JP2005200259A - 多孔質炭素、及び、多孔質炭素の製造方法、並びに、電気二重層キャパシタ用多孔質炭素の製造方法、該製造方法により得られた電気二重層キャパシタ用多孔質炭素、及び、該多孔質炭素を用いた電気二重層キャパシタ - Google Patents
多孔質炭素、及び、多孔質炭素の製造方法、並びに、電気二重層キャパシタ用多孔質炭素の製造方法、該製造方法により得られた電気二重層キャパシタ用多孔質炭素、及び、該多孔質炭素を用いた電気二重層キャパシタ Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 本発明法は、炭素含有化合物を減圧下で不完全燃焼させて得たスス状物質から有機溶媒可溶分を除去して得た炭素質物質を賦活することを特徴とする。
【選択図】 図3
Description
歩留(質量%)=100×(酸化性ガスによる賦活直後の多孔質炭素の質量)/(酸化性ガスによる賦活直前の炭素質物質の質量)
また、本発明で使用する炭素質物質の賦活処理は、前記炭素質物質を750℃〜1350℃で加熱処理することによっても行うことができる。前記加熱処理を、不活性ガス雰囲気下で行うことも好ましい態様である。
d=λ/2sinθ λ:X線波長 θ:ブラッグ角 …(式1)
式1より、CuKα線(λ=1.54Å)を用いた場合の上記回折角10〜18度とは、格子面間隔9〜5Åに相当する。好ましい回折角は11〜17度である。
歩留(質量%)=100×(酸化性ガスによる賦活直後の多孔質炭素の質量)/(酸化性ガスによる賦活直前の炭素質物質の質量)
尚、酸化性ガスによる賦活直前の炭素質物質の質量は、不活性ガス雰囲気下における昇温後であって、酸化性ガスを用いて賦活する直前の炭素質物質の質量である。
本発明の多孔質炭素の細孔容積およびその比率は、特に限定されるものではないが、例えば、細孔径が100Å以下の細孔容積に対して、細孔径20Å〜100Åの細孔容積比率が約5〜50%程度であり、細孔径10Å以下の細孔容積比率が約45%以上である。また、本発明の多孔質炭素の全細孔容積は、特に限定されるものではないが、0.2ml/g以上、より好ましくは0.4ml/g以上であることが望ましい。全細孔容積が0.2ml/g未満であると、電気二重層キャパシタ用多孔質炭素として使用する際に、静電容量が低下する虞があるからである。また、前記全細孔容積の上限も特に限定されるものではないが、1.5ml/g以下、より好ましくは1.0ml/g以下であることが望ましい。全細孔容積が1.5ml/gを超える場合には、体積当たり、或は、比表面積当たりの静電容量が低下する場合があるからである。上記多孔質炭素の細孔容積及び細孔容積比率は、マイクロメリティックス社製ASAP−2400の窒素吸着装置を使用して測定し、算出することができる。
実施例1〜5、7〜17、22〜27及び比較例1〜2、4〜6で得られた多孔質炭素について、以下の方法により電気二重層キャパシタの静電容量を測定した。まず、所定量(7g)の多孔質炭素に38質量%硫酸電解液を加えてペースト状になるまで混合し(添加量:多孔質炭素の質量の約1.0〜約1.2倍量)、それを3mm厚のゴム板に40mm×40mmの孔を空け、底側の片側に集電極となる炭素板を張り付けた凹状の型枠の中に入れた。同じ物をもうひとつ作り、セパレーターとなるろ紙を介して一対の多孔質炭素が向かい合う形で張り合わせ、電気二重層キャパシタの分極性電極とした。次に、両方の集電極にアドバンテスト社製TR−6143型充放電装置を用いて充電し、電圧が1Vに到達した後1時間保持してから100mAで定電流放電した。縦軸を電圧、横軸を時間にした充放電曲線を作り、放電時電圧0.4Vと0.2Vとの間の勾配の逆数から静電容量を求めた。
(1)実施例6、及び、比較例3について
得られた多孔質炭素にテフロンバインダーとカーボンブラックを(多孔質炭素):(テフロンバインダー):(カーボンブラック)=8:1:1(質量比)になるように混合し、プレスにより直径30mm、厚さ0.5mmの円柱状電極に成形した。一対の円柱電極に電解液(1モルの(C2H5)4NBF4のプロピレンカーボネート溶液)を真空含浸させた後、ポリプロピレンセパレーターを介して張り合わせ、集電板で両側から挟んで電気二重層キャパシタを構成した。充電電圧2.5Vで30分間充電した後、10mAで放電した。放電開始から電圧0Vになるまでの放電曲線から電気二重層キャパシタに蓄積されたエネルギー(E)を求めて、それから重量当たりの静電容量を計算した。更に電極密度を用いて体積当たりの静電容量を求めた。
(2)実施例18〜21、及び、比較例7について
ポリプロピレンセパレータの代わりにセルロースを用いた以外は、実施例6、及び、比較例3と同様の方法により有機電解液系電気二重層キャパシタを作製した。充電電圧2.5Vで30分間充電した後10mAで放電し、放電時電圧2.0Vと1.5Vとの間の勾配の逆数から、重量当たりの静電容量を求めた。更に電極密度を用いて体積当たりの静電容量を求めた。
放電開始直後の電圧降下(IRドロップ)より求めた。すなわち放電曲線の2.0〜1.0Vの直線部を放電開始時点まで外挿して求めた電圧を2.5Vから差し引いた電位差(V)を放電電流(A)で除して、抵抗(Ω)を求めた。
作製した電気二重層キャパシタの両方の集電極にアドバンテスト社製TR−6143型充放電装置を用いて充電し、電圧が1Vに到達した後1時間保持してから100mAで0Vまで定電流放電した。縦軸を電圧、横軸を時間にした充放電曲線を作り、放電時電圧0.4Vと0.2Vとの間の勾配の逆数から静電容量を求めた。この充・放電操作を1〜3回繰返して、1回目の静電容量に対する2回目及び3回目の静電容量の比を求めて、サイクル特性を算出した。次いで、同様に充電して電圧が1Vに到達した後、20時間保持してから100mAで0Vまで定電流放電した後、上記と同様の方法により、サイクル特性を測定した。
炭素質物質、及び、多孔質炭素のBET比表面積は、マイクロメリティックス社製ASAP−2400窒素吸着装置を用いて測った。
Philips社製の装置PW1700を用いて測定した。線源:CuKα(波長=1.54Å)、出力:40kV30mA、走査軸:θ/2θ、測定モード:Continuous、測定範囲:2θ=3°〜70°、取り込み幅:0.05°、走査速度:3.0°/min
日本分光社製NR1800の装置を使用して+フォトメトリックス社製CCD(512チャンネル)で検出した。条件は、励起波長:5145Å、励起出力:5mW以下、スリット幅:400μm、ピーク強度:OMNICソフトを用いてスムージング(11点補正)後、1730〜1165cm−1 の範囲で直線ベースラインを引き、ピークトップまでの高さをピーク強度とした。尚、スムージングに用いたスペクトルとしては、測定を3回行って得られたスペクトルを平均したものを使用した。
炭素含有化合物としてトルエンを、300Torr(40KPa)以下の減圧条件下で不完全燃焼させてスス状物質を得た。得られたスス状物質からトルエンを用いて、有機溶媒可溶分を除去して、炭素質物質を得た。得られた炭素質物質についてX線回折測定およびラマンスペクトル測定を行った結果をそれぞれ、図1及び図2に示した。図1より、前記炭素質物質は、回折角3〜30度の範囲で、最も強いピークが10〜18度の範囲に存在することが分かる。また、図2より、前記炭素質物質は、バンドG:1590±20cm−1とバンドD:1340±40cm−1にピークを有し、ピーク強度I(G)及びI(D)はそれぞれ、18.8、及び、17.8であり、そのピーク強度比I(D)/I(G)は、0.95であることが分かる。
無水基準で[KOH/炭素質物質]質量比が1.0となるように賦活処理をした以外は実施例1と同様にして多孔質炭素を製造した。得られた多孔質炭素のBET比表面積は650m2/gであり、滴定法により求めた官能基量は0.9meq/gであった。また、質量当たりの静電容量は117F/gであった。電極密度(0.71g/ml)より求めた体積当たりの静電容量は、83F/mlであった。
実施例2で得られた多孔質炭素を更に窒素雰囲気下で600℃に熱処理したところ、多孔質炭素のBET比表面積は670m2/g、官能基量は0.2meq/g、質量当たりの静電容量は122F/gとなった。電極密度(0.66g/ml)によって求めた体積当たりの静電容量は、80F/mlであった。
無水基準で[KOH/炭素質物質]質量比を0.3とし、水酸化カリウムを水溶液の状態で加えて混合して賦活処理をした以外は実施例1と同様にして多孔質炭素を製造した。歩留は93%であった。得られた多孔質炭素のBET比表面積は430m2/gであり、質量当たりの静電容量は92F/gであった。電極密度(0.68g/ml)を用いて求めた体積当たりの静電容量は63F/mlであった。
無水基準で[KOH/炭素質物質]質量比を0.5とし、水酸化カリウムを水溶液の状態で加えて混合し、さらに、窒素雰囲気で700℃まで加熱して賦活処理をした以外は実施例1と同様にして多孔質炭素を製造した。得られた多孔質炭素のBET比表面積は440m2/g、全細孔容積は0.3ml/gであり、質量当たりの静電容量は121F/gであった。電極密度(0.87g/ml)より求めた体積当たりの静電容量は98F/mlであった。
実施例2で得たBET比表面積が650m2/gの多孔質炭素にトルエンを加えて撹拌した後、ろ過して分離した多孔質炭素を真空乾燥してトルエン可溶分を除いた多孔質炭素を得た。得られた多孔質炭素を使用して、有機電解液系電気二重層キャパシタを作製し、静電容量を求めた。その結果、得られた多孔質炭素のBET比表面積は640m2/gであり、体積当たりの静電容量は、16F/mlであった。
実施例1で用いた炭素質物質を小型のロータリーキルンに入れて、窒素雰囲気下950℃に昇温して30分間保持した後、該温度において、炭酸ガス雰囲気下で120分保持して賦活処理を行い多孔質炭素を製造した。得られた多孔質炭素のBET比表面積は1120m2/g、全細孔容積は0.8ml/gであり、質量当たりの静電容量は104F/gであった。
前記温度を850℃とした以外は実施例7と同様にして賦活処理を行った。酸化性ガスによる賦活直前の炭素質物質に対する歩留は、92%であった。また、得られた多孔質炭素のBET比表面積は450m2/g、全細孔容積は0.4ml/gであり、質量当たりの静電容量は105F/gであった。また、電極密度(0.58g/ml)から求めた体積当たりの静電容量は61F/mlであった。
炭酸ガス雰囲気下で60分保持した以外は実施例7と同様にして賦活処理を行って多孔質炭素を製造した。得られた多孔質炭素のBET比表面積は740m2/gであり、質量当たりの静電容量は124F/gであった。
実施例1で用いた炭素質物質を小型のロータリーキルンに入れて、窒素雰囲気下で900℃に昇温した後、水蒸気/窒素=50/50(体積比)の雰囲気下で30分間保持して賦活処理を行った。その後再び窒素雰囲気下で放冷して、多孔質炭素を製造した。酸化性ガスによる賦活直前の炭素質物質に対する歩留は88%であった。得られた多孔質炭素のBET比表面積は570m2/gであり、質量当たりの静電容量は111F/gであった。電極密度(0.50g/ml)から求めた体積当たりの静電容量は56F/mlであった。
実施例1で得られた上記炭素質物質を小型のロータリーキルンに入れて、窒素雰囲気下950℃に昇温した後、該温度において、水蒸気/窒素=29/71(体積比)の雰囲気下で60分間保持して賦活処理を行い多孔質炭素を製造した。
実施例1で得られた上記炭素質物質を小型のロータリーキルンに入れて、窒素雰囲気下950℃に昇温した後、該温度において、水蒸気/窒素=11/89(体積比)の雰囲気下で賦活処理を行い多孔質炭素を製造した。酸化性ガスによる賦活直前の炭素質物質に対する歩留は81質量%であった。得られた多孔質炭素のBET比表面積は970m2/gであり、質量当たりの静電容量は113F/gであった。
実施例1で得られた上記炭素質物質を小型のロータリーキルンに入れて、窒素雰囲気下950℃に昇温した後、該温度において、水蒸気/窒素=29/71(体積比)の雰囲気下で賦活処理を行い多孔質炭素を製造した。酸化性ガスによる賦活直前の炭素質物質に対する歩留は86質量%であった。得られた多孔質炭素のBET比表面積は840m2/gであり、質量当たりの静電容量は122F/gであった。
実施例1で得られた上記炭素質物質を小型のロータリーキルンに入れて、窒素雰囲気下950℃に昇温した後、該温度において、水蒸気/窒素=11/89(体積比)の雰囲気下で賦活処理を行い多孔質炭素を製造した。酸化性ガスによる賦活直前の炭素質物質に対する歩留は88質量%であった。得られた多孔質炭素のBET比表面積は870m2/g、全細孔容積は0.7ml/gであり、質量当たりの静電容量は120F/gであった。また、抵抗値は1.2Ωであった。
実施例1で得られた上記炭素質物質を小型のロータリーキルンに入れて、窒素雰囲気下900℃に昇温した後、該温度において、水蒸気/窒素=11/89(体積比)の雰囲気下で30分間保持して、賦活処理を行い多孔質炭素を製造した。加熱処理前の炭素質物質に対する900℃昇温後であって酸化性ガスによる賦活直前の炭素質物質の歩留は94質量%であった。さらに、酸化性ガスによる賦活直前の炭素質物質に対する得られた多孔質炭素の歩留を求めたところ93質量%であった。また、得られた多孔質炭素のBET比表面積は460m2/gであり、質量当たりの静電容量は126F/gであった。
実施例1で得られた上記炭素質物質を小型のロータリーキルンに入れて、窒素雰囲気下950℃に昇温した後、該温度において、水蒸気/窒素=6/94(体積比)の雰囲気下で賦活処理を行い多孔質炭素を製造した。酸化性ガスによる賦活直前の炭素質物質に対する歩留は95質量%であった。得られた多孔質炭素のBET比表面積は710m2/g、全細孔容積は0.4ml/gであり、質量当たりの静電容量は148F/gであった。また、抵抗値は、2.3Ωであった。
実施例1で得られた上記炭素質物質を小型のロータリーキルンに入れて、炭酸ガス雰囲気下で950℃に昇温した後、該温度において、60分間保持して賦活処理を行い多孔質炭素を得た。酸化性ガスによる賦活直前の炭素質物質に対する歩留は94質量%であった。得られた多孔質炭素のBET比表面積は690m2/gであり、質量当たりの静電容量は154F/gであった。また、抵抗値は、2.5Ωであった。
実施例1で得られた上記炭素質物質を小型のロータリーキルンに入れて、窒素雰囲気下900℃に昇温した後、該温度において、水蒸気/窒素=11/89(体積比)の雰囲気下で60分間保持して、賦活処理を行い多孔質炭素を製造した。酸化性ガスによる賦活直前の炭素質物質に対する歩留は97質量%であり、得られた多孔質炭素のBET比表面積は700m2/gであった。得られた多孔質炭素を有機溶剤で洗浄することなく使用し、有機電解液系電気二重層キャパシタを作製し、静電容量および抵抗値を測定した。その結果、得られた質量当たりの静電容量は17F/gであり、抵抗値は82Ωであった。
実施例1で得られた上記炭素質物質を小型のロータリーキルンに入れて、窒素雰囲気下950℃に昇温した後、該温度において、水蒸気/窒素=11/89(体積比)の雰囲気下120分間保持して、賦活処理を行い多孔質炭素を製造した。酸化性ガスによる賦活直前の炭素質物質に対する歩留は79質量%であり、得られた多孔質炭素のBET比表面積は990m2/g、全細孔容積は0.5ml/gであった。得られた多孔質炭素を有機溶剤で洗浄することなく使用し、有機電解液系電気二重層キャパシタを作製し、静電容量および抵抗値を測定した。その結果、得られた質量当たりの静電容量は26F/gであり、抵抗値は18Ωであった。
実施例1で得られた上記炭素質物質を小型のロータリーキルンに入れて、窒素雰囲気下950℃に昇温した後、該温度において、水蒸気/窒素=11/89(体積比)の雰囲気下で賦活処理を行い多孔質炭素を製造した。酸化性ガスによる賦活直前の炭素質物質に対する歩留は66質量%であり、得られた多孔質炭素のBET比表面積は1300m2/gであった。得られた多孔質炭素を有機溶剤で洗浄することなく使用し、有機電解液系電気二重層キャパシタを作製し、静電容量および抵抗値を測定した。その結果、得られた質量当たりの静電容量は28F/gであり、抵抗値は8Ωであった。
実施例1で得られた上記炭素質物質を小型のロータリーキルンに入れて、窒素雰囲気下950℃に昇温した後、該温度において、水蒸気/窒素=11/89(体積比)の雰囲気下で賦活処理を行い多孔質炭素を製造した。酸化性ガスによる賦活直前の炭素質物質に対する歩留は46質量%であり、また、得られた多孔質炭素のBET比表面積は1450m2/gであり、全細孔容積は1.0ml/gであった。得られた多孔質炭素を有機溶剤で洗浄することなく使用し、有機電解液系電気二重層キャパシタを作製し、静電容量および抵抗値を測定した。その結果、得られた質量当たりの静電容量は28F/gであり、抵抗値は5Ωであった。
実施例1で得られた上記炭素質物質を小型のロータリーキルンに入れて、100%窒素雰囲気下において、昇温速度10℃/分で700℃まで昇温し、その後放冷して、多孔質炭素を製造した。加熱処理前の炭素質物質に対する加熱処理後の多孔質炭素の歩留は、95質量%であり、また、得られた多孔質炭素の全細孔容積は0.2ml/gであった。得られた多孔質炭素について、(硫酸電解液系)静電容量及び抵抗値を測定し、その結果を表4に示した。
実施例1で得られた上記炭素質物質を小型のロータリーキルンに入れて、100%窒素雰囲気下において、昇温速度10℃/分で800℃まで昇温し、その後放冷して、多孔質炭素を製造した。加熱処理前の炭素質物質に対する加熱処理後の多孔質炭素の歩留は、95質量%であり、また、得られた多孔質炭素の全細孔容積は0.2ml/gであった。得られた多孔質炭素について、(硫酸電解液系)静電容量及び抵抗値を測定し、その結果を表4に示した。
実施例1で得られた上記炭素質物質を小型のロータリーキルンに入れて、100%窒素雰囲気下において、昇温速度10℃/分で950℃まで昇温し、その後放冷して、多孔質炭素を製造した。加熱処理前の炭素質物質の質量に対する加熱処理後の多孔質炭素の歩留は、94質量%であった。得られた多孔質炭素について、(硫酸電解液系)静電容量、抵抗値、及び、BET比表面積を測定した。その結果を表4に示した。
実施例1で得られた上記炭素質物質を箱型焼成炉に入れて、100%窒素雰囲気下において、昇温速度10℃/分で1050℃まで昇温し、該温度で2時間保持し、その後放冷して、多孔質炭素を製造した。加熱処理前の炭素質物質に対する加熱処理後の多孔質炭素の歩留は、94質量%であった。得られた多孔質炭素について、(硫酸電解液系)静電容量、抵抗値、及び、BET比表面積を測定した。その結果を表4に示した。
実施例1で得られた上記炭素質物質を箱型焼成炉に入れて、100%窒素雰囲気下において、昇温速度10℃/分で1350℃まで昇温し、該温度で2時間保持し、その後放冷して、多孔質炭素を製造した。加熱処理前の炭素質物質に対する加熱処理後の多孔質炭素の歩留は、94質量%であった。得られた多孔質炭素について、(硫酸電解液系)静電容量及び抵抗値、及び、BET比表面積を測定した。その結果を表4に示した。
実施例1で得られた上記炭素質物質を小型のロータリーキルンに入れて、100%窒素雰囲気下において昇温速度10℃/分で950℃に昇温した後、該温度において50分保持し、その後放冷して、多孔質炭素を製造した。加熱処理前の炭素質物質の質量に対する加熱処理後の多孔質炭素の歩留は、93質量%であった。得られた多孔質炭素について、(硫酸電解液系)静電容量及び抵抗値を測定した。その結果を表4に示した。
実施例1で使用した炭素質物質の代わりに、紙基材フェノール樹脂積層板を粉砕して窒素雰囲気下で炭化処理した炭素質物質を使用した以外は実施例1と同様にして多孔質炭素を製造した。得られた多孔質炭素のBET比表面積は1810m2/g、官能基量は0.4meq/g、質量当たりの静電容量は79F/gであった。電極密度(0.53g/ml)から算出した体積当たりの静電容量は42F/mlであった。
実施例1で使用した炭素質物質の代わりに、紙基材フェノール樹脂積層板を粉砕して窒素雰囲気下で炭化処理した炭素質物質を使用し、無水基準で[KOH/炭素質物質]質量比が2.2となるように賦活処理をした以外は、実施例1と同様にして多孔質炭素を製造した。得られた多孔質炭素のBET比表面積は2050m2/gであり、質量当たりの静電容量は87F/gであった。電極密度(0.48g/ml)から求めた体積当たりの静電容量は42F/mlであった。
実施例6で使用した炭素質物質の代わりに、紙基材フェノール樹脂積層板を粉砕して窒素雰囲気下で炭化処理した炭素質物質を使用し、かつ得られた多孔質炭素を(トルエン可溶分を除く操作なしに)そのまま使用して、有機電解液系電気二重層キャパシタを作製した以外は実施例6と同様にして静電容量を求めた。その結果、多孔質炭素のBET比表面積は1330m2/gであり、体積当たりの静電容量は、13F/mlであった。
実施例7で使用した炭素質物質の代わりに、紙基材フェノール樹脂積層板を粉砕して窒素雰囲気下で炭化処理した炭素質物質を使用した以外は実施例7と同様にして多孔質炭素を製造した。得られた多孔質炭素のBET比表面積は1740m2/gであり、質量当たりの静電容量は70F/gであった。
実施例8で使用した炭素質物質の代わりに、紙基材フェノール樹脂積層板を粉砕して窒素雰囲気下で炭化処理した炭素質物質を用いた以外は実施例8と同様にして多孔質炭素を製造した。得られた多孔質炭素のBET比表面積は880m2/gであり、質量当たりの静電容量は65F/gであった。
実施例10で使用した炭素質物質の代わりに、紙基材フェノール樹脂積層板を粉砕して窒素雰囲気下で炭化処理した炭素質物質を使用した以外は実施例10と同様にして多孔質炭素を製造した。歩留まり82.0%であった。得られた多孔質炭素のBET比表面積は710m2/gであり、質量当たりの静電容量は50F/gであった。
BET比表面積が1230m2/gの市販の活性炭を使用して、有機電解液系電気二重層キャパシタを作製し、静電容量および抵抗値を測定した。その結果、得られた質量当たりの静電容量は13F/gであり、抵抗値は7Ωであった。
[多孔質炭素の細孔構造]
表6には、実施例1〜27のうち代表的なものについて、窒素吸着法によって測定した細孔分布の測定結果を、表7には、比較例1〜6について、窒素吸着法によって測定した細孔分布の測定結果をまとめた。
Claims (38)
- 炭素含有化合物を減圧下で不完全燃焼させて得たスス状物質から有機溶媒可溶分を除去して得た炭素質物質をアルカリ金属化合物で賦活することを特徴とする多孔質炭素の製造方法。
- CuKα線(波長=1.54Å)を用いた広角X線回折によって、回折角3〜30度の範囲内で、最も強いピークが10〜18度の範囲に存在する炭素質物質をアルカリ金属化合物で賦活することを特徴とする多孔質炭素の製造方法。
- 前記炭素質物質は、さらに、励起波長5145Åでのラマンスペクトル解析においてバンドG1590±20cm−1とバンドD1340±40cm−1にピークを有し、それぞれのバンドのピーク強度をI(G)及びI(D)としたときに、ピーク強度比I(D)/I(G)が0.4〜1.0である請求項2に記載の製造方法。
- 前記賦活処理は、前記炭素質物質と前記アルカリ金属化合物とを混合して、熱処理することにより行われるものである請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
- 前記アルカリ金属化合物は、アルカリ金属水酸化物である請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法。
- 前記アルカリ金属水酸化物は、水酸化カリウムである請求項5に記載の製造方法。
- 前記賦活処理によって得られた多孔質炭素を、さらに酸、水および有機溶剤よりなる群から選択される少なくとも1種で洗浄する請求項1〜6のいずれかに記載の製造方法。
- 前記賦活処理または前記洗浄処理後に得られた多孔質炭素を熱処理する請求項1〜7のいずれかに記載の製造方法。
- 前記多孔質炭素のBET比表面積は、350〜1300m2/gである請求項1〜8のいずれかに記載の製造方法。
- 前記多孔質炭素のBET比表面積は、400〜900m2/gである請求項9に記載の製造方法。
- 請求項1〜10のいずれかに記載の製造方法によって得られる多孔質炭素。
- 炭素含有化合物を減圧下で不完全燃焼させて得たスス状物質から有機溶媒可溶分を除去して得た炭素質物質を賦活することを特徴とする電気二重層キャパシタ用多孔質炭素の製造方法。
- 前記炭素含有化合物は、芳香族炭化水素である請求項12に記載の製造方法。
- CuKα線(波長=1.54Å)を用いた広角X線回折によって、回折角3〜30度の範囲内で、最も強いピークが10〜18度の範囲に存在する炭素質物質を賦活することを特徴とする電気二重層キャパシタ用多孔質炭素の製造方法。
- 前記炭素質物質は、さらに、励起波長5145Åでのラマンスペクトル解析においてバンドG1590±20cm−1とバンドD1340±40cm−1にピークを有し、それぞれのバンドのピーク強度をI(G)及びI(D)としたときに、ピーク強度比I(D)/I(G)が0.4〜1.0である請求項14に記載の製造方法。
- 前記賦活処理は、前記炭素質物質とアルカリ金属化合物とを混合し、熱処理することにより行われるものである請求項12〜15のいずれかに記載の製造方法。
- 前記アルカリ金属化合物は、アルカリ金属水酸化物である請求項16に記載の製造方法。
- 前記アルカリ金属水酸化物は、水酸化カリウムである請求項17に記載の製造方法。
- 前記賦活処理は、前記炭素質物質を750℃以上で酸化性ガスと接触させることにより行われるものである請求項12〜15のいずれかに記載の製造方法。
- 前記電気二重層キャパシタは、硫酸系電解液を使用するものであって、前記炭素質物質を酸化性ガスで軽度に賦活して、下記式で表される歩留を75質量%以上にする請求項19に記載の製造方法。
歩留(質量%)=100×(酸化性ガスによる賦活直後の多孔質炭素の質量)/(酸化性ガスによる賦活直前の炭素質物質の質量) - 前記電気二重層キャパシタは、有機系電解液を使用するものであって、前記炭素質物質を酸化性ガスで高度に賦活して、下記式で表される歩留を88質量%以下にする請求項19に記載の製造方法。
歩留(質量%)=100×(酸化性ガスによる賦活直後の多孔質炭素の質量)/(酸化性ガスによる賦活直前の炭素質物質の質量) - 前記賦活処理は、前記炭素質物質を750℃から1350℃で加熱処理することにより行われるものである請求項12〜15のいずれかに記載の製造方法。
- 前記加熱処理は、不活性雰囲気下で行われるものである請求項22に記載の製造方法。
- 前記賦活処理によって得られた多孔質炭素を、さらに酸、水、および、有機溶剤よりなる群から選択される少なくとも1種で洗浄する請求項12〜23のいずれかに記載の製造方法。
- 前記賦活処理または前記洗浄処理後に得られた多孔質炭素を熱処理する請求項12〜24のいずれかに記載の製造方法。
- 前記多孔質炭素のBET比表面積は、350〜1450m2/gである請求項12〜25のいずれかに記載の製造方法。
- 前記多孔質炭素のBET比表面積は、350〜900m2/gである請求項20に記載の製造方法。
- 前記多孔質炭素のBET比表面積は、700〜1450m2/gである請求項21に記載の製造方法。
- 請求項12〜28のいずれかに記載の製造方法によって得られる電気二重層キャパシタ用多孔質炭素。
- 請求項29に記載の電気二重層キャパシタ用多孔質炭素を分極性電極体として使用することを特徴とする電気二重層キャパシタ。
- BET比表面積が1450m2/g以下で、窒素吸着法により測定した細孔分布図(縦軸:dV/dlog(D)、横軸:細孔径D(Å))において、細孔径が30Å、40Å、及び、100ÅのときのdV/dlog(D)の値をそれぞれV30、V40、及び、V100としたときに、0.5≦V100/V30であり、かつ、0.6≦V100/V40であることを特徴とする多孔質炭素。
- 0.8≦V100/V30≦1.5であり、かつ、0.8≦V100/V40≦1.5である請求項31に記載の多孔質炭素。
- 0.05≦V100である請求項31又は32に記載の多孔質炭素。
- 硫酸系電解液を用いて測定したときの単位BET比表面積当たりの静電容量が0.1F/m2以上である請求項31〜33のいずれかに記載の多孔質炭素。
- BET比表面積が1450m2/g以下で、硫酸系電解液を用いて測定したときの単位BET比表面積当たりの静電容量が0.1F/m2以上であることを特徴とする多孔質炭素。
- 前記BET比表面積は、350m2/g以上である請求項31〜35のいずれかに記載の多孔質炭素。
- BET比表面積が400〜900m2/gである請求項31〜35のいずれかに記載の多孔質炭素。
- 請求項31〜37のいずれかに記載の多孔質炭素を分極性電極体として使用することを特徴とする電気二重層キャパシタ。
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