JP2005187314A - 不均一反応を用いた低サイズ分布および蛍光性半導体ナノ粒子の低温合成法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】金属化合物と5B族もしくは6B族原子の供給源である液体化合物を混合し、不均一で反応させることを特徴とする、前記金属および5B族もしくは6B族原子からなるナノ粒子の製造方法。
【選択図】図1
Description
薬として高価で有害であり、引火性、爆発性を有するジメチルカドミウムを使用すること、(b)量子ドットのタイプおよびサイズによって、〜100℃、〜190−220℃、〜230−260℃等の範囲の高い反応温度を要する、(c)異なる色を発光する量子ドットを単離するためにサイズ選択抽出を行う時間を要する、(d)幅広いサイズ分布をもつ量子ドットが形成される等、いくつかの制限があった。
項1.金属化合物と5B族もしくは6B族原子の供給源である液体化合物を混合し、不均一系で反応させることを特徴とする、前記金属および5B族もしくは6B族原子からなるナノ粒子の製造方法。
項2.前記金属が、Cd、Zn、Hg、Cu、Ag、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zr、Mo、Ta、W、Ir、Eu、SmおよびMgからなる群より選ばれた少なくとも1種であり、5B族もしくは6B族原子がS、SeおよびTeからなる群より選ばれた少なくとも1種である項1に記載の方法。
項3.前記金属が、Al、GaおよびInからなる群から選ばれた少なくとも1種であり、5B族もしくは6B族原子がP、AsおよびSbからなる群から選ばれた少なくとも1種である項1に記載の方法。
項4.金属化合物を、配位性溶媒中にて前記液体化合物と反応させることを特徴とする、項1に記載の方法。
項5.得られるナノ粒子の95%以上が、平均粒子径の−20〜+20%の範囲内にあることを特徴とする項1に記載の方法。
項6.得られるナノ粒子が示す発光スペクトルにおいて、半価幅が50nm以下であることを特徴とする項1に記載の方法。
項7.得られるナノ粒子が、量子効率30%以上の発光特性を示すことを特徴とする項1に記載の方法。
項8.金属がCd及び/又はZnであり、5B族もしくは6B族原子がS、Se及びTeからなる群から選ばれる少なくとも1種である項1に記載の方法。
項9.ナノ粒子がナノ結晶である項1に記載の方法。
項10.CdX(X=S、Se、Te)もしくはZnX(X=S、Se、Te)を主成分とし、その発光特性において点滅現象を示さないことを特徴とするナノ結晶。
(1)金属化合物として3A〜7A,8,1B、2B族原子、好ましくはCd、Zn、Hg、Cu、Ag、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zr、Mo、Ta、W、Ir、Eu、SmおよびMgをからなる群より選ばれた少なくとも1種を使用する場合、6B族原子として、好ましくはS、SeおよびTeからなる群より選ばれた少なくとも1種から構成される供給源の液体化合物が好ましく使用できる。
(2)金属化合物の金属として3B族原子、好ましくはAl、GaおよびInの中から選ばれた少なくとも1種を使用する場合、5B族原子として、好ましくはP、AsおよびSbの中から選ばれた少なくとも1種から構成される液体化合物を好ましく使用できる。
異なってC2〜C20のアルキル基またはフェニル基を示す)で表されるホスフィンオキサ
イド化合物を好ましく例示できる。
電子顕微鏡の画像による画像解析法があげられる。
Claims (10)
- 金属化合物と5B族もしくは6B族原子の供給源である液体化合物を混合し、不均一系で反応させることを特徴とする、前記金属および5B族もしくは6B族原子からなるナノ粒子の製造方法。
- 前記金属が、Cd、Zn、Hg、Cu、Ag、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zr、Mo、Ta、W、Ir、Eu、SmおよびMgからなる群より選ばれた少なくとも1種であり、5B族もしくは6B族原子がS、SeおよびTeからなる群より選ばれた少なくとも1種である請求項1に記載の方法。
- 前記金属が、Al、GaおよびInからなる群から選ばれた少なくとも1種であり、5B族もしくは6B族原子がP、AsおよびSbからなる群から選ばれた少なくとも1種である請求項1に記載の方法。
- 金属化合物を、配位性溶媒中にて前記液体化合物と反応させることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 得られるナノ粒子の95%以上が、平均粒子径の−20〜+20%の範囲内にあることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 得られるナノ粒子が示す発光スペクトルにおいて、半価幅が50nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 得られるナノ粒子が、量子効率30%以上の発光特性を示すことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 金属がCd及び/又はZnであり、5B族もしくは6B族原子がS、Se及びTeからなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1に記載の方法。
- ナノ粒子がナノ結晶である請求項1に記載の方法。
- CdX(X=S、Se、Te)もしくはZnX(X=S、Se、Te)を主成分とし、その発光特性において点滅現象を示さないことを特徴とするナノ結晶。
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006056733A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-02 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 不均一反応を用いた無機被覆基材の製造方法 |
JP2007076975A (ja) * | 2005-09-15 | 2007-03-29 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 親水性ナノ粒子の製造方法 |
JP2010105887A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Dowa Electronics Materials Co Ltd | カルコゲン化合物粉の製造方法 |
JP2010144175A (ja) * | 2008-12-19 | 2010-07-01 | Samsung Sdi Co Ltd | ナノ蛍光体、ナノ蛍光体の製造方法及びこれを備える表示素子 |
CN102167977A (zh) * | 2011-02-25 | 2011-08-31 | 华东师范大学 | 一种ⅱ-ⅵ族水溶性硒化物半导体量子点的制备方法 |
CN103865539A (zh) * | 2014-01-29 | 2014-06-18 | 安徽理工大学 | 一种超声电化学合成水溶性CdTe量子点的方法 |
JP2014516901A (ja) * | 2011-05-13 | 2014-07-17 | エルジー・ケム・リミテッド | 新規な化合物半導体及びその活用 |
US9109153B2 (en) | 2008-11-27 | 2015-08-18 | Samsung Display Co., Ltd. | Method for manufacturing a nanoparticle, method for manufacturing a light-emitting element having the nanoparticle, and method for manufacturing a display substrate having the nanoparticle |
US9334440B2 (en) | 2012-12-07 | 2016-05-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Processes for synthesizing nanocrystals and nanocrystal compositions |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH069222A (ja) * | 1991-10-21 | 1994-01-18 | Phillips Petroleum Co | 五酸化アンチモンの連続的製造方法 |
JP2002501003A (ja) * | 1998-01-27 | 2002-01-15 | ミッドウエスト リサーチ インスティチュート | 混合金属カルコゲナイドナノ粒子の溶液合成法および前駆体膜のスプレー析出法 |
WO2002020696A1 (de) * | 2000-09-08 | 2002-03-14 | Nanosolutions Gmbh | Nanopartikelsynthese |
WO2002029140A1 (en) * | 2000-10-04 | 2002-04-11 | The Board Of Trustees Of The University Of Arkansas | Synthesis of colloidal nanocrystals |
WO2002047117A2 (en) * | 2000-12-08 | 2002-06-13 | Massachussets Institute Of Technology | Preparation of nanocrystallites |
JP2002321915A (ja) * | 2001-02-07 | 2002-11-08 | Agfa Gevaert Nv | 金属カルコゲニド分散液の製造 |
JP2002332477A (ja) * | 2001-01-18 | 2002-11-22 | Mitsubishi Chemicals Corp | フッ化アルキル配位子を結合してなる半導体超微粒子、及びこれを含有する薄膜状成形体 |
WO2003030227A2 (en) * | 2001-10-02 | 2003-04-10 | Quantum Dot Corporation | Method of semiconductor nanoparticle synthesis |
-
2004
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH069222A (ja) * | 1991-10-21 | 1994-01-18 | Phillips Petroleum Co | 五酸化アンチモンの連続的製造方法 |
JP2002501003A (ja) * | 1998-01-27 | 2002-01-15 | ミッドウエスト リサーチ インスティチュート | 混合金属カルコゲナイドナノ粒子の溶液合成法および前駆体膜のスプレー析出法 |
WO2002020696A1 (de) * | 2000-09-08 | 2002-03-14 | Nanosolutions Gmbh | Nanopartikelsynthese |
WO2002029140A1 (en) * | 2000-10-04 | 2002-04-11 | The Board Of Trustees Of The University Of Arkansas | Synthesis of colloidal nanocrystals |
WO2002047117A2 (en) * | 2000-12-08 | 2002-06-13 | Massachussets Institute Of Technology | Preparation of nanocrystallites |
JP2002332477A (ja) * | 2001-01-18 | 2002-11-22 | Mitsubishi Chemicals Corp | フッ化アルキル配位子を結合してなる半導体超微粒子、及びこれを含有する薄膜状成形体 |
JP2002321915A (ja) * | 2001-02-07 | 2002-11-08 | Agfa Gevaert Nv | 金属カルコゲニド分散液の製造 |
WO2003030227A2 (en) * | 2001-10-02 | 2003-04-10 | Quantum Dot Corporation | Method of semiconductor nanoparticle synthesis |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006056733A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-02 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 不均一反応を用いた無機被覆基材の製造方法 |
JP4565152B2 (ja) * | 2004-08-18 | 2010-10-20 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 不均一反応を用いた無機被覆基材の製造方法 |
JP2007076975A (ja) * | 2005-09-15 | 2007-03-29 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 親水性ナノ粒子の製造方法 |
JP4665170B2 (ja) * | 2005-09-15 | 2011-04-06 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 親水性ナノ粒子の製造方法 |
JP2010105887A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Dowa Electronics Materials Co Ltd | カルコゲン化合物粉の製造方法 |
US9109153B2 (en) | 2008-11-27 | 2015-08-18 | Samsung Display Co., Ltd. | Method for manufacturing a nanoparticle, method for manufacturing a light-emitting element having the nanoparticle, and method for manufacturing a display substrate having the nanoparticle |
JP2010144175A (ja) * | 2008-12-19 | 2010-07-01 | Samsung Sdi Co Ltd | ナノ蛍光体、ナノ蛍光体の製造方法及びこれを備える表示素子 |
CN102167977A (zh) * | 2011-02-25 | 2011-08-31 | 华东师范大学 | 一种ⅱ-ⅵ族水溶性硒化物半导体量子点的制备方法 |
JP2014516901A (ja) * | 2011-05-13 | 2014-07-17 | エルジー・ケム・リミテッド | 新規な化合物半導体及びその活用 |
US9334440B2 (en) | 2012-12-07 | 2016-05-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Processes for synthesizing nanocrystals and nanocrystal compositions |
CN103865539A (zh) * | 2014-01-29 | 2014-06-18 | 安徽理工大学 | 一种超声电化学合成水溶性CdTe量子点的方法 |
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Publication number | Publication date |
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