JP2005187580A - アンチモン含有酸化スズ粒子分散液及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、アンチモン含有酸化スズ(ATO)粒子分散液及びその製造方法に関する。さらに詳しくは、各種基材[例えば、プラスチック(ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリオレフィン、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ABS樹脂、AS樹脂、ノルボルネン系樹脂等)、金属、木材、紙、ガラス、スレート等]の表面に、高硬度、高屈折率及び導電性を有するとともに耐擦傷性並びに基材及び低屈折率層との密着性に優れた塗膜(被膜)を形成し得る光硬化性組成物、及びその光硬化性組成物に用いられるATO粒子分散液及びその製造方法に関する。
近年、各種基材表面の傷付き(擦傷)防止や汚染防止のための保護コーティング材;各種基材の接着剤、シーリング材;印刷インクのバインダー材として、優れた塗工性を有し、かつ各種基材の表面に、硬度、耐擦傷性、耐摩耗性、低カール性、密着性、透明性、耐薬品性及び塗膜面の外観のいずれにも優れた硬化膜を形成し得る硬化性組成物が要請されている。
また、フィルム型液晶素子、タッチパネル、プラスチック光学部品等の反射防止膜の用途においては、上記要請に加えて、高屈折率の硬化膜を形成し得る硬化性組成物が要請されている。
このような硬化性組成物に、高屈折率、高硬度、導電性及び耐擦傷性を付与するために、アンチモン含有酸化スズ粒子分散液が使用されている(例えば、特許文献1)。
また、フィルム型液晶素子、タッチパネル、プラスチック光学部品等の反射防止膜の用途においては、上記要請に加えて、高屈折率の硬化膜を形成し得る硬化性組成物が要請されている。
このような硬化性組成物に、高屈折率、高硬度、導電性及び耐擦傷性を付与するために、アンチモン含有酸化スズ粒子分散液が使用されている(例えば、特許文献1)。
上記のアンチモン含有酸化スズ粒子分散液は、分散粒径が小さく分散安定性に優れていることが求められている。
本発明は、上述の課題に鑑みてなされたものであり、分散粒径の小さなアンチモン含有酸化スズ粒子分散液及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、上述の課題に鑑みてなされたものであり、分散粒径の小さなアンチモン含有酸化スズ粒子分散液及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明によれば、以下のアンチモン含有酸化スズ粒子分散液及びその製造方法を提供できる。
1.アンチモン含有酸化スズ粒子、下記式(1)で表される分子量1000〜30000の分散剤及び分散媒を含有するアンチモン含有酸化スズ粒子分散液。
(式中、x,yは繰り返し数である。)
2.前記分散媒が、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルから選択される少なくとも一種である1に記載のアンチモン含有酸化スズ粒子分散液。
3.反射防止膜の高屈折率膜を形成する樹脂組成物に使用される1又は2に記載のアンチモン含有酸化スズ粒子分散液。
4.分散媒に、下記式(1)で表される分子量1000〜30000の分散剤と共に、アンチモン含有酸化スズ粒子を分散させる1〜3のいずれか一に記載のアンチモン含有酸化スズ粒子分散液の製造方法。
(式中、x,yは繰り返し数である。)
1.アンチモン含有酸化スズ粒子、下記式(1)で表される分子量1000〜30000の分散剤及び分散媒を含有するアンチモン含有酸化スズ粒子分散液。
2.前記分散媒が、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルから選択される少なくとも一種である1に記載のアンチモン含有酸化スズ粒子分散液。
3.反射防止膜の高屈折率膜を形成する樹脂組成物に使用される1又は2に記載のアンチモン含有酸化スズ粒子分散液。
4.分散媒に、下記式(1)で表される分子量1000〜30000の分散剤と共に、アンチモン含有酸化スズ粒子を分散させる1〜3のいずれか一に記載のアンチモン含有酸化スズ粒子分散液の製造方法。
本発明によれば、分散粒径の小さなアンチモン含有酸化スズ粒子分散液及びその製造方法が提供できる。
以下、本発明のアンチモン含有酸化スズ粒子分散液及びその製造方法の実施形態を具体的に説明する。
本発明のアンチモン含有酸化スズ粒子分散液は、アンチモン含有酸化スズ粒子、特定の分散剤及び分散媒を含有してなる。
本発明のアンチモン含有酸化スズ粒子分散液は、アンチモン含有酸化スズ粒子、特定の分散剤及び分散媒を含有してなる。
アンチモン含有酸化スズ粒子の一次粒径は、通常、5nm〜50nmのものを使用できる。また、結晶構造も特に限定されないが、単斜晶系等を使用できる。
アンチモン含有酸化スズ粒子の形状は球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、又は不定形状であり、好ましくは、球状である。
このようなアンチモン含有酸化スズ粒子の市販品としては、三井金属(株)製 商品名:パストラン、石原産業(株)製 商品名:SN−100P、日産化学工業(株)製 商品名:ATO等が挙げられる。
このようなアンチモン含有酸化スズ粒子の市販品としては、三井金属(株)製 商品名:パストラン、石原産業(株)製 商品名:SN−100P、日産化学工業(株)製 商品名:ATO等が挙げられる。
このような分散剤の市販品としては、旭電化工業(株)製 アデカプルロニックTR−701、TR−702、TR−704等が挙げられる。
分散媒は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類;ジメチルフォルムアミド、N,N−ジメチルアセトアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類を用いることができる。中でも、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルが好ましく、メタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルがより好ましい。分散媒は一種又は二種以上を混合して用いることができる。
一方、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類やベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類は分散性の観点から好ましくなく、添加量を少なく抑えるか、できれば添加しないことが好ましい。
一方、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類やベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類は分散性の観点から好ましくなく、添加量を少なく抑えるか、できれば添加しないことが好ましい。
本発明の分散液における各成分の配合量は、用途に応じて適宜設定できるが、通常、アンチモン含有酸化スズ粒子8〜50重量%、分散剤0.1〜8重量%、分散媒50〜90重量%であり、好ましくは、アンチモン含有酸化スズ粒子15〜40重量%、分散剤0.2〜6重量%、分散媒60〜80重量%である。
本発明の分散液は、上記の成分の他に、その特性を損なわない範囲において、カップリング剤等を含むことができる。また、後述の多官能(メタ)アクリレートモノマーを含むこともできる。
本発明の分散液は、分散媒に、分散剤と共に、アンチモン含有酸化スズ粒子を分散させて製造する。
分散は、ペイントシェーカ、SCミル、アニュラー型ミル、ピン型ミル等を用いて通常周速5〜15m/sで、粒径の低下が観察されなくなるまで継続する。通常数時間である。分散の際に、ガラスビーズ等の分散ビーズを用いることが好ましい。ビーズ径は特に限定されないが、通常0.05〜1mm程度である。ビーズ径は、好ましくは0.05〜0.5mm、より好ましくは0.08〜0.5mm、特に好ましくは0.08〜0.2mmである。
分散は、ペイントシェーカ、SCミル、アニュラー型ミル、ピン型ミル等を用いて通常周速5〜15m/sで、粒径の低下が観察されなくなるまで継続する。通常数時間である。分散の際に、ガラスビーズ等の分散ビーズを用いることが好ましい。ビーズ径は特に限定されないが、通常0.05〜1mm程度である。ビーズ径は、好ましくは0.05〜0.5mm、より好ましくは0.08〜0.5mm、特に好ましくは0.08〜0.2mmである。
このようにして得られるアンチモン含有酸化スズ粒子分散液は、分散前には二次凝集をしていたアンチモン含有酸化スズ粒子がより小さな粒径に分散している。好ましくはアンチモン含有酸化スズ粒子のメジアン径が150nm以下、さらに好ましくは100nm以下である。
また、本発明の均一に分散し分散安定性が高いアンチモン含有酸化スズ粒子分散液を含んで調製した樹脂組成物を硬化した膜は、アンチモン含有酸化スズ粒子が膜内で凝集し難く、透明性が高い。
また、本発明の均一に分散し分散安定性が高いアンチモン含有酸化スズ粒子分散液を含んで調製した樹脂組成物を硬化した膜は、アンチモン含有酸化スズ粒子が膜内で凝集し難く、透明性が高い。
本発明の分散液は、保護膜、反射防止膜、接着剤、シーリング材、バインダー材等に用いられる樹脂組成物に含ませて用いることができ、特に反射防止膜の高屈折率膜を形成する樹脂組成物に好適に用いることができる。
本発明のアンチモン含有酸化スズ粒子分散液は、以下の表面変性を加えることが好ましい。表面変性を行うことにより、アンチモン含有酸化スズ粒子分散液を含有する光硬化性組成物の硬化物の耐擦傷性を改善することができる。
表面変性は、公知の方法で用いることができる(例えば、特開2003−105034号公報参照)。具体的には、アンチモン含有酸化スズ粒子を、分子内に、(メタ)アクリロイル基やビニル基等の重合性不飽和基及び下記式(2)
−X−C(=Y)NH− (2)
[式(2)中、Xは、NH、O(酸素原子)又はS(イオウ原子)を示し、Yは、O又はSを示す。]
に示す基を有する化合物(以下、「特定有機化合物」という。)と反応させることにより行うことができる。なお、この化合物は、分子内にシラノ−ル基又は加水分解によってシラノ−ル基を生成する基を有する化合物であることが好ましい。
−X−C(=Y)NH− (2)
[式(2)中、Xは、NH、O(酸素原子)又はS(イオウ原子)を示し、Yは、O又はSを示す。]
に示す基を有する化合物(以下、「特定有機化合物」という。)と反応させることにより行うことができる。なお、この化合物は、分子内にシラノ−ル基又は加水分解によってシラノ−ル基を生成する基を有する化合物であることが好ましい。
前記式(2)に示す基は、具体的には、[−O−C(=O)−NH−]、[−O−C(=S)−NH−]、[−S−C(=O)−NH−]、[−NH−C(=O)−NH−]、[−NH−C(=S)−NH−]、及び[−S−C(=S)−NH−]の6種である。これらの基は、1種単独で又は2種以上を組合わせて用いることができる。中でも、熱安定性の観点から、[−O−C(=O)−NH−]基を必須とし、[−O−C(=S)−NH−]基及び[−S−C(=O)−NH−]基の少なくとも1を併用することが好ましい。前記式(2)に示す基[−X−C(=Y)−NH−]は、分子間において水素結合による適度の凝集力を発生させ、硬化物にした場合、優れた機械的強度、基材との密着性及び耐熱性等の特性を付与せしめるものと考えられる。
本発明の光硬化性組成物は、アンチモン含有酸化スズ粒子分散液の他、多官能(メタ)アクリレートモノマー、光重合開始剤等を含んで調製できる。ここで、表面変性したアンチモン含有酸化スズ粒子を用いることが好ましい。
多官能(メタ)アクリレートモノマーは、アンチモン含有酸化スズ分散液に硬化性を付与するために用いる。ここで多官能とは、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有することをいい、製膜性の観点から、3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーが好ましく、5官能以上の(メタ)アクリレートモノマーがさらに好ましい。または2種以上の多官能(メタ)アクリレートモノマーの混合物を用いることができる。
多官能(メタ)アクリレートモノマーの好ましい具体例としては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。
多官能(メタ)アクリレートモノマーの市販品としては、KAYARAD DPHA(日本化薬(株)製)等を挙げることができる。
多官能(メタ)アクリレートモノマーの市販品としては、KAYARAD DPHA(日本化薬(株)製)等を挙げることができる。
光重合開始剤としては、光照射により分解してラジカルを発生して重合を開始せしめるものであれば特に制限はなく、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)等を挙げることができる。
放射線(光)重合開始剤の市販品としては、例えば、チバスペシャルティケミカルズ(株)製 商品名:イルガキュア 184、369、651、500、819、907、784、2959、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24−61、ダロキュア 1116、1173、BASF社製 商品名:ルシリン TPO、UCB社製 商品名:ユベクリル P36、フラテツリ・ランベルティ社製 商品名:エザキュアー KIP150、KIP65LT、KIP100F、KT37、KT55、KTO46、KIP75/B等を挙げることができる。
本発明の光硬化性組成物中に含まれる各成分の配合量は、用途に応じて適宜設定できるが、通常、アンチモン含有酸化スズ粒子分散液中に含まれるアンチモン含有酸化スズ粒子(表面変性をした場合には、表面変性後のアンチモン含有酸化スズ粒子)100重量部に対して、多官能(メタ)アクリレートモノマー10〜2000重量部、光重合開始剤0.01〜100重量部であり、好ましくは、多官能(メタ)アクリレートモノマー20〜1000重量%、光重合開始剤0.1〜60重量%である。
本発明の光硬化性組成物は、上記の成分の他に、その特性を損なわない範囲において、単官能(メタ)アクリレート化合物の他、メチルイソブチルケトン等の溶媒、その他レベリング剤等を含むこともできる。
実施例1
アンチモン含有酸化スズ粒子(石原テクノ(株)製、SN−100P(商品名)、一次粒径10〜30nm)、分散剤(旭電化工業(株)製、アデカプルロニックTR−701(商品名))、及びメタノールを、28.5/1.5/70(重量比)の配合量で混合した(全固形分含量30%、全無機含量28.5%)。
ペイントシェーカの50mlポリ瓶に、ガラスビーズ40g(TOSHINRIKO製、BZ−01)(ビーズ径0.1mm)(体積約16ml)と上記混合液(30g)を入れて、1時間、及び3時間分散した。
アンチモン含有酸化スズ粒子(石原テクノ(株)製、SN−100P(商品名)、一次粒径10〜30nm)、分散剤(旭電化工業(株)製、アデカプルロニックTR−701(商品名))、及びメタノールを、28.5/1.5/70(重量比)の配合量で混合した(全固形分含量30%、全無機含量28.5%)。
ペイントシェーカの50mlポリ瓶に、ガラスビーズ40g(TOSHINRIKO製、BZ−01)(ビーズ径0.1mm)(体積約16ml)と上記混合液(30g)を入れて、1時間、及び3時間分散した。
得られた分散液に分散しているアンチモン含有酸化スズ粒子のメジアン径を以下の条件で測定した。一時間及び3時間の分散において、メジアン径が100nmまで微粒径化でき、経時的に安定していた。
機器:(株)堀場製作所製 動的光散乱式粒径分布測定装置
測定条件: 温度 25℃
試料 サンプルを原液のまま測定
データ解析条件:粒子径基準 体積基準
分散粒子 ATO粒子 屈折率1.95
分散媒 メタノール 屈折率1.329
機器:(株)堀場製作所製 動的光散乱式粒径分布測定装置
測定条件: 温度 25℃
試料 サンプルを原液のまま測定
データ解析条件:粒子径基準 体積基準
分散粒子 ATO粒子 屈折率1.95
分散媒 メタノール 屈折率1.329
実施例2,3、比較例1〜7
実施例2,3及び比較例1〜3においては、表1に示すように分散媒を変え、また、比較例4〜7においては、表2に示すように分散剤を変えた以外は、実施例1と同様にして、アンチモン含有酸化スズ粒子分散液の作製した。
実施例1と同様にメジアン径を測定し、その結果を表1,2に示す。
実施例2,3及び比較例1〜3においては、表1に示すように分散媒を変え、また、比較例4〜7においては、表2に示すように分散剤を変えた以外は、実施例1と同様にして、アンチモン含有酸化スズ粒子分散液の作製した。
実施例1と同様にメジアン径を測定し、その結果を表1,2に示す。
尚、表1において、略語は以下の通りである。
IPA:イソプロパノール
PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル(1−メトキシ−2−プロパノール)
MEK:メチルエチルケトン
EL:乳酸エチル
DMAc:N,N−ジメチルアセトアミド
IPA:イソプロパノール
PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル(1−メトキシ−2−プロパノール)
MEK:メチルエチルケトン
EL:乳酸エチル
DMAc:N,N−ジメチルアセトアミド
表1,2において、評価は以下の通りである。
◎:メジアン径100nmまで微粒径化でき、かつ経時的に安定している
○:メジアン径100nmまで微粒径化できるが、経時で粒径アップ
△:メジアン径100nmまで微粒径化できるが、経時でやや沈降物あり
×:固液分離にて微粒径化困難
◎:メジアン径100nmまで微粒径化でき、かつ経時的に安定している
○:メジアン径100nmまで微粒径化できるが、経時で粒径アップ
△:メジアン径100nmまで微粒径化できるが、経時でやや沈降物あり
×:固液分離にて微粒径化困難
実施例4
ペイントシェーカの代わりに、三井鉱山(株)製SCミルを用いて以下の条件で分散し、経時で粒径を測定してメジアン径が100nm以下になった時点で分散を終了した以外は、実施例1と同様にして、アンチモン含有酸化スズ粒子分散液の作製した。分散時間1〜2時間にて、SCミルでもペイントシェーカ分散液と同等の粒径のものが得られた。
機器 : 三井鉱山(株)製 SCミル
周波数: 60Hz(回転数3600rpmに相当)
ケーシング容量: 59ml
液量: 500g
分散ビーズ充填量:ガラスビーズ(TOSHINRIKO製、BZ−01)
(ビーズ径0.1mm)40g 体積充填率27%
ペイントシェーカの代わりに、三井鉱山(株)製SCミルを用いて以下の条件で分散し、経時で粒径を測定してメジアン径が100nm以下になった時点で分散を終了した以外は、実施例1と同様にして、アンチモン含有酸化スズ粒子分散液の作製した。分散時間1〜2時間にて、SCミルでもペイントシェーカ分散液と同等の粒径のものが得られた。
機器 : 三井鉱山(株)製 SCミル
周波数: 60Hz(回転数3600rpmに相当)
ケーシング容量: 59ml
液量: 500g
分散ビーズ充填量:ガラスビーズ(TOSHINRIKO製、BZ−01)
(ビーズ径0.1mm)40g 体積充填率27%
本発明の光硬化性組成物は、例えば、プラスチック光学部品、タッチパネル、フィルム型液晶素子、プラスチック容器、建築内装材としての床材、壁材、人工大理石等の傷付き(擦傷)防止や汚染防止のための保護コーティング材;フィルム型液晶素子、タッチパネル、プラスチック光学部品等の反射防止膜;各種基材の接着剤、シーリング材;印刷インクのバインダー材等に用いられ、特に反射防止膜の高屈折率膜を形成する樹脂組成物として好適に用いることができる。また、本発明のアンチモン含有酸化スズ粒子分散液は、上記の光硬化性組成物に含ませて用いることができる。
Claims (4)
- 前記分散媒が、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルから選択される少なくとも一種である請求項1に記載のアンチモン含有酸化スズ粒子分散液。
- 反射防止膜の高屈折率膜を形成する樹脂組成物に使用される請求項1又は2に記載のアンチモン含有酸化スズ粒子分散液。
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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