JP2005158333A - トロイダル型コイル構造体および荷電粒子線露光装置 - Google Patents
トロイダル型コイル構造体および荷電粒子線露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005158333A JP2005158333A JP2003392299A JP2003392299A JP2005158333A JP 2005158333 A JP2005158333 A JP 2005158333A JP 2003392299 A JP2003392299 A JP 2003392299A JP 2003392299 A JP2003392299 A JP 2003392299A JP 2005158333 A JP2005158333 A JP 2005158333A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coil
- plate
- cylindrical member
- groove
- platy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
【課題】 板状コイルの基板の反りにも対応した板状コイルの位置合わせを簡単かつ高い精度で行うことができるトロイダル型コイル構造体を提供する。
【解決手段】 外周面にその軸方向に延びる複数の溝を有する円筒部材と、少なくとも1面が前記円筒部材の軸方向に垂直になるように前記円筒部材に嵌合され、前記円筒部材の軸との交点を中心として放射状に延びる複数の溝を有する板状部材と、少なくとも片面にコイルが形成された基板からなる複数の板状コイルと、を有し、前記板状コイルは前記円筒部材の溝および前記板状部材の溝に挿入され、前記円筒部材の軸に対して前記板状コイルが放射状に配置されてなるトロイダル型コイル構造体であって、
前記板状コイルの少なくとも一方のコイル形成面には、前記円筒部材または前記板状部材への被挿入部に、前記板状コイルの挿入方向に沿って溝側に突出量が減少する傾斜面を有する傾斜突起が形成され、前記傾斜突起の傾斜面と前記溝との当接によって前記板状コイルの溝取付位置が調整されることを特徴とする。
【選択図】 図1
【解決手段】 外周面にその軸方向に延びる複数の溝を有する円筒部材と、少なくとも1面が前記円筒部材の軸方向に垂直になるように前記円筒部材に嵌合され、前記円筒部材の軸との交点を中心として放射状に延びる複数の溝を有する板状部材と、少なくとも片面にコイルが形成された基板からなる複数の板状コイルと、を有し、前記板状コイルは前記円筒部材の溝および前記板状部材の溝に挿入され、前記円筒部材の軸に対して前記板状コイルが放射状に配置されてなるトロイダル型コイル構造体であって、
前記板状コイルの少なくとも一方のコイル形成面には、前記円筒部材または前記板状部材への被挿入部に、前記板状コイルの挿入方向に沿って溝側に突出量が減少する傾斜面を有する傾斜突起が形成され、前記傾斜突起の傾斜面と前記溝との当接によって前記板状コイルの溝取付位置が調整されることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、荷電粒子線露光装置の偏向器および非点補正器に使用されるトロイダル型コイル構造体において、特に、放射状に配置される板状コイルの位置合わせを簡単かつ高い精度で行えるトロイダル型コイル構造体に関する。
近年、半導体集積回路の集積度はますます高くなり、より微細な半導体集積回路を作製できる荷電粒子線露光装置の研究開発が盛んに行われている。その中でも、レチクルと呼ばれる回路パターンを電子光学系の投影レンズによりウエハに縮小転写する電子線露光装置が注目されている。
レチクルは、例えば、直径約200mmのシリコンウエハから作製されるが、電子線露光装置の露光視野は250μm程度と小さいため、数十mm四方のチップを露光するためには細分化されたパターンを繋ぎながら露光する。すなわち、電子線露光装置では、どのような電子線露光装置でも電子線を偏向することが必須であり、この技術無くしては電子線露光装置は成り立たない。したがって、どの電子線露光装置にも偏向器や、非点収差を補正する非点補正器などが備わっており、重要な構成部品の一つとなっている。
レチクルは、例えば、直径約200mmのシリコンウエハから作製されるが、電子線露光装置の露光視野は250μm程度と小さいため、数十mm四方のチップを露光するためには細分化されたパターンを繋ぎながら露光する。すなわち、電子線露光装置では、どのような電子線露光装置でも電子線を偏向することが必須であり、この技術無くしては電子線露光装置は成り立たない。したがって、どの電子線露光装置にも偏向器や、非点収差を補正する非点補正器などが備わっており、重要な構成部品の一つとなっている。
これらの偏向器、非点補正器は種々の構造のものが考案されており、その中の一つにトロイダル型コイルといわれるものがある。特許文献1には、このトロイダル型コイルのコイル基板(板状コイル)の取付位置精度向上に関する技術が開示されている。特許文献1のトロイダル型コイル構造体は、板状コイルの基板上にコイルを形成して、その板状コイルを放射状に配置するものである。板状コイルは、円筒部材の外周に形成された溝と、円筒部材に嵌め込まれた板状部材における円筒部材の軸に垂直な平面に形成された溝とに、それぞれ嵌め込まれる。そして、板状コイルの端部と溝底を当接させて、板状コイルが位置決め固定されている。
また、上記のトロイダル型コイル構造体を用いた荷電粒子線露光装置では、放射状に配置される板状コイルの円周方向角度の誤差が、最大偏向位置でのぼけ、解像度に影響を与えることが知られている。したがって、板状コイルの円周方向角度の許容公差は±0.1°以内とされている。ここで、特許文献2には、本発明者によるトロイダル型コイル構造体の組み立て方法が開示されている。この特許文献2では、板状コイルの表面または溝内部に光硬化樹脂で位置決め用の突起を形成し、板状コイルの溝取付位置を調整するものである。
米国特許第6,153,885号明細書
特開2003−77792号公報
ここで、板状コイルに用いられる基板には、その構造上、被磁性の石英、ファインセラミックス、マシナブルセラミックス等が用いられる。この基板には、コイルの形成工程等で反りが生じることがある。しかし、上記の特許文献2の方法による場合には、板状コイルの基板に反りが生じると、基板の反りを矯正しながら円筒部材に板状コイルをセットすることができなかった。特に円筒部材の軸方向に沿って基板の反りが許容公差に収まらない場合には、トロイダル型コイル構造体の性能に大きな影響を及ぼす中心側の磁束の位置に誤差が大きくなり、この点で改善の余地があった。
本発明は、上記従来技術の課題を解決するためにされたものであり、その目的は、板状コイルの基板の反りにも対応した板状コイルの位置合わせを簡単かつ高い精度で行うことができるトロイダル型コイル構造体を提供することである。
請求項1の発明は、外周面にその軸方向に延びる複数の溝を有する円筒部材と、少なくとも1面が前記円筒部材の軸方向に垂直になるように前記円筒部材に嵌合され、前記円筒部材の軸との交点を中心として放射状に延びる複数の溝を有する板状部材と、少なくとも片面にコイルが形成された基板からなる複数の板状コイルと、を有し、前記板状コイルは前記円筒部材の溝および前記板状部材の溝に挿入され、前記円筒部材の軸に対して前記板状コイルが放射状に配置されてなるトロイダル型コイル構造体であって、前記板状コイルの少なくとも一方のコイル形成面には、前記円筒部材または前記板状部材への被挿入部に、前記板状コイルの挿入方向に沿って溝側に突出量が減少する傾斜面を有する傾斜突起が形成され、前記傾斜突起の傾斜面と前記溝との当接によって前記板状コイルの溝取付位置が調整されることを特徴とする。
請求項2の発明は、請求項1の発明において、前記傾斜突起の基端部に、前記板状コイルの溝挿入方向に直交して延長する弾性変形用切り欠きが形成されていることを特徴とする。
請求項3の発明は、請求項1または請求項2の発明において、前記傾斜突起および前記コイルは、前記基板の表面に配した導電膜と、リソグラフィー法および電鋳法により前記導電膜から成長させた金属凸部とで形成されていることを特徴とする。
請求項3の発明は、請求項1または請求項2の発明において、前記傾斜突起および前記コイルは、前記基板の表面に配した導電膜と、リソグラフィー法および電鋳法により前記導電膜から成長させた金属凸部とで形成されていることを特徴とする。
請求項4の発明は、請求項1から請求項3のトロイダル型コイル構造体を備えたことを特徴とする荷電粒子線露光装置である。
本発明のトロイダル型コイル構造体では、板状コイルの被挿入部に形成された傾斜突起が円筒部材または板状部材の溝の壁面と当接することで、板状コイルが所定の溝取付位置に案内されて取り付けられる。特に、板状コイルの基板に反りがある場合でも、板状コイルは傾斜突起に案内されて取付時に反りが矯正された状態となるので、非常に高い精度で板状コイルが配置され、より高性能のトロイダル型コイル構造体を得ることができる。
以下、図面に基づいて本発明の実施形態を詳細に説明する。
(第1実施形態の説明)
図1から図3は、第1実施形態のトロイダル型コイル構造体を示す図である(請求項1、請求項3に対応する)。第1実施形態のトロイダル型コイル構造体1は、円筒部材2と、板状部材3と、複数の板状コイル4とから構成されている。このトロイダル型コイル構造体1は、板状コイル4に流す電流を制御することにより、光軸上に光軸と垂直な方向の合成磁界を発生させ、その磁界と電子線との相互作用によるローレンツ力で電子線を偏向させるものである。
(第1実施形態の説明)
図1から図3は、第1実施形態のトロイダル型コイル構造体を示す図である(請求項1、請求項3に対応する)。第1実施形態のトロイダル型コイル構造体1は、円筒部材2と、板状部材3と、複数の板状コイル4とから構成されている。このトロイダル型コイル構造体1は、板状コイル4に流す電流を制御することにより、光軸上に光軸と垂直な方向の合成磁界を発生させ、その磁界と電子線との相互作用によるローレンツ力で電子線を偏向させるものである。
円筒部材2の外周面には、複数の溝5が、円筒部材2の軸方向に延長するように形成されている。また、板状部材3はリング状に形成された部材であって、その内周に円筒部材2が嵌り込むようになっている。板状部材3の1面には、板状部材3の中心から放射状に広がる複数の溝6が形成されている。この溝6の位置は、円筒部材2の溝5にそれぞれ対応するように形成されている。
円筒部材2および板状部材3は、図1(a)に示すように、板状部材3の溝形成面が円筒部材2の軸方向に垂直をなす状態で、板状部材3の内周に円筒部材2が嵌合され、両者が接着剤等で固定されて組み立てられる。この組立時において、円筒部材2の溝5の位置と、板状部材3の溝6の位置とはそれぞれ対応した状態となっている。
板状コイル4は、図2に示すように、上記組立後の円筒部材2の溝5および板状部材3の溝6に挿入されて、円筒部材2の軸を中心に放射状に配置される。板状コイル4は、基板7と、基板7の両面に形成されたコイル8と、複数の傾斜突起9とから構成されている。
板状コイル4は、図2に示すように、上記組立後の円筒部材2の溝5および板状部材3の溝6に挿入されて、円筒部材2の軸を中心に放射状に配置される。板状コイル4は、基板7と、基板7の両面に形成されたコイル8と、複数の傾斜突起9とから構成されている。
基板7は、石英、マシナブルセラミックス、ファインセラミックス等の絶縁体で形成されている。基板7の厚さは溝5、6の溝幅より若干小さく設定され、溝5、6に基板7を挿入できるようになっている。
コイル8は、基板7の表面に配した導電膜と、リソグラフィー法および電鋳法により導電膜から成長させた銅製の金属凸部とで形成されている。コイル8のパターンは、基板7の表側(あるいは裏側)で右巻き、基板7の裏側(あるいは表側)で左巻きであり、基板7の表裏でコイルパターンが線対称形状をなしている。そして、板状コイル4の両面のコイル8は、基板7を隔てて背中合わせに合致し、表裏均等な位置に形成されている。また、コイル8の中心部では両面のコイル8が基板7を貫通して導通されている。
コイル8は、基板7の表面に配した導電膜と、リソグラフィー法および電鋳法により導電膜から成長させた銅製の金属凸部とで形成されている。コイル8のパターンは、基板7の表側(あるいは裏側)で右巻き、基板7の裏側(あるいは表側)で左巻きであり、基板7の表裏でコイルパターンが線対称形状をなしている。そして、板状コイル4の両面のコイル8は、基板7を隔てて背中合わせに合致し、表裏均等な位置に形成されている。また、コイル8の中心部では両面のコイル8が基板7を貫通して導通されている。
なお、特に限定するものではないが、基板7における溝5、6への被挿入部の境界に沿ってコイル8の外周部を形成し、かつコイル8の突出量を溝5、6の幅からはみ出す高さに設定するのが好ましい。この場合、板状コイル4の溝挿入時に、コイル8の外縁部が、円筒部材2または板状部材3の表面に引っ掛かるので、円筒部材2または板状部材3の表面を基準として、複数の板状コイル4間におけるコイル8の相対位置を調整することが容易となる。
傾斜突起9は、基板7における溝5、6への被挿入部に複数形成されている。この傾斜突起9は、板状コイル4の挿入方向に沿って溝側に基板7からの突出量が減少する傾斜面11を有している。また、各傾斜突起9は、コイル8と同様に、基板7の表面に配した導電膜と、リソグラフィー法および電鋳法により前記導電膜から成長させた銅製の金属凸部とで形成されている。
第1実施形態では、傾斜突起9は基板7の両面にそれぞれ形成されている。複数の傾斜突起9のコイル外縁部からの位置および傾斜面11の傾斜角度は、基板7の表側または裏側ごとにそれぞれ揃えられている。また、図3に示すように、基板7の表裏の傾斜突起9では、その傾斜面11が基板7を隔てて表裏でテーパー形状をなすように設定されている。なお、第1実施形態における個々の傾斜突起9の位置は、基板7の両面でその位置が背中合わせに合致するように配置してもよく、また、両面の傾斜突起9を溝延長方向に千鳥状にずらして非対称に配置してもよい。あるいは、片面の傾斜突起9のみを連続的に形成するなど、適宜変更することができる(いずれも図示を省略する)。
ここで、第1実施形態のコイル8および傾斜突起9の製造工程を図5により説明する。
(a)第1に、基板7の両面に数μm〜数十μmの導電膜である金属膜10を蒸着等で形成し、基板7の導電化処理を行う。この金属膜10はその後の電鋳プロセスでの電極となる。
(b)第2に、厚膜レジスト12を基板7の両面に塗布する。その後、リソグラフィー法によりコイル8および傾斜突起9の配置をパターニングする。この厚膜レジスト12のパターンは以後の電鋳プロセスで、電鋳の成長方向を基板7から垂直方向に制限する役割を果たす。
(c)第3に、銅を含む電鋳液中に基板7を浸漬し、電鋳により銅を電極上に析出させていく。
(d)第4に、電鋳により金属凸部(8、9)が生成された後、厚膜レジスト12を取り去る。
(e)第5に、金属膜10の不要な部分をエッチング等により除去する。
(f)第6に、機械加工または放電加工で傾斜突起9の傾斜面11を形成する。以上でコイル8および傾斜突起9が板状コイル4に形成される。
(a)第1に、基板7の両面に数μm〜数十μmの導電膜である金属膜10を蒸着等で形成し、基板7の導電化処理を行う。この金属膜10はその後の電鋳プロセスでの電極となる。
(b)第2に、厚膜レジスト12を基板7の両面に塗布する。その後、リソグラフィー法によりコイル8および傾斜突起9の配置をパターニングする。この厚膜レジスト12のパターンは以後の電鋳プロセスで、電鋳の成長方向を基板7から垂直方向に制限する役割を果たす。
(c)第3に、銅を含む電鋳液中に基板7を浸漬し、電鋳により銅を電極上に析出させていく。
(d)第4に、電鋳により金属凸部(8、9)が生成された後、厚膜レジスト12を取り去る。
(e)第5に、金属膜10の不要な部分をエッチング等により除去する。
(f)第6に、機械加工または放電加工で傾斜突起9の傾斜面11を形成する。以上でコイル8および傾斜突起9が板状コイル4に形成される。
また、傾斜突起9の基板7からの突出量は、図4に示す溝幅、基板の厚さ、許容公差等を考慮して以下のように設定される。まず、傾斜突起9の溝側(板状コイル挿入方向の先頭側)の突出量は、所定の基準線に合わせて配置された基板7の表面と溝5、6とのすき間から許容公差分を減じた長さに設定される。また、傾斜突起9のコイル側(板状コイル挿入方向の後側)の突出量は、基準線に合わせて配置された基板7の表面と溝5、6とのすき間よりも若干大きい長さに設定され、傾斜突起9の後側が溝5、6からはみ出るようになっている。
すなわち、板状コイル4の取付時において、傾斜突起9の先頭部を溝5、6に合わせて挿入すれば、板状コイル4が許容公差の範囲内でスムーズに配置される。そして、板状コイル4を溝5、6に押し込む際には、基板7の表裏でテーパーをなす傾斜突起9の傾斜面と溝5、6との当接によって板状コイル4が溝の中心に案内されるので、基板7に反りがある場合でもその反りが矯正される。
また、板状コイル4の取付時において、傾斜突起9の溝からはみ出す部分(傾斜突起9の後側)は、石英等で構成された円筒部材2および板状部材3の溝5、6で削られて溝内に収まるようになっている。したがって、板状コイル4の取付時には傾斜突起9と溝5、6とが当接して板状コイル4が取付位置で安定保持される。
一例として、溝幅1.4mmの溝に厚さ1mmの板状コイル4を配置して、基板7の表面と溝とのすき間を両側で0.2mmずつに設定し、許容公差を0.1mmに設定した場合、傾斜突起9の溝側の突出量は、すき間長さ0.2mmから片側分の許容公差0.05mmを減じた0.15mmに設定される(図4参照)。すなわち、傾斜突起9の先頭部では、両面の傾斜突起9の突出量を加味した板状コイル4の厚さが1.3mmとなるので、傾斜突起9の先頭部を溝に合わせて挿入すれば、板状コイル4を許容公差の範囲内で配置できる。この場合には、円周方向角度の角度公差が±0.05°の範囲内で板状コイル4を配置できる。なお、傾斜突起9のコイル側の突出量や挿入方向の寸法は、設計により適宜変更することができる。
一例として、溝幅1.4mmの溝に厚さ1mmの板状コイル4を配置して、基板7の表面と溝とのすき間を両側で0.2mmずつに設定し、許容公差を0.1mmに設定した場合、傾斜突起9の溝側の突出量は、すき間長さ0.2mmから片側分の許容公差0.05mmを減じた0.15mmに設定される(図4参照)。すなわち、傾斜突起9の先頭部では、両面の傾斜突起9の突出量を加味した板状コイル4の厚さが1.3mmとなるので、傾斜突起9の先頭部を溝に合わせて挿入すれば、板状コイル4を許容公差の範囲内で配置できる。この場合には、円周方向角度の角度公差が±0.05°の範囲内で板状コイル4を配置できる。なお、傾斜突起9のコイル側の突出量や挿入方向の寸法は、設計により適宜変更することができる。
以上のように構成された第1実施形態のトロイダル型コイル構造体1は、以下の作用を有する。第1実施形態では、板状コイル4の両面の傾斜突起9の案内によって板状コイル4が許容公差の範囲内で配置され、トロイダル型コイル構造体1の精度がより向上する。 特に、板状コイル4の基板7に反りがある場合でも、傾斜突起9の傾斜面11によって板状コイル4が溝5、6の中心に案内されて反りが矯正されるので、板状コイル4を溝5、6に沿って反りが極めて少ない状態で配置できる。トロイダル型コイル構造体1では、中心側の磁束の位置がその性能に大きな影響を及ぼすので、円筒部材2の軸方向における基板7の反りの矯正の場合はより大きな効果を奏する。
また、第1実施形態では傾斜突起9の金属凸部がコイル8の生成工程で同時に生成でき、金属凸部に簡単な加工で傾斜面11を形成すれば足りる。したがって、従来技術のように板状コイル4に突起を別途形成する場合と比べて、板状コイル4の加工コストは大幅に低下する。
(第2実施形態の説明)
図6は第2実施形態のトロイダル型コイル構造体1において、板状コイル4と溝5、6との取付状態を示す図である(請求項1、請求項3に対応する)。なお、以下の実施形態において、第1実施形態と共通の構成には同一符号を付して説明を省略する。
(第2実施形態の説明)
図6は第2実施形態のトロイダル型コイル構造体1において、板状コイル4と溝5、6との取付状態を示す図である(請求項1、請求項3に対応する)。なお、以下の実施形態において、第1実施形態と共通の構成には同一符号を付して説明を省略する。
第2実施形態では、板状コイル4の片面のみに傾斜突起9を形成し、板状コイル4の被挿入部の平坦面(傾斜突起9の形成されてない面)を溝5、6に押し当てて、板状コイル4の位置決め等を行う構成である。かかる第2実施形態の構成によっても、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
(第3実施形態の説明)
図7は、第3実施形態のトロイダル型コイル構造体1において、板状コイル4と溝5、6との取付状態を示す図である(請求項1から請求項3に対応する)。第3実施形態では、傾斜突起9のコイル側の基端部に、板状コイル4の溝挿入方向に直交して延長する弾性変形用切り欠き13が形成され、傾斜突起9のコイル側の突出量を変更することができる。すなわち、弾性変形用切り欠き13の空間の分だけ、傾斜突起9の後側部分は基板7と接近するようにバネ状に弾性変形し、この弾性変形時には傾斜突起9の後側部分を溝に収納できるようになっている。また、溝5、6に押し込まれて傾斜突起9が弾性変形した場合には、弾性変形用切り欠き13の離間方向に反発力が作用するので、溝の中心に板状コイル4が案内される。
(第3実施形態の説明)
図7は、第3実施形態のトロイダル型コイル構造体1において、板状コイル4と溝5、6との取付状態を示す図である(請求項1から請求項3に対応する)。第3実施形態では、傾斜突起9のコイル側の基端部に、板状コイル4の溝挿入方向に直交して延長する弾性変形用切り欠き13が形成され、傾斜突起9のコイル側の突出量を変更することができる。すなわち、弾性変形用切り欠き13の空間の分だけ、傾斜突起9の後側部分は基板7と接近するようにバネ状に弾性変形し、この弾性変形時には傾斜突起9の後側部分を溝に収納できるようになっている。また、溝5、6に押し込まれて傾斜突起9が弾性変形した場合には、弾性変形用切り欠き13の離間方向に反発力が作用するので、溝の中心に板状コイル4が案内される。
ここで、第3実施形態のコイル8および傾斜突起9の製造工程を図8により説明する。図8の(a)から(f)の工程は図5の各工程とそれぞれ対応する。第3実施形態では、基板7に金属膜10を形成する工程で、傾斜突起9の弾性変形用切り欠き13に対応する位置には金属膜10を形成しない。その後、リソグラフィー法による厚膜レジスト12のパターニングおよび電鋳プロセスを経て傾斜突起9の金属凸部が形成されるが、金属膜10のない部分がそのまま空間として残って弾性変形用切り欠き13を形成する。
第3実施形態では、第1実施形態と同様の効果に加えて、板状コイル4の取付時において、傾斜突起9の後側部分が弾性変形して溝内に収納されるので、傾斜突起9の後側部分(溝からはみ出す部分)が溝5、6の壁面との接触で削られることはない。したがって、板状コイル4の傾斜突起9がほとんど損傷しないため、板状コイル4を取り外して別の円筒部材2等に取り付けて修理するような場合等でも、許容公差の範囲内で板状コイル4を配置することができる。なお、図8の例では、板状コイル4の両面に傾斜突起9を設けた場合のみ説明したが、第2実施形態のように板状コイル4の片面に傾斜突起9を設けた場合にも、第3実施形態の構成を適用することができる。
(第4実施形態の説明)
図9は第4実施形態であって、本発明のトロイダル型コイル構造体1を使用した電子線露光装置の概略を示した図である(請求項4に対応する)。
(第4実施形態の説明)
図9は第4実施形態であって、本発明のトロイダル型コイル構造体1を使用した電子線露光装置の概略を示した図である(請求項4に対応する)。
図9の電子線露光装置は、電子銃20と、照明光学系21と、レチクルステージ22と、投影レンズ23、24と、ウエハステージ25とから構成される。
電子線露光装置の電子銃20より電子線が放出され、それが照明光学系21を通過して、レチクル26に照射される。レチクル26面を照射した電子線のうち、レチクル26に形成されたパターンを通過したものは、投影レンズ23、24によりパターン像をウエハ27面に縮小転写される。本発明のトロイダル型コイル構造体1は、電子線の起動を制御可能にシフトするために設けられている。
電子線露光装置の電子銃20より電子線が放出され、それが照明光学系21を通過して、レチクル26に照射される。レチクル26面を照射した電子線のうち、レチクル26に形成されたパターンを通過したものは、投影レンズ23、24によりパターン像をウエハ27面に縮小転写される。本発明のトロイダル型コイル構造体1は、電子線の起動を制御可能にシフトするために設けられている。
なお、上記の説明では、トロイダル型コイル構造体1を全ての個所に用いたが、必ずしも、トロイダル型コイル構造体1を全ての個所に用いる必要はない。更に、偏向器と磁気レンズの両方の機能を持つトロイダル型コイル構造体1を用いても構わない。また、以上の例は投影光学系に関するものであったが、照明光学系にも同様に本発明のトロイダル型コイル構造体1を用いることができることはいうまでもない。
本発明のトロイダル型コイル構造体は、放射状に配置される板状コイルの位置合わせを簡単かつ高い精度で行う場合に好適である。
1 トロイダル型コイル構造体
2 円筒部材
3 板状部材
4 板状コイル
5、6 溝
7 基板
8 コイル
9 傾斜突起
10 金属膜
11 傾斜面
12 厚膜レジスト
13 弾性変形用切り欠き
20 電子銃
21 照明光学系
22 レチクルステージ
23、24 投影レンズ
25 ウエハステージ
26 レチクル
27 ウエハ
28 散乱アパーチャ
2 円筒部材
3 板状部材
4 板状コイル
5、6 溝
7 基板
8 コイル
9 傾斜突起
10 金属膜
11 傾斜面
12 厚膜レジスト
13 弾性変形用切り欠き
20 電子銃
21 照明光学系
22 レチクルステージ
23、24 投影レンズ
25 ウエハステージ
26 レチクル
27 ウエハ
28 散乱アパーチャ
Claims (4)
- 外周面にその軸方向に延びる複数の溝を有する円筒部材と、少なくとも1面が前記円筒部材の軸方向に垂直になるように前記円筒部材に嵌合され、前記円筒部材の軸との交点を中心として放射状に延びる複数の溝を有する板状部材と、少なくとも片面にコイルが形成された基板からなる複数の板状コイルと、を有し、前記板状コイルは前記円筒部材の溝および前記板状部材の溝に挿入され、前記円筒部材の軸に対して前記板状コイルが放射状に配置されてなるトロイダル型コイル構造体であって、
前記板状コイルの少なくとも一方のコイル形成面には、前記円筒部材または前記板状部材への被挿入部に、前記板状コイルの挿入方向に沿って溝側に突出量が減少する傾斜面を有する傾斜突起が形成され、前記傾斜突起の傾斜面と前記溝との当接によって前記板状コイルの溝取付位置が調整されることを特徴とするトロイダル型コイル構造体。 - 前記傾斜突起の基端部に、前記板状コイルの溝挿入方向に直交して延長する弾性変形用切り欠きが形成されていることを特徴とする請求項1に記載のトロイダル型コイル構造体。
- 前記傾斜突起および前記コイルは、前記基板の表面に配した導電膜と、リソグラフィー法および電鋳法により前記導電膜から成長させた金属凸部とで形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のトロイダル型コイル構造体。
- 請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のトロイダル型コイル構造体を備えたことを特徴とする荷電粒子線露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003392299A JP2005158333A (ja) | 2003-11-21 | 2003-11-21 | トロイダル型コイル構造体および荷電粒子線露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003392299A JP2005158333A (ja) | 2003-11-21 | 2003-11-21 | トロイダル型コイル構造体および荷電粒子線露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005158333A true JP2005158333A (ja) | 2005-06-16 |
Family
ID=34719045
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003392299A Pending JP2005158333A (ja) | 2003-11-21 | 2003-11-21 | トロイダル型コイル構造体および荷電粒子線露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005158333A (ja) |
-
2003
- 2003-11-21 JP JP2003392299A patent/JP2005158333A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100597037B1 (ko) | 대전입자 리소그래피 장치용 투광시스템 | |
US20200083016A1 (en) | Semiconductor apparatus and charged particle ray exposure apparatus | |
JPH046255B2 (ja) | ||
KR20110030466A (ko) | 이미징 시스템 | |
US20170229279A1 (en) | Field Curvature Correction for Multi-Beam Inspection Systems | |
KR950014607B1 (ko) | 반사마스크 및 이를 사용한 하전빔노광장치 | |
JP3076570B2 (ja) | 荷電粒子描画方法及び荷電粒子描画装置 | |
JP2008027686A (ja) | 偏向器アレイ、露光装置およびデバイス製造方法 | |
US8716672B2 (en) | Charged particle optical system, drawing apparatus, and method of manufacturing article | |
KR100365880B1 (ko) | 성형 전자 빔 칼럼 및 그 생성방법 | |
JP2007208038A (ja) | 荷電粒子線露光装置 | |
US6764925B2 (en) | Semiconductor device manufacturing system and electron beam exposure apparatus | |
JP2007019194A (ja) | 静電レンズ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2005158333A (ja) | トロイダル型コイル構造体および荷電粒子線露光装置 | |
US10998164B2 (en) | Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method | |
TWI230838B (en) | Electron beam exposure device and method and manufacturing method of semiconductor elements | |
JP2005032574A (ja) | 板状コイル、トロイダル型コイル構造体および荷電粒子線露光装置 | |
US6023067A (en) | Blanking system for electron beam projection system | |
US6337164B1 (en) | Charged-particle-beam microlithography methods exhibiting improved pattern-feature accuracy, and device manufacturing methods comprising same | |
JP4673170B2 (ja) | マルチ電子ビーム描画装置用デバイス及びその製造方法 | |
JP2006049703A (ja) | 荷電粒子線レンズアレイ、及び該荷電粒子線レンズアレイを用いた荷電粒子線露光装置 | |
JP4616517B2 (ja) | 電子ビーム露光方法、電子ビーム露光装置、及び半導体素子製造方法 | |
JP2006005161A (ja) | 電磁コイル板の製造方法、電磁コイル板、トロイダル型コイル構造体および荷電粒子線露光装置 | |
KR100303974B1 (ko) | 하전입자빔용부분일괄마스크구조 | |
KR101025288B1 (ko) | 전자빔 리소그래피 장치의 나노 스테이지 |