JP2005201967A - フォトマスクおよびその設計方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 トランジスタのゲート電極のパターンが複数形成されたフォトマスクであって、複数のゲート電極の長手方向が全て一致している構成である。
【選択図】 図1
Description
前記複数のゲート電極の長手方向が全て一致している構成である。
前記ブロック内の前記複数のゲート電極の長手方向が全て一致している構成である。
前記複数のゲート電極のパターンが前記長手方向に前記ブロックの端まで延長された第1のフォトマスクと、
延長された前記パターンのうち不要な部分を除去するための第2のフォトマスクと、
を有することとしてもよい。
前記トランジスタの位置が入力されると、
前記トランジスタの位置に対応して前記ゲート電極の長手方向が全て一致するように該ゲート電極を配置するものである。
前記ブロック毎にトランジスタの位置が入力されると、
前記ブロック毎に前記トランジスタの位置に対応して前記ゲート電極の長手方向が全て一致するように該ゲート電極を配置するものである。
前記複数のゲート電極のパターンを前記長手方向に前記ブロックの端まで延長した第1のフォトマスクを作成し、
延長された前記パターンのうち不要な部分が入力されると、
前記不要な部分に開口部を設けた第2のフォトマスクを作成することとしてもよい。
110 位相シフタ
115 仮想線
120、240 開口部
132、134、136、142、144 ゲートパターン
146 スリット
150 ICチップ
152、154、156 ブロック
200 トランジスタ
210、212a、212b、216、218 ゲートパターン
211 ゲート電極
230 拡散層
232 反転シフタ
Claims (8)
- トランジスタのゲート電極のパターンが複数形成されたフォトマスクであって、
前記複数のゲート電極の長手方向が全て一致しているフォトマスク。 - 複数のゲート電極を有するブロックが複数設けられたフォトマスクであって、
前記ブロック内の前記複数のゲート電極の長手方向が全て一致しているフォトマスク。 - 前記複数のゲート電極のパターンが前記長手方向に前記ブロックの端まで延長された第1のフォトマスクと、
延長された前記パターンのうち不要な部分を除去するための第2のフォトマスクと、
を有する請求項2記載のフォトマスク。 - 前記第1のフォトマスクが位相シフトマスクである請求項3記載のフォトマスク。
- トランジスタのゲート電極のパターンを複数配置する処理をコンピュータに実行させるフォトマスク設計方法であって、
前記トランジスタの位置が入力されると、
前記トランジスタの位置に対応して前記ゲート電極の長手方向が全て一致するように該ゲート電極を配置するフォトマスク設計方法。 - 複数のゲート電極を配置するためのブロックが複数設けられたフォトマスクに該ゲート電極を配置する処理をコンピュータに実行させるフォトマスク設計方法であって、
前記ブロック毎にトランジスタの位置が入力されると、
前記ブロック毎に前記トランジスタの位置に対応して前記ゲート電極の長手方向が全て一致するように該ゲート電極を配置するフォトマスク設計方法。 - 前記複数のゲート電極のパターンを前記長手方向に前記ブロックの端まで延長した第1のフォトマスクを作成し、
延長された前記パターンのうち不要な部分が入力されると、
前記不要な部分に開口部を設けた第2のフォトマスクを作成する請求項6記載のフォトマスク設計方法。 - 前記ゲート電極が延長されたパターン間に位相シフタを配置する請求項7記載のフォトマスク設計方法。
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JP2004005559A JP2005201967A (ja) | 2004-01-13 | 2004-01-13 | フォトマスクおよびその設計方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
2004
- 2004-01-13 JP JP2004005559A patent/JP2005201967A/ja active Pending
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