JP2005162861A - 含フッ素ポリマー - Google Patents
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Abstract
【解決手段】CF2=CFCF2−C(CF3)(R5)−CH2CH=CH2 (3)
ただし、R5は −CHR7−O−R8によりブロック化された水酸基または該水酸基を有する有機基であり、R8は酸性基含有有機基を有するシクロアルキル基もしくは該酸性基含有シクロアルキル基を1つ以上有する有機基、酸性基含有有機基を有するビシクロアルキル基もしくは該酸性基含有ビシクロアルキル基を1つ以上有する有機基、または、酸性基含有有機基を有するテトラシクロアルキル基もしくは該酸性基含有テトラシクロアルキル基を1つ以上有する有機基を表わす。
【選択図】なし
Description
(ただし、R1、R2は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数3以下のアルキル基または炭素数3以下のフルオロアルキル基、R3、R6はそれぞれ独立に、単結合、酸素原子、エーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数3以下のアルキレン基またはエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数3以下のフルオロアルキレン基を表し、R4は水素原子、フッ素原子、炭素数3以下のアルキル基またはエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数3以下のフルオロアルキル基を表し、R5は式(2)で表されるブロック化基によりブロック化された水酸基または式(2)で表されるブロック化基によりブロック化された水酸基を有する有機基を表す。)。
(ただし、R7は、水素原子または炭素数3以下のアルキル基であり、R8は酸性基含有有機基を有するシクロアルキル基もしくは該酸性基含有シクロアルキル基を1つ以上有する有機基、酸性基含有有機基を有するビシクロアルキル基もしくは該酸性基含有ビシクロアルキル基を1つ以上有する有機基、または、酸性基含有有機基を有するテトラシクロアルキル基もしくは該酸性基含有テトラシクロアルキル基を1つ以上有する有機基を表わす。)
CF2=CFCF2−C(CF3)(R5)−CH2CH=CH2 (3)。
−CHR7−O−R8 ・・・(2)。
T−CHR7−O−R8 ・・・(7)。
1Lのオートクレーブに、1,1,1−トリフルオロ−2−(トリフルオロメチル)ペント−4−エン−2−オールの190g、シクロペンタジエンの80gおよびヒドロキノンの0.5gを仕込み、190℃で10時間加熱して反応させた。反応終了後、蒸留により精製して、沸点(0.5mmHg)が118〜120℃の成分39gを得た。
撹拌機、還流冷却器および水素バブラーを装着したフラスコに、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−(テトラシクロ[6.2.1.13,6 .02,7 ]ドデカ−9−エン−4−イルメチル)−2−プロパノールの50g、エタノールの100gおよび炭化パラジウムの1gを加えて、水素ガスを室温で5時間バブリングした。その後、反応溶液をセライトでろ過して、得られた溶液を濃縮したのち、蒸留して、沸点(0.7mmHg)が102−105℃の成分45.2gを得た。
19F−NMRスペクトル(δ;単位ppm):
−76.9、−77.4、−77.8、−77.9(以上、CF3 部)。
1H−NMRスペクトル(δ;単位ppm):
2.76、2.28〜2.19、2.15〜1.00、0.58〜0.50。
13C−NMRスペクトル(δ;単位ppm):
123.2(4重線、CF3 部)、77.5〜76.0、50.6〜50.0、
49.0、43.0、42.5〜40.9、40.0、37.4、37.2、36.6 、36.4、36.0、34.8、32.5、31.3、24.9〜23.9。
撹拌機および還流冷却器を装着したフラスコに、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−(テトラシクロ[6.2.1.13,6 .02,7 ]ドデカ−9−エン−4−イルメチル)−2−プロパノール50gおよび蟻酸(濃度90重量%)23gを加え、100℃で12時間加熱した。その後、低沸点成分を留去して、アンモニア水(濃度27重量%)30ミリリットルを加え、60℃で12時間加熱した。その後、反応溶液を冷却して、ジエチルエーテル200ミリリットルを加え、1N塩酸水溶液100ミリリットルで2回洗浄し、さらに水100ミリリットルで4回洗浄した。その後、得られた溶液に硫酸マグネシウムを添加して乾燥したのち、蒸留して、沸点(圧力0.5mmHg)が161〜163℃の成分34gを得た。
19F−NMRスペクトル(δ;単位ppm):
−77.3、−77.6、−78.0、−78.1(以上、CF3 部)
1H−NMRスペクトル(δ;単位ppm):
4.23、4.06、3.6〜3.8、2.30〜0.91、0.70〜0.50。
13C−NMRスペクトル(δ;単位ppm):
123.5(4重線、CF3 部)、77.5〜76.0、75.8〜75.0、
71.0、53.0、50.0〜31.0。
A.Warshawsky,A.Deshe,R.Gutman, British Polymer Journal,16(1984)234.,およびJ.Polym.Sci.Polym.Chem.Ed.,23(6)(1985)1839.に基づいて合成を行った。
1H NMR(399.8MHz、溶媒:CDCl3、基準:テトラメチルシラン)δ(ppm):0.55〜0.73(m,1H(exo,endo体混合)),1.00〜2.50(m,16H(exo,endo体混合)),2.83(S,1H),3.81〜4.24(m,1H(exo,endo体混合)),5.50(d,2H)。
合成例4における化合物(e)の25.0gの替わりに、化合物(g)の20.4gを用いる以外は合成例4と同様の操作を行い、21.6gのクロロメチル化体(h)を得た。収率は91%であり、1H NMRによる純度は90%であった。
1H NMR(399.8MHz、溶媒:CDCl3、基準:テトラメチルシラン)δ(ppm): 0.53〜0.74(m,1H(exo,endo体混合)),1.00〜2.50(m,10H(exo,endo体混合)),2.88(S,1H),3.84〜4.25(m,1H(exo,endo体混合)),5.52(d,2H)。
合成例4における化合物(e)の25.0gの替わりに、化合物(i)の18.6gを用いる以外は合成例1と同様の操作を行い、19.3gのクロロメチル化体(j)を得た。収率は88%であり、1H NMRによる純度は90%であった。以下に、1H NMRのデータを示す。
1H NMR(399.8MHz、溶媒:CDCl3、基準:テトラメチルシラン)δ(ppm): 0.55〜0.73(m,1H(exo,endo体混合)),1.06〜2.43(m,8H(exo,endo体混合)),2.90(S,1H),3.82〜4.27(m,1H(exo,endo体混合)),5.55(d,2H)。
2Lのガラス製反応反応器にCF2ClCFClCF2C(O)CF3の108gと脱水THFの500mLとを仕込み、0℃に冷却した。ここにCH2=CHCH2MgClの2MのTHF溶液200mLをさらに200mLの脱水THFで希釈した溶液を、窒素雰囲気下で約5.5時間かけて滴下した。滴下終了後0℃で30分、室温で17時間撹拌した後、2N塩酸200mLを滴下した。水200mLとジエチルエーテル300mLを加え分液し、ジエチルエーテル層を有機層として得た。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過し粗液を得た。この粗液をエバポレーターで濃縮し、次いで減圧蒸留して、85gのCF2ClCFClCF2C(CF3)(OH)CH2CH=CH2(60〜66℃/0.7kPa)を得た。
1H NMR(399.8MHz、溶媒:CDCl3、基準:テトラメチルシラン)δ(ppm):2.74(d,J=7.3,2H),3.54(boad s,1H),5.34(m,2H),5.86(m,1H)。
19F NMR(376.2MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(ppm):−75.7(m,3F),−92.2(m,1F),−106.57(m,1F),−112.6(m,2F),−183.5(m,1F)。
10Lのガラス製反応器にCF2ClCFClCF2C(O)CF3の758gと脱水THFの4.5Lを仕込み、0℃に冷却した。ここに窒素雰囲気下でCH2=CHCH2MgClの2MのTHF溶液1.4Lを約10.5時間かけて滴下した。滴下終了後0℃で30分、室温で12時間撹拌した後、クロロメチルメチルエーテルの350gを滴下し、さらに室温で92時間撹拌した。水1.5Lを添加、分液し、有機層をエバポレーターで濃縮し得られた粗液を1.5Lの水で2回水洗した。次いで減圧蒸留して、677gのCF2ClCFClCF2C(CF3)(OCH2OCH3)CH2CH=CH2(53〜55℃/0.17kPa)を得た。
1H NMR(399.8MHz、溶媒:CDCl3、基準:テトラメチルシラン)δ(ppm):3.16(broad,2H),3.44(s,3H),4.95(m,2H),5.22(m,2H),5.92(m,1H)。
19F NMR(376.2MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3)δ(ppm):−72.5(m,3F),−92.9(m,1F),−106.8(m,1F),−109.7(m,2F),−183.0(m,1F)。
1,1,2,3,3−ペンタフルオロ−4−トリフルオロメチル−4−ヒドロキシ−1,6−ヘプタジエン[CF2=CFCF2C(CF3)(OH)CH2CH=CH2]の7.50g、1,4−ジオキサンの3.66gおよび酢酸メチルの16.6gを、内容積30mLのガラス製耐圧反応器に仕込んだ。次に、重合開始剤としてパーフルオロベンゾイルパーオキシドの0.22gを添加した。系内を凍結脱気した後、恒温振とう槽内(70℃)で18時間重合させた。重合後、反応溶液をヘキサン中に滴下して、ポリマーを再沈させた後、150℃で15時間真空乾燥を実施した。その結果、主鎖に含フッ素環状モノマー単位を有する白色粉末状の非結晶性ポリマー(以下、前駆体ポリマーAと記す。)の5.40gを得た。前駆体ポリマーAの分子量をGPC(THF溶媒)にて測定したところ、ポリスチレン換算で、数平均分子量(Mn)は7,600、重量平均分子量(Mw)は15,000であり、Mw/Mnは1.99であった。示差走査熱分析(DSC)により測定したガラス転移温度は152℃であった。
1,1,2,3,3−ペンタフルオロ−4−トリフルオロメチル−4−ヒドロキシ−1,6−ヘプタジエン[CF2=CFCF2C(CF3)(OH)CH2CH=CH2]の4.82g、1,1,2,3,3−ペンタフルオロ−4−トリフルオロメチル−4−メトキシメチルオキシ−1,6−ヘプタジエン[CF2=CFCF2C(CF3)(OCH2OCH3)CH2CH=CH2]の1.00g、1,4−ジオキサンの0.78gおよび酢酸メチルの15.4gを、内容積30mLのガラス製耐圧反応器に仕込んだ。次に、重合開始剤としてパーフルオロベンゾイルパーオキシドの0.088gを添加した。系内を凍結脱気した後、恒温振とう槽内(70℃)で18時間重合させた。重合後、反応溶液をヘキサン中に滴下して、ポリマーを再沈させた後、150℃で15時間真空乾燥を実施した。その結果、主鎖に含フッ素環状モノマー単位を有する白色粉末状の非結晶性ポリマー(以下、前駆体ポリマーBと記す。)の5.16gを得た。前駆体ポリマーBの分子量をGPC(THF溶媒)にて測定したところ、ポリスチレン換算で、数平均分子量(Mn)は12,800、重量平均分子量(Mw)は31,000であり、Mw/Mnは2.42であった。示差走査熱分析(DSC)により測定したガラス転移点は140℃であった。
1,1,2,3,3−ペンタフルオロ−4−トリフルオロメチル−4−ヒドロキシ−1,6−ヘプタジエン[CF2=CFCF2C(CF3)(OH)CH2CH=CH2]の6.43gおよびtert−ブチルメタクリレートの0.18g、1,4−ジオキサンの0.93gおよび酢酸メチルの20.4gを内容積30mLのガラス製耐圧反応器に仕込んだ。次に、重合開始剤としてパーフルオロベンゾイルパーオキシドの0.112gを添加した。系内を凍結脱気した後、恒温振とう槽内(70℃)で18時間重合させた。重合後、反応溶液をヘキサン中に滴下して、ポリマーを再沈させた後、150℃で15時間真空乾燥を実施した。その結果、主鎖に含フッ素環状モノマー単位およびtert−ブチルメタクリレートからなるモノマー単位を有する白色粉末状の非結晶性ポリマー(以下、前駆体ポリマーCと記す。)の5.28gを得た。前駆体ポリマーCの分子量をGPC(THF溶媒)にて測定したところ、ポリスチレン換算で、数平均分子量(Mn)は8,300、重量平均分子量(Mw)は16,800であり、Mw/Mnは2.01であった。示差走査熱分析(DSC)により測定したガラス転移点は162℃であった。
合成例9にて合成した前駆体ポリマーAの5.00gおよびメタノールの100mLを500mLの丸底フラスコに入れ、マグネチックスターラーにて撹拌した。ポリマーが溶解した後水酸化ナトリウムのメタノール溶液(水酸化ナトリウム0.30gにメタノール3.37gを加え予め溶解させておく。)を加えて一晩室温にて撹拌した。溶媒を留去した後、脱水THF300mLおよび合成例4にて調製したクロロメチル化体(f)の1.51gおよびクロロメチルメチルエーテルの0.30gを加えて激しく撹拌した。2日間室温にて撹拌を続けた後、溶媒を留去した。残渣をジエチルエーテル100mLにて溶かし、純水200mLにて分液し水溶性成分を除去した。有機層から溶媒を留去した後、アセトン15mLに溶かし、ヘキサン中に滴下して、ポリマーを再沈させた。得られたポリマーを125℃で15時間真空乾燥し、白色粉末状の非結晶性ポリマー(以下、重合体3Aという。)を4.59g得た。
実施例1において、ポリマー前駆体Aの替わりに合成例10にて合成したポリマー前駆体Bを用いたこと、水酸化ナトリウム溶液の量を水酸化ナトリウム0.13gにメタノール1.44gを加えて溶解させたものに変えたこと、クロロメチル化体(f)の量を1.28gに変えたこと、およびクロロメチルエーテルを用いないこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、白色粉末状の非結晶性ポリマーを4.41g得た。
実施例2におけるクロロメチル化体(f)の1.28gの替わりに、合成例5にて調製したクロロメチル化体(h)の1.07gを用いる以外は、実施例2と同様の操作を行い、白色粉末状の非結晶性ポリマーを4.50g得た。
実施例2におけるクロロメチル化体(f)の1.28gの替わりに、合成例6にて調製したクロロメチル化体(j)の0.99gを用いる以外は、実施例2と同様の操作を行い、白色粉末状の非結晶性ポリマーを4.52g得た。
実施例1において、ポリマー前駆体Aの替わりに合成例11にて合成したポリマー前駆体Cを用いたこと以外は、実施例1と同様の操作を行い、白色粉末状の非結晶性ポリマーを4.00g得た。
Claims (5)
- 下記式(1)で表される含フッ素ジエンが環化重合したモノマー単位を有する含フッ素ポリマー。
CF2=CR1−R3−C(R4)(R5)−R6−CR2=CH2 (1)
(ただし、R1、R2は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、炭素数3以下のアルキル基または炭素数3以下のフルオロアルキル基、R3、R6はそれぞれ独立に、単結合、酸素原子、エーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数3以下のアルキレン基またはエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数3以下のフルオロアルキレン基を表し、R4は水素原子、フッ素原子、炭素数3以下のアルキル基またはエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数3以下のフルオロアルキル基を表し、R5は式(2)で表されるブロック化基によりブロック化された水酸基または式(2)で表されるブロック化基によりブロック化された水酸基を有する有機基を表す。)
−CHR7−O−R8 (2)
(ただし、R7は、水素原子または炭素数3以下のアルキル基であり、R8は酸性基含有有機基を有するシクロアルキル基もしくは該酸性基含有シクロアルキル基を1つ以上有する有機基、酸性基含有有機基を有するビシクロアルキル基もしくは該酸性基含有ビシクロアルキル基を1つ以上有する有機基、または、酸性基含有有機基を有するテトラシクロアルキル基もしくは該酸性基含有テトラシクロアルキル基を1つ以上有する有機基を表わす。) - 酸性有機基が−(CH2)m−C(CF3)2(OH)[ただし、mは0〜3の整数]である請求項1に記載の含フッ素ポリマー。
- 下記式(3)で表される含フッ素ジエンが環化重合したモノマー単位を有する含フッ素ポリマー。
CF2=CFCF2−C(CF3)(R5)−CH2CH=CH2 (3)
(ただし、R5は式(2)で表されるブロック化基によりブロック化された水酸基または式(2)で表されるブロック化基によりブロック化された水酸基を有する有機基を表す。)
−CHR7−O−R8 (2)
(ただし、R7は、水素原子または炭素数3以下のアルキル基であり、R8は酸性基含有有機基を有するシクロアルキル基もしくは該酸性基含有シクロアルキル基を1つ以上有する有機基、酸性基含有有機基を有するビシクロアルキル基もしくは該酸性基含有ビシクロアルキル基を1つ以上有する有機基、または、酸性基含有有機基を有するテトラシクロアルキル基もしくは該酸性基含有テトラシクロアルキル基を1つ以上有する有機基を表わす。) - 酸性有機基が−(CH2)m−C(CF3)2(OH)[ただし、mは0〜3の整数]である請求項3に記載の含フッ素ポリマー。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002525683A (ja) * | 1998-09-23 | 2002-08-13 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | ホトレジスト、ポリマーおよびマイクロリソグラフィの方法 |
WO2002065212A1 (fr) * | 2001-02-09 | 2002-08-22 | Asahi Glass Company, Limited | Composition de reserve |
WO2002064648A1 (fr) * | 2001-02-09 | 2002-08-22 | Asahi Glass Company, Limited | Composes et polymeres contenant du fluor et leurs procedes de production |
JP2003524211A (ja) * | 2000-02-25 | 2003-08-12 | マサチューセッツ・インスティテュート・オブ・テクノロジー | 157nmリソグラフィー用のレジスト材料 |
JP2003255540A (ja) * | 2002-03-04 | 2003-09-10 | Asahi Glass Co Ltd | レジスト組成物 |
WO2004041877A1 (ja) * | 2002-11-07 | 2004-05-21 | Asahi Glass Company, Limited | 含フッ素ポリマー |
-
2003
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002525683A (ja) * | 1998-09-23 | 2002-08-13 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | ホトレジスト、ポリマーおよびマイクロリソグラフィの方法 |
JP2003524211A (ja) * | 2000-02-25 | 2003-08-12 | マサチューセッツ・インスティテュート・オブ・テクノロジー | 157nmリソグラフィー用のレジスト材料 |
WO2002065212A1 (fr) * | 2001-02-09 | 2002-08-22 | Asahi Glass Company, Limited | Composition de reserve |
WO2002064648A1 (fr) * | 2001-02-09 | 2002-08-22 | Asahi Glass Company, Limited | Composes et polymeres contenant du fluor et leurs procedes de production |
JP2003255540A (ja) * | 2002-03-04 | 2003-09-10 | Asahi Glass Co Ltd | レジスト組成物 |
WO2004041877A1 (ja) * | 2002-11-07 | 2004-05-21 | Asahi Glass Company, Limited | 含フッ素ポリマー |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
YASUHIDE KAWAGUCHI ET. AL.: "Dry-Etching Resistance of Fluoropolymers for 157-nm Single-Layer Resists", PROCEEDINGS OF SPIE-THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, vol. 5039(Pt. 1, Advances in Resist Technolog, JPN6009029956, 24 February 2003 (2003-02-24), pages 43 - 52, ISSN: 0001348769 * |
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