JP2005191593A - 不揮発性記憶装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板301の上方にONO膜からなる第2のゲート絶縁層306を介して第1及び第2のコントロールゲート304,305が形成されている。第2のゲート絶縁層は、酸化シリコン層からなる第3層の一部が除去された構造をとる。これにより、書き込み時に電子が注入される位置と、消去時に正孔が注入される位置とを、第3層の段差部近傍に一致させることができる。
【選択図】 図1
Description
基板内にチャネル形成領域を挟んで形成された第1及び第2の不純物領域と、
前記チャネル形成領域の上方に第1のゲート絶縁層を介して形成されたワードゲートと、
前記ワードゲートの一方の側面に第1のサイド絶縁層を介して形成された第1のコントロールゲートと、
前記ワードゲートの他方の側面に第2のサイド絶縁層を介して形成された第2のコントロールゲートと、
前記基板と前記第1のコントロールゲートとの間に形成された電荷蓄積領域を有する第2のゲート絶縁層と、
前記基板と前記第2のコントロールゲートとの間に形成された電荷蓄積領域を有する第3のゲート絶縁層と、を含む不揮発性記憶装置において、
前記基板と前記第1のコントロールゲートとの間の該基板表面に対する垂直方向の電界は、前記第1の不純物領域の近傍に比べ前記第1のサイド絶縁層の近傍が小さい。
前記基板と前記第2のコントロールゲートとの間の該基板表面に対する垂直方向の電界は、前記第2の不純物領域の近傍に比べ前記第2のサイド絶縁層の近傍が小さい。
基板内にチャネル形成領域を挟んで形成された第1及び第2の不純物領域と、
前記チャネル形成領域の上方に第1のゲート絶縁層を介して形成されたワードゲートと、
前記ワードゲートの一方の側面に第1のサイド絶縁層を介して形成された第1のコントロールゲートと、
前記ワードゲートの他方の側面に第2のサイド絶縁層を介して形成された第2のコントロールゲートと、
前記基板と前記第1のコントロールゲートとの間に形成された電荷蓄積領域を有する第2のゲート絶縁層と、
前記基板と前記第2のコントロールゲートとの間に形成された電荷蓄積領域を有する第3のゲート絶縁層と、を含む不揮発性記憶装置において、
前記第2のゲート絶縁層の膜厚は、前記第1の不純物領域の近傍に比べ前記第1のサイド絶縁層の近傍が厚い。
前記第3のゲート絶縁層の膜厚は、前記第2の不純物領域の近傍に比べ前記第2のサイド絶縁層の近傍が厚い。
基板内にチャネル形成領域を挟んで形成された第1及び第2の不純物領域と、
前記チャネル形成領域の上方に第1のゲート絶縁層を介して形成されたワードゲートと、
前記ワードゲートの一方の側面に第1のサイド絶縁層を介して形成された第1のコントロールゲートと、
前記ワードゲートの他方の側面に第2のサイド絶縁層を介して形成された第2のコントロールゲートと、
前記基板と前記第1のコントロールゲートとの間に形成された電荷蓄積領域を有する第2のゲート絶縁層と、
前記基板と前記第2のコントロールゲートとの間に形成された電荷蓄積領域を有する第3のゲート絶縁層と、を含む不揮発性記憶装置において、
前記第2のゲート絶縁層は、窒化シリコン層を挟んで上下に酸化シリコン層が配置された積層膜からなり、
前記第2のゲート絶縁層を構成する前記窒化シリコン層は、前記第1の不純物領域の近傍において前記第1のコントロールゲートと接触している。
前記第3のゲート絶縁層は、窒化シリコン層を挟んで上下に酸化シリコン層が配置された積層膜からなり、
前記第3のゲート絶縁層を構成する前記窒化シリコン層は、前記第2の不純物領域の近傍において前記第2のコントロールゲートと接触している。
基板内にチャネル形成領域を挟んで形成された第1及び第2の不純物領域と、
前記チャネル形成領域の上方に第1のゲート絶縁層を介して形成されたワードゲートと、
前記ワードゲートの一方の側面にサイド絶縁層を介して形成されたコントロールゲートと、
前記基板と前記コントロールゲートとの間に形成された電荷蓄積領域を有する第2のゲート絶縁層と、を含む不揮発性記憶装置において、
前記基板と前記第コントロールゲートとの間の該基板表面に対する垂直方向の電界は、前記第2の不純物領域の近傍に比べ前記サイド絶縁層の近傍が小さい。
基板内にチャネル形成領域を挟んで形成された第1及び第2の不純物領域と、
前記チャネル形成領域の上方に第1のゲート絶縁層を介して形成されたワードゲートと、
前記ワードゲートの一方の側面にサイド絶縁層を介して形成されたコントロールゲートと、
前記基板と前記コントロールゲートとの間に形成された電荷蓄積領域を有する第2のゲート絶縁層と、を含む不揮発性記憶装置において、
前記第2のゲート絶縁層の膜厚は、前記第2の不純物領域の近傍に比べ前記サイド絶縁層の近傍が厚い。
基板内にチャネル形成領域を挟んで形成された第1及び第2の不純物領域と、
前記チャネル形成領域の上方に第1のゲート絶縁層を介して形成されたワードゲートと、
前記ワードゲートの一方の側面にサイド絶縁層を介して形成されたコントロールゲートと、
前記基板と前記コントロールゲートとの間に形成された電荷蓄積領域を有する第2のゲート絶縁層と、を含む不揮発性記憶装置において、
前記第2のゲート絶縁層は、窒化シリコン層を挟んで上下に酸化シリコン層が配置された積層膜からなり、
前記第2のゲート絶縁層を構成する前記窒化シリコン層は、前記第2の不純物領域の近傍において前記コントロールゲートと接触している。
基板内にチャネル形成領域を挟んで形成された第1及び第2の不純物領域と、
前記チャネル形成領域の上方にゲート絶縁層を介して形成されたコントロールゲートと、を含む不揮発性記憶装置において、
前記基板と前記コントロールゲートとの間の該基板表面に対する垂直方向の電界は、前記第1及び第2の不純物領域の近傍に比べ前記第コントロールゲートのゲート長方向における中央領域が小さい。
基板内にチャネル形成領域を挟んで形成された第1及び第2の不純物領域と、
前記チャネル形成領域の上方にゲート絶縁層を介して形成されたコントロールゲートと、を含む不揮発性記憶装置において、
前記第ゲート絶縁層は、窒化シリコン層を挟んで上下に酸化シリコン層が配置された積層膜からなり、
前記ゲート絶縁層を構成する前記窒化シリコン層は、前記第1及び第2の不純物領域の近傍において前記コントロールゲートと接触している。
図1は、第1の実施の形態に係る、一つのワードゲートについて2ビットの情報を記憶するスプリットゲート型記憶装置の部分断面図である。
変形例として、本実施の形態の記憶装置は、図4に示すような構造であってもよい。図4は、第1の実施の形態に係わる記憶装置の変形例を示す部分断面図である。
次に、第2の実施の形態に係る不揮発性記憶装置について説明する。
Claims (11)
- 基板内にチャネル形成領域を挟んで形成された第1及び第2の不純物領域と、
前記チャネル形成領域の上方に第1のゲート絶縁層を介して形成されたワードゲートと、
前記ワードゲートの一方の側面に第1のサイド絶縁層を介して形成された第1のコントロールゲートと、
前記ワードゲートの他方の側面に第2のサイド絶縁層を介して形成された第2のコントロールゲートと、
前記基板と前記第1のコントロールゲートとの間に形成された電荷蓄積領域を有する第2のゲート絶縁層と、
前記基板と前記第2のコントロールゲートとの間に形成された電荷蓄積領域を有する第3のゲート絶縁層と、を含む不揮発性記憶装置において、
前記基板と前記第1のコントロールゲートとの間の該基板表面に対する垂直方向の電界は、前記第1の不純物領域の近傍に比べ前記第1のサイド絶縁層の近傍が小さい、不揮発性記憶装置。 - 請求項1において、
前記基板と前記第2のコントロールゲートとの間の該基板表面に対する垂直方向の電界は、前記第2の不純物領域の近傍に比べ前記第2のサイド絶縁層の近傍が小さい、不揮発性記憶装置。 - 基板内にチャネル形成領域を挟んで形成された第1及び第2の不純物領域と、
前記チャネル形成領域の上方に第1のゲート絶縁層を介して形成されたワードゲートと、
前記ワードゲートの一方の側面に第1のサイド絶縁層を介して形成された第1のコントロールゲートと、
前記ワードゲートの他方の側面に第2のサイド絶縁層を介して形成された第2のコントロールゲートと、
前記基板と前記第1のコントロールゲートとの間に形成された電荷蓄積領域を有する第2のゲート絶縁層と、
前記基板と前記第2のコントロールゲートとの間に形成された電荷蓄積領域を有する第3のゲート絶縁層と、を含む不揮発性記憶装置において、
前記第2のゲート絶縁層の膜厚は、前記第1の不純物領域の近傍に比べ前記第1のサイド絶縁層の近傍が厚い、不揮発性記憶装置。 - 請求項3において、
前記第3のゲート絶縁層の膜厚は、前記第2の不純物領域の近傍に比べ前記第2のサイド絶縁層の近傍が厚い、不揮発性記憶装置。 - 基板内にチャネル形成領域を挟んで形成された第1及び第2の不純物領域と、
前記チャネル形成領域の上方に第1のゲート絶縁層を介して形成されたワードゲートと、
前記ワードゲートの一方の側面に第1のサイド絶縁層を介して形成された第1のコントロールゲートと、
前記ワードゲートの他方の側面に第2のサイド絶縁層を介して形成された第2のコントロールゲートと、
前記基板と前記第1のコントロールゲートとの間に形成された電荷蓄積領域を有する第2のゲート絶縁層と、
前記基板と前記第2のコントロールゲートとの間に形成された電荷蓄積領域を有する第3のゲート絶縁層と、を含む不揮発性記憶装置において、
前記第2のゲート絶縁層は、窒化シリコン層を挟んで上下に酸化シリコン層が配置された積層膜からなり、
前記第2のゲート絶縁層を構成する前記窒化シリコン層は、前記第1の不純物領域の近傍において前記第1のコントロールゲートと接触している、不揮発性記憶装置。 - 請求項5において、
前記第3のゲート絶縁層は、窒化シリコン層を挟んで上下に酸化シリコン層が配置された積層膜からなり、
前記第3のゲート絶縁層を構成する前記窒化シリコン層は、前記第2の不純物領域の近傍において前記第2のコントロールゲートと接触している、不揮発性記憶装置。 - 基板内にチャネル形成領域を挟んで形成された第1及び第2の不純物領域と、
前記チャネル形成領域の上方に第1のゲート絶縁層を介して形成されたワードゲートと、
前記ワードゲートの一方の側面にサイド絶縁層を介して形成されたコントロールゲートと、
前記基板と前記コントロールゲートとの間に形成された電荷蓄積領域を有する第2のゲート絶縁層と、を含む不揮発性記憶装置において、
前記基板と前記第コントロールゲートとの間の該基板表面に対する垂直方向の電界は、前記第2の不純物領域の近傍に比べ前記サイド絶縁層の近傍が小さい、不揮発性記憶装置。 - 基板内にチャネル形成領域を挟んで形成された第1及び第2の不純物領域と、
前記チャネル形成領域の上方に第1のゲート絶縁層を介して形成されたワードゲートと、
前記ワードゲートの一方の側面にサイド絶縁層を介して形成されたコントロールゲートと、
前記基板と前記コントロールゲートとの間に形成された電荷蓄積領域を有する第2のゲート絶縁層と、を含む不揮発性記憶装置において、
前記第2のゲート絶縁層の膜厚は、前記第2の不純物領域の近傍に比べ前記サイド絶縁層の近傍が厚い、不揮発性記憶装置。 - 基板内にチャネル形成領域を挟んで形成された第1及び第2の不純物領域と、
前記チャネル形成領域の上方に第1のゲート絶縁層を介して形成されたワードゲートと、
前記ワードゲートの一方の側面にサイド絶縁層を介して形成されたコントロールゲートと、
前記基板と前記コントロールゲートとの間に形成された電荷蓄積領域を有する第2のゲート絶縁層と、を含む不揮発性記憶装置において、
前記第2のゲート絶縁層は、窒化シリコン層を挟んで上下に酸化シリコン層が配置された積層膜からなり、
前記第2のゲート絶縁層を構成する前記窒化シリコン層は、前記第2の不純物領域の近傍において前記コントロールゲートと接触している、不揮発性記憶装置。 - 基板内にチャネル形成領域を挟んで形成された第1及び第2の不純物領域と、
前記チャネル形成領域の上方にゲート絶縁層を介して形成されたコントロールゲートと、を含む不揮発性記憶装置において、
前記基板と前記コントロールゲートとの間の該基板表面に対する垂直方向の電界は、前記第1及び第2の不純物領域の近傍に比べ前記第コントロールゲートのゲート長方向における中央領域が小さい、不揮発性記憶装置。 - 基板内にチャネル形成領域を挟んで形成された第1及び第2の不純物領域と、
前記チャネル形成領域の上方にゲート絶縁層を介して形成されたコントロールゲートと、を含む不揮発性記憶装置において、
前記第ゲート絶縁層は、窒化シリコン層を挟んで上下に酸化シリコン層が配置された積層膜からなり、
前記ゲート絶縁層を構成する前記窒化シリコン層は、前記第1及び第2の不純物領域の近傍において前記コントロールゲートと接触している、不揮発性記憶装置。
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