JP2005175451A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2005175451A5
JP2005175451A5 JP2004328464A JP2004328464A JP2005175451A5 JP 2005175451 A5 JP2005175451 A5 JP 2005175451A5 JP 2004328464 A JP2004328464 A JP 2004328464A JP 2004328464 A JP2004328464 A JP 2004328464A JP 2005175451 A5 JP2005175451 A5 JP 2005175451A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser beam
predetermined position
laser
deviation
parallel plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2004328464A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2005175451A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2004328464A priority Critical patent/JP2005175451A/ja
Priority claimed from JP2004328464A external-priority patent/JP2005175451A/ja
Publication of JP2005175451A publication Critical patent/JP2005175451A/ja
Publication of JP2005175451A5 publication Critical patent/JP2005175451A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

JP2004328464A 2003-11-20 2004-11-12 レーザ照射装置並びに半導体装置の作製方法 Withdrawn JP2005175451A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004328464A JP2005175451A (ja) 2003-11-20 2004-11-12 レーザ照射装置並びに半導体装置の作製方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003390573 2003-11-20
JP2004328464A JP2005175451A (ja) 2003-11-20 2004-11-12 レーザ照射装置並びに半導体装置の作製方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005175451A JP2005175451A (ja) 2005-06-30
JP2005175451A5 true JP2005175451A5 (ko) 2007-11-22

Family

ID=34741968

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004328464A Withdrawn JP2005175451A (ja) 2003-11-20 2004-11-12 レーザ照射装置並びに半導体装置の作製方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005175451A (ko)

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5896883A (ja) * 1981-12-04 1983-06-09 Nippon Steel Weld Prod & Eng Co Ltd ル−プ状線材の表面処理方法
JPH0623250B2 (ja) * 1986-06-19 1994-03-30 三菱化成株式会社 芳香族ポリ（チオ）エ−テルケトンの製造法
JP2555650B2 (ja) * 1987-11-25 1996-11-20 富士通株式会社 レーザアニール方法
JPH0445673A (ja) * 1990-06-13 1992-02-14 Hitachi Denshi Ltd 固体撮像装置
JPH05307156A (ja) * 1992-04-30 1993-11-19 Fuji Photo Optical Co Ltd ビームシフタ装置
JPH0720403A (ja) * 1993-07-06 1995-01-24 Nec Corp レーザ光位置制御装置
JPH11283933A (ja) * 1998-01-29 1999-10-15 Toshiba Corp レ―ザ照射装置，非単結晶半導体膜の製造方法及び液晶表示装置の製造方法
JP2000200760A (ja) * 1999-01-07 2000-07-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd レ―ザアニ―ル処理方法とレ―ザアニ―ル処理装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI684836B (zh) 圖案描繪裝置
JP5704591B2 (ja) 配向処理方法及び配向処理装置
TWI712867B (zh) 直接描繪曝光裝置
CN104583874A (zh) 衬底支承装置及曝光装置
JP2007165770A (ja) レーザー結晶化装置及び結晶化方法
JP2008205443A5 (ko)
CN103081060A (zh) 使用了微透镜阵列的曝光装置及光学构件
JP2007214388A (ja) 結晶化装置、および位置決めステージ
TW201248691A (en) Laser processing device
JP2007219191A (ja) 液晶表示用基板の製造方法
JP2005175451A5 (ko)
JP6370227B2 (ja) レーザー光線の検査方法
JP2015106015A (ja) 偏光光照射装置、偏光光照射方法および偏光光照射プログラム
US20110080566A1 (en) Method for replicating production of 3d parallax barrier
TWI707393B (zh) 雷射加工裝置
JP2011226939A (ja) 基板検査方法及び装置
JP2005210103A5 (ko)
JP4647388B2 (ja) レーザ加工方法及び装置
KR101326133B1 (ko) 평판 표시 장치 제조 시스템
JP2007090760A (ja) 基板の割断方法、電気光学装置の製造方法
JP2005311346A5 (ko)
JP2007227592A (ja) レーザ照射装置及びレーザアニール装置
JP2006135308A5 (ko)
JP2017199789A (ja) レーザー加工装置
JP2016180627A (ja) 偏光光測定装置、および偏光光照射装置