JP2005181151A - 反射光測定装置及び反射光測定方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 基準面の反射光量を正確に測定することにより試料面の反射光量を高精度に測定を行うことのできる反射光測定装置及び反射光測定方法を提供する。
【解決手段】 イメージセンサ14の各画素のうち各基準面R1,R2,R3からの反射光を受光すべき画素に入射する漏洩光の光量を推定するための漏洩光測定面Gを備え、この漏洩光測定面Gからの反射光量を用いて基準面R1,R2,R3からの反射光を受光すべき画素に入射する漏洩光の光量を推定し、この推定した漏洩光の光量を基準面R1,R2,R3の反射光量に含まれる漏洩光の光量とみなして該漏洩光量を除去するようにした。
【選択図】 図1
【解決手段】 イメージセンサ14の各画素のうち各基準面R1,R2,R3からの反射光を受光すべき画素に入射する漏洩光の光量を推定するための漏洩光測定面Gを備え、この漏洩光測定面Gからの反射光量を用いて基準面R1,R2,R3からの反射光を受光すべき画素に入射する漏洩光の光量を推定し、この推定した漏洩光の光量を基準面R1,R2,R3の反射光量に含まれる漏洩光の光量とみなして該漏洩光量を除去するようにした。
【選択図】 図1
Description
本発明は、所定領域の反射光量を測定する反射光測定装置及び反射光測定方法に関するものである。
近年、試料面を光源により照明し、画素が2次元的に配列されて構成される撮像素子により試料面で反射した反射光を受光し、受光した反射光の光強度に応じたレベルの電荷を蓄積することにより、試料面の反射光量を測定する反射光測定装置が知られている(例えば、下記特許文献1参照)。
上記の反射光測定装置における測定値は、光源の発光強度のばらつきや経時変化など光源の変動の影響を受ける場合がある。この光源の変動を除去するために、従来の反射光測定装置では、試料面の近傍に測定の基準となる基準面を設け、下記の(1)式に示すように、試料面の反射光量を基準面の反射光量で除算することによって測定値が算出される。
測定値=試料面の反射光量/基準面の反射光量・・・・(1)
図11は、従来の反射光測定装置における測定開口部分を示す図である。図11に示すように、測定開口Hの辺縁部分には、例えば、灰色等の単色の基準面Rが配置され、測定時において、試料面Sによる反射光量を基準面Rによる反射光量で除算することによって測定値が算出される。
特開2003−75257号公報
図11は、従来の反射光測定装置における測定開口部分を示す図である。図11に示すように、測定開口Hの辺縁部分には、例えば、灰色等の単色の基準面Rが配置され、測定時において、試料面Sによる反射光量を基準面Rによる反射光量で除算することによって測定値が算出される。
しかしながら、前述の方法では、基準面を測定する領域と試料面を測定する領域とが隣接していることにより、撮像素子に像を結像する結像レンズの解像度等に起因して、試料面からの反射光のうち一部の反射光が、撮像素子の撮像面のうち該試料面の反射光を受光すべき部位には入射されず、基準面の反射光を受光する部位に所謂漏洩光として入射されることとなる。したがって、基準面に関し、撮像素子により受光される入射光には、基準面からの反射光だけでなくこの漏洩光も含まれているため、基準面の反射光量を正確な測定値を得ることができなかった。特に、明るい試料にあっては漏洩光が多くなるため、前記式(1)から判るように、算出される測定値は真の測定値より大幅に小さい値となり、基準面の反射光量の測定誤差が大きくなる。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、基準面の反射光量を正確に測定することにより試料面の反射光量を高精度に測定を行うことのできる反射光測定装置及び反射光測定方法を提供することを目的とするものである。
請求項1に記載の発明は、試料面を照明する光源と、前記光源により照明される試料面を含む所定領域内に配置された基準面と、前記試料面を含む所定領域内に漏洩光の光量を測定すべく配置された漏洩光測定面と、前記光源により照明された試料面、基準面及び漏洩光測定面のそれぞれ少なくとも一部を含んでなる領域の画像を取得する画像センサと、前記光源により照明された試料面、基準面及び漏洩光測定面のそれぞれ少なくとも一部を含んでなる領域の像を前記画像センサに結像する結像光学系と、前記測定した漏洩光測定面からの反射光量に基づき前記基準面について生じる漏洩光成分を推定し、前記画像センサの出力により得られる前記基準面の反射光量から前記漏洩光成分を除去する演算部とを備えることを特徴とする反射光測定装置である。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の反射光測定装置において、前記所定領域に対して2次元座標系を設定したとき、前記漏洩光測定面は、少なくとも一方の軸方向において前記基準面と同一の位置に配置されていることを特徴とするものである。
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の反射光測定装置において、前記演算部は、前記試料面が前記光源により照明されている状態における漏洩光測定面からの反射光量から、前記試料面が前記光源により照明されていない状態における前記漏洩光測定面からの反射光量を減算し、その漏洩光測定面と前記一方の軸方向において同一の位置に配置された基準面の反射光量から前記減算値を減算することにより前記基準面の反射光量から前記漏洩光成分を除去することを特徴とするものである。
請求項4に記載の発明は、試料面を照明する光源と、前記光源により照明された試料面を含む所定領域の画像を取得する画像センサと、前記光源により照明された試料面を含む所定領域の像を前記画像センサに結像する結像光学系と、前記試料面を含む所定領域内に配置された基準面とを備えた反射光測定装置における反射光測定方法であって、前記試料面を含む所定領域内に漏洩光の光量を測定するための漏洩光測定面を配置し、前記光源により照明された試料面、基準面及び漏洩光測定面のそれぞれ少なくとも一部を含んでなる領域の画像を前記画像センサにより取得し、前記測定した漏洩光測定面からの反射光量に基づき前記基準面について生じる漏洩光成分を推定し、前記画像センサの出力により得られる前記基準面の反射光量から前記漏洩光成分を除去することを特徴とするものである。
請求項1,4に記載の発明によれば、前記試料面を含む所定領域内に漏洩光の光量を測定するための漏洩光測定面を配置し、測定した漏洩光測定面からの反射光量に基づき前記基準面について生じる漏洩光を推定し、その基準面の反射光量から前記漏洩光成分を除去するようにしたので、前記基準面の真の反射光量を導出することができる。
請求項2に記載の発明によれば、前記所定領域に対して2次元座標系を設定したとき、漏洩光測定面を、少なくとも一方の軸方向において基準面と同一の位置に配置したので、前記少なくとも一方の軸方向の位置に応じて漏洩光成分を推定することができる。
請求項3に記載の発明によれば、試料面が光源により照明されている状態における漏洩光測定面からの反射光量から、試料面が光源により照明されていない状態における漏洩光測定面からの反射光量を減算し、その漏洩光測定面と前記一方の軸方向において同一の位置に配置された基準面の反射光量から前記減算値を減算することにより前記基準面の反射光量から前記漏洩光成分を除去するようにしたので、基準面の真の反射光量を導出することができる。
以下、本発明に係る反射光測定装置の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、各図において同一の構成については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
図1は、第1の実施形態における反射光測定装置の構成を示す図である。図1に示す反射光測定装置1は、光源11、測定開口12、結像レンズ13、イメージセンサ14、ゲイン可変アンプ15、A/D変換器16、イメージセンサ制御装置17、発光制御装置18、演算装置19及び記憶装置20を備えて構成される。
光源11は、例えば、キセノンガス封入ランプやメタルハライドランプ等で構成され、測定開口12に測定対象(試料)が配置されることで形成される試料面Sを照明する。測定開口12は、反射光測定装置1の底部に形成される測定用の開口である。装置内部から見て測定開口12の左辺縁部分には、それぞれ反射率が異なる複数の基準面R1,R2,R3が配置されており、測定開口12の右辺縁部分にも複数の基準面R1,R2,R3が配置されており、これらの基準面R1,R2,R3が反射率の点で左右対称になるように配置されている。
基準面が、ある部位に集中する(例えば測定開口12の左辺縁部分にのみ設ける)と、測定面(試料面S)の中心がイメージセンサ14の中心からずれることで照明の均一性(例えば左右方向の照明の均一性)が損なわれる可能性があるため、本実施形態では、基準面を左右対称に配置することにより、試料面Sに均一に照明されるようにしている。このように、基準面R1,R2,R3が試料面Sを挟んで左右対称に配置されるので、試料面Sの中心が画像センサの中心からずれることがなくなり、照明の均一性を保つことができる。
なお、本実施形態では、左右対称に同一の反射率を有する基準面を配置したが、本発明は特にこれに限定されず、全ての基準面が異なる反射率であってもよいし、同一の反射率を有する基準面が左右非対称の位置に配置されるようにしてもよい。さらに、本実施形態において、複数の基準面は、試料面Sを挟んで左右非対称であってもよく、複数の基準面の数はいくつでもよい。
以下の説明においては、左辺縁部分に配置された基準面R1,R2,R3に着目して説明を行うこととし、右辺縁部分に配置された基準面R1,R2,R3についての説明や図2〜図7での図示は省略するものとする。
図1に示すように、試料面S及び基準面R1,R2,R3に対し、試料面Sの左右方向をX軸、このX軸に垂直な方向(図1の上下方向)をY軸とする2次元座標系を設定するものとすると、測定開口12の左縁部において、反射率の異なる複数(本実施形態では3種類)の格子状の基準面R1,R2,R3がX軸方向に隣接し、且つX軸方向に隣接する基準面R1,R2,R3で構成されるブロックがY軸方向に所定の間隔を介して配置されている。本実施形態においては、反射率について、試料面Sが最も大きく、次いで基準面R1,R2,R3の順に大きい。
結像レンズ13は、光源11によって照明された試料面Sを含む2次元領域の像をイメージセンサ14に結像する。
イメージセンサ14は、例えば、インターライン型フォトセンサアレイで構成され、受光した反射光の光強度に応じたレベルの電荷を蓄積することによって、光源11によって照明された試料面Sを含む2次元領域の2次元画像データを取得する。なお、イメージセンサ14は、図略のカバー部材で覆われている。
ところで、このように試料面Sの近傍に基準面R1,R2,R3を設け、この基準面R1,R2,R3からの反射光量を用いて試料面Sの反射光量を算出する方法においては、結像レンズ13の解像度や前述のカバー部材の存在等に起因して、試料面Sからの反射光のうち一部の反射光が、イメージセンサ14の撮像面のうち該試料面Sの反射光を受光すべき部位に入射されずに、基準面R1,R2,R3の反射光を受光する部位に所謂漏洩光として入射される。
図2は、試料面S及び各基準面R1,R2,R3の反射光量(測定光量)の大きさを示す分布図である。なお、縦軸はその反射光量(測定光量)の大きさを示し、横軸は図1におけるX軸に相当する。
図2において、白色で示す部分が真の反射光量(漏洩光を含まない反射光量)に相当し、斜線で示す部分が漏洩光の光量に相当するものである。漏洩光は、図2に示すように、複数の基準面R1,R2,R3のうち試料面Sに近い基準面ほど大きくなる(R1>R2>R3)とともに、各基準面R1,R2,R3においては試料面Sに近い領域ほど大きくなる(図4も参照)。これにより、測定される基準面R1,R2,R3の反射光量に誤差が生じる。
そこで、本実施形態では、このような漏洩光成分を除去して各基準面R1,R2,R3の正確な反射光量の測定を行うべく、図1に示すように、この漏洩光の光量を検出するための漏洩光測定面Gを試料面S及び基準面R1,R2,R3に隣接して設け、この漏洩光測定面Gからの反射光量から各基準面R1,R2,R3について生じる前記漏洩光成分を推定し、その漏洩光測定面Gからの反射光量を用いて基準面R1,R2,R3の真の反射光量を導出しているところに特徴を有している。この基準面R1,R2,R3の反射光量の詳細な導出方法については後述する。
図1に戻り、ゲイン可変アンプ15は、増幅倍率を演算装置19からの信号により変更することができ、イメージセンサ14より出力される出力信号を増幅する。A/D変換器16は、アナログ信号をデジタル信号に変換する。イメージセンサ制御装置17は、イメージセンサ14に蓄積される電荷の蓄積時間を制御するものであり、蓄積時間を変化させることによって出力信号強度を変化させる。発光制御装置18は、光源11の発光タイミング及び発光時間を制御するものである。
演算装置19は、例えば、CPU(中央演算処理装置)等で構成され、基準光量演算部191、基準面選択部192、増幅倍率決定部193、蓄積時間決定部194、増幅倍率設定部195及び蓄積時間設定部196として機能する。
基準光量演算部191は、漏洩光測定面Gからの反射光量を用いて、各基準面R1,R2,R3からの真の反射光量を算出するものである。以下、この算出方法について説明する。
図3は、試料面S、基準面R1,R2,R3及び漏洩光測定面Gを撮像するイメージセンサ14の撮像面を示す図である。なお、このイメージセンサ14の撮像面に対し2次元座標系を設定しており、図3におけるX軸方向及びY軸方向は、図1におけるX軸方向及びY軸方向に対応するものである。
図3に示すように、イメージセンサ14の撮像面について、X軸方向の画素数を例えば1500(個)、Y軸方向の画素数を例えば1400(個)とし、基準面R1,R2,R3からの反射光をそれぞれ受光する領域r1(x,y),r2(x,y),r3(x,y)と、漏洩光測定面Gからの反射光を受光する領域A(x,y)と、試料面Sからの反射光を受光する領域S(x,y)とについて下記表1のように定義するものとする。
さらに、漏洩光測定面Gからの反射光を受光する領域A(x,y)に属する画素のうち、201≦x≦300の領域(領域T1という)に属する画素への平均の漏洩光量をDav1と、101≦x≦200の領域(領域T2という)に属する画素への平均の漏洩光量をDav2と、1≦x≦100の領域(領域T3という)に属する画素への平均の漏洩光量をDav3と表すものとする。実際には、前述したように各領域T1〜T3において、漏洩光量は試料面Sに近い部位ほど大きくなるが、ここでは、前記各領域T1〜T3及び領域r1〜r3内では漏洩光量が均一であるものとみなし、基準面R1,R2,R3からの真の反射光量を算出するにあたって平均の漏洩光量Dav1〜Dav3を用いるものとする。
また、漏洩光が無い状態(換言すれば測定開口12からの反射光が無い状態もしくは光源11により試料面Sを照明していない状態)において領域Aに属する画素から得られる画素データをD0(x,y)、試料面Sの反射光量を測定した時に、領域Aに属する画素から得られる画素データをD(x,y)と表すものとする。
ここで、図4(a)に示すように、基準面R1,R2,R3について測定される反射光量は、前述したように、基準面R1,R2,R3の真の反射光量(真の基準値)の他に漏洩光成分を含むものであり、この漏洩光成分だけを取り出して表した反射光量の分布を図4(b)に示す。この図4(b)に示すように、試料面Sに近くなるほど漏洩光成分が大きくなる。
一方、測定される漏洩光測定面Gからの反射光量は、漏洩光成分とオフセットとの和となる。オフセットは、漏洩光が無いときの反射光量(光源11により試料面Sを照明していない状態における漏洩光測定面Gからの反射光量)である。したがって、図4(c)に示すように、各基準面R1,R2,R3における真の基準値(反射光量)は、各基準面R1,R2,R3について、漏洩光測定面Gから検出された反射光量から漏洩光測定面Gのオフセットを減算し、その減算値を基準面R1,R2,R3から検出された各反射光量から減算することにより得られる。
以上のことから、まず、各領域T1〜T3における平均漏洩光量Dav1、Dav2、Dav3を次の数1で求める。
各式(1)〜(3)の第1項は漏洩光成分を示し、第2項は前述のオフセットを示す。すなわち、式(1)において、第1項は、イメージセンサ14の各画素のうち、領域T1に属する画素の画素データの平均値を示し、第2項は、光源11により試料面Sを照明していない状態におけるその画素の画素データの平均値を示す。同様に、式(2)において、第1項は、イメージセンサ14の撮像面のうち、領域T2に属する画素の画素データの平均値を示し、第2項は、光源11により試料面Sを照明していない状態におけるその画素の画素データの平均値を示す。式(3)において、第1項は、イメージセンサ14の撮像面のうち、領域T3に属する画素の画素データの平均値を示し、第2項は、光源11により試料面Sを照明していない状態におけるその画素の画素データの平均値を示す。
したがって、領域r1,r2,r3にそれぞれ属する全ての画素から得られる画素データの平均値をそれぞれAav,Bav,Cavと表すものとすると、各基準面R1,R2,R3の反射光量は、この平均画素値Aav,Bav,Cavから前記各式(1)〜(3)で求めた平均漏洩光量Dav1、Dav2、Dav3を減算することにより算出することができることから、
基準面R1の反射光量=Aav−Dav1 ・・・(4)
基準面R2の反射光量=Bav−Dav2 ・・・(5)
基準面R3の反射光量=Cav−Dav3 ・・・(6)
となる。
基準面R1の反射光量=Aav−Dav1 ・・・(4)
基準面R2の反射光量=Bav−Dav2 ・・・(5)
基準面R3の反射光量=Cav−Dav3 ・・・(6)
となる。
基準面選択部192は、漏洩光成分除去後の2次元画像データの中から複数の基準面R1,R2,R3のいずれか1に相当する部分の画像データを選択する。
イメージセンサ14からの信号強度は、各画素に入射する光量と、蓄積される電荷の蓄積時間とに依存する。A/D変換器16の分解能は、例えば10ビットに固定であるため、このA/D変換器16の分解能を有効に利用するためには、A/D変換の基準内でイメージセンサ14からの信号を大きくする必要がある。イメージセンサ14からの信号を大きくするには、蓄積時間を長くしてイメージセンサ14から出力される信号を大きくする方法と、光源11からの光量が一定であるとすると、イメージセンサ14から出力された信号を増幅する方法とがある。試料面Sからの信号強度と、基準面からの信号強度との比は増幅倍率や蓄積時間を変化させても不変であるので、信号強度が小さいほうに合わせて蓄積時間を長くしたり、増幅したりすると、信号強度が大きいほうの信号は飽和してしまう。そのため、試料面Sからの信号強度と、基準面からの信号強度との比は、理想的には1が好ましく、基準面を複数設けることによって、比が1に最も近づく基準面を選択することが可能となる。したがって、基準面選択部192は、試料面Sからの信号強度と、複数の基準面R1,R2,R3からの信号強度との比を算出し、算出された比が1に近似する基準面を選択する。
増幅倍率決定部193は、試料面Sの出力信号と、基準面選択部192によって選択された基準面の出力信号とがA/D変換器16の限界値を超えない範囲で、ゲイン可変アンプ15の増幅倍率を決定する。蓄積時間決定部194は、試料面Sの出力信号と、基準面選択部192によって選択された基準面Sの出力信号とがA/D変換器16の限界値を超えない範囲で、イメージセンサ14における電荷が蓄積される蓄積時間を決定する。
このように、増幅倍率決定部193によりゲイン可変アンプ15の増幅倍率を決定し、蓄積時間決定部194によりイメージセンサ14における電荷が蓄積される蓄積時間を決定することによって、イメージセンサ14の出力信号を制御する。
増幅倍率設定部195は、ゲイン可変アンプ15の増幅倍率を、増幅倍率決定部193によって決定された増幅倍率(増幅倍率記憶部201に記憶されている増幅倍率)に設定する。蓄積時間設定部196は、イメージセンサ14における各画素の電荷の蓄積時間を、蓄積時間決定部194によって決定された蓄積時間(蓄積時間記憶部202に記憶されている蓄積時間)に設定する。
記憶装置20は、例えば、RAM(Random Access Memory)やEEPROM(Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory)等で構成され、測定結果などを一時的に記憶するとともに、演算装置19を動作させるための制御プログラムを記憶し、さらに、増幅倍率記憶部201及び蓄積時間記憶部202として機能する。
増幅倍率記憶部201は、増幅倍率決定部193によって決定されたゲイン可変アンプ15の増幅倍率を記憶する。蓄積時間記憶部202は、蓄積時間決定部194によって決定されたイメージセンサ14が蓄積する電荷の蓄積時間を記憶する。
次に、本実施形態における反射光測定装置1の動作について説明する。図5は、本実施形態における反射光測定装置1の動作を示すフローチャートである。
まず、試料の本測定の前に行われる予備測定が行われる。この予備測定は、本測定時においてイメージセンサ14によって取得される2次元画像データの増幅倍率及びイメージセンサ14における電荷の蓄積時間を決定するものである。ステップS1からステップS7までの動作が、予備測定として行われる動作である。
ステップS1において、発光制御装置18は、発光タイミング及び発光時間を制御する発光制御信号を光源11に出力する。光源11は、発光制御装置18より入力される発光制御信号に基づいて発光する。光源11より出力された光は、試料面S、複数の基準面R1,R2,R3及び漏洩光測定面Gを照明する。試料面S、複数の基準面R1,R2,R3及び漏洩光測定面Gによって反射された反射光は、結像レンズ13に入射し、結像レンズ13によって、試料面S、複数の基準面R1,R2,R3及び漏洩光測定面Gを含む2次元領域の像がイメージセンサ14上に結像される。
ステップS2において、イメージセンサ制御装置17は、イメージセンサ14の電荷の蓄積時間を制御する蓄積時間制御信号をイメージセンサ14に出力する。なお、ここでのイメージセンサ14における電荷の蓄積時間は、予め決められている初期設定時間に設定される。イメージセンサ14は、結像レンズ13によって結像される2次元領域の像を受光し、イメージセンサ制御装置17より入力される蓄積時間制御信号に基づいて2次元領域の2次元画像データを取得する。イメージセンサ14により取得された2次元画像データは、ゲイン可変アンプ15により増幅される。なお、ここでの増幅倍率は、予め決められている初期設定倍率に設定される。ゲイン可変アンプ15によって増幅された2次元画像データは、A/D変換器16に入力される。
ステップS3において、A/D変換器16は、アナログ信号である2次元画像データをデジタル信号に変換する。A/D変換器16によってデジタル信号に変換された2次元画像データは、演算装置19に入力される。
ステップS4において、演算装置19は、前述のように、漏洩光測定面Gからの反射光量を用いて、基準面R1,R2,R3からの反射光を受光すべき画素に入射する漏洩光の光量を推定し、この推定した漏洩光の光量を基準面R1,R2,R3の反射光量に含まれる漏洩光の光量とみなし、この漏洩光成分を各基準面R1,R2,R3の反射光量から除去して基準面R1,R2,R3の真の反射光量を導出する。そしてステップS5において、漏洩光成分除去後の2次元画像データのうち、試料面Sに対応する信号の強度と、複数の基準面R1,R2,R3のうちの各基準面に対応する信号の強度との比を算出し、算出された比が1に最も近似する基準面を選択する。
ステップS6において、演算装置19は、試料面Sに対応する出力信号と、選択された基準面に対応する出力信号とがA/D変換器16の予め設定されている限界値を超えない範囲で、ゲイン可変アンプ15の増幅倍率を決定するとともに、イメージセンサ14における電荷が蓄積される蓄積時間を決定する。
ステップS7において、演算装置19は、決定されたゲイン可変アンプ15の増幅倍率を記憶装置20に記憶するとともに、決定されたイメージセンサ14の電荷の蓄積時間を記憶装置20に記憶する。
このようにして、試料面Sの出力信号と、基準面R1,R2,R3の出力信号に基づいて、ゲイン可変アンプ15の増幅倍率と、イメージセンサ14の電荷の蓄積時間とが決定される。
このように、光源11により、試料面Sが照明され、イメージセンサ14により、光源11によって照明された試料面Sを含む2次元領域の2次元画像が取得され、結像レンズ13により、光源11によって照明された試料面Sを含む2次元領域の像がイメージセンサ14に結像され、試料面Sを含む2次元領域内に互いに異なる反射率を有する基準面R1,R2,R3が配置され、演算装置19により、基準面R1,R2,R3のいずれか1に対応する部分のイメージセンサ14の出力に応じて、イメージセンサ14の出力信号が制御される。具体的には、増幅倍率決定部193によりゲイン可変アンプ15の増幅倍率が決定され、蓄積時間決定部194によりイメージセンサ14における電荷が蓄積される蓄積時間が決定されることによって、イメージセンサ14の出力信号が制御される。
上記のステップS1からステップS7までの予備測定が行われた後、本測定が行われる。ステップS8からステップS13までの動作が、本測定として行われる動作である。
ステップS8において、演算装置19は、記憶装置20に記憶されている増幅倍率にゲイン可変アンプ15を設定するとともに、記憶装置20に記憶されている蓄積時間にイメージセンサ制御装置17を設定する。
ステップS9において、発光制御装置18は、発光タイミング及び発光時間を制御する発光制御信号を光源11に出力する。光源11は、発光制御装置18より入力される発光制御信号に基づいて発光する。光源11より出力された光は、試料面S、複数の基準面R1,R2,R3及び漏洩光測定面Gを照明する。試料面S、複数の基準面R1,R2,R3及び漏洩光測定面Gによって反射された反射光は、結像レンズ13に入射し、結像レンズ13によって、試料面S、複数の基準面R1,R2,R3及び漏洩光測定面Gを含む2次元領域の像がイメージセンサ14上に結像される。
ステップS10において、イメージセンサ制御装置17は、イメージセンサ14の電荷の蓄積時間を制御する蓄積時間制御信号をイメージセンサ14に出力する。なお、ここでのイメージセンサ14における電荷の蓄積時間は、ステップS8において決定された蓄積時間に設定される。イメージセンサ14は、結像レンズ13によって結像される2次元領域の像を受光し、イメージセンサ制御装置17より入力される蓄積時間制御信号に基づいて2次元領域の2次元画像データを取得する。イメージセンサ14により取得された2次元画像データは、ゲイン可変アンプ15により増幅される。なお、ここでの増幅倍率は、ステップS8において決定された増幅倍率に設定される。ゲイン可変アンプ15によって増幅された2次元画像データは、A/D変換器16に入力される。
ステップS11において、A/D変換器16は、アナログ信号である2次元画像データをデジタル信号に変換する。A/D変換器16によってデジタル信号に変換された2次元画像データは、演算装置19に入力される。
ステップS12において、演算装置19は、ステップ♯4と同様に、漏洩光測定面Gからの反射光量を用いて、基準面R1,R2,R3からの反射光を受光すべき画素に入射する漏洩光の光量を推定する。この推定した漏洩光の光量を基準面R1,R2,R3の反射光量に含まれる漏洩光の光量とみなし、この漏洩光成分を各基準面R1,R2,R3の反射光量から除去して基準面R1,R2,R3の真の反射光量を導出し、各基準面R1,R2,R3における真の反射光量の平均を算出する。
ステップS13において、演算装置19は、下記の(7)式に基づいて測定値を算出する。
測定値=試料面の反射光量/選択した基準面における真の反射光量の平均・・・(7)
すなわち、演算装置19は、試料面Sの反射光量を複数の基準面R1,R2,R3のうち選択された基準面について、前述のように漏洩光成分を除去した真の反射光量の平均で除算することによって測定値を算出する。
すなわち、演算装置19は、試料面Sの反射光量を複数の基準面R1,R2,R3のうち選択された基準面について、前述のように漏洩光成分を除去した真の反射光量の平均で除算することによって測定値を算出する。
以上のように、イメージセンサ14の各画素のうち各基準面R1,R2,R3からの反射光を受光すべき画素に入射する漏洩光の光量を推定するための漏洩光測定面Gを備え、この漏洩光測定面Gからの反射光量を用いて基準面R1,R2,R3からの反射光を受光すべき画素に入射する漏洩光の光量を推定し、この推定した漏洩光の光量を基準面R1,R2,R3の反射光量に含まれる漏洩光の光量とみなして該漏洩光量を除去するようにしたので、基準面R1,R2,R3の真の反射光量、延いては試料面Sの真の反射光量を導出することができる。
なお、本発明は、前記第1の実施形態に限られるものではなく、次の(1)〜(7)に説明する変形形態も採用可能である。
(1)漏洩光測定面Gの配置形態として、第1の実施形態で示したものの他に例えば次のようなものでもよい。
図6は、他の漏洩光測定面Gの配置形態を示す図である。この実施形態においては、照明の不均一性、すなわち照明光量は試料面Sの中心から離れるにしたがって小さくなることによる、Y軸方向に生じる漏洩光量のムラを考慮して漏洩光測定面Gを配置したものである。
すなわち、反射率の異なる複数の基準面R1,R2,R3を測定開口12に対しそれぞれX軸方向に所定の間隔を介して並べて配置し、且つそれらの基準面R1,R2,R3及び試料面Sにより形成された間隙に、基準面R1,R2,R3及び試料面SとY軸方向に略同寸の漏洩光測定面Gを配置している。
この場合、例えば、各基準面R1,R2,R3に対し右側に隣接する漏洩光測定面Gが対応するものとして、まず各漏洩光測定面Gからの反射光量を測定するとともに、各漏洩光測定面Gの各部位に対応する各基準面R1,R2,R3の各部位について、この測定した漏洩光量を用いて真の反射光量を求めればよい。
(2)また、図7に示すように、反射率の異なる複数の基準面R1,R2,R3をX軸方向に所定の間隔を介して並べて配置し、且つそれらの基準面R1,R2,R3で構成されてなるブロックをY軸方向に所定の間隔を介して並べて配置するとともに、それらの基準面R1,R2,R3及び試料面Sにより形成された間隙に、X軸方向に基準面R1,R2,R3と略同寸の漏洩光測定面Gを配置するようにしてもよい。
この場合、X軸方向における漏洩光量の変化と、Y軸方向に生じる漏洩光量のムラとを併せて考慮することで、基準面R1,R2,R3の真の反射光量をより正確に導出することができる。
(3)また、図8に示すように、複数の基準面R1,R2,R3をY軸方向に並べて配置してもよい。すなわち、反射光測定装置1の底部に形成される測定開口12の左右両側に矩形状の複数の基準面R1,R2,R3を配置する。なお、基準面R1,R2,R3は、図8では左右対称に配置されるが、本発明は特にこれに限定されず、左右非対称であってもよく、複数の基準面の数はいくつでもよい。
そして、この場合、漏洩光測定面Gは、例えばY軸方向において各基準面R1,R2,R3に挟まれるように、Y軸方向に所定の間隔を介して配置するとよい。
(4)試料面Sが円形状である場合、基準面及び漏洩光測定面Gを例えば次のように配置してもよい。図9は、試料面Sが円形状である場合における基準面及び漏洩光測定面Gの配置例を示す図であり、図9(a)は、円形状の試料面Sに対して同心円環状に配置される基準面を示す図であり、図9(b)は、複数の基準面が、円形状の試料面Sに対して同心円環状に配置され、且つ1の同心円環上に配置される基準面を示す図である。
図9(a)に示すように、反射光測定装置1の底部に形成される円形状の測定開口12’の同心円環状に複数の基準面R1,R2を配置する。なお、円形状の試料面Sの同心円環状に配置される複数の基準面の数は、図9(a)に示す2つに限らずいくつでもよい。
また、図9(b)に示すように、反射光測定装置1の底部に形成される円形状の測定開口12’の同心円環状に配置するとともに、1の同心円環上に複数の基準面R1,R2,R3,R4を配置する。同心円環の数は図9(b)に示す2つの限らずいくつでもよい。また、1の同心円環において配置される基準面の数も図9(b)に示す4つに限らずいくつでもよい。
そして、このように試料面Sが円形状である場合には、例えば図9(a)に示すように、漏洩光測定面Gを周方向に所定の間隔を介して放射状に複数配置してもよいし、あるいは図9(b)に示すように、基準面R1〜R4で構成される同心円環に径方向に隣接して同心円環状の漏洩光測定面Gを設けてもよい。
(5)基準面の種類数は、前記第1の実施形態や変形形態(1)で示したように3種類に限られるものではなく、適宜設定可能である。
(6)前記第1の実施形態では、各基準面R1,R2,R3の反射光量を算出するに際し、平均値(領域r1,r2,r3にそれぞれ属する全ての画素から得られる画素データの平均値Aav,Bav,Cav及び各領域T1〜T3における平均漏洩光量Dav1、Dav2、Dav3)を用いたが、これに限らず、領域r1,r2,r3にそれぞれ属する全ての画素から得られる画素データの合計値と、各領域T1〜T3における漏洩光量の各合計値とから各基準面R1,R2,R3の反射光量を算出するようにしてもよい。
(7)前記第1の実施形態では、2次元領域の2次元画像データを取得するイメージセンサを用いたが、これに限らず、ラインセンサを用い、このラインセンサを例えば図6のX軸方向に対応する方向に沿って配置することにより、図10に示すように、そのラインセンサの撮像部位が、試料面Sからの反射光を受光する試料光撮像部位(図中「S」と表記)と、基準面R1,R2,R3からの反射光を受光する基準光撮像部位(図中「R1」,「R2」,「R3」と表記)と、漏洩光測定面Gからの反射光を受光する漏洩光撮像部位(図中「G」と表記)とを有し、且つ試料光撮像部位の隣で基準光撮像部位と漏洩光撮像部位とが交互に並ぶように撮像した場合には、各基準光撮像部位に隣接する漏洩光撮像部位からのデータを用いて、当該基準光撮像部位に対応する基準面の部位における真の反射光量を導出することができる。
1 反射光測定装置
11 光源
12 測定開口
13 結像レンズ
14 イメージセンサ
19 演算装置
191 基準光量演算部
S 試料面
R1,R2,R3 基準面
G 漏洩光測定面
11 光源
12 測定開口
13 結像レンズ
14 イメージセンサ
19 演算装置
191 基準光量演算部
S 試料面
R1,R2,R3 基準面
G 漏洩光測定面
Claims (4)
- 試料面を照明する光源と、
前記光源により照明される試料面を含む所定領域内に配置された基準面と、
前記試料面を含む所定領域内に漏洩光の光量を測定すべく配置された漏洩光測定面と、
前記光源により照明された試料面、基準面及び漏洩光測定面のそれぞれ少なくとも一部を含んでなる領域の画像を取得する画像センサと、
前記光源により照明された試料面、基準面及び漏洩光測定面のそれぞれ少なくとも一部を含んでなる領域の像を前記画像センサに結像する結像光学系と、
前記測定した漏洩光測定面からの反射光量に基づき前記基準面について生じる漏洩光成分を推定し、前記画像センサの出力により得られる前記基準面の反射光量から前記漏洩光成分を除去する演算部と
を備えることを特徴とする反射光測定装置。 - 前記所定領域に対して2次元座標系を設定したとき、前記漏洩光測定面は、少なくとも一方の軸方向において前記基準面と同一の位置に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の反射光測定装置。
- 前記演算部は、前記試料面が前記光源により照明されている状態における漏洩光測定面からの反射光量から、前記試料面が前記光源により照明されていない状態における前記漏洩光測定面からの反射光量を減算し、その漏洩光測定面と前記一方の軸方向において同一の位置に配置された基準面の反射光量から前記減算値を減算することにより前記基準面の反射光量から前記漏洩光成分を除去することを特徴とする請求項2に記載の反射光測定装置。
- 試料面を照明する光源と、前記光源により照明された試料面を含む所定領域の画像を取得する画像センサと、前記光源により照明された試料面を含む所定領域の像を前記画像センサに結像する結像光学系と、前記試料面を含む所定領域内に配置された基準面とを備えた反射光測定装置における反射光測定方法であって、
前記試料面を含む所定領域内に漏洩光の光量を測定するための漏洩光測定面を配置し、
前記光源により照明された試料面、基準面及び漏洩光測定面のそれぞれ少なくとも一部を含んでなる領域の画像を前記画像センサにより取得し、
前記測定した漏洩光測定面からの反射光量に基づき前記基準面について生じる漏洩光成分を推定し、前記画像センサの出力により得られる前記基準面の反射光量から前記漏洩光成分を除去することを特徴とする反射光測定方法。
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---|---|---|---|
JP2003423729A JP2005181151A (ja) | 2003-12-19 | 2003-12-19 | 反射光測定装置及び反射光測定方法 |
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JP (1) | JP2005181151A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011154617A1 (en) * | 2010-07-09 | 2011-12-15 | Teknologian Tutkimuskeskus Vtt | Method and device for measuring the colour and other properties of a surface |
-
2003
- 2003-12-19 JP JP2003423729A patent/JP2005181151A/ja not_active Withdrawn
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