するための集光光学系と、
前記集光光学系を介して集光された光束を光電検出するための第2光電検出器と、
前記第2光電検出器の検出面において計測方向と交差する方向に細長い光束を得るために入射光束を前記交差方向に拡散するように回折するための第2回折光学素子とを備えていることを特徴とする角度検出装置を提供する。
前記光源からの前記光束を集光するための集光光学系と、
前記集光光学系を介して集光された光束を光電検出するための第2光電検出器と、
前記第2光電検出器の検出面において計測方向と交差する方向に細長い光束を得るために入射光束を前記交差方向に拡散するように回折するための第2回折光学素子とを備えていることを特徴とする角度検出装置を提供する。
第6形態の好ましい態様によれば、前記光路中から取り出したほぼ平行光束に基づいて、前記所定面に達するほぼ平行光束の位置を検出するための位置検出系をさらに備え、
前記位置検出系は、前記光路中から取り出した光束をほぼ平行光束状態で光電検出するための第1光電検出器と、該第1光電検出器の検出面において計測方向と交差する方向に細長い光束を得るために入射光束を前記交差方向に回折するための第1回折光学素子とを有する。
前記位置検出系は、前記光路中から取り出した光束をほぼ平行光束状態で光電検出するための第1光電検出器と、該第1光電検出器の検出面において計測方向と交差する方向に細長い光束を得るために入射光束を前記交差方向に回折するための第1回折光学素子とを有する。
本発明にかかる平行送光系タイプの照明光学装置では、光線変換手段が、光軸に対して最大の角度で光源から射出される光線を光軸に対してほぼ平行に変換する機能を有する。したがって、たとえば露光装置に適用した場合、レイアウトに応じて光源と露光装置本体の入口との間の引き回し距離が変化しても、露光装置本体の入口において所望の大きさの断面を有する光束を得ることができる。
また、本発明にかかる平行送光系タイプの照明光学装置を用いる露光装置および露光方法では、レイアウトに応じて引き回し距離が変化しても露光装置本体の入口において所望の大きさの断面を有する光束を得ることができるので、所望の照明に基づいて良好な露光を行うことができ、ひいては良好なデバイスを製造することができる。
本発明の実施形態を、添付図面に基づいて説明する。図1は、本発明の実施形態にかかる露光装置の全体構成を概略的に示す図である。また、図2は、図1の露光装置本体の内部構成を概略的に示す図である。図1を参照すると、本実施形態の露光装置は、露光光(照明光)を供給するための光源1として、たとえば248nmの波長の光を供給するKrFエキシマレーザ光源または193nmの波長の光を供給するArFエキシマレーザ光源を備えている。
光源1から−Y方向に沿って射出された矩形状(X方向に沿った一辺およびZ方向に沿った他辺を有する矩形状)の断面を有するほぼ平行光束は、光線変換光学系2を介して、ほぼ平行光束のまま第1振動ミラー3に入射する。なお、光線変換光学系2の内部構成および作用については後述する。第1振動ミラー3により+Z方向に偏向された光束は、第2振動ミラー4により−X方向に反射された後、固定ミラー5に入射する。固定ミラー5により+Z方向に偏向された光束は、ビームスプリッター6に入射する。
そして、ビームスプリッター6を透過した光束は露光装置本体7へ導かれ、ビームスプリッター6で+Y方向に反射された光束は位置角度モニター系8へ導かれる。なお、位置角度モニター系8の内部構成および作用については後述する。このように、光線変換光学系2、第1振動ミラー3、第2振動ミラー4、固定ミラー5、およびビームスプリッター6は、光源1から射出されたほぼ平行光束を露光装置本体7の入口7aまで導くための平行送光系としての照明光学装置を構成している。
なお、第1振動ミラー3、第2振動ミラー4、および固定ミラー5に代えて、たとえば裏面反射鏡としての直角プリズムを用いることができる。また、ビームスプリッター6として、ミラー型のビームスプリッターまたはプリズム型のビームスプリッターを用いることができる。また、第1振動ミラー3および第2振動ミラー4は、露光装置本体7および位置角度モニター系8を制御する制御部9により姿勢制御されるように構成されている。
図2を参照すると、露光装置本体7の内部へ導かれた光束は、照明光学系7bを介して、マスクMを照明する。照明光学系7bは、たとえば露光装置本体7の内部へ導かれるほぼ平行光束を、そのファーフィールドにおいてほぼ円形状、輪帯状または多極状断面を持つ発散光束に変換するための光束発散部材、露光光の照度分布を均一化するためのオプティカルインテグレータ、マスクM上の照明領域を規定するための可変視野絞り(マスクブラインド)、オプティカルインテグレータを介して形成された二次光源からの光を集光して可変視野絞りへ導くためのコンデンサレンズ系などにより構成されている。
マスクMのパターンを透過した光束は、投影光学系PLを介して、感光性基板であるウェハW上にマスクパターンの像を形成する。こうして、投影光学系PLの光軸と直交する平面(XY平面)内においてウェハWを二次元的に駆動制御しながら一括露光またはスキャン露光を行うことにより、ウェハWの各露光領域にはマスクMのパターンが逐次露光される。
図3は、図1の光線変換光学系の内部構成および作用を概略的に示す図である。図3を参照すると、光線変換光学系2は、光源側(図中左側)から順に、第1変換光学系2aと第2変換光学系2bとを備えている。第1変換光学系2aは、光源側から順に、XY平面内に負の屈折力を有し且つYZ平面内に無屈折力のシリンドリカルレンズ2aaと、XY平面内に正の屈折力を有し且つYZ平面内に無屈折力のシリンドリカルレンズ2abとにより構成されている。
第1変換光学系2aは、図3(a)に示すように、光軸AXを含むXY平面内において光軸AXに対して最大の角度θxで光源1のレーザ射出面1aから射出される光線を光軸AXに対してほぼ平行に変換するために角度θxに応じた第1有限焦点距離を有する。また、第1変換光学系2aは、光源側から順に配置された負シリンドリカルレンズ2aaと正シリンドリカルレンズ2abとの作用により、入射光束の断面をXY平面内に拡大して射出する機能を有する。
一方、第2変換光学系2bは、光源側から順に、YZ平面内に負の屈折力を有し且つXY平面内に無屈折力のシリンドリカルレンズ2baと、YZ平面内に正の屈折力を有し且つXY平面内に無屈折力のシリンドリカルレンズ2bbとにより構成されている。第2変換光学系2bは、図3(b)に示すように、光軸AXを含むYZ平面内において光軸AXに対して最大の角度θzで光源1のレーザ射出面1aから射出される光線を光軸AXに対してほぼ平行に変換するために角度θzに応じた第2有限焦点距離を有する。
また、第2変換光学系2bは、光源側から順に配置された負シリンドリカルレンズ2baと正シリンドリカルレンズ2bbとの作用により、入射光束の断面をYZ平面内に拡大して射出する機能を有する。こうして、光源1から最大角度θxおよびθzで射出された光線が光線変換光学系2を介して光軸AXに対してほぼ平行に変換されるので、光線変換光学系2の直後における光束の断面サイズと露光装置本体7の入口7a(または照明光学系7b中の光束発散部材上)に達する光束の断面サイズとはその間の距離にかかわらずほぼ一致することになる。
光線変換光学系2の具体的な設計に際しては、光源1から射出される光線の最大角度θxおよびθz、光源1から射出される光束の断面サイズ、露光装置本体7の入口7a(または照明光学系7b中の光束発散部材上)における所望の光束断面サイズなどを考慮するが、光線変換光学系2と露光装置本体7の入口7a(または照明光学系7b中の光束発散部材上)との間の距離などを考慮することなく、第1変換光学系2aの焦点距離および拡大倍率、並びに光線変換光学系2の焦点距離および拡大倍率が決定される。なお、光線変換光学系2には共役送光系におけるリレー光学系とは異なり維持すべき共役関係がないので、光線変換光学系2を光軸AXに沿ってある程度移動させても、その光学的機能は実質的に変化することがない。
また、本実施形態において、図3(c)に示すように、光源1のレーザ射出面1aからの光束の大きさ(光軸直交面内における着目する方向に沿った大きさ)をD1、光源1からの光束のうちの最大発散角となる光線の光軸となす角度をθ1、光線変換光学系2の倍率をm、光源1からの光束のうちの最大発散角θ1を有する光線が光線変換光学系2によって偏向されたときの光輔となす角度をθ2、所定面における光束の大きさ(光軸直交面内における着目する方向に沿った大きさ、典型的には露光装置本体7の入口7a(または照明光学系7b中の光束発散部材上)での大きさ(整形したいビーム径))をD2、光線変換光学系2から露光装置本体7の入口7a(または照明光学系7b中の光束発散部材上)までの距離をLとするとき、
D2=m・D1
θ2=θ1/m
D1・θ1=D2・θ2
であり、
θ2・L<D2
を満足すること、すなわち、
θ1<m2・D1/L
を満足することが好ましい。また、本実施形態において、光源1のレーザ射出面1aからの光束の最大発散角(角度θxおよびθzのうちの大きい方)は2mrad以下であることが好ましい。
D2=m・D1
θ2=θ1/m
D1・θ1=D2・θ2
であり、
θ2・L<D2
を満足すること、すなわち、
θ1<m2・D1/L
を満足することが好ましい。また、本実施形態において、光源1のレーザ射出面1aからの光束の最大発散角(角度θxおよびθzのうちの大きい方)は2mrad以下であることが好ましい。
以上のように、本実施形態では、光源1の直後に配置された光線変換光学系2が、光軸AXに対して最大の角度θxおよびθzで光源1のレーザ射出面1aから射出される光線を光軸AXに対してほぼ平行に変換する機能、および光源1から射出された光束の断面をXY平面内およびYZ平面内に拡大して射出する機能を有する。その結果、本実施形態にかかる平行送光系タイプの照明光学装置(2〜6)では、レイアウトに応じて光源1のレーザ射出面1aと露光装置本体7の入口7a(または照明光学系7b中の光束発散部材上)との間の引き回し距離が変化しても、露光装置本体7の入口7a(または照明光学系7b中の光束発散部材上)において所望の大きさの断面を有する光束を得ることができる。
こうして、本実施形態にかかる平行送光系タイプの照明光学装置が搭載された露光装置では、レイアウトに応じて引き回し距離が変化しても露光装置本体7の入口7a(または照明光学系7b中の光束発散部材上)において所望の大きさの断面を有する光束を得ることができるので、所望の照明に基づいて良好な露光を行うことができる。また、本実施形態にかかる平行送光系タイプの照明光学装置(2〜6)では、レイアウトに応じて途中に障害物があっても、光線変換光学系2の光軸AXに沿った位置を変更することにより、その光学的機能を実質的に損なうことなく障害物を回避することができる。なお、本実施形態において、光線変換光学系2に後続する光学部材の有効径を小さく抑えるには、できるだけ光源1の近傍に光線変換光学系2を配置することが望ましい。
また、上述の実施形態では、光軸AXに対して最大の角度θxおよびθzで光源1のレーザ射出面1aから射出される光線を光軸AXに対してほぼ平行に変換したが、図4に示すように、光軸AXに対して平行にレーザ射出面1aから射出される光線C1を露光装置本体の入口7a(または照明光学系7b中の光束発散部材上)で光軸AXに交わるように光線C1’に変換しても良い。すなわち、光線変換手段2中の第1変換光学系2aおよび第2変換光学系2bの後側焦点位置を露光装置本体の入口7aに設定しても良い。ここで、光軸AXに対して最大の角度θxおよびθzで光源1のレーザ射出面1aから射出される光線U1およびL1は、光線変換手段2によってそれぞれ光線U1’およびL1’に変換されて、光線U1’と光線L1’とが所定面における光束の大きさD2を決定することになる。
このとき、光線変換光学系2から露光装置本体7の入口7a(または照明光学系7b中の光束発散部材上)までの距離Lに応じて、第1変換光学系2a中のシリンドリカルレンズ2aaおよび2abの光軸AXに沿った間隔、および第2変換光学系2b中のシリンドリカルレンズ2baおよび2bbの光軸AXに沿った間隔を調整可能とすれば、露光装置本体7の入口7a(または照明光学系7b中の光束発散部材上)での光束断面の大きさを最小に維持することができ、光量ロスを少なくすることができる。
また、光源1と露光装置本体7の照明光学系7b中の光束発散部材との間の光路中に、たとえば特開平5−251310号公報や特開平11−195600号公報に開示される露光量制御用の減光フィルターを配置する場合には、光源1のレーザ射出面1aと光線変換手段2との間の光路中、第1変換光学系2aと第2変換光学系2bとの間の光路中、光源変換手段2の射出側近傍の位置、露光装置本体の入口7a近傍の位置、または照明光学系7b中の光束発散部材の入射側近傍の位置に配置することができる。
ところで、本実施形態では、露光装置本体7の入口7a(または照明光学系7b中の光束発散部材上)に達する光束の中心位置と露光装置本体7の入口7aの中心位置とがほぼ一致するとともに、露光装置本体7の入口7aに達する光束の中心軸線と照明光学装置の光軸AXとがほぼ一致しなければならない。しかしながら、光源1から射出される光束の光軸AXに対する角度が経時的に変動する場合がある。この場合、露光装置本体7の入口7aに達する光束の中心が露光装置本体7の入口7aの中心から位置ずれし、且つ露光装置本体7の入口7aに達する光束の中心軸線が光軸AXに対して角度ずれすることになる。
特に、本実施形態のような平行送光系タイプの照明光学装置の場合、共役送光系タイプとは異なり、光源1から射出される光束の光軸AXに対する角度ずれに起因して露光装置本体7の入口7aにおいて発生する光束の位置ずれ量は、光源1と露光装置本体7との間の引き回し距離に比例して大きくなる。そこで、本実施形態では、露光装置本体7の入口7aに達する光束の位置情報および角度情報を検出するための位置角度モニター系8を備えている。また、露光装置本体7の入口7aに達する光束の位置ずれおよび角度ずれを調整するための調整手段として、第1振動ミラー3および第2振動ミラー4を備えている。
図5は、図1の位置角度モニター系の内部構成を概略的に示す図である。また、図6は、図1の位置角度モニター系に用いられている各回折光学素子の作用を説明する図である。図5を参照すると、ビームスプリッター6で+Y方向に反射されて位置角度モニター系8の内部へ導かれたほぼ平行光束は、必要に応じて光路中に挿入された減光フィルター80を介してビームスプリッター81aに入射する。
ビームスプリッター81aを透過した光束は、ビームスプリッター81bに入射する。そして、ビームスプリッター81bを透過した光束は、シリンドリカルレンズ系82aを介して、光電検出器としての一次元CCD83aに達する。また、ビームスプリッター81bで−Z方向に反射された光束は、ビームスプリッター81cで+Y方向に反射された後、シリンドリカルレンズ系82bおよび回折光学素子84aを介して、一次元CCD83bに達する。
一方、ビームスプリッター81aで+X方向に反射された光束は、ビームスプリッター81dにより+Y方向に反射された後、ビームスプリッター81eに入射する。そして、ビームスプリッター81eを透過した光束は、回折光学素子84bおよび集光光学系85aを介して、一次元CCD83cに達する。また、ビームスプリッター81eで−Z方向に反射された光束は、ビームスプリッター81fで+Y方向に反射された後、回折光学素子84cおよび集光光学系85bを介して、一次元CCD83dに達する。
以下、位置角度モニター系8の作用の説明を簡単にするために、位置角度モニター系8の内部へ導かれたほぼ平行光束86の断面サイズがZ方向に18mmでX方向に5mmであるものと想定する。この場合、ビームスプリッター81bを透過した光束86aの断面サイズもZ方向に18mmでX方向に5mmであるが、シリンドリカルレンズ系82aの作用により光束86aの断面がX方向にだけ1/2倍に縮小され、X方向に沿った計測方向を有する一次元CCD83aに達するほぼ平行光束87aの断面サイズはZ方向に18mmでX方向に2.5mmとなる。
次に、ビームスプリッター81cで反射された光束86bの断面サイズもZ方向に18mmでX方向に5mmであるが、シリンドリカルレンズ系82bの作用により光束86bの断面がZ方向に1/(7.2)倍に縮小され且つX方向に1.8倍に拡大される。すなわち、シリンドリカルレンズ系82bを介して回折光学素子84aに入射する光束の断面サイズは、Z方向に2.5mmでX方向に9mmとなる。
さらに、図6(a)に示すように、シリンドリカルレンズ系82bを介してZ方向に2.5mmでX方向に9mmの断面サイズを有する光束86baは、たとえばX方向に等間隔ピッチの回折パターンを有する回折光学素子84aの作用により、一次元CCD83bの計測方向であるZ方向と直交するX方向に回折され、ひいては断面サイズがX方向にだけ拡大される。具体的には、たとえば回折光学素子84aを介して発生した+1次光(図中実線で示す)と−1次光(図中破線で示す)とにより、Z方向に沿った計測方向を有する一次元CCD83bに達するほぼ平行光束87bの断面サイズがZ方向に2.5mmでX方向に18mmとなる。
次に、ビームスプリッター81eを透過した光束86cの断面サイズもZ方向に18mmでX方向に5mmであるが、図6(b)に示すように、回折光学素子84bおよび集光光学系85aの作用により、X方向に沿った計測方向を有する一次元CCD83cに達する光束87cはZ方向に細長く延びた線状になる。ここで、回折光学素子84bが介在しない場合、一次元CCD83cの検出面が集光光学系85aの後側焦点位置に配置されているので、一次元CCD83cの検出面に非常に小さなスポット状の光束が形成されることになる。
しかしながら、実際には、たとえばZ方向にレンズ相当ピッチの回折パターンを有する回折光学素子84bが介在しているので、光束86cは一次元CCD83cの計測方向であるX方向と直交するZ方向に拡散するように回折され、回折光学素子84bから同じ角度で回折された光線は一次元CCD83cの検出面上の同じ位置に達する。その結果、集光光学系85aの集光作用に抗して、回折光学素子84bのZ方向に沿った拡散回折作用により、一次元CCD83cに達する集光光束87cはZ方向に細長く延びた線状になる。
最後に、ビームスプリッター81fで反射された光束86dの断面サイズもZ方向に18mmでX方向に5mmであるが、図6(c)に示すように、回折光学素子84cおよび集光光学系85bの作用により、Z方向に沿った計測方向を有する一次元CCD83dに達する光束87dはX方向に細長く延びた線状になる。ここで、回折光学素子84cが介在しない場合、一次元CCD83dの検出面が集光光学系85bの後側焦点位置に配置されているので、一次元CCD83dの検出面に非常に小さなスポット状の光束が形成されることになる。
しかしながら、実際には、たとえばX方向にレンズ相当ピッチの回折パターンを有する回折光学素子84cが介在しているので、光束86dは一次元CCD83dの計測方向であるZ方向と直交するX方向に拡散するように回折され、回折光学素子84cから同じ角度で回折された光線は一次元CCD83dの検出面上の同じ位置に達する。その結果、集光光学系85bの集光作用に抗して、回折光学素子84cのX方向に沿った拡散回折作用により、一次元CCD83dに達する集光光束87dはX方向に細長く延びた線状になる。
このように、シリンドリカルレンズ系82aと光電検出器としての一次元CCD83aとを含む第1位置検出系では、一次元CCD83aの計測方向であるX方向に沿った光束87aの中心位置情報に基づいて、ビームスプリッター6を透過して露光装置本体7の入口7aに達するほぼ平行光束の中心の光軸AXに対するX方向(一次元CCD83bの検出面におけるX方向に対応する)の位置情報を検出する。同様に、シリンドリカルレンズ系82bと回折光学素子84aと一次元CCD83bとを含む第2位置検出系では、一次元CCD83bの計測方向であるZ方向に沿った光束87bの中心位置情報に基づいて、露光装置本体7の入口7aに達するほぼ平行光束の中心の光軸AXに対するY方向(一次元CCD83bの検出面におけるZ方向に対応する)の位置情報を検出する。
一方、回折光学素子84bと集光光学系85aと一次元CCD83cとを含む第1角度検出系では、一次元CCD83cの計測方向であるX方向に沿った光束87cの中心位置情報に基づいて、露光装置本体7の入口7aに達するほぼ平行光束の中心軸線の光軸AXに対するX方向の角度情報を検出する。同様に、回折光学素子84cと集光光学系85bと一次元CCD83dとを含む第2角度検出系では、一次元CCD83dの計測方向であるZ方向に沿った光束87dの中心位置情報に基づいて、露光装置本体7の入口7aに達するほぼ平行光束の中心軸線の光軸AXに対するY方向の角度情報を検出する。
各検出系では、一次元CCD83a〜83dの計測方向と直交する方向に細長く延びた光束87a〜87dをそれぞれ光電検出するので、一次元CCD83a〜83dの計測方向に沿った検出ライン部と光束87a〜87dの一部とが交差する限り、所望の位置検出または角度検出が可能である。しかしながら、たとえば第2位置検出系において、光束86bの中心の光軸AXに対するX方向の位置ずれが大きい場合、一次元CCD83bの計測方向であるZ方向に沿った検出ライン部から光束87bがX方向に外れて交差しなくなり、所望の位置検出が不可能になる。
特に、回折光学素子84aを用いることなくシリンドリカルレンズ系82bだけの作用により光束86bのX方向断面サイズを拡大する従来構成では、光束86bの光軸AXに対するX方向の位置ずれも同様に増幅されるため、位置検出が不可能になり易い。これに対し、本実施形態では、シリンドリカルレンズ系82bの作用だけに依存することなく、回折光学素子84aのX方向の回折作用により光束86bのX方向断面サイズを拡大しているので、光束86bの光軸AXに対するX方向の位置ずれが増幅されにくく、安定した位置検出が可能である。
また、第1角度検出系において、光束86cの中心軸線の光軸AXに対するZ方向の角度ずれが大きい場合、一次元CCD83cの計測方向であるX方向に沿った検出ライン部から光束87cがZ方向に外れて交差しなくなり、所望の角度検出が不可能になる。特に、回折光学素子84bを用いることなく集光光学系85aに付設した適当なシリンドリカルレンズ系の作用により光束86cのZ方向断面サイズを拡大する従来構成では、光束86cの光軸AXに対するZ方向の角度ずれも同様に増幅されるため、所望の角度検出が不可能になり易い。これに対し、本実施形態では、集光光学系85aにシリンドリカルレンズ系を付設することなく、回折光学素子84bのZ方向の拡散回折作用だけにより光束86cのZ方向断面サイズを拡大しているので、光束86cの光軸AXに対するZ方向の角度ずれが増幅されることなく、安定した角度検出が可能である。
また、第2角度検出系において、光束86dの中心軸線の光軸AXに対するX方向の角度ずれが大きい場合、一次元CCD83dの計測方向であるZ方向に沿った検出ライン部から光束87dがX方向に外れて交差しなくなり、所望の角度検出が不可能になる。特に、回折光学素子84cを用いることなく集光光学系85bに付設した適当なシリンドリカルレンズ系の作用により光束86dのX方向断面サイズを拡大する従来構成では、光束86dの光軸AXに対するX方向の角度ずれも同様に増幅されるため、所望の角度検出が不可能になり易い。これに対し、本実施形態では、集光光学系85bにシリンドリカルレンズ系を付設することなく、回折光学素子84cのX方向の拡散回折作用だけにより光束86dのX方向断面サイズを拡大しているので、光束86dの光軸AXに対するX方向の角度ずれが増幅されることなく、安定した角度検出が可能である。
ところで、第1位置検出系においても、光束86aの中心の光軸AXに対するZ方向の位置ずれが大きい場合、一次元CCD83aの計測方向であるX方向に沿った検出ライン部から光束87aがZ方向に外れて交差しなくなり、所望の位置検出が不可能になる。しかしながら、第1位置検出系では、シリンドリカルレンズ系82aが光束86aのZ方向断面サイズを拡大していないので、光束86aの光軸AXに対するZ方向の位置ずれが増幅されることなく、たとえば回折光学素子84aのような機能を有する回折光学素子を用いなくても安定した位置検出が可能である。
本実施形態では、前述したように、一次元CCD83a〜83dの各出力すなわち位置角度モニター系8の出力は、制御部9に供給される。制御部9は、位置角度モニター系8から供給された位置情報および角度情報に基づいて第1振動ミラー(第1反射部材)3および第2振動ミラー(第2反射部材)4の姿勢(所定の軸線廻りの回転)を制御し、露光装置本体7の入口7aに達する光束の中心位置と露光装置本体7の入口7aの中心位置とがほぼ一致し且つ露光装置本体7の入口7aに達する光束の中心軸線と光軸AXとがほぼ一致するように調整する。
なお、上述の説明では、第1角度検出系および第2角度検出系において、集光光学系85aおよび85bの光源側に回折光学素子84bおよび84cをそれぞれ配置している。しかしながら、これに限定されることなく、集光光学系85aおよび85bと一次元CCD83cおよび83dとの間の光路中に回折光学素子をそれぞれ配置しても同様の光学的効果を得ることができる。このとき、集光光学系85aおよび85bと一次元CCD83cおよび83dとの間の光路中に配置される回折光学素子は、回折光学素子84bおよび84cとは回折パターンのピッチが異なるものとなる。
上述の実施形態にかかる露光装置では、照明光学装置によってマスク(レチクル)を照明し(照明工程)、投影光学系を用いてマスクに形成された転写用のパターンを感光性基板に露光する(露光工程)ことにより、マイクロデバイス(半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等)を製造することができる。以下、上述の実施形態の露光装置を用いて感光性基板としてのウェハ等に所定の回路パターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図7のフローチャートを参照して説明する。
先ず、図7のステップ301において、1ロットのウェハ上に金属膜が蒸着される。次のステップ302において、その1ロットのウェハ上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップ303において、上述の実施形態の露光装置を用いて、マスク上のパターンの像がその投影光学系を介して、その1ロットのウェハ上の各ショット領域に順次露光転写される。その後、ステップ304において、その1ロットのウェハ上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップ305において、その1ロットのウェハ上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスク上のパターンに対応する回路パターンが、各ウェハ上の各ショット領域に形成される。その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行うことによって、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する半導体デバイスをスループット良く得ることができる。
また、上述の実施形態の露光装置では、プレート(ガラス基板)上に所定のパターン(回路パターン、電極パターン等)を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図8のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。図8において、パターン形成工程401では、上述の実施形態の露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板(レジストが塗布されたガラス基板等)に転写露光する、所謂光リソグラフィー工程が実行される。この光リソグラフィー工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルター形成工程402へ移行する。
次に、カラーフィルター形成工程402では、R(Red)、G(Green)、B(Blue)に対応した3つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはR、G、Bの3本のストライプのフィルターの組を複数水平走査線方向に配列したカラーフィルターを形成する。そして、カラーフィルター形成工程402の後に、セル組み立て工程403が実行される。セル組み立て工程403では、パターン形成工程401にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルター形成工程402にて得られたカラーフィルター等を用いて液晶パネル(液晶セル)を組み立てる。
セル組み立て工程403では、例えば、パターン形成工程401にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルター形成工程402にて得られたカラーフィルターとの間に液晶を注入して、液晶パネル(液晶セル)を製造する。その後、モジュール組み立て工程404にて、組み立てられた液晶パネル(液晶セル)の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する液晶表示素子をスループット良く得ることができる。
なお、上述の実施形態では、光源としてKrFエキシマレーザ光源やArFエキシマレーザ光源を用いているが、これに限定されることなく、平行光束を供給する他の適当な光源に対して本発明を適用することもできる。また、上述の実施形態では、光源から供給される平行光束を露光装置本体の入口まで導く照明光学装置を例にとって本発明を説明したが、光源から射出されたほぼ平行光束を所定面まで導くための一般的な照明光学装置に本発明を適用することができることは明らかである。
1 光源
1a 光源のレーザ射出面
2 光線変換光学系
2a 第1変換光学系
2b 第2変換光学系
2aa,2ab,2ba,2bb シリンドリカルレンズ
3,4 振動ミラー
5 固定ミラー
6 ビームスプリッター
7 露光装置本体
7a 露光装置本体の入口
7b 照明光学系
8 位置角度モニター系
9 制御部
82 シリンドリカル光学系
83 一次元CCD(光電検出器)
84 回折光学素子
85 集光光学系
M マスク
PL 投影光学系
W ウェハ
1a 光源のレーザ射出面
2 光線変換光学系
2a 第1変換光学系
2b 第2変換光学系
2aa,2ab,2ba,2bb シリンドリカルレンズ
3,4 振動ミラー
5 固定ミラー
6 ビームスプリッター
7 露光装置本体
7a 露光装置本体の入口
7b 照明光学系
8 位置角度モニター系
9 制御部
82 シリンドリカル光学系
83 一次元CCD(光電検出器)
84 回折光学素子
85 集光光学系
M マスク
PL 投影光学系
W ウェハ
Claims (19)
- 光源から射出されたほぼ平行光束を所定面まで導く照明光学装置において、
前記所定面において所望の大きさの断面を有するほぼ平行光束を得るために、前記照明光学装置の光軸に対して最大の角度で前記光源から射出される光線を前記光軸に対してほぼ平行に変換するための光線変換手段を備えていることを特徴とする照明光学装置。 - 前記光線変換手段は、前記光軸を含む第1面内において前記光軸に対して最大の第1角度で前記光源から射出される光線を前記光軸に対してほぼ平行に変換するために前記第1角度に応じた有限焦点距離を有する第1変換光学系を備えていることを特徴とする請求項1に記載の照明光学装置。
- 前記光線変換手段は、前記光軸を含み且つ前記第1面とほぼ直交する第2面内において前記光軸に対して最大の第2角度で前記光源から射出される光線を前記光軸に対してほぼ平行に変換するために前記第2角度に応じた有限焦点距離を有する第2変換光学系をさらに備えていることを特徴とする請求項2に記載の照明光学装置。
- 前記第1変換光学系は、前記光源側から順に、前記第1面内に負の屈折力を有し且つ前記第2面内に無屈折力のシリンドリカルレンズと、前記第1面内に正の屈折力を有し且つ前記第2面内に無屈折力のシリンドリカルレンズとを有し、
前記第2変換光学系は、前記光源側から順に、前記第2面内に負の屈折力を有し且つ前記第1面内に無屈折力のシリンドリカルレンズと、前記第2面内に正の屈折力を有し且つ前記第1面内に無屈折力のシリンドリカルレンズとを有することを特徴とする請求項3に記載の照明光学装置。 - 前記光線変換手段は、前記光源の近傍に配置されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の照明光学装置。
- 光源から射出されたほぼ平行光束を所定面まで導く照明光学装置において、
前記所定面において所望の大きさの断面を有するほぼ平行光束を得るために、前記照明光学装置の光軸とほぼ平行に前記光源から射出される光線を前記所定面または前記所定面の近傍で前記光軸と交差するように変換するための光線変換手段を備えていることを特徴とする照明光学装置。 - 前記光線変換手段は、前記光軸を含む第1面内において前記所定面または前記所定面の近傍に第1の後側焦点位置を有する第1変換光学系を備えていることを特徴とする請求項6に記載の照明光学装置。
- 前記光線変換手段は、前記光軸を含み且つ前記第1面とほぼ直交する第2面内において前記所定面または前記所定面の近傍に第2の後側焦点位置を有する第2変換光学系をさらに備えていることを特徴とする請求項7に記載の照明光学装置。
- 前記第1変換光学系は、前記光源側から順に、前記第1面内に負の屈折力を有し且つ前記第2面内に無屈折力のシリンドリカルレンズと、前記第1面内に正の屈折力を有し且つ前記第2面内に無屈折力のシリンドリカルレンズとを有し、
前記第2変換光学系は、前記光源側から順に、前記第2面内に負の屈折力を有し且つ前記第1面内に無屈折力のシリンドリカルレンズと、前記第2面内に正の屈折力を有し且つ前記第1面内に無屈折力のシリンドリカルレンズとを有することを特徴とする請求項8に記載の照明光学装置。 - 前記第1変換光学系の前記第1の後側焦点位置および前記第2変換光学系の前記第2の後側焦点位置の少なくとも一方の後側焦点位置は、前記光源から前記所定面までの距離に応じて調整可能であることを特徴とする請求項8または9に記載の照明光学装置。
- 前記光線変換手段を介した前記光源からの光束に基づいて、前記光源からの前記光束の位置を検出するための位置検出系と、
前記光線変換手段を介した前記光源からの前記光束に基づいて、前記光源からの前記光束の前記光軸に対する角度を検出するための角度検出系とをさらに備えていることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の照明光学装置。 - 前記位置検出系は、前記光源からの前記光束をほぼ平行光束状態で光電検出するための第1光電検出器と、該第1光電検出器の検出面において計測方向と交差する方向に細長い光束を得るために入射光束を前記交差方向に回折するための第1回折光学素子とを有することを特徴とする請求項11に記載の照明光学装置。
- 前記角度検出系は、前記光源からの前記光束を集光するための集光光学系と、該集光光学系を介して集光された光束を光電検出するための第2光電検出器と、該第2光電検出器の検出面において計測方向と交差する方向に細長い光束を得るために入射光束を前記交差方向に拡散するように回折するための第2回折光学素子とを有することを特徴とする請求項11または12に記載の照明光学装置。
- 前記光源と前記所定面との間の光路中に配置されて所定の軸線廻りに回転可能な第1反射部材と、
前記第1反射部材と前記所定面との間の光路中に配置されて所定の軸線廻りに回転可能な第2反射部材と、
前記位置検出系の出力および前記角度検出系の出力に基づいて前記第1反射部材および前記第2反射部材の回転を制御するための制御部とを備えていることを特徴とする請求項11乃至13のいずれか1項に記載の照明光学装置。 - 露光光を供給するための光源と、請求項1乃至14のいずれか1項に記載の照明光学装置とを備え、該照明光学装置を介した光でマスクを照明し、前記マスクのパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光装置。
- 請求項1乃至14のいずれか1項に記載の照明光学装置を介した光源からの光でマスクを照明し、前記マスクのパターンを感光性基板上に露光することを特徴とする露光方法。
- 所定の光路中から取り出したほぼ平行光束に基づいて、前記ほぼ平行光束の位置を検出するための位置検出装置において、
前記所定の光路中から取り出した光束をほぼ平行光束状態で光電検出するための第1光電検出器と、
前記第1光電検出器の検出面において計測方向と交差する方向に細長い光束を得るために入射光束を前記交差方向に回折するための第1回折光学素子とを備えていることを特徴とする位置検出装置。 - 所定の光路中から取り出したほぼ平行光束に基づいて、前記ほぼ平行光束の光軸に対する角度を検出するための角度検出装置において、
前記光源からの前記光束を集光するための集光光学系と、
前記集光光学系を介して集光された光束を光電検出するための第2光電検出器と、
前記第2光電検出器の検出面において計測方向と交差する方向に細長い光束を得るために入射光束を前記交差方向に拡散するように回折するための第2回折光学素子とを備えていることを特徴とする角度検出装置。 - 前記光路中から取り出したほぼ平行光束に基づいて、前記所定面に達するほぼ平行光束の位置を検出するための位置検出系をさらに備え、
前記位置検出系は、前記光路中から取り出した光束をほぼ平行光束状態で光電検出するための第1光電検出器と、該第1光電検出器の検出面において計測方向と交差する方向に細長い光束を得るために入射光束を前記交差方向に回折するための第1回折光学素子とを有することを特徴とする請求項18に記載の角度検出装置。
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