JP2005189498A - ディスプレー用ガラス基板 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ガラス基板上に形成される誘電体層を、例えば600℃以上の高温で熱処理しても、誘電体層を構成する低融点ガラスとガラス基板との反応を抑えることが可能なディスプレー用ガラス基板を提供することを技術的課題とする。
【解決手段】 PDP用ガラス基板10の上に、基板10側から順に、アルカリ拡散防止膜11(膜厚100nm)、反応防止膜12(膜厚100nm)、誘電体層13(膜厚40μm)が形成されている。
【選択図】図1
【解決手段】 PDP用ガラス基板10の上に、基板10側から順に、アルカリ拡散防止膜11(膜厚100nm)、反応防止膜12(膜厚100nm)、誘電体層13(膜厚40μm)が形成されている。
【選択図】図1
Description
本発明は、プラズマディスプレー(PDP)やエレクトロルミネセンスディスプレー(EL)等のフラットパネルディスプレー装置に使用するガラス基板として適したディスプレー用ガラス基板に関するものである。
PDPやELは、ガラス基板上に誘電体層を形成し、その誘電特性を利用することで蛍光体等を発光させる自己発光型のフラットパネルディスプレイである。特にPDPは、軽量薄型、高視野角等の優れた特性を備え、大画面化が容易であることから、最も将来性のある表示装置として注目されている。
図3は、PDPの基本構造を示す部分断面図である。図3に示すように、PDPは、一般に前面ガラス基板1と、背面ガラス基板2とが一定の間隔を保持するようにして設けられている。前面ガラス基板1と背面ガラス基板2の間隙には、隔壁(バリアリブ)3が形成され、これによって内部は多数のガス放電部に区切られている。前面ガラス基板1の内側面には、一対の走査電極4が形成され、この走査電極4の上には、前面ガラス基板1の前面を覆うように誘電体層5が形成されている。さらに誘電体層5の上には、プラズマを安定に形成するためのMgOからなる保護膜6が形成されている。一方、背面ガラス基板2の内側面には、アドレス電極7が形成され、その上には、背面ガラス基板2の全面を覆うように誘電体層8が形成されている。また誘電体層8の上に隔壁3が形成され、隔壁3の側壁及び誘電体層8の上には、蛍光体9が塗布されている。
このような構造を有するPDPは、走査電極4間に電圧が印加され、これによって隔壁3で仕切られたガス放電部内にプラズマ放電が生じ、プラズマ放電により発生した紫外線が蛍光体9に照射され、蛍光体9が発光することになる。
PDPの前面ガラス基板1や背面ガラス基板2上に誘電体層5、8を形成するには、高誘電率の低融点ガラス粉末と有機溶媒とを混合し、ペースト状にした後、これをスクリーン印刷機やコーターを用いてガラス基板上に塗布してから熱処理する方法や、高誘電率の低融点ガラス粉末と樹脂とを混合し、これをシート状(グリーンシート)に成形した後、これをガラス基板上に積層し、熱処理する方法が採られている。
上記の方法でPDPやELの誘電体層を形成すると、その内部に微小泡が残存することがあり、この微小泡の数が多くなると、所望の画像が得られ難くなる。すなわちPDPやELの誘電体層中に微小泡が多数残存すると、高い耐電圧や透明性が得られず、表示画面の輝度が低下してしまう。このような微小泡を少なくするためには、誘電体層を形成する際の熱処理を、低融点ガラスの粘度が十分に低下するような高温で行う必要がある。
しかしながら低融点ガラスの種類によっては、600℃以上の高温でなければ、粘度が十分に低下しないものがあり、この場合には、低融点ガラスとガラス基板との反応が活発となり、両者の界面でガラス成分の相互拡散が起こる。その結果、誘電体層の誘電率が低下したり、反応によって生じた異質ガラス層が、ガラス基板の強度を低下させることがある。
このようなガラス基板と低融点ガラスとの反応を防止する方法としては、両者の間にバリア膜を形成することが考えられる。従来よりガラス基板上に、ガラス中に含まれるアルカリ成分の拡散を防止するためのバリア膜を形成することは公知である。例えば特許文献1には、ディスプレーの表示素子特性の劣化や導電膜の性能の劣化を防止する目的で、ガラス基板上に、炭素含有酸化ケイ素膜を形成し、アルカリ成分の拡散を防止することが開示されている。また特許文献2には、PDPのガス放電特性への影響を抑える目的で、ガラス基板上にSiO2膜を形成し、アルカリ成分の拡散を防止することが開示されている。
特開平6−329441号公報
特開平10−302642号公報
上記の特許文献1、2は、いずれもガラス基板上に酸化珪素を含むバリア膜(アルカリ拡散防止膜)を形成することによって、ガラス基板中に含まれるアルカリ成分が、その上に形成される素子や膜に拡散するのを抑え、ディスプレー特性の低下を防止しようとするものである。つまりこれらのバリア膜は、ガラス基板と誘電体層を構成する低融点ガラスとの反応を防止することを目的とするものではない。
また仮にガラス基板と誘電体層との間に、酸化珪素を含むバリア膜を形成しても、酸化珪素(SiO2)は、誘電体層を構成する低融点ガラスとの反応性が高いことから、600℃以上の高温で熱処理すると、膜特性が劣化しやすく、誘電率の低下を十分に防止することは困難である。
本発明の目的は、ガラス基板上に形成される誘電体層を、例えば600℃以上の高温で熱処理しても、誘電体層を構成する低融点ガラスとガラス基板との反応を抑えることが可能なディスプレー用ガラス基板を提供することである。
本発明のディスプレー用ガラス基板は、表面に誘電体層が形成されてなるガラス基板であって、ガラス基板と誘電体層との間に、酸化錫を主成分とする反応防止膜が形成されてなることを特徴とする。
本発明のディスプレー用ガラス基板は、ガラス基板と誘電体層との間に、酸化錫を主成分とする反応防止膜が形成されてなるため、例えば600℃以上の高温で熱処理しても、低融点ガラスとガラス基板との反応が抑制され、両者の界面でガラス成分の相互拡散が起こることはない。よって誘電体層の誘電率が低下したり、反応によって生じた異質ガラス層が、ガラス基板の強度を低下させるといった問題は起こらない。
本発明で使用する酸化錫を主成分とする反応防止膜は、誘電体層を形成する低融点ガラスとの反応性が小さく、低融点ガラスとガラス基板のガラス成分の相互拡散反応を防止するためのバリア膜として機能する。酸化錫を主成分とする反応防止膜とは、SnO2膜、及びSnO2膜に他の成分が少量含まれた膜を意味する。例えば導電性を付与する目的で、SnO2膜に、Sb等の導電物質を含有させても良い。通常、SnO2膜の表面電気抵抗は108〜1010Ω/□であるが、導電物質を含有させることによって、ガラス基板の表面電気抵抗を105Ω/□以下にすることが可能となる。ただし膜中のSnO2量が少なくなるほど、ガラス成分の相互拡散反応を抑制する効果が低下するため、膜中のSnO2量は90質量%以上、より好ましくは95質量%以上、さらに好ましくは98質量%以上に規制すべきである。この酸化錫を主成分とする反応防止膜は、スパッタ法や真空蒸着法によって成膜することができ、その厚みは、20〜400nmが好ましい。膜厚が20nmより小さいと、ガラス成分の相互拡散効果が低下しやすく、また400nmより大きいと、膜形成に時間がかかり、生産効率が低下する。より好ましい膜厚は、30〜300nm、さらに好ましい膜厚は、100〜300nmである。
また本発明で使用するガラス基板としては、一般にPDPやELに用いられるソーダ石灰ガラス、高歪点バリウムストロンチウムガラス、アルミノシリケートガラスや、液晶ディスプレー(LCD)に用いられる無アルカリガラス等からなる基板が適している。
また誘電体層を形成するための低融点ガラスとしては、鉛系ガラス、アルカリ硼珪酸系ガラス、アルカリ土類シリカ系ガラス、ビスマス系ガラス等が使用可能である。但し環境面を考慮すると、鉛やビスマスを含まないアルカリ硼珪酸系ガラス、アルカリ土類シリカ系ガラスが好適である。
またアルカリ金属酸化物を含むガラス基板を使用する場合は、ガラス基板と酸化錫を主成分とする反応防止膜との間に、アルカリ拡散防止膜を形成することが好ましい。その理由は、ガラス基板中にアルカリ金属酸化物が含有されていると、誘電体層の熱処理時にガラス基板中のアルカリ成分が、反応防止膜中に拡散して膜特性を劣化させるからである。このアルカリ拡散防止膜としては、SiO2、Al2O3、TiO2等の膜が使用可能であり、スパッタ法や真空蒸着法によって成膜することができ、その膜厚は20〜400nmが適当である。膜厚が20nmより小さいと、アルカリ拡散防止膜として十分な効果が得られず、一方、400nmより大きいと、膜形成に時間がかかり、生産効率が低下する。またアルカリ拡散防止膜とガラス基板との熱膨張係数の差が大きい場合は、膜厚が大きくなるほど、膜に応力が加わってクラックが発生しやすくなるという問題も生じる。よってアルカリ拡散防止膜の好ましい膜厚は30〜300nm、より好ましい膜厚は50〜200nmである。成膜コストや作業性を考慮すると、アルカリ拡散防止膜は、SiO2膜が最適である。
また酸化錫を主成分とする反応防止膜の上に電極を形成する場合、反応防止膜の導電性が問題となるため、反応防止膜の外表面、すなわち反応防止膜と電極との間に絶縁膜を形成することが好ましい。絶縁膜を形成することによって、ガラス基板の表面電気抵抗を1011Ω/□以上、さらには1013Ω/□以上にすることが可能となる。絶縁膜としては、SiO2、Al2O3、TiO2等の膜が使用可能であり、スパッタ法や真空蒸着法によって成膜することができ、その膜厚は50〜400nmが適当である。膜厚が50nmより小さいと、絶縁膜として十分な効果が得られず、一方、400nmより大きいと、膜形成に時間がかかり、生産効率が低下する。また絶縁膜とガラス基板との熱膨張係数の差が大きい場合は、膜厚が大きくなるほど、膜に応力が加わってクラックが発生しやすくなるという問題も生じる。よって絶縁膜の好ましい膜厚は100〜300nmである。成膜コストや作業性を考慮すると、アルカリ拡散防止膜は、SiO2膜が最適である。
以下、実施例に基づいて本発明のディスプレー用ガラス基板を説明する。
表1、2は、本発明の実施例(試料No.1〜5)と比較例(試料No.6〜9)を示すものである。
尚、表中のガラス基板のPDPは、市販のPDP用ガラス基板(日本電気硝子株式会社製PP−8)を示し、LCDは、市販のLCD用ガラス基板(日本電気硝子株式会社製OA−10)を示している。
また表中の膜厚を表示していない箇所は、その膜が存在しないことを意味している。例えば、試料No.1は、図1に示すように、PDP用ガラス基板10の上に、基板10側から順に、アルカリ拡散防止膜11(膜厚100nm)、反応防止膜12(膜厚100nm)、誘電体層(膜厚40μm)13が形成され、また試料No.3は、図2に示すように、PDP用ガラス基板10の上に、基板10側から順に、アルカリ拡散防止膜11(膜厚200nm)、反応防止膜12(200nm)、絶縁膜14(200nm)、誘電体層(膜厚40μm)13が形成されたものである。
表中の各試料は、次のようにして作製した。
まずガラス基板は、肉厚2.8mmのPDP用ガラス基板と、肉厚0.7mmのLCD用ガラス基板を準備し、それらを100×100mmの大きさに切断したものを使用した。アルカリ拡散防止膜と絶縁膜としては、SiO2膜を形成した。これらのSiO2膜は、マグネトロンスパッタ装置(フォン・アルデンヌ社製)で成膜し、ターゲットとしてはシリコンを使用した。また反応防止膜としては、SnO2膜を形成した。このSnO2膜も、マグネトロンスパッタ装置で成膜し、ターゲットとしてはSnを使用した。これらの膜の成膜は、40kw、3mmTorrの条件で行い、膜厚の制御は、スパッタ時間を変えることによって行った。
また誘電体層は、PbO−B2O3−SiO2系ガラス(比誘電率:12)を平均粒径2μmに粉砕した後、これを有機バインダーと混合してからスクリーン印刷し、表に示す温度で熱処理した。誘電体層の膜厚は、いずれも40μmとなるように調整した。
各試料の特性評価は、次のようにして行った。
表面電気抵抗は、東亜電波工業社製SUPER MEGOHMMETER SM−8205を用いて測定した。誘電率は、誘電体層の比誘電率をLCRメーターを用いて測定した。誘電体透過率は、誘電体層の透過率を分光光度計(日立製作所製)を用いて測定した。
誘電体層の比誘電率は、熱処理前後で変化しないことが必要であるが、熱処理時に誘電体層とガラス基板のガラス成分が拡散反応すると低下する。通常、設計値に比べて1以上低下すると機能上問題となる。また誘電体層の透過率が高いほど、ディスプレーの輝度を向上することができるため好ましい。
実施例である試料No.1〜5は、620℃以上で熱処理しても、誘電率の低下が見られず、透過率も70%以上であった。
一方、比較例である試料No.6及び8は、熱処理温度が590℃であり、誘電体は低下しなかったが、透過率は60%であった。また試料No.7及び9は、熱処理温度が630℃以上であり、誘電率が10まで低下した。
本発明のディスプレー用ガラス基板は、ガラス基板上に誘電体層を形成し、その誘電特性を利用することで蛍光体等を発光させるPDP、EL(特に無機EL)等の各種フラットパネルディスプレー用のガラス基板として好適である。
1 前面ガラス基板
2 背面ガラス基板
3 隔壁(バリアリブ)
4 走査電極
5、8、13 誘電体層
6 保護膜
7 アドレス電極
9 蛍光体
10 ガラス基板
11 アルカリ拡散防止膜
12 反応防止膜
14 絶縁膜
2 背面ガラス基板
3 隔壁(バリアリブ)
4 走査電極
5、8、13 誘電体層
6 保護膜
7 アドレス電極
9 蛍光体
10 ガラス基板
11 アルカリ拡散防止膜
12 反応防止膜
14 絶縁膜
Claims (7)
- 表面に誘電体層が形成されてなるガラス基板であって、ガラス基板と誘電体層との間に、酸化錫を主成分とする反応防止膜が形成されてなることを特徴とするディスプレー用ガラス基板。
- ガラス基板と反応防止膜との間に、アルカリ拡散防止膜が形成されてなることを特徴とする請求項1に記載のディスプレー用ガラス基板。
- アルカリ拡散防止膜が、SiO2膜であることを特徴とする請求項2に記載のディスプレー用ガラス基板。
- 反応防止膜の外表面に、絶縁膜が形成されてなることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のディスプレー用ガラス基板。
- 絶縁膜が、SiO2膜であることを特徴とする請求項4に記載のディスプレー用ガラス基板。
- 請求項1〜5のいずれかのガラス基板を使用してなることを特徴とするプラズマディスプレー装置。
- 請求項1〜5のいずれかのガラス基板を使用してなることを特徴とするエレクトロルミネッセンスディスプレー装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003430549A JP2005189498A (ja) | 2003-12-25 | 2003-12-25 | ディスプレー用ガラス基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003430549A JP2005189498A (ja) | 2003-12-25 | 2003-12-25 | ディスプレー用ガラス基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005189498A true JP2005189498A (ja) | 2005-07-14 |
Family
ID=34788891
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2003430549A Pending JP2005189498A (ja) | 2003-12-25 | 2003-12-25 | ディスプレー用ガラス基板 |
Country Status (1)
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012522265A (ja) * | 2009-03-27 | 2012-09-20 | ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッド | 保護コーティングを有する太陽反射鏡及びその製造方法 |
CN110208997A (zh) * | 2019-05-31 | 2019-09-06 | 广东旗滨节能玻璃有限公司 | 一种智能变色玻璃及其制备方法和应用 |
-
2003
- 2003-12-25 JP JP2003430549A patent/JP2005189498A/ja active Pending
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