JP2005154776A - 分枝ポリアリーレンエーテル類およびそれらの調製プロセス - Google Patents
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Abstract
【課題】光導電層中または電荷輸送層中のバインダとして好適な分枝ポリアリーレンエーテル類を提供する。
【解決手段】分枝ポリアリーレンエーテルポリマーを調製するためのプロセスは、（Ａ）（ｉ）化学式Ａｒ（ＯＨ）ｘ（ｘ≧３）の多官能性フェノール化合物と、（ｉｉ）４，４’−ジフルオロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、３，４’−ジフルオロベンゾフェノン、３，４’−ジクロロベンゾフェノン、３，３’−ジフルオロベンゾフェノン、３，３’−ジクロロベンゾフェノン、２，４’−ジフルオロベンゾフェノン、２，４’−ジクロロベンゾフェノン、２，３’−ジフルオロベンゾフェノンなどの特定の化合物と、（ｉｉｉ）化学式：
で表される特定の化合物と、（ｉｖ）炭酸塩基と、を含む反応混合物を提供する工程と、（Ｂ）反応混合物を加熱し、反応混合物から生成水を除去し、これにより重合反応を実施させる工程と、を含む。
【選択図】なし
【解決手段】分枝ポリアリーレンエーテルポリマーを調製するためのプロセスは、（Ａ）（ｉ）化学式Ａｒ（ＯＨ）ｘ（ｘ≧３）の多官能性フェノール化合物と、（ｉｉ）４，４’−ジフルオロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、３，４’−ジフルオロベンゾフェノン、３，４’−ジクロロベンゾフェノン、３，３’−ジフルオロベンゾフェノン、３，３’−ジクロロベンゾフェノン、２，４’−ジフルオロベンゾフェノン、２，４’−ジクロロベンゾフェノン、２，３’−ジフルオロベンゾフェノンなどの特定の化合物と、（ｉｉｉ）化学式：
で表される特定の化合物と、（ｉｖ）炭酸塩基と、を含む反応混合物を提供する工程と、（Ｂ）反応混合物を加熱し、反応混合物から生成水を除去し、これにより重合反応を実施させる工程と、を含む。
【選択図】なし
Description
本明細書では、分枝ポリアリーレンエーテルポリマー類およびこれらのポリマー類を調製するためのプロセスを開示する。
ハイパーブランチポリマー類およびそれらの調製プロセスは周知である。しかしながら、周知の合成法では、しばしば、特注のモノマー類の使用が必要となり、これには、例えば、ハイパーブランチポリマーの合成前に２〜５の調製工程がかかることがある。したがって、モノマー混合物の直接重合により分枝ポリアリーレンエーテルポリマー類を調製することができるプロセスが、適したモノマー類の少なくともいくつかが市販されている場合、特に望ましい。ハイパーブランチポリマー類は同じクラスの直鎖ポリマー類に比べいくつかの利点を有することができる。例えば、分枝ポリマー類（ハイパーブランチ類およびデンドリマー類）は、その直鎖類似体に比べ、同じ分子量でより低い流体力学的体積を有するため、より低い溶液粘度および融解粘度を示すことができる。さらに、ハイパーブランチポリマー類はしばしば、直鎖類似体よりも溶解度が高く、これは、分子レベルでポリマー材料が絡み合う可能性が減少することに起因すると考えられる。さらに、ハイパーブランチポリマー類は、直鎖ポリマー類と架橋ポリマー類との中間点にあると考えられる。分枝の分断またはその増大により、分子量の大きな損失は起こらないからである。
したがって、周知の組成物およびプロセスは本来の目的には適しているが、分枝ポリアリーレンエーテルポリマー類、分枝ポリアリーレンエーテルポリマー類の調製方法、モノマー混合物の直接重合により合成を実施することができる分枝ポリアリーレンエーテルポリマー類の調製方法、モノマー類の少なくともいくらかが市販されている分枝ポリアリーレンエーテルポリマー類の調製方法、ポリマー内での分枝の程度および分枝の導入が明確な様式で制御することができる分枝ポリアリーレンエーテルポリマー類の調製方法、望ましい低コストレベルで実施することができる分枝ポリアリーレンエーテルポリマー類の調製方法、モノマー類の比率を変えることにより分枝の程度および直鎖ユニットの長さを制御することができる分枝ポリアリーレンエーテルポリマー類の調製方法、改良感光性イメージング部材、感光性イメージング部材のための改良バインダ、イメージング部材中の発光層において使用するのに適したポリマーバインダ、イメージング部材中の電荷輸送層において使用するのに適したポリマーバインダ、特にバイアス荷電ロール荷電条件下における、いくつかの態様において部材に向上した摩耗耐性を付与することができる感光性イメージング部材において使用するのに適したポリマーバインダ、および電荷輸送材料およびイメージング部材の物理的および／または機械的特性を調整するために使用される他の小分子ドーパントを可溶化することができる感光性イメージング部材において使用するのに適したポリマーバインダが必要である。
本明細書で開示する１つの態様は、複数の分枝点を有する分枝ポリアリーレンエーテルコポリマーに関し、各分枝点は下記化学式により表され：
式中、各Ａｒは、互いに独立して、アリール部分またはアルキルアリール部分であり、ただし、Ａｒがアルキルアリール部分である場合、少なくとも３つの
の繰り返し官能基が、繰り返し官能基内の酸素原子を介してアリール部分に結合されることを条件とし、
各ｘは、互いに独立して、３またはそれ以上の整数であり、
各ｍは、互いに独立して、０または１の整数であり、
各Ｄは、互いに独立して、（ａ）他の分枝点、（ｂ）末端基、または（ｃ）下記化学式で表されるもののいずれかであり：
（式中、
各ｎは、互いに独立して、繰り返しモノマーユニットの数を表す整数である）
各Ａは、互いに独立して、
（式中、Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、またはこれらの混合物である）
（式中、ＲＸはアルキレン基、アリーレン基、アリールアルキレン基、アルキルアリーレン基、またはそれらの混合物である）
またはそれらの混合物であり、各Ｂは、互いに独立して、
（式中、ｚは２〜約２０の整数である）
（式中、ｕは１〜約２０の整数である）、
（式中、ｗは１〜約２０の整数である）、
（式中、各ｏは互いに独立して、１、２、３、または４の整数である）、
（式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、またはそれらの混合物であり、ｐは０または１の整数である）
（式中、ｂは０または１の整数である）
（式中、（１）Ｚは、
（式中、ｃは０または１である）であり、（２）Ａｒ’は、
であり、（３）Ｇは約２〜約１０の炭素原子を含むアルキル基から選択されるアルキル基であり、（４）Ａｒ’’は
であり、（５）Ｘは、
（式中、ｓは０、１、または２である）
であり、（６）ｑは０または１である）
またはそれらの混合物であり、ここで、
は、
と同じでない。
各ｘは、互いに独立して、３またはそれ以上の整数であり、
各ｍは、互いに独立して、０または１の整数であり、
各Ｄは、互いに独立して、（ａ）他の分枝点、（ｂ）末端基、または（ｃ）下記化学式で表されるもののいずれかであり：
各ｎは、互いに独立して、繰り返しモノマーユニットの数を表す整数である）
各Ａは、互いに独立して、
またはそれらの混合物であり、ここで、
本明細書で開示されている他の態様は、下記化学式の分枝ポリアリーレンエーテルコポリマーに関する：
式中、各Ａｒは互いに独立してアリール部分またはアルキルアリール部分であり、ただし、Ａｒがアルキルアリール部分である場合、少なくとも３つの
繰り返し官能基が、繰り返し官能基中の酸素原子を介してアリール部分に結合されることを条件とし、
各ｘは、互いに独立して、３以上の整数であり、
各ｋおよび各ｎは、互いに独立して、繰り返しモノマーユニットの数を表し、各Ｗは、互いに独立して、
であり、
式中、各ｍは、互いに独立して、０または１の整数であり、
各Ａは、互いに独立して、
（式中、Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、またはそれらの混合物である）
（式中、ＲＸはアルキレン基、アリーレン基、アリールアルキレン基、アルキルアリーレン基、またはそれらの混合物である）
またはそれらの混合物であり、各Ｂは、互いに独立して、
（式中、ｚは２〜約２０の整数である）
（式中、ｕは２〜約２０の整数である）
（式中、ｗは１〜約２０の整数である）
（式中、各ｏは互いに独立して、１、２、３、または４の整数である）
（式中、Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、またはそれらの混合物であり、ｐは０または１の整数である）
（式中、ｂは０または１の整数である）
（式中、（１）Ｚは、
（式中、ｃは０または１である）であり、（２）Ａｒ’は、
であり、（３）Ｇは約２〜約１０の炭素原子を含むアルキル基から選択されるアルキル基であり、（４）Ａｒ’’は
であり、（５）Ｘは、
（式中、ｓは０、１、または２である）
であり、（６）ｑは０または１である）
またはそれらの混合物であり、ここで、
は、
と同じでない。
各ｘは、互いに独立して、３以上の整数であり、
各ｋおよび各ｎは、互いに独立して、繰り返しモノマーユニットの数を表し、各Ｗは、互いに独立して、
式中、各ｍは、互いに独立して、０または１の整数であり、
各Ａは、互いに独立して、
またはそれらの混合物であり、ここで、
本明細書で開示されているさらに他の態様は、（Ａ）（ｉ）必要に応じて用いる溶媒と、（ｉｉ）化学式Ａｒ（ＯＨ）ｘ（式中、ｘ≧３であり、式中、Ａｒはアリール部分またはアルキルアリール部分であり、ただし、Ａｒがアルキルアリール部分である場合、少なくとも３つの−ＯＨ基がそのアリール部分に結合されることを条件とする）の多官能性フェノール化合物と、（ｉｉｉ）化学式：
（式中、ｍは０または１の整数であり、ＹおよびＹ’はそれぞれ、互いに独立して、フッ素原子または塩素原子であり、Ａは、
（式中、Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、またはその混合物である）、
（式中、Ｒｘは、アルキレン基、アリーレン基、アリールアルキレン基、アルキルアリーレン基、またはその混合物である）、
または、その混合物である）の化合物またはその混合物と、（ｉｖ）化学式：
（式中、Ｂは、
（式中、ｚは２〜約２０の整数である）、
（式中、ｕは１〜約２０の整数である）、
（式中、ｗは１〜約２０の整数である）、
（式中、各ｏは、互いに独立して、１、２、３、または４の整数である）、
（式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、互いに独立して、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、またはその混合物であり、ｐは０または１の整数である）、
（式中、ｂは０または１の整数である）、
（式中、（１）Ｚは、
（式中、ｃは０または１である）であり、（２）Ａｒ’は、
であり、（３）Ｇは約２〜約１０の炭素原子を含むアルキル基から選択されるアルキル基であり、（４）Ａｒ’’は
であり、（５）Ｘは、
（式中、ｓは０、１、または２である）
であり、（６）ｑは０または１である）
またはそれらの混合物である）
の化合物と、（ｖ）必要に応じて、化学式：
（式中、ａは１〜５の整数であり、Ｒ’は水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、またはその混合物であり、式中、２またはそれ以上のＲ’基は結合して環を形成することができる）
の化合物と、（ｖｉ）炭酸塩基と、を含む反応混合物を提供する工程と、（Ｂ）反応混合物を加熱し、反応混合物から生成水を除去し、これにより重合反応を実施する工程と、を含む、分枝ポリアリーレンエーテルポリマーを調製するためのプロセスに関する。本明細書で開示したさらに他の態様は、導電性基材と、発光材料と、本明細書で開示した分枝ポリアリーレンエーテルコポリマーを含むバインダと、を備えるイメージング部材に関する。
またはそれらの混合物である）
の化合物と、（ｖ）必要に応じて、化学式：
の化合物と、（ｖｉ）炭酸塩基と、を含む反応混合物を提供する工程と、（Ｂ）反応混合物を加熱し、反応混合物から生成水を除去し、これにより重合反応を実施する工程と、を含む、分枝ポリアリーレンエーテルポリマーを調製するためのプロセスに関する。本明細書で開示したさらに他の態様は、導電性基材と、発光材料と、本明細書で開示した分枝ポリアリーレンエーテルコポリマーを含むバインダと、を備えるイメージング部材に関する。
（Ａ）（ｉ）選択的に用いる溶媒と、（ｉｉ）化学式Ａｒ（ＯＨ）ｘ（式中、ｘ≧３であり、式中、Ａｒはアリール部分（置換および未置換アリール部分を含み、ここでヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリール部分に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも４、５または６の炭素原子および様々な態様では２０以下、１５以下または１０以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、またはアルキルアリール部分（置換および未置換アルキルアリール部分を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキルアリール部分のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では２０以下、１５以下または９以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばトリルなどであり、ここで、置換アリールおよびアルキルアリール基上の置換基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミン基、イミン基、アンモニウム基、シアノ基、ピリジン基、ピリジニウム基、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スルホネート基、スルホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、リン酸基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、アゾ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、カルボキシレート基、カルボン酸基、ウレタン基、尿素基、それらの混合物、などとすることができ（これらに限定されない）、ここで２またはそれ以上の置換基は結合して環を形成することができ、ただし、Ａｒがアルキルアリール部分である場合、少なくとも３つの−ＯＨ基がそのアリール部分に結合されることを条件とする）の多官能性フェノール化合物と、（ｉｉｉ）化学式：
（式中、ｍは０または１の整数であり、ＹおよびＹ’はそれぞれ、互いに独立して、フッ素原子または塩素原子であり、Ａは、
（式中、Ｒは水素原子、アルキル基（直鎖、分枝、環状、飽和、不飽和、置換、および未置換アルキル基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキル基に存在してもしなくてもよく、１つの態様では、少なくとも１の炭素原子および様々な態様では２０以下、１０以下または５以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリール基（置換および未置換アリール基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリール基に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも４、５または６の炭素原子および様々な態様では１８以下、１２以下または６以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリールアルキル基（置換および未置換アリールアルキル基を含み、ここで、そのアルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリールアルキル基のアリール部分およびアルキル基のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では２５以下、１２以下または７以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばベンジルなど、アルキルアリール基（置換および未置換アルキルアリール基を含み、ここで、そのアルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキルアリール基のアリール部分およびアルキル基のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では２５以下、１２以下または７以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばトリルなど、またはこれらの混合物であり、ここで、置換アルキル、アリール、アリールアルキル、およびアルキルアリール基上の置換基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミン基、イミン基、アンモニウム基、シアノ基、ピリジン基、ピリジニウム基、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スルホネート基、スルホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、リン酸基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、アゾ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、カルボキシレート基、カルボン酸基、ウレタン基、尿素基、これらの混合物、などとすることができ（これらに限定されない）、ここで２またはそれ以上の置換基は結合して環を形成することができる）、
（式中、Ｒｘは、アルキレン基（直鎖、分枝、環状、飽和、不飽和、置換、および未置換アルキレン基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキレン基に存在してもしなくてもよく、１つの態様では、少なくとも１の炭素原子および様々な態様では２０以下、１０以下または５以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリーレン基（置換および未置換アリーレン基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリーレン基に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも４、５または６の炭素原子および様々な態様では１８以下、１２以下または６以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリールアルキレン基（置換および未置換アリールアルキレン基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここでヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リンなどがアリールアルキレン基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では２５以下、１２以下または７以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばベンジレンなど、アルキルアリーレン基（置換および未置換アルキルアリーレン基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここでヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキルアリーレン基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では２５以下、１２以下または７以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばトリレンなど、またはそれらの混合物であり、ここで、置換アルキレン、アリーレン、アリールアルキレンおよびアルキルアリーレン基上の置換基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミン基、イミン基、アンモニウム基、シアノ基、ピリジン基、ピリジニウム基、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スルホネート基、スルホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、リン酸基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、アゾ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、カルボキシレート基、カルボン酸基、ウレタン基、尿素基、これらの混合物、などとすることができ（これらに限定されない）、ここで２またはそれ以上の置換基は結合して環を形成することができる）、
または、その混合物である）の化合物と、（ｉｖ）化学式：
（式中、Ｂは、
（式中、ｚは２〜約２０の整数である）、
（式中、ｕは１〜約２０の整数である）、
（式中、ｗは１〜約２０の整数である）、
（式中、各ｏは、互いに独立して、１、２、３、または４の整数である）、
（式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、互いに独立して、水素原子、アルキル基（直鎖、分枝、環状、飽和、不飽和、置換、および未置換アルキル基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキル基に存在してもしなくてもよく、１つの態様では、少なくとも１の炭素原子および様々な態様では２０以下、１０以下または５以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリール基（置換および未置換アリール基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリール基に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも４、５または６の炭素原子および様々な態様では１８以下、１２以下または６以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリールアルキル基（置換および未置換アリールアルキル基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリールアルキル基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では２５以下、１２以下または７以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばベンジルなど、アルキルアリール基（置換および未置換アルキルアリール基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキルアリール基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では２５以下、１２以下または７以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばトリルなど、またはその混合物であり、ここで、置換アルキル、アリール、アリールアルキルおよびアルキルアリール基上の置換基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミン基、イミン基、アンモニウム基、シアノ基、ピリジン基、ピリジニウム基、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スルホネート基、スルホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、リン酸基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、アゾ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、カルボキシレート基、カルボン酸基、ウレタン基、尿素基、これらの混合物、などとすることができ（これらに限定されない）、ここで２またはそれ以上の置換基は結合して環を形成することができ、ｐは０または１の整数である）、
（式中、ｂは０または１の整数である）、
（式中、（１）Ｚは、
（式中、ｃは０または１である）であり、（２）Ａｒ’は、
であり、（３）Ｇは約２〜約１０の炭素原子を含むアルキル基から選択されるアルキル基であり、（４）Ａｒ’’は
であり、（５）Ｘは、
（式中、ｓは０、１、または２である）
であり、（６）ｑは０または１である）
またはそれらの混合物である）
の化合物と、（ｖ）必要に応じて、化学式：
（式中、ａは１〜５の整数であり、Ｒ’は水素原子、アルキル基（直鎖、分枝、環状、飽和、不飽和、置換、および未置換アルキル基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキル基に存在してもしなくてもよく、１つの態様では、少なくとも１の炭素原子および様々な態様では２０以下、８以下または４以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリール基（置換および未置換アリール基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリール基に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも４、５または６の炭素原子および様々な態様では１４以下、１２以下または１０以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリールアルキル基（置換および未置換アリールアルキル基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリールアルキル基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では５０以下、２３以下または１１以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばベンジルなど、アルキルアリール基（置換および未置換アルキルアリール基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキルアリール基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では５０以下、２３以下または１１以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばトリルなど、またはその混合物であり、ここで、２またはそれ以上のＲ’基は結合して環を形成することができ、ここで、置換アルキル、アリール、アリールアルキルおよびアルキルアリール基上の置換基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミン基、イミン基、アンモニウム基、シアノ基、ピリジン基、ピリジニウム基、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スルホネート基、スルホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、リン酸基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、アゾ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、カルボキシレート基、カルボン酸基、ウレタン基、尿素基、これらの混合物、などとすることができ（これらに限定されない）、ここで２またはそれ以上の置換基は結合して環を形成することができる）
の化合物と、（ｖｉ）炭酸塩基と、を含む反応混合物を提供する工程と、（Ｂ）反応混合物を加熱し、反応混合物から生成水を除去し、これにより重合反応を実施させる工程と、を含む、分枝ポリアリーレンエーテルポリマーを調製するためのプロセスが、本明細書で開示される。
またはそれらの混合物である）
の化合物と、（ｖ）必要に応じて、化学式：
の化合物と、（ｖｉ）炭酸塩基と、を含む反応混合物を提供する工程と、（Ｂ）反応混合物を加熱し、反応混合物から生成水を除去し、これにより重合反応を実施させる工程と、を含む、分枝ポリアリーレンエーテルポリマーを調製するためのプロセスが、本明細書で開示される。
上記化学式のモノマー類およびポリマー類では、フェニル基ならびにＡおよび／Ｂ基は置換することができ、または未置換とすることができる。置換基は、重合前後のいずれかに配置することができる。適した置換基の例としては、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミン基、イミン基、アンモニウム基、シアノ基、ピリジン基、ピリジニウム基、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スルホネート基、スルホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、リン酸基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、アゾ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、カルボキシレート基、カルボン酸基、ウレタン基、尿素基、これらの混合物が挙げられ（これらに限定されない）、ここで、２またはそれ以上の置換基は結合して環を形成することができる。
多官能性フェノール材料は化学式Ａｒ（ＯＨ）ｘ（式中、ｘ≧３であり、式中、Ａｒはアリール部分またはアルキルアリール部分であり、ただし、Ａｒがアルキルアリール部分である場合、少なくとも３つの−ＯＨ基がアリール部分に結合されることを条件とする）で表される。多くの多官能性フェノール化合物が市販されており、例えば、化学式：
の１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンである。この型の化合物はまた、任意の所望のまたは有効な方法により調製することができる。例えば、アニソールとカルボン酸塩化物（例えば、塩化プロピオニル）を標準フリーデル−クラフツ条件下で反応させると、二置換ケトン化合物（例えば、エチル−（４−メトキシフェニル）ケトン）が得られる。この二置換ケトンをフェノールと、酸性（プロトン性）かつ脱水条件下で反応させると、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−（４−メトキシフェニル）−置換メタン誘導体（例えば、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−（４−メトキシフェニル）−プロパン）が得られる。三臭化ホウ素を用いた脱メチル化により、所望の三官能性１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−置換メタン誘導体（例えば、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン）が得られる。反応は下記のように進行する：
（式中、Ｒａはアルキル基（直鎖、分枝、環状、飽和、不飽和、置換、および未置換アルキル基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキル基に存在してもしなくてもよい）、アリール基（置換および未置換アリール基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリール基に存在してもしなくてもよい）、アリールアルキル基（置換および未置換アリールアルキル基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリールアルキル基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよい）、またはアルキルアリール基（置換および未置換アルキルアリール基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキルアリール基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよい）である）。
高級多官能性フェノール化合物は、アニソールをα，ω−ジカルボン酸塩化物（例えば塩化アジポイル）と標準フリーデル−クラフツ条件下で反応させ、α，ω−ジケトン化合物（例えば、１，６−ジオキソ−１，６−ビス（４−メトキシフェニル）ヘキサン）を得ることにより、類似の様式で作製することができる。このα，ω−ジケトンをフェノールと酸性（プロトン性）かつ脱水条件下で反応させると、α，α，ω，ω−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）−α，ω−ビス（４−メトキシフェニル）−置換アルカン誘導体（例えば、１，１，６，６−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）−１，６−ビス（４−メトキシフェニル）−ヘキサン）が得られる。三臭化ホウ素を用いた脱メチル化により所望の六官能性α，α，α，ω，ω，ω−ヘキサキス（４−ヒドロキシフェニル）−置換アルカン誘導体（例えば、１，１，１，６，６，６−ヘキサキス（４−ヒドロキシフェニル）−ヘキサン）が得られる。反応は下記のように進行する：
（式中、Ｒｂはアルキレン基（直鎖、分枝、環状、飽和、不飽和、置換、および未置換アルキレン基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキレン基に存在してもしなくてもよい）、アリーレン基（置換および未置換アリーレン基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリーレン基に存在してもしなくてもよい）、アリールアルキレン基（置換および未置換アリールアルキレン基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここでヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリールアルキレン基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよい）、またはアルキルアリーレン基（置換および未置換アルキルアリーレン基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここでヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキルアリーレン基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよい）である）。
さらに高級の多官能性フェノール化合物は、アニソールをポリカルボン酸塩化物と標準フリーデル−クラフツ条件下で反応させ、ポリケトン化合物を得ることにより、類似の様式で作製することができる。このポリケトンをフェノールと酸性（プロトン性）かつ脱水条件下で反応させると、類似のポリ（４−ヒドロキシフェニル）／（４−メトキシフェニル）誘導体が得られる。三臭化ホウ素を用いた脱メチル化により所望のポリ（４−ヒドロキシフェニル）−置換誘導体が得られる。反応は下記のように進行する：
（式中、Ｒｃはアルキル基（直鎖、分枝、環状、飽和、不飽和、置換、および未置換アルキル基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキル基に存在してもしなくてもよい）、アリール基（置換および未置換アリール基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリール基に存在してもしなくてもよい）、アリールアルキル基（置換および未置換アリールアルキル基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリールアルキル基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよい）、またはアルキルアリール基（置換および未置換アルキルアリール基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキルアリール基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよい）である）。適した多官能性フェノール化合物のいくつかの例としては、化学式：
（式中、ｙは１、２、または３の整数であり、
ｚはＲｄ上のＨＯ−Φ−ＣＨ３−ｙ−基の数を示し、１つの態様では少なくとも１および１つの態様では約１０以下であり、他の態様では約３以下であり、さらに他の態様では約２以下であるが、ｚの値はこれらの範囲外とすることができ、ただし、化合物中のフェノール基の総数が少なくとも３であることを条件とし、
Ｒｄは、１価の部分であり、例えば、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミン基、イミン基、アンモニウム基、シアノ基、ピリジン基、ピリジニウム基、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スルホネート基、スルホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、リン酸基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、アゾ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、カルボキシレート基、カルボン酸基、ウレタン基、尿素基、これらの混合物、アルキル基（直鎖、分枝、環状、飽和、不飽和、置換、および未置換アルキル基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキル基に存在してもしなくてもよく、１つの態様では、少なくとも１の炭素原子および様々な態様では３０以下、１０以下または７以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリール基（置換および未置換アリール基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリール基に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも４、５または６の炭素原子および様々な態様では３０以下、１０以下または８以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリールアルキル基（置換および未置換アリールアルキル基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリールアルキル基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では３０以下、１０以下または８以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばベンジルなど、アルキルアリール基（置換および未置換アルキルアリール基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキルアリール基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では３０以下、１０以下または８以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばトリルなど、等々であり（これらに限定されない）、ここで、置換アルキル、アリール、アリールアルキルおよびアルキルアリール基上の置換基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミン基、イミン基、アンモニウム基、シアノ基、ピリジン基、ピリジニウム基、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スルホネート基、スルホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、リン酸基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、アゾ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、カルボキシレート基、カルボン酸基、ウレタン基、尿素基、これらの混合物、などとすることができ（これらに限定されない）、ここで２またはそれ以上の置換基は結合して環を形成することができる）
のものが挙げられる（が、これらに限定されない）。多官能性フェノール化合物の他の例としては、化学式：
（式中、ｒは少なくとも３の整数であり、様々な態様では１０以下、５以下、または３以下であるが、ｒの値はこれらの範囲外とすることができ、
Ｒｅはアルキル基（直鎖、分枝、環状、飽和、不飽和、置換、および未置換アルキル基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキル基に存在してもしなくてもよく、１つの態様では、少なくとも１の炭素原子および様々な態様では１０以下、８以下または６以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリール基（置換および未置換アリール基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリール基に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも４、５または６の炭素原子および様々な態様では１５以下、１０以下または８以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリールアルキル基（置換および未置換アリールアルキル基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリールアルキル基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では１５以下、１０以下または８以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばベンジルなど、またはアルキルアリール基（置換および未置換アルキルアリール基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキルアリール基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では１５以下、１０以下または８以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばトリルなど、であり、ここで、置換アルキル、アリール、アリールアルキルおよびアルキルアリール基上の置換基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミン基、イミン基、アンモニウム基、シアノ基、ピリジン基、ピリジニウム基、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スルホネート基、スルホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、リン酸基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、アゾ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、カルボキシレート基、カルボン酸基、ウレタン基、尿素基、それらの混合物、などとすることができ（これらに限定されない）、ここで２またはそれ以上の置換基は結合して環を形成することができる）
のもの、化学式：
（式中、ｆは少なくとも３の整数であり、様々な態様では、６以下、４以下、または３以下である）
のもの、化学式：
（式中、ｇ１、ｇ２、ｇ３およびｇ４はそれぞれ、０、１、２、３または４の整数であり、ただし、ｇ１＋ｇ２＋ｇ３＋ｇ４の和≧３であることを条件とし、ｇ１＋ｇ２＋ｇ３＋ｇ４の和は様々な態様では、６以下、４以下または３以下である）
のもの、化学式：
（式中、ｈ１、ｈ２、ｈ３およびｈ４はそれぞれ、０、１、２、３または４の整数であり、ただし、ｈ１＋ｈ２＋ｈ３＋ｈ４の和≧３であることを条件とし、ｈ１＋ｈ２＋ｈ３＋ｈ４の和は様々な態様では、６以下、４以下または３以下である）
のもの、化学式：
（式中、ｊ１、ｊ２、ｊ３およびｊ４はそれぞれ、０、１、２、３または４の整数であり、ただし、ｊ１＋ｊ２＋ｊ３＋ｊ４の和≧３であることを条件とし、ｊ１＋ｊ２＋ｊ３＋ｊ４の和は様々な態様では、６以下、４以下または３以下である）
のもの、などが挙げられる（が、これらに限定されない）。適した多官能性フェノール化合物のいくつかの例としては、化学式：
の１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、化学式：
（式中、ｅは−（ＣＨ２）−基の繰り返し数を示す整数、例えば、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０またはそれ以上である）
のもの、化学式：
の１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタン、化学式：
の３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビスインダン−５，５’，６，６’−テトロール、化学式：
のピロガロール、化学式：
の１，２，４−ベンゼントリオール、化学式：
のフロログルシノール二水和物、化学式：
のジトラノール、化学式：
のノルジヒドログアヤレト酸、化学式：
（式中、ＲはＣＨ３である）
のＣ−メチルカリックス［４］レゾルシンアレーン、化学式：
（式中、Ｒは−ＣＨ２（ＣＨ２）９ＣＨ３である）
のＣ−ウンデシルカリックス［４］レゾルシンアレーン一水和物、化学式：
のカテキン水和物、化学式：
のエピカテキンなど、ならびにそれらの混合物が挙げられる（が、これらに限定されない）。
ｚはＲｄ上のＨＯ−Φ−ＣＨ３−ｙ−基の数を示し、１つの態様では少なくとも１および１つの態様では約１０以下であり、他の態様では約３以下であり、さらに他の態様では約２以下であるが、ｚの値はこれらの範囲外とすることができ、ただし、化合物中のフェノール基の総数が少なくとも３であることを条件とし、
Ｒｄは、１価の部分であり、例えば、水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミン基、イミン基、アンモニウム基、シアノ基、ピリジン基、ピリジニウム基、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スルホネート基、スルホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、リン酸基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、アゾ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、カルボキシレート基、カルボン酸基、ウレタン基、尿素基、これらの混合物、アルキル基（直鎖、分枝、環状、飽和、不飽和、置換、および未置換アルキル基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキル基に存在してもしなくてもよく、１つの態様では、少なくとも１の炭素原子および様々な態様では３０以下、１０以下または７以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリール基（置換および未置換アリール基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリール基に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも４、５または６の炭素原子および様々な態様では３０以下、１０以下または８以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリールアルキル基（置換および未置換アリールアルキル基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリールアルキル基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では３０以下、１０以下または８以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばベンジルなど、アルキルアリール基（置換および未置換アルキルアリール基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキルアリール基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では３０以下、１０以下または８以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばトリルなど、等々であり（これらに限定されない）、ここで、置換アルキル、アリール、アリールアルキルおよびアルキルアリール基上の置換基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミン基、イミン基、アンモニウム基、シアノ基、ピリジン基、ピリジニウム基、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スルホネート基、スルホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、リン酸基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、アゾ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、カルボキシレート基、カルボン酸基、ウレタン基、尿素基、これらの混合物、などとすることができ（これらに限定されない）、ここで２またはそれ以上の置換基は結合して環を形成することができる）
のものが挙げられる（が、これらに限定されない）。多官能性フェノール化合物の他の例としては、化学式：
Ｒｅはアルキル基（直鎖、分枝、環状、飽和、不飽和、置換、および未置換アルキル基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキル基に存在してもしなくてもよく、１つの態様では、少なくとも１の炭素原子および様々な態様では１０以下、８以下または６以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリール基（置換および未置換アリール基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリール基に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも４、５または６の炭素原子および様々な態様では１５以下、１０以下または８以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリールアルキル基（置換および未置換アリールアルキル基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリールアルキル基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では１５以下、１０以下または８以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばベンジルなど、またはアルキルアリール基（置換および未置換アルキルアリール基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキルアリール基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では１５以下、１０以下または８以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばトリルなど、であり、ここで、置換アルキル、アリール、アリールアルキルおよびアルキルアリール基上の置換基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミン基、イミン基、アンモニウム基、シアノ基、ピリジン基、ピリジニウム基、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スルホネート基、スルホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、リン酸基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、アゾ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、カルボキシレート基、カルボン酸基、ウレタン基、尿素基、それらの混合物、などとすることができ（これらに限定されない）、ここで２またはそれ以上の置換基は結合して環を形成することができる）
のもの、化学式：
のもの、化学式：
のもの、化学式：
のもの、化学式：
のもの、などが挙げられる（が、これらに限定されない）。適した多官能性フェノール化合物のいくつかの例としては、化学式：
のもの、化学式：
のＣ−メチルカリックス［４］レゾルシンアレーン、化学式：
のＣ−ウンデシルカリックス［４］レゾルシンアレーン一水和物、化学式：
化学式：
の適した材料の例としては、化学式：
の４，４’−ジフルオロベンゾフェノン、化学式：
の４，４’−ジクロロベンゾフェノン、化学式：
の３，４’−ジフルオロベンゾフェノン、化学式：
の３，４’−ジクロロベンゾフェノン、化学式：
の３，３’−ジフルオロベンゾフェノン、化学式：
の３，３’−ジクロロベンゾフェノン、化学式：
の２，４’−ジフルオロベンゾフェノン、化学式：
の２，４’−ジクロロベンゾフェノン、化学式：
の２，３’−ジフルオロベンゾフェノン、化学式：
の２，３’−ジクロロベンゾフェノン、化学式：
の２，２’−ジフルオロベンゾフェノン、化学式：
の２，２’−ジクロロベンゾフェノン、化学式：
（式中、Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、またはそれらの混合物である）、
（式中、Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、またはそれらの混合物である）、
（式中、Ｒｘはアルキレン基、アリーレン基、アリールアルキレン基、アルキルアリーレン基、またはそれらの混合物である）、
（式中、Ｒｘはアルキレン基、アリーレン基、アリールアルキレン基、アルキルアリーレン基、またはそれらの混合物である）、
（式中、Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、またはそれらの混合物である）、
（式中、Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、またはそれらの混合物である）、
（式中、Ｒｘはアルキレン基、アリーレン基、アリールアルキレン基、アルキルアリーレン基、またはそれらの混合物である）、
（式中、Ｒｘはアルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、またはそれらの混合物である）、
の化合物類、などが挙げられる（が、これらに限定されない）。さらに、ＹおよびＹ’は１つの分子内で同じである必要はなく、フルオロクロロベンゾフェノンの場合のように、１つはフッ素、もう１つは塩素とすることができる。この化学式の２またはそれ以上の化合物の混合物もまた使用することができる。
化学式：
の適した材料の例としては、化学式：
のもの、例えば、化学式：
のビスフェノールＡ、化学式：
のもの、例えば、化学式：
のヘキサフルオロビスフェノールＡ、化学式：
ビスフェノール−Ｃ、化学式：
のもの、例えば、化学式：
のビスフェノール−Ｅ、化学式：
のもの、例えば、化学式：
のビスフェノール−Ｍ、化学式：
のビスフェノール−Ｎ、化学式：
のもの、例えば、化学式：
のビスフェノール−Ｓ、化学式：
のもの、例えば、化学式：
のビスフェノール−Ｚ、化学式：
（式中、ｚは２〜２０の整数である）、
（式中、ｕは１〜２０の整数である）、
（式中、ｗは１〜２０の整数である）、
（式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、またはそれらの混合物であり、ｐは０または１の整数である）、
（式中、ｂは０または１の整数である）、
（式中、Ｚ、Ａｒ、Ａｒ’、およびｑは“Ｂ”基に関して上記で規定した通りである）
の化合物類、などが挙げられる（が、これらに限定されない）。この化学式の２またはそれ以上の化合物の混合物もまた使用することができる。
の化合物類、などが挙げられる（が、これらに限定されない）。この化学式の２またはそれ以上の化合物の混合物もまた使用することができる。
反応は、所望であれば、溶融押出成形機などにおいて、溶媒無しの正味で実施することができる。必要に応じて溶媒を用いる場合、選択した溶媒はこの特別な反応に適した任意の極性非プロトン性溶媒とすることができる。適した溶媒の例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、スルホラン（テトラメチレンスルホン、またはＴＭＳとも呼ばれる）、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチルリン酸トリアミド（ＨＭＰＡ）、など、ならびにこれらの混合物が挙げられる（が、これらに限定されない）。
必要に応じて使用する溶媒が存在する場合、その溶媒は反応混合物中に任意の所望のまたは有効な相対量で存在し、様々な態様では、溶媒中少なくとも１重量％、５重量％、または１０重量％の固体反応物、および様々な態様では、溶媒中７５重量％、５０重量％または３５重量％以下の固体反応物という量であるが、溶媒の相対量はこれらの範囲外とすることができる。
必要に応じて、ポリマーの末端をハロゲンまたはフェノール以外の官能基としたい場合、反応混合物はまた、化学式：
（式中、ａは少なくとも１の整数であり、様々な態様では５以下または３以下であり、さらに他の態様では１であり、Ｒ’基はヒドロキシ基に対しパラ位に配置され、
Ｒ’は、水素原子、アルキル基（直鎖、分枝、環状、飽和、不飽和、置換、および未置換アルキル基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキル基に存在してもしなくてもよく、１つの態様では、少なくとも１の炭素原子および様々な態様では２０以下、８以下または４以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリール基（置換および未置換アリール基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリール基に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも４、５または６の炭素原子および様々な態様では１４以下、１２以下または１０以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリールアルキル基（置換および未置換アリールアルキル基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリールアルキル基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では５０以下、２３以下または１１以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばベンジルなど、またはアルキルアリール基（置換および未置換アルキルアリール基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキルアリール基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では５０以下、２３以下または１１以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばトリルなど、であり、ここで、２またはそれ以上のＲ’基は結合して環を形成することができ、ここで、置換アルキル、アリール、アリールアルキルおよびアルキルアリール基上の置換基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミン基、イミン基、アンモニウム基、シアノ基、ピリジン基、ピリジニウム基、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スルホネート基、スルホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、リン酸基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、アゾ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、カルボキシレート基、カルボン酸基、ウレタン基、尿素基、これらの混合物、などとすることができ（これらに限定されない）、ここで２またはそれ以上の置換基は結合して環を形成することができる）
の材料を含むことができる。本明細書では、アルキル、アリール、アリールアルキルおよびアルキル基はヘテロ原子を含むことができるので、規定されるようにＲ’に対する候補には、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリールアルキルオキシ基、アルキルアリールオキシ基、ポリアルキレンオキシ基、例えば、各繰り返しアルキレンオキシドユニットが、ポリアルキレンオキシ基内の他のものとは独立して、１つの態様では少なくとも２の炭素原子、および様々な態様では１００以下、２０以下または６以下の炭素原子を含むが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができるもの、ポリアルキレンオキシ基が２またはそれ以上の異なる種類の繰り返しアルキレンオキシド繰り返しモノマーユニットを含むことができるもの（例えば、ポリエチレンオキシドとポリプロピレンオキシドなどのブロックまたはランダムコポリマー類など）、１つの態様では少なくとも２の繰り返しアルキレンオキシユニット、および様々な態様では５００以下、１０以下、または４以下の繰り返しアルキレンオキシユニットを有するが、繰り返しアルキレンオキシユニットの数はこれらの範囲外とすることができるポリアルキレンオキシ基など（これらに限定されない）が含まれる。これらの単官能フェノール類はまた、いくつかの場合には、本明細書で開示するように調製した分枝ポリアリーレンエーテルポリマー内の架橋を減少させまたは排除することができる。この化学式の適した材料の例としては、２−メチルフェノール、３−メチルフェノール、４−メチルフェノール、２−エチルフェノール、３−エチルフェノール、４−エチルフェノール、２−ｎ−プロピルフェノール、３−ｎ−プロピルフェノール、４−ｎ−プロピルフェノール、２−イソプロピルフェノール、３−イソプロピルフェノール、４−イソプロピルフェノール、２−ｎ−ブチルフェノール、３−ｎ−ブチルフェノール、４−ｎ−ブチルフェノール、２−イソブチルフェノール、３−イソブチルフェノール、４−イソブチルフェノール、２−ｓｅｃ−ブチルフェノール、３−ｓｅｃ−ブチルフェノール、４−ｓｅｃ−ブチルフェノール、２−ｔ−ブチルフェノール、３−ｔ−ブチルフェノール、４−ｔ−ブチルフェノール、ペンチルフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、ヘキシルフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、ヘプチルフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、オクチルフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、ノニルフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、デシルフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、ウンデシルフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、ドデシルフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、２−フェニルフェノール、３−フェニルフェノール、４−フェニルフェノール、２−トリルフェノール、３−トリルフェノール、４−トリルフェノール、２−ベンジルフェノール、３−ベンジルフェノール、４−ベンジルフェノール、２−メトキシフェノール、３−メトキシフェノール、４−メトキシフェノール、２−エトキシフェノール、３−エトキシフェノール、４−エトキシフェノール、２−ｎ−プロポキシフェノール、３−ｎ−プロポキシフェノール、４−ｎ−プロポキシフェノール、２−イソプロポキシフェノール、３−イソプロポキシフェノール、４−イソプロポキシフェノール、２−ｎ−ブトキシフェノール、３−ｎ−ブトキシフェノール、４−ｎ−ブトキシフェノール、２−イソブトキシフェノール、３−イソブトキシフェノール、４−イソブトキシフェノール、２−ｓｅｃ−ブトキシフェノール、３−ｓｅｃ−ブトキシフェノール、４−ｓｅｃ−ブトキシフェノール、２−ｔ−ブトキシフェノール、３−ｔ−ブトキシフェノール、４−ｔ−ブトキシフェノール、ペンチルオキシフェノールの全ての可能な異性体、ヘキシルオキシフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、ヘプチルオキシフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、オクチルオキシフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、ノニルオキシフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、デシルオキシフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、ウンデシルオキシフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、ドデシルオキシフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、２−フェノキシフェノール、３−フェノキシフェノール、４−フェノキシフェノール、２−トリルオキシフェノール、３−トリルオキシフェノール、４−トリルオキシフェノール、２−ベンジルオキシフェノール、３−ベンジルオキシフェノール、４−ベンジルオキシフェノール、２−（ポリエチレンオキシ）フェノール、３−（ポリエチレンオキシ）フェノール、４−（ポリエチレンオキシ）フェノール、２−（ポリプロピレンオキシ）フェノール、３−（ポリプロピレンオキシ）フェノール、４−（ポリプロピレンオキシ）フェノール、２−（ポリブチレンオキシ）フェノール、３−（ポリブチレンオキシ）フェノール、４−（ポリブチレンオキシ）フェノール、上記化合物の全ての２，３−二置換変形体、上記化合物の全ての２，４−二置換変形体、上記化合物の全ての２，５−二置換変形体、上記化合物の全ての２，６−二置換変形体、上記化合物の全ての３，４−二置換変形体、上記化合物の全ての３，５−二置換変形体、上記化合物の全ての２，３，４−三置換変形体、上記化合物の全ての２，３，５−三置換変形体、上記化合物の全ての２，３，６−三置換変形体、上記化合物の全ての２，４，５−三置換変形体、上記化合物の全ての２，４，６−三置換変形体、上記化合物の全ての３，４，５−三置換変形体、上記化合物の全ての３，４，６−三置換変形体、上記化合物の全ての２，３，４，５−四置換変形体、上記化合物の全ての２，３，４，６−四置換変形体、上記化合物の全ての２，３，５，６−四置換変形体、上記化合物の全ての五置換体、モノナフトール類、例えば１−ナフトールおよび２−ナフトール、など、ならびにそれらの混合物が挙げられる（が、これらに限定されない）。
Ｒ’は、水素原子、アルキル基（直鎖、分枝、環状、飽和、不飽和、置換、および未置換アルキル基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキル基に存在してもしなくてもよく、１つの態様では、少なくとも１の炭素原子および様々な態様では２０以下、８以下または４以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリール基（置換および未置換アリール基を含み、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリール基に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも４、５または６の炭素原子および様々な態様では１４以下、１２以下または１０以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、アリールアルキル基（置換および未置換アリールアルキル基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアリールアルキル基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では５０以下、２３以下または１１以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばベンジルなど、またはアルキルアリール基（置換および未置換アルキルアリール基を含み、ここで、アルキル部分は直鎖、分枝、環状、飽和、または不飽和とすることができ、ここで、ヘテロ原子、例えば、酸素、窒素、硫黄、珪素、リン、などがアルキルアリール基のアリール部分およびアルキル部分のいずれかまたは両方に存在してもしなくてもよく、様々な態様では、少なくとも５、６または７の炭素原子および様々な態様では５０以下、２３以下または１１以下の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができる）、例えばトリルなど、であり、ここで、２またはそれ以上のＲ’基は結合して環を形成することができ、ここで、置換アルキル、アリール、アリールアルキルおよびアルキルアリール基上の置換基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミン基、イミン基、アンモニウム基、シアノ基、ピリジン基、ピリジニウム基、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スルホネート基、スルホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、リン酸基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、アゾ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、カルボキシレート基、カルボン酸基、ウレタン基、尿素基、これらの混合物、などとすることができ（これらに限定されない）、ここで２またはそれ以上の置換基は結合して環を形成することができる）
の材料を含むことができる。本明細書では、アルキル、アリール、アリールアルキルおよびアルキル基はヘテロ原子を含むことができるので、規定されるようにＲ’に対する候補には、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリールアルキルオキシ基、アルキルアリールオキシ基、ポリアルキレンオキシ基、例えば、各繰り返しアルキレンオキシドユニットが、ポリアルキレンオキシ基内の他のものとは独立して、１つの態様では少なくとも２の炭素原子、および様々な態様では１００以下、２０以下または６以下の炭素原子を含むが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができるもの、ポリアルキレンオキシ基が２またはそれ以上の異なる種類の繰り返しアルキレンオキシド繰り返しモノマーユニットを含むことができるもの（例えば、ポリエチレンオキシドとポリプロピレンオキシドなどのブロックまたはランダムコポリマー類など）、１つの態様では少なくとも２の繰り返しアルキレンオキシユニット、および様々な態様では５００以下、１０以下、または４以下の繰り返しアルキレンオキシユニットを有するが、繰り返しアルキレンオキシユニットの数はこれらの範囲外とすることができるポリアルキレンオキシ基など（これらに限定されない）が含まれる。これらの単官能フェノール類はまた、いくつかの場合には、本明細書で開示するように調製した分枝ポリアリーレンエーテルポリマー内の架橋を減少させまたは排除することができる。この化学式の適した材料の例としては、２−メチルフェノール、３−メチルフェノール、４−メチルフェノール、２−エチルフェノール、３−エチルフェノール、４−エチルフェノール、２−ｎ−プロピルフェノール、３−ｎ−プロピルフェノール、４−ｎ−プロピルフェノール、２−イソプロピルフェノール、３−イソプロピルフェノール、４−イソプロピルフェノール、２−ｎ−ブチルフェノール、３−ｎ−ブチルフェノール、４−ｎ−ブチルフェノール、２−イソブチルフェノール、３−イソブチルフェノール、４−イソブチルフェノール、２−ｓｅｃ−ブチルフェノール、３−ｓｅｃ−ブチルフェノール、４−ｓｅｃ−ブチルフェノール、２−ｔ−ブチルフェノール、３−ｔ−ブチルフェノール、４−ｔ−ブチルフェノール、ペンチルフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、ヘキシルフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、ヘプチルフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、オクチルフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、ノニルフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、デシルフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、ウンデシルフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、ドデシルフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、２−フェニルフェノール、３−フェニルフェノール、４−フェニルフェノール、２−トリルフェノール、３−トリルフェノール、４−トリルフェノール、２−ベンジルフェノール、３−ベンジルフェノール、４−ベンジルフェノール、２−メトキシフェノール、３−メトキシフェノール、４−メトキシフェノール、２−エトキシフェノール、３−エトキシフェノール、４−エトキシフェノール、２−ｎ−プロポキシフェノール、３−ｎ−プロポキシフェノール、４−ｎ−プロポキシフェノール、２−イソプロポキシフェノール、３−イソプロポキシフェノール、４−イソプロポキシフェノール、２−ｎ−ブトキシフェノール、３−ｎ−ブトキシフェノール、４−ｎ−ブトキシフェノール、２−イソブトキシフェノール、３−イソブトキシフェノール、４−イソブトキシフェノール、２−ｓｅｃ−ブトキシフェノール、３−ｓｅｃ−ブトキシフェノール、４−ｓｅｃ−ブトキシフェノール、２−ｔ−ブトキシフェノール、３−ｔ−ブトキシフェノール、４−ｔ−ブトキシフェノール、ペンチルオキシフェノールの全ての可能な異性体、ヘキシルオキシフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、ヘプチルオキシフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、オクチルオキシフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、ノニルオキシフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、デシルオキシフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、ウンデシルオキシフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、ドデシルオキシフェノールの全ての可能な異性体（分枝および直鎖を含む）、２−フェノキシフェノール、３−フェノキシフェノール、４−フェノキシフェノール、２−トリルオキシフェノール、３−トリルオキシフェノール、４−トリルオキシフェノール、２−ベンジルオキシフェノール、３−ベンジルオキシフェノール、４−ベンジルオキシフェノール、２−（ポリエチレンオキシ）フェノール、３−（ポリエチレンオキシ）フェノール、４−（ポリエチレンオキシ）フェノール、２−（ポリプロピレンオキシ）フェノール、３−（ポリプロピレンオキシ）フェノール、４−（ポリプロピレンオキシ）フェノール、２−（ポリブチレンオキシ）フェノール、３−（ポリブチレンオキシ）フェノール、４−（ポリブチレンオキシ）フェノール、上記化合物の全ての２，３−二置換変形体、上記化合物の全ての２，４−二置換変形体、上記化合物の全ての２，５−二置換変形体、上記化合物の全ての２，６−二置換変形体、上記化合物の全ての３，４−二置換変形体、上記化合物の全ての３，５−二置換変形体、上記化合物の全ての２，３，４−三置換変形体、上記化合物の全ての２，３，５−三置換変形体、上記化合物の全ての２，３，６−三置換変形体、上記化合物の全ての２，４，５−三置換変形体、上記化合物の全ての２，４，６−三置換変形体、上記化合物の全ての３，４，５−三置換変形体、上記化合物の全ての３，４，６−三置換変形体、上記化合物の全ての２，３，４，５−四置換変形体、上記化合物の全ての２，３，４，６−四置換変形体、上記化合物の全ての２，３，５，６−四置換変形体、上記化合物の全ての五置換体、モノナフトール類、例えば１−ナフトールおよび２−ナフトール、など、ならびにそれらの混合物が挙げられる（が、これらに限定されない）。
必要に応じて用いる化学式：
の材料は存在する場合、反応混合物中に、任意の所望のまたは有効な量で存在し、様々な態様では少なくとも０．０１、または０．２モルの化学式：
の材料が化学式：
のモノマー１モルにつき存在し、１つの態様では、０．５モル以下の化学式：
の材料が化学式：
のモノマー１モルにつき存在するが、化学式：
の材料の相対量はこれらの範囲外とすることができる。
反応混合物はまた、炭酸塩基を含む。炭酸塩基は任意の所望の材料、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムなどとすることができる。炭酸塩基は、反応混合物中に任意の所望のまたは有効な量で存在し、様々な態様では、少なくとも１．０５モル、１．１モルまたは１．２モルの炭酸塩基が、化合物：
１モルにつき存在し、様々な態様では、２モル以下、１．５モル以下または１．３モル以下の炭酸塩基が、化合物：
１モルにつき存在するが、その量はこれらの範囲外とすることができる。
必要に応じて用いる末端キャッピング添加剤および炭酸塩基に関する更なる情報が、米国特許出願第１０／０４０，８５０号において開示されている。
化学式Ａｒ（ＯＨ）ｘの材料、化学式：
の材料、化学式：
の材料、および、必要に応じて使用する化学式：
の材料が存在する場合、その材料はそれぞれ、反応混合物中に任意の所望のまたは有効な量で存在し、様々な態様では、反応混合物中の総固体量（すなわち、これらの３つの材料の各々の総和量）が少なくとも１重量％、２０重量％または２５重量％の固体量となるように、および様々な態様では、７５重量％以下、５０重量％以下、または４５重量％以下の固体量となるようにされるが、反応混合物の固体量はこれらの範囲外とすることができる。
反応混合物は、反応が起こるのに有効な任意の温度まで加熱される。必要に応じて使用される溶媒を使用する場合、例えば、温度は還流が起こる温度とすることができる。この温度は一般に、使用する溶媒および反応が実施される圧力に依存する。例えば、１気圧で、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶媒を使用して実施する場合、反応温度は、様々な態様では、少なくとも１４５℃、１５５℃または１６０℃であり、様々な態様では２００℃以下、１８０℃以下または１７０℃以下であるが、温度はこれらの範囲外とすることができる。
反応混合物の加熱は、重合反応を完了させるのに効果的な任意の期間、実施される。反応の完了は、１０〜３０分の間隔を空けて反応器から採取したポリマーの３つの連続するサンプルが大体同じ分子量（±５００ダルトン）および大体同じ多分散性（±２）を示した場合に決定することができる。反応時間は、様々な態様では、少なくとも４時間、６時間、または８時間、様々な態様では、１０時間以下、９時間以下、または８．５時間以下であるが、反応時間はこれらの範囲外とすることができる。
重合反応中に水が生成し、この水は反応混合物から除去される。水が存在するとフェノキシド化合物が不安定になるからである。水の除去方法の１つは、トルエンなどの溶媒を用いた共沸蒸留によるものである。反応混合物から水を除去するための任意の他の所望のまたは有効な方法もまた使用することができる。トルエンは反応混合物中に任意の有効な量で存在し、様々な態様では反応器内容物の少なくとも１重量％または１２重量％、様々な態様では、反応器内容物の３０重量％以下または１５重量％以下であるが、トルエンの量はこれらの範囲外とすることができる。
本明細書で開示したプロセスにより形成されるポリマーは任意の所望の分子量を有することができる。ダルトンで表した重量平均分子量（Ｍｗ）は、様々な態様では、少なくとも２，０００、４，０００または８，０００、様々な態様では、５００，０００以下、２５０，０００以下または１００，０００以下であるが、重量平均分子量はこれらの範囲外とすることができる。数平均分子量（Ｍｎ）は、様々な態様では、少なくとも２，０００、４，０００または８，０００、様々な態様では５００，０００以下、２５０，０００以下または１００，０００以下であるが、数平均分子量はこれらの範囲外とすることができる。
本明細書で列挙した分子量は、ゲル透過クロマトグラフィーを用いて測定した値であり、ポリスチレン標準に対するものである。
化学式Ａｒ（ＯＨ）ｘの多官能性フェノール材料および化学式：
の二ハロゲン化材料は、反応混合物中に、任意の所望のまたは有効な相対量で存在する。二ハロゲン化材料の多官能性フェノール材料に対する比率は、様々な態様では、多官能性フェノール材料１モルにつき少なくとも３５モル、５０モルまたは１００モルの二ハロゲン化材料であり、様々な態様では、多官能性フェノール材料１モルにつき４００モル以下、２００モル以下または１５０モル以下の二ハロゲン化材料であるが、二ハロゲン化材料および多官能性フェノール材料の相対量はこれらの範囲外とすることができる。
化学式Ａｒ（ＯＨ）ｘの多官能性フェノール材料および化学式：
のジヒドロキシル化材料は、反応混合物中に、任意の所望のまたは有効な相対量で存在する。ジヒドロキシル化材料の多官能性フェノール材料に対する比率は、様々な態様では、多官能性フェノール材料１モルにつき少なくとも３５モル、５０モルまたは１００モルのジヒドロキシル化材料であり、様々な態様では、多官能性フェノール材料１モルにつき４００モル以下、２００モル以下または１５０モル以下のジヒドロキシル化材料であるが、ジヒドロキシル化材料および多官能性フェノール材料の相対量はこれらの範囲外とすることができる。
化学式：
の二ハロゲン化材料および化学式：
のジヒドロキシル化材料は、反応混合物中に、任意の所望のまたは有効な相対量で存在する。二ハロゲン化材料のジヒドロキシル化材料に対する比率は、様々な態様では、ジヒドロキシル化材料１モルにつき少なくとも１．０２モル、１．０６モルまたは１．０８モルの二ハロゲン化材料であり、様々な態様では、ジヒドロキシル化材料１モルにつき１．１５モル以下、１．１２モル以下または１．１０モル以下の二ハロゲン化材料であるが、二ハロゲン化材料およびジヒドロキシル化材料の相対量はこれらの範囲外とすることができる。ジヒドロキシル化材料１モルあたりの二ハロゲン化材料のモル過剰が高くなるほど一般に、ポリマーの分子量は低くなる傾向があり；例えば、二ハロゲン化材料のジヒドロキシル化材料に対する比が１．１５：１である場合、得られるポリマーの分子量は、二ハロゲン化材料のジヒドロキシル化材料に対する比率が１．０２：１である場合に比べ、低くなると予測される。
必要に応じて使用する単官能フェノール化合物が反応混合物中に存在する場合、化学式Ａｒ（ＯＨ）ｘの多官能性フェノール材料および化学式：
の単官能フェノール化合物は、反応混合物中に、任意の所望のまたは有効な相対量で存在する。多官能性フェノール材料の単官能フェノール化合物に対する比率は、様々な態様では、単官能フェノール１モルにつき少なくとも０．１モル、０．２５モルまたは０．３３モルの多官能性フェノール材料であり、様々な態様では、単官能フェノール材料１モルにつき１モル以下、０．６６モル以下または０．５モル以下の多官能性フェノール材料であるが、多官能性フェノール材料および単官能フェノールの相対量はこれらの範囲外とすることができる。
必要に応じて使用する単官能フェノール化合物が反応混合物中に存在する場合、化学式：
のジヒドロキシル化材料および、化学式：
の単官能フェノール化合物は、反応混合物中に、任意の所望のまたは有効な相対量で存在する。ジヒドロキシル化材料の単官能フェノールに対する比率は、様々な態様では、単官能フェノール１モルにつき少なくとも２モル、４モルまたは６モルのジヒドロキシル化材料であり、様々な態様では、単官能フェノール１モルにつき１０モル以下、８モル以下または７モル以下のジヒドロキシル化材料であるが、ジヒドロキシル化材料および単官能フェノールの相対量はこれらの範囲外とすることができる。単官能フェノール１モル当たりのジヒドロキシル化材料のモル量が低くなるほど一般に、ポリマーの分子量が低くなる傾向がある：例えば、ジヒドロキシル化材料の単官能フェノールに対する比が２：１である場合、得られるポリマーの分子量は、ジヒドロキシル化材料の単官能フェノールに対する比率が１０：１である場合に比べ、低くなると予測される。
任意の特別な理論に限定されるものではないが、ポリマーの直鎖部分の形成は、炭酸塩基（図示した例では炭酸カリウム）が“Ｂ”部分上のヒドロキシ基と反応し、塩を形成する場合に起こる：
と考えられる。その後、ジヒドロキシル化された“Ｂ”部分は下記のように（以下の例では、ＹおよびＹ’がどちらもフッ素原子である場合について示している）：
求核芳香族置換反応を開始する。例えば、“Ａ”基が＞Ｃ＝Ｏであり、ｍが１であり、フェニル基と“Ａ”基との間の結合がフッ素原子に対しパラ位である場合、このプロセスは下記のように：
起こる。このように、“Ｂ”部分は酸素原子を介して“Ａ”部分上のフェニル環に結合され：
ポリマー鎖が形成される：
同様に、ポリマーの分枝部分の形成は、炭酸塩基（図示した例では炭酸カリウム）が多官能性フェノール化合物上のヒドロキシ基と反応し、塩を形成する場合に起こる：
と考えられる。その後、多官能性フェノール化合物は、下記のように：
求核芳香族置換反応を開始する。例えば、Ａ”基が＞Ｃ＝Ｏであり、ｍが１であり、フェニル基と“Ａ”基との間の結合がフッ素原子に対しパラ位である場合、このプロセスは下記のように：
起こる。このように、多官能性フェノール化合物は酸素原子を介して“Ａ”部分上のフェニル環に結合され：
分枝部分が形成される：
必要に応じて用いられるモノフェノール化合物が存在する場合、エンドキャッピングモノフェノール化合物が関係する反応（ここでは、単一のＲ’基を有する化合物について説明する）は、同様の機構により進行すると考えられる：
化学式：
の化合物、化学式Ａｒ（ＯＨ）ｘの多官能性フェノール化合物、およびモノフェノール化合物はそれぞれ、下記のように（図示した反応機構では３つの全ての反応物は、アニオン酸素原子が付着した正方形として一般化されている）：
形成されたポリマー鎖との鎖開裂反応を開始することができると考えられる。また、任意の特別な理論に限定されないが、モノフェノール化合物、化学式：
の化合物、および多官能性フェノール化合物は全て自由に、化学式：
の二ハロゲン化化合物、ならびに反応混合物中で形成される任意のポリマーと反応し、鎖切断および再結合の平衡状態ではポリマー鎖の一定のスクランブリングが存在すると考えられる。したがって、全分枝ポリマーは重合条件下で平衡状態に達する。さらに、必要に応じて使用する単官能フェノールエンドキャッピング剤は、反応の開始時に添加した場合でさえも効果的に作用し、系の分子量分布を広げることはない。さらに、必要に応じて使用する単官能フェノールは、系で働く熱力学的力の全てのバランスをとる平衡を確立することにより、得られるポリマーの多分散性および分子量を制御することができる。本発明のプロセスにより調製される分枝ポリアリーレンエーテル類の分子量は、開始材料の化学量論を変化させることにより制御することができ、そのプロセス中に（ＧＰＣにより）測定される分子量はほぼ一定値に達し、その後、それ以上上昇することはない。
モノマー類の比率を変化させて、分枝量および直鎖ユニット長さの両方を制御することができる。例えば、本プロセスの例を使用してモデルを構成することができ、この場合、多官能フェノールが１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンであり、二ハロゲン化化合物がジフルオロベンゾフェノンであり、ジヒドロキシ化合物がビスフェノール−Ａであり、単官能フェノールが存在し、ｔｅｒｔ−ブチルフェノールである。下記プロセス：
において分枝ポリマーの直鎖部分（ｎ）の伸長のみを考慮したモデルを用いると、最終分枝ポリマーの分子量は、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（ＴＨＰＥ）およびｔｅｒｔ−ブチルフェノール（ｔＢＰ）モノマー類のビスフェノール−Ａ（ＢＰＡ）モノマー類に対する比率により制御することができる。分枝分子の直鎖部分（ｎ）の伸長のみを考慮すると、以上で図示した分枝分子の型に対するモノマー類各々の相対モル濃度は生成（ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ）関数（ｎ、直鎖長）として計算される。各々、生成（ｎ）の増大に対し、相対モノマー濃度の変化は、低い生成（低分子量）で最も顕著であり、分子量が高くなると無視できる（３０重量％の固体の６００ｇサンプル、すなわち、１８０ｇの反応物／ポリマーおよび４２０ｇの溶媒と仮定）。
これらの結果から、分子の直鎖部分が優勢である場合得られた分枝分子の物理特性の変化は最も小さく、直鎖部分の長さ（生成、ｎ）が１〜１０の間である場合、最も大きくなることが示される。この方法を使用すると、最終分枝ポリマーの分子量は、重合反応混合物中に存在する１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（ＴＨＰＥ）およびｔｅｒｔ−ブチルフェノール（ｔＢＰ）モノマー類のビスフェノール−Ａ（ＢＰＡ）モノマーに対する比率により制御することができる。
１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（ＴＨＰＥ）およびビスフェノール−Ａ（ＢＰＡ）モノマー類の相対量を変化させると、また、ポリマー内の分枝量を制御することができる方法が提供される。
このプロセスにより形成されるポリマー類は複数の分枝点を有する分枝ポリアリーレンエーテルポリマー類であると考えられ、各分枝点は、下記化学式により表され：
式中、各Ａｒは、互いに独立して、アリール部分またはアルキルアリール部分であり、ただし、Ａｒがアルキルアリール部分である場合、少なくとも３つの
繰り返し基が、繰り返し基内の酸素原子を介してアリール部分に結合されることを条件とし、
各ｘは、互いに独立して、３またはそれ以上の整数であり、
各ｍは、互いに独立して、０または１の整数であり、
各Ｄは、互いに独立して、（ａ）他の分枝点、（ｂ）末端基、または（ｃ）下記化学式で表されるもののいずれかであり：
（式中、各ｎは、互いに独立して、繰り返しモノマーユニットの数を表す整数である）、
各Ａは、互いに独立して、
（式中、Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、またはこれらの混合物である）、
（式中、ＲＸはアルキレン基、アリーレン基、アリールアルキレン基、アルキルアリーレン基、またはそれらの混合物である）、
またはそれらの混合物であり、各Ｂは、互いに独立して、
（式中、ｚは２〜２０の整数である）、
（式中、ｕは１〜２０の整数である）、
（式中、ｗは１〜２０の整数である）、
（式中、各ｏは互いに独立して、１、２、３、または４の整数である）、
（式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、またはそれらの混合物であり、ｐは０または１の整数である）
（式中、ｂは０または１の整数である）、
（式中、（１）Ｚは、
（式中、ｃは０または１である）であり、（２）Ａｒ’は、
であり、（３）Ｇは約２〜１０の炭素原子を含むアルキル基から選択されるアルキル基であり、（４）Ａｒ’’は
であり、（５）Ｘは、
（式中、ｓは０、１、または２である）、
であり、（６）ｑは０または１である）
またはそれらの混合物である。これらの分枝ポリアリーレンエーテルコポリマーは下記化学式で表されると考えられ：
式中、各Ａｒは互いに独立してアリール部分またはアルキルアリール部分であり、ただし、Ａｒがアルキルアリール部分である場合、少なくとも３つの
繰り返し官能基が、繰り返し官能基中の酸素原子を介してアリール部分に結合されることを条件とし、
各ｘは、互いに独立して、３以上の整数であり、
各ｋおよび各ｎは、互いに独立して、繰り返しモノマーユニットの数を表し、
各Ｗは、互いに独立して、
（式中、各ｍは、互いに独立して、０または１の整数である）であり、
各Ａは、互いに独立して、
（式中、Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、またはそれらの混合物である）、
（式中、ＲＸはアルキレン基、アリーレン基、アリールアルキレン基、アルキルアリーレン基、またはそれらの混合物である）、
またはそれらの混合物であり、各Ｂは、互いに独立して、
（式中、ｚは２〜２０の整数である）、
（式中、ｕは１〜２０の整数である）、
（式中、ｗは１〜２０の整数である）、
（式中、ｏは互いに独立して、１、２、３、または４の整数である）、
（式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、またはそれらの混合物であり、ｐは０または１の整数である）、
（式中、ｂは０または１の整数である）
（式中、（１）Ｚは、
（式中、ｃは０または１である）であり、（２）Ａｒ’は、
であり、（３）Ｇは２〜１０の炭素原子を含むアルキル基から選択されるアルキル基であり、（４）Ａｒ’’は
であり、（５）Ｘは、
（式中、ｓは０、１、または２である）
であり、（６）ｑは０または１である）
またはそれらの混合物である。
各ｘは、互いに独立して、３またはそれ以上の整数であり、
各ｍは、互いに独立して、０または１の整数であり、
各Ｄは、互いに独立して、（ａ）他の分枝点、（ｂ）末端基、または（ｃ）下記化学式で表されるもののいずれかであり：
各Ａは、互いに独立して、
またはそれらの混合物である。これらの分枝ポリアリーレンエーテルコポリマーは下記化学式で表されると考えられ：
各ｘは、互いに独立して、３以上の整数であり、
各ｋおよび各ｎは、互いに独立して、繰り返しモノマーユニットの数を表し、
各Ｗは、互いに独立して、
各Ａは、互いに独立して、
またはそれらの混合物である。
“Ｄ”基は任意の所望のまたは末端基とすることができ、例えば、水素原子、必要に応じて用いる単官能フェノール化合物から誘導した官能基、例えば、
（単官能フェノール（ここでＲ’およびａはそれぞれ、上記で規定した通りである）が、化学式：
で表される場合）
などである。
などである。
本明細書ではまた、導電性基材、発光材料、およびバインダを含むイメージング部材も開示され、バインダは、化学式：
（式中、Ａｒ、Ｗ、ｘ、ｋ、Ｂおよびｎは上記で記述した通りである）
の分枝ポリアリーレンエーテルコポリマーを含む。本明細書ではさらに、導電性基材、発光材料、および複数の分枝点を有する分枝ポリアリーレンエーテルコポリマーを含むバインダを備えるイメージング部材も開示され、各分枝点は化学式：
（式中、Ａｒ、Ａ、ｍ、ｘおよびＤは上記で記述した通りである）
で表される。これらの分枝コポリマー類は本明細書で開示されるプロセスにより調製することができる。適したイメージング部材構造および材料の例は、米国特許第６，１７４，６３６号の本文および図に示されている。
の分枝ポリアリーレンエーテルコポリマーを含む。本明細書ではさらに、導電性基材、発光材料、および複数の分枝点を有する分枝ポリアリーレンエーテルコポリマーを含むバインダを備えるイメージング部材も開示され、各分枝点は化学式：
で表される。これらの分枝コポリマー類は本明細書で開示されるプロセスにより調製することができる。適したイメージング部材構造および材料の例は、米国特許第６，１７４，６３６号の本文および図に示されている。
本明細書で開示されている分枝ポリマー類をイメージング部材の光導電層中のバインダとして、それだけでまたは他の材料と組み合わせて使用することができる。
本明細書で開示されている分枝ポリマー類をイメージング部材の電荷輸送層中のバインダとして、それだけでまたは他の材料と組み合わせて使用することができる。
本明細書で開示したイメージング部材の少なくとも１つの層、例えば、接着層、保護オーバーコート層、発光層、電荷輸送層などは本明細書で開示した分枝ポリマーを含む。分枝ポリマーはその層中に単独のバインダとして存在することができ、または２またはそれ以上のバインダポリマー類のブレンドの１成分として存在することができる。本明細書で開示した分枝ポリマー類とブレンドすることができる適したポリマーの１つの例は、ポリカーボネート樹脂である。任意の所望のまたは適したポリカーボネート樹脂を選択することができる。例えば、一般式：
（式中、ＲおよびＲ’はそれぞれ、互いに独立して、アルキル基（シクロアルキル基および置換アルキル基を含み、１つの態様では１〜３０の炭素原子を有する）またはフェニル基（置換フェニル基を含む）であり、ｎは繰り返しモノマーユニットの数を表す整数であり、１つの態様では、１０〜１，０００であるが、値はこの範囲外とすることができる）
のポリカーボネート類である。ポリカーボネート類の例としては、ポリ（４，４’−イソプロピリデン−ジフェニレン）カーボネート（ビスフェノール−Ａ−ポリカーボネートとも呼ばれる）、ポリ（４，４’−ジフェニル−１，１’−シクロヘキサン）カーボネート、などが挙げられる。いくつかのポリカーボネート樹脂の数平均分子量は２０，０００〜１５０，０００であり、他の態様では、５０，０００〜１００，０００の範囲である。いくつのポリカーボネートの重量平均分子量は２０，０００〜１００，０００であり、他の態様では、５０，０００〜１００，０００の範囲である。層内では、追加のバインダ成分、例えばポリカーボネート及び本明細書で開示した分枝ポリマーを任意の適したまたは所望の相対量でブレンドすることができ、１つの態様では１〜９９重量％の第２のブレンドポリマーおよび１〜９９重量％の本明細書で開示した分枝ポリマー、他の態様では５〜９５重量％の第２のブレンドポリマーおよび５〜９５重量％の本明細書で開示した分枝ポリマー、さらに他の態様では、２５〜７５重量％の第２のブレンドポリマーおよび２５〜７５重量％の本明細書で開示した分枝ポリマーとすることができるが、相対量はこれらの範囲外とすることができる。
のポリカーボネート類である。ポリカーボネート類の例としては、ポリ（４，４’−イソプロピリデン−ジフェニレン）カーボネート（ビスフェノール−Ａ−ポリカーボネートとも呼ばれる）、ポリ（４，４’−ジフェニル−１，１’−シクロヘキサン）カーボネート、などが挙げられる。いくつかのポリカーボネート樹脂の数平均分子量は２０，０００〜１５０，０００であり、他の態様では、５０，０００〜１００，０００の範囲である。いくつのポリカーボネートの重量平均分子量は２０，０００〜１００，０００であり、他の態様では、５０，０００〜１００，０００の範囲である。層内では、追加のバインダ成分、例えばポリカーボネート及び本明細書で開示した分枝ポリマーを任意の適したまたは所望の相対量でブレンドすることができ、１つの態様では１〜９９重量％の第２のブレンドポリマーおよび１〜９９重量％の本明細書で開示した分枝ポリマー、他の態様では５〜９５重量％の第２のブレンドポリマーおよび５〜９５重量％の本明細書で開示した分枝ポリマー、さらに他の態様では、２５〜７５重量％の第２のブレンドポリマーおよび２５〜７５重量％の本明細書で開示した分枝ポリマーとすることができるが、相対量はこれらの範囲外とすることができる。
本明細書では、本明細書で開示した光導電性イメージング部材を用いて画像を作成する方法も開示する。本方法は、本明細書で開示した光導電性イメージング部材上に静電潜像を作成する工程と、潜像を現像する工程と、現像した静電潜像を基材に転写する工程と、を含む。必要に応じて、転写した画像を基材に永久的に付着させることができる。画像の現像は、多くの方法、例えばカスケード、タッチダウン、パウダー雲、磁気ブラシなどにより達成することができる。現像した画像は、任意の方法、例えば、コロトロンまたはバイアス荷電ロールを使用する方法により基材に転写することができる。固定工程は、任意の適した方法、例えば、放射フラッシュ融解、熱融解、圧力融解、蒸気融解、などにより実施することができる。電子写真コピー機およびプリンタにおいて使用される任意の材料を基材、例えば、紙、透明材料などとして使用することができる。
実施例１
タービン機械撹拌軸、アルゴン入口、およびデアン−スターク（Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ）トラップ（水冷凝縮器を上方に設置）を備えた１リットル樹脂ジャーに、連続して、７７．４５ｇの２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピリデン（ビスフェノール−Ａ）、１２６．８９ｇの４，４’−ジクロロジフェニルスルホン、１５．７５ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（ＴＨＰＥ）、７．７２ｇの４−ｔ−ブチルフェノール（ｔＢＰ）、１４０ｇの炭酸セシウム、４５０ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、および１５０ｇのトルエンを添加した。混合物を還流しながら１９時間加熱した。得られた溶液をその後室温まで冷却し、４００ｇのＤＭＡｃで希釈し、セライト（ＣＥＬＩＴＥ、登録商標）パッドを通して濾過し、８リットルの激しく撹拌したメタノール中で沈澱させた。得られた沈澱を＃１ワットマン（Ｗｈａｔｍａｎ）濾紙を通して真空濾過することにより単離し、５リットルの脱イオン水中で１時間撹拌し、再濾過し、その後、５リットルのメタノール中で１時間撹拌し、最終濾過を実施した。沈澱を真空オーブン（３０℃、７ｍｍＨｇ）中で３日間乾燥させると、白色の自由流動粉末が得られた（収率７０％）。
タービン機械撹拌軸、アルゴン入口、およびデアン−スターク（Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ）トラップ（水冷凝縮器を上方に設置）を備えた１リットル樹脂ジャーに、連続して、７７．４５ｇの２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピリデン（ビスフェノール−Ａ）、１２６．８９ｇの４，４’−ジクロロジフェニルスルホン、１５．７５ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（ＴＨＰＥ）、７．７２ｇの４−ｔ−ブチルフェノール（ｔＢＰ）、１４０ｇの炭酸セシウム、４５０ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、および１５０ｇのトルエンを添加した。混合物を還流しながら１９時間加熱した。得られた溶液をその後室温まで冷却し、４００ｇのＤＭＡｃで希釈し、セライト（ＣＥＬＩＴＥ、登録商標）パッドを通して濾過し、８リットルの激しく撹拌したメタノール中で沈澱させた。得られた沈澱を＃１ワットマン（Ｗｈａｔｍａｎ）濾紙を通して真空濾過することにより単離し、５リットルの脱イオン水中で１時間撹拌し、再濾過し、その後、５リットルのメタノール中で１時間撹拌し、最終濾過を実施した。沈澱を真空オーブン（３０℃、７ｍｍＨｇ）中で３日間乾燥させると、白色の自由流動粉末が得られた（収率７０％）。
実施例２
タービン機械撹拌軸、アルゴン入口、およびデアン−スタークトラップ（水冷凝縮器を上方に設置）を備えた０．５リットル樹脂ジャーに、連続して、２８．７３ｇの２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピリデン（ビスフェノール−Ａ）、４８．７２ｇの４，４’−ジクロロジフェニルスルホン、７．８８ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（ＴＨＰＥ）、６３．４ｇの炭酸セシウム、２２５ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、および７５ｇのトルエンを添加した。混合物を還流しながら１９時間加熱した。この時点では、混合物はゲルであり、ＤＭＡｃ中には溶解できなかった。生成物は、本発明による架橋分枝ポリマーであると考えた。
タービン機械撹拌軸、アルゴン入口、およびデアン−スタークトラップ（水冷凝縮器を上方に設置）を備えた０．５リットル樹脂ジャーに、連続して、２８．７３ｇの２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピリデン（ビスフェノール−Ａ）、４８．７２ｇの４，４’−ジクロロジフェニルスルホン、７．８８ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（ＴＨＰＥ）、６３．４ｇの炭酸セシウム、２２５ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、および７５ｇのトルエンを添加した。混合物を還流しながら１９時間加熱した。この時点では、混合物はゲルであり、ＤＭＡｃ中には溶解できなかった。生成物は、本発明による架橋分枝ポリマーであると考えた。
実施例３
１２６．８９ｇの４，４’−ジクロロジフェニルスルホンの代わりに、９６．４１ｇの４，４’−ジフルオロベンゾフェノンを使用することを除き、実施例１のプロセスを繰り返す。
１２６．８９ｇの４，４’−ジクロロジフェニルスルホンの代わりに、９６．４１ｇの４，４’−ジフルオロベンゾフェノンを使用することを除き、実施例１のプロセスを繰り返す。
実施例４
７７．４５ｇの２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピリデン（ビスフェノール−Ａ）の代わりに、９１．０４ｇの１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェノール−Ｚ）を使用することを除き、実施例１のプロセスを繰り返す。
７７．４５ｇの２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピリデン（ビスフェノール−Ａ）の代わりに、９１．０４ｇの１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェノール−Ｚ）を使用することを除き、実施例１のプロセスを繰り返す。
実施例５
１２６．８９ｇの４，４’−ジクロロジフェニルスルホンの代わりに、９６．４１ｇの４，４’−ジフルオロベンゾフェノンを使用し、７７．４５ｇの２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピリデン（ビスフェノール−Ａ）の代わりに、９１．０４ｇの１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェノール−Ｚ）を使用することを除き、実施例１のプロセスを繰り返す。
１２６．８９ｇの４，４’−ジクロロジフェニルスルホンの代わりに、９６．４１ｇの４，４’−ジフルオロベンゾフェノンを使用し、７７．４５ｇの２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピリデン（ビスフェノール−Ａ）の代わりに、９１．０４ｇの１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェノール−Ｚ）を使用することを除き、実施例１のプロセスを繰り返す。
実施例６
タービン機械撹拌軸、アルゴン入口、およびデアン−スタークトラップ（水冷凝縮器を上方に設置）を備えた１リットル樹脂ジャーに、連続して、１５０ｇのポリスルホン（ＰＡＥＳ、ポリ−ビスフェノールＡ−コ−４，４−ジクロロジフェニルスルホン、Ｍｎ２６，０００）、および４５０ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを添加した。混合物をわずかに（５０℃）加熱し、撹拌し（３５０ｒｐｍ）、ポリマーを完全に溶解させた。その後、この溶液に、１５０ｍｌのトルエン、１０．５ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、および１０．５ｇの炭酸セシウムを添加した。混合物を還流しながら１９時間加熱した。溶液をその後室温まで冷却し、セライト（登録商標）パッドを通して濾過し、８リットルの激しく撹拌したメタノール中で沈澱させた。得られた沈澱を＃１ワットマン（Ｗｈａｔｍａｎ）濾紙を通して真空濾過することにより単離し、５リットルの脱イオン水中で１時間撹拌し、再濾過し、その後、５リットルのメタノール中で１時間撹拌し、最終濾過を実施した。沈澱を真空オーブン（３０℃、７ｍｍＨｇ）中で３日間乾燥させると、白色の自由流動粉末が得られた（収率９０％）。トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン部分の導入を、１Ｈ ＮＭＲ［δＣＨ３（ＴＨＰＥ）＝１．６４（ＴＭＳ）］により確認した。
タービン機械撹拌軸、アルゴン入口、およびデアン−スタークトラップ（水冷凝縮器を上方に設置）を備えた１リットル樹脂ジャーに、連続して、１５０ｇのポリスルホン（ＰＡＥＳ、ポリ−ビスフェノールＡ−コ−４，４−ジクロロジフェニルスルホン、Ｍｎ２６，０００）、および４５０ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを添加した。混合物をわずかに（５０℃）加熱し、撹拌し（３５０ｒｐｍ）、ポリマーを完全に溶解させた。その後、この溶液に、１５０ｍｌのトルエン、１０．５ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、および１０．５ｇの炭酸セシウムを添加した。混合物を還流しながら１９時間加熱した。溶液をその後室温まで冷却し、セライト（登録商標）パッドを通して濾過し、８リットルの激しく撹拌したメタノール中で沈澱させた。得られた沈澱を＃１ワットマン（Ｗｈａｔｍａｎ）濾紙を通して真空濾過することにより単離し、５リットルの脱イオン水中で１時間撹拌し、再濾過し、その後、５リットルのメタノール中で１時間撹拌し、最終濾過を実施した。沈澱を真空オーブン（３０℃、７ｍｍＨｇ）中で３日間乾燥させると、白色の自由流動粉末が得られた（収率９０％）。トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン部分の導入を、１Ｈ ＮＭＲ［δＣＨ３（ＴＨＰＥ）＝１．６４（ＴＭＳ）］により確認した。
実施例７
１０．５ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンの代わりに、１５．７５ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンを使用することを除き、実施例６のプロセスを繰り返した。
１０．５ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンの代わりに、１５．７５ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンを使用することを除き、実施例６のプロセスを繰り返した。
実施例８
１０．５ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンの代わりに、２１．０ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンを使用することを除き、実施例６のプロセスを繰り返した。
１０．５ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンの代わりに、２１．０ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンを使用することを除き、実施例６のプロセスを繰り返した。
開始ポリスルホン材料ならびに実施例６、７および８の生成物の数平均分子量、重量平均分子量および多分散性値は以下の通りである。
実施例９
タービン機械撹拌軸、アルゴン入口、およびデアン−スタークトラップ（水冷凝縮器を上方に設置）を備えた１リットル樹脂ジャーに、連続して、８３．９９の１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェノール−Ｚ）、６８．３２ｇの４，４’−ジフルオロベンゾフェノン、６１ｇの炭酸カリウム、４００ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、および１５０ｇのトルエンを添加した。混合物を還流しながら１９時間加熱した。溶液をその後室温まで冷却し、４００ｇのＤＭＡｃで希釈し、セライト（登録商標）パッドを通して濾過し、８リットルの激しく撹拌したメタノール中で沈澱させた。得られた沈澱を＃１ワットマン濾紙を通して真空濾過することにより単離し、５リットルの脱イオン水中で１時間撹拌し、再濾過し、その後、５リットルのメタノール中で１時間撹拌し、最終濾過を実施した。沈澱を真空オーブン（３０℃、７ｍｍＨｇ）中で３日間乾燥させると、白色の自由流動粉末が得られた（収率６％）。ポリマーをポリスチレン標準に対しＧＰＣにより測定すると、Ｍｗが４６，３００ダルトンおよびＭｎが２９，３００ダルトンであることがわかった。
タービン機械撹拌軸、アルゴン入口、およびデアン−スタークトラップ（水冷凝縮器を上方に設置）を備えた１リットル樹脂ジャーに、連続して、８３．９９の１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェノール−Ｚ）、６８．３２ｇの４，４’−ジフルオロベンゾフェノン、６１ｇの炭酸カリウム、４００ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、および１５０ｇのトルエンを添加した。混合物を還流しながら１９時間加熱した。溶液をその後室温まで冷却し、４００ｇのＤＭＡｃで希釈し、セライト（登録商標）パッドを通して濾過し、８リットルの激しく撹拌したメタノール中で沈澱させた。得られた沈澱を＃１ワットマン濾紙を通して真空濾過することにより単離し、５リットルの脱イオン水中で１時間撹拌し、再濾過し、その後、５リットルのメタノール中で１時間撹拌し、最終濾過を実施した。沈澱を真空オーブン（３０℃、７ｍｍＨｇ）中で３日間乾燥させると、白色の自由流動粉末が得られた（収率６％）。ポリマーをポリスチレン標準に対しＧＰＣにより測定すると、Ｍｗが４６，３００ダルトンおよびＭｎが２９，３００ダルトンであることがわかった。
実施例１０
タービン機械撹拌軸、アルゴン入口、およびデアン−スタークトラップ（水冷凝縮器を上方に設置）を備えた５００リットル樹脂ジャーに、連続して、実施例９で調製したポリマー（ポリ−ビスフェノール−Ｚ−コ−４，４−ジフルオロベンゾフェノン）６５ｇ、および２２５ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを添加した。混合物をわずかに（５０℃）加熱し、撹拌し（３５０ｒｐｍ）、ポリマーを完全に溶解させた。この混合物に、５０ｍｌのトリエン、７．８５ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、および２５．０ｇの炭酸セシウムを添加した。混合物を還流しながら１９時間加熱した。溶液をその後室温まで冷却し、セライト（登録商標）パッドを通して濾過し、４リットルの激しく撹拌したメタノール中で沈澱させた。得られた沈澱を＃１ワットマン濾紙を通して真空濾過することにより単離し、２．５リットルの脱イオン水中で１時間撹拌し、再濾過し、その後、２．５リットルのメタノール中で１時間撹拌し、最終濾過を実施した。沈澱を真空オーブン（３０℃、７ｍｍＨｇ）中で３日間乾燥させると、白色の自由流動粉末が得られた（収率９０％）。トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン部分の導入を、１Ｈ ＮＭＲ［δＣＨ３（ＴＨＰＥ）＝１．６４（ＴＭＳ）］により確認した。
タービン機械撹拌軸、アルゴン入口、およびデアン−スタークトラップ（水冷凝縮器を上方に設置）を備えた５００リットル樹脂ジャーに、連続して、実施例９で調製したポリマー（ポリ−ビスフェノール−Ｚ−コ−４，４−ジフルオロベンゾフェノン）６５ｇ、および２２５ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを添加した。混合物をわずかに（５０℃）加熱し、撹拌し（３５０ｒｐｍ）、ポリマーを完全に溶解させた。この混合物に、５０ｍｌのトリエン、７．８５ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、および２５．０ｇの炭酸セシウムを添加した。混合物を還流しながら１９時間加熱した。溶液をその後室温まで冷却し、セライト（登録商標）パッドを通して濾過し、４リットルの激しく撹拌したメタノール中で沈澱させた。得られた沈澱を＃１ワットマン濾紙を通して真空濾過することにより単離し、２．５リットルの脱イオン水中で１時間撹拌し、再濾過し、その後、２．５リットルのメタノール中で１時間撹拌し、最終濾過を実施した。沈澱を真空オーブン（３０℃、７ｍｍＨｇ）中で３日間乾燥させると、白色の自由流動粉末が得られた（収率９０％）。トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン部分の導入を、１Ｈ ＮＭＲ［δＣＨ３（ＴＨＰＥ）＝１．６４（ＴＭＳ）］により確認した。
実施例１１
実施例１、３、４、５、６、７、８および１０で調製したポリマー類（各場合において２．００ｇ）をそれぞれ、アンバーガラス瓶中で、塩化メチレン（各場合、２２．４４ｇ）およびＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３’’−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン（各場合、２．００ｇ）（電荷輸送材料、米国特許第４，２６５，９９０号において開示されているように調製）と共にロールミル処理した。得られた溶液をそれぞれ、イメージング部材の発光層上にコートした。このイメージング部材は、３ミル（０．０７６ｍｍ）の厚さのポリエチレンテレフタレート基材と、２００オングストローム（２０ｎｍ）の厚さの真空蒸着された酸化チタンコーティングと、３００オングストローム（３０ｎｍ）の厚さの３−アミノプロピルトリエトキシシラン電荷遮断層と、４００オングストローム（４０ｎｍ）の厚さの４９μｍ厚のポリエステル接着層（４９，０００、イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー（Ｅ．Ｉ．ｄｕ Ｐｏｎｔ ｄｅ Ｎｕｍｏｕｒｓ ＆ Ｃｏ．）から入手可能）と、７．５体積％の三方晶系セレン、２５体積％のＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３’’−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミンおよびポリビニルカルバゾールバインダ（６７．５体積％）（ＢＡＳＦから入手可能）を含む２．５μｍの厚さの発光層とを備える。各々の場合、発光層は、８ｇのポリビニルカルバゾールおよび１４０ｍｌの１：１体積比のテトラヒドロフランおよびトルエンの混合物を２０オンスアンバー瓶に導入することにより調製される。この溶液に、８ｇの三方晶系セレンおよび１，０００ｇの１／８インチ（３．２ｍｌ）直径のステンレス鋼ショットを添加する。この混合物をボールミル上に９６時間、置く。その後、得られたスラリーのうち５０ｇを、７５ｍｌの１：１体積比のテトラヒドロフラン／トルエンに溶解した３．６ｇのポリビニルカルバゾールと２０ｇのＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３’’−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン溶液に添加する。その後、このスラリーを振り混ぜ機上に１０分間置く。その後、得られたスラリーを押出コーティングにより接着界面に塗布し、湿厚が０．５ミル（１２．７μｍ）の層を形成する。この発光層を１３５℃で５分間強制空気オーブン内で乾燥させ、乾燥厚２．０μｍとする。
実施例１、３、４、５、６、７、８および１０で調製したポリマー類（各場合において２．００ｇ）をそれぞれ、アンバーガラス瓶中で、塩化メチレン（各場合、２２．４４ｇ）およびＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３’’−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン（各場合、２．００ｇ）（電荷輸送材料、米国特許第４，２６５，９９０号において開示されているように調製）と共にロールミル処理した。得られた溶液をそれぞれ、イメージング部材の発光層上にコートした。このイメージング部材は、３ミル（０．０７６ｍｍ）の厚さのポリエチレンテレフタレート基材と、２００オングストローム（２０ｎｍ）の厚さの真空蒸着された酸化チタンコーティングと、３００オングストローム（３０ｎｍ）の厚さの３−アミノプロピルトリエトキシシラン電荷遮断層と、４００オングストローム（４０ｎｍ）の厚さの４９μｍ厚のポリエステル接着層（４９，０００、イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー（Ｅ．Ｉ．ｄｕ Ｐｏｎｔ ｄｅ Ｎｕｍｏｕｒｓ ＆ Ｃｏ．）から入手可能）と、７．５体積％の三方晶系セレン、２５体積％のＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３’’−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミンおよびポリビニルカルバゾールバインダ（６７．５体積％）（ＢＡＳＦから入手可能）を含む２．５μｍの厚さの発光層とを備える。各々の場合、発光層は、８ｇのポリビニルカルバゾールおよび１４０ｍｌの１：１体積比のテトラヒドロフランおよびトルエンの混合物を２０オンスアンバー瓶に導入することにより調製される。この溶液に、８ｇの三方晶系セレンおよび１，０００ｇの１／８インチ（３．２ｍｌ）直径のステンレス鋼ショットを添加する。この混合物をボールミル上に９６時間、置く。その後、得られたスラリーのうち５０ｇを、７５ｍｌの１：１体積比のテトラヒドロフラン／トルエンに溶解した３．６ｇのポリビニルカルバゾールと２０ｇのＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３’’−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン溶液に添加する。その後、このスラリーを振り混ぜ機上に１０分間置く。その後、得られたスラリーを押出コーティングにより接着界面に塗布し、湿厚が０．５ミル（１２．７μｍ）の層を形成する。この発光層を１３５℃で５分間強制空気オーブン内で乾燥させ、乾燥厚２．０μｍとする。
その後、このように調製した発光層に電荷輸送層を塗布する。電荷輸送溶液は、各々の場合、アンバーガラス瓶に、２．００ｇのＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３’’−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン、２．００ｇの発光層のバインダと同じポリマー、および２２．４４ｇの塩化メチレンを入れ、内容物を混合し溶液を調製することにより調製する。電荷輸送溶液を発光層に、８ミルギャップバード（Ｂｉｒｄ）塗布器により塗布し、コーティングを形成させ、４０〜１００℃で３０分にわたり加熱し、層を乾燥させる。このようにイメージング部材に塗布した電荷輸送層の乾燥コーティング厚は２５μｍである。
Claims (5)
- 複数の分枝点を有する分枝ポリアリーレンエーテルコポリマーであって、各分枝点は下記化学式により表され：
各ｘは、互いに独立して、３またはそれ以上の整数であり、
各ｍは、互いに独立して、０または１の整数であり、
各Ｄは、互いに独立して、（ａ）他の分枝点、（ｂ）末端基、または（ｃ）下記化学式で表されるもののいずれかであり：
各ｎは、互いに独立して、繰り返しモノマーユニットの数を表す整数である）
各Ａは、互いに独立して、
またはそれらの混合物であり、ここで、
分枝ポリアリーレンエーテルコポリマー。 - 化学式：
各ｘは、互いに独立して、３以上の整数であり、
各ｋおよび各ｎは、互いに独立して、繰り返しモノマーユニットの数を表し、各Ｗは、互いに独立して、
であり、各Ａは、互いに独立して、
またはそれらの混合物であり、ここで、
の分枝ポリアリーレンエーテルコポリマー。 - （Ａ）（ｉ）必要に応じて用いる溶媒と、（ｉｉ）化学式Ａｒ（ＯＨ）ｘ（式中、ｘ≧３であり、式中、Ａｒはアリール部分またはアルキルアリール部分であり、ただし、Ａｒがアルキル部分である場合、少なくとも３つの−ＯＨ基がそのアリール部分に結合されることを条件とする）の多官能性フェノール化合物と、（ｉｉｉ）化学式：
の化合物またはそれらの混合物と、（ｉｖ）化学式：
または、その混合物である）
の化合物と、（ｖ）必要に応じて、化学式：
の化合物と、（ｖｉ）炭酸塩基と、を含む反応混合物を提供する工程と、（Ｂ）反応混合物を加熱し、反応混合物から生成水を除去し、これにより重合反応を実施させる工程と、
を含む、分枝ポリアリーレンエーテルポリマーを調製するためのプロセス。 - 導電性基材、発光材料、およびバインダを含むイメージング部材であって、バインダは、複数の分枝点を有する分枝ポリアリーレンエーテルコポリマーを含み、各分枝点は下記化学式により表され：
各ｘは、互いに独立して、３またはそれ以上の整数であり、
各ｍは、互いに独立して、０または１の整数であり、
各Ｄは、互いに独立して、（ａ）他の分枝点、（ｂ）末端基、または（ｃ）下記化学式で表されるもののいずれかであり：
各ｎは、互いに独立して、繰り返しモノマーユニットの数を表す整数である）
各Ａは、互いに独立して、
またはそれらの混合物である、
イメージング部材。 - 導電性基材と、発光材料と、化学式：
各ｘは、互いに独立して、３以上の整数であり、
各ｋおよび各ｎは、互いに独立して、繰り返しモノマーユニットの数を表し、各Ｗは、互いに独立して、
またはそれらの混合物である）
の分枝ポリアリーレンエーテルコポリマーを含むバインダと、を備えるイメージング部材。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005154775A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-06-16 | Xerox Corp | 分枝ポリアリーレンエーテル類の調製プロセス |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100657740B1 (ko) * | 2004-12-22 | 2006-12-14 | 주식회사 엘지화학 | 브랜치된 술폰화 멀티 블록 공중합체 및 이를 이용한전해질막 |
| CN101512440B (zh) * | 2006-08-23 | 2012-04-25 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 感光层用粘结剂树脂及电子照相感光体带 |
| US20080203012A1 (en) * | 2007-02-22 | 2008-08-28 | General Electric Company | Membrane, apparatus, and associated method |
| US20080312349A1 (en) * | 2007-02-22 | 2008-12-18 | General Electric Company | Method of making and using membrane |
| US20080207822A1 (en) * | 2007-02-22 | 2008-08-28 | General Electric Company | Composition and associated method |
| JP2009098681A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-05-07 | Fujifilm Corp | 感光性樹脂組成物、高分子化合物、パターンの製造法、および電子デバイス |
| US8168358B2 (en) * | 2009-06-29 | 2012-05-01 | Xerox Corporation | Polysulfone containing photoconductors |
| US8916672B2 (en) * | 2009-12-11 | 2014-12-23 | ICUF-HYU (Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University) | Transparent polyarylene ether polymer with high heat resistance and method for preparing the same |
| CN103626992B (zh) * | 2013-11-27 | 2015-08-26 | 江门市优巨新材料有限公司 | 一种高热稳定性封端聚芳醚砜树脂的工业化合成方法 |
| CN105331106B (zh) * | 2015-11-30 | 2018-05-29 | 江门市优巨新材料有限公司 | 一种纤维增强型低粘性聚醚砜树脂的制备方法 |
| CN105331082B (zh) * | 2015-11-30 | 2018-03-09 | 江门市优巨新材料有限公司 | 一种纤维增强型低粘性聚砜树脂的制备方法 |
| CN105330840A (zh) * | 2015-11-30 | 2016-02-17 | 广东优巨先进材料研究有限公司 | 一种增强型聚砜树脂的工业化合成方法 |
| CN105330837A (zh) * | 2015-11-30 | 2016-02-17 | 广东优巨先进材料研究有限公司 | 一种星型聚砜树脂工业化合成方法 |
| US11499012B2 (en) * | 2016-04-29 | 2022-11-15 | Solvay Specialty Polymers Usa, Llc | Methods for making poly(aryl ether sulfone) polymers and polymer compositions and articles including the same |
| CN114249887B (zh) * | 2020-09-24 | 2022-11-29 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种支化聚合物及其制备和泡沫材料 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3960815A (en) * | 1973-02-03 | 1976-06-01 | Bayer Aktiengesellschaft | Branched aromatic polyaryl-ether sulphones |
| JPS5428362A (en) * | 1977-08-04 | 1979-03-02 | Bayer Ag | Branched polyaryl sulfon * polycarbonate blend |
| JPH05339363A (ja) * | 1992-06-10 | 1993-12-21 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 芳香族ポリエーテル系共重合体の製造法 |
| JPH11218943A (ja) * | 1997-11-21 | 1999-08-10 | Xerox Corp | 画像形成部材 |
| JP2000509097A (ja) * | 1997-02-14 | 2000-07-18 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | ポリフェニレンエーテルの再分配および新規な構造を有するポリフェニレンエーテル |
| WO2003033565A1 (de) * | 2001-10-10 | 2003-04-24 | Basf Aktiengesellschaft | Thermoplastische formmassen mit verbesserter schmelzestabilität auf basis von polyarylenethersulfonen |
| WO2003033594A1 (de) * | 2001-10-10 | 2003-04-24 | Basf Aktiengesellschaft | Thermoplastische formmassen auf basis von polyarylenethersulfonen und polyamiden |
Family Cites Families (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2297691A (en) | 1939-04-04 | 1942-10-06 | Chester F Carlson | Electrophotography |
| US3121006A (en) | 1957-06-26 | 1964-02-11 | Xerox Corp | Photo-active member for xerography |
| US3041167A (en) | 1959-08-19 | 1962-06-26 | Xerox Corp | Xerographic process |
| US4265990A (en) | 1977-05-04 | 1981-05-05 | Xerox Corporation | Imaging system with a diamine charge transport material in a polycarbonate resin |
| US4251612A (en) | 1978-05-12 | 1981-02-17 | Xerox Corporation | Dielectric overcoated photoresponsive imaging member |
| US4331798A (en) * | 1979-01-18 | 1982-05-25 | Imperial Chemical Industries Limited | Production of aromatic polyethers with infusible particulate substance |
| US4777235A (en) * | 1987-07-01 | 1988-10-11 | Amoco Corporation | Production of polyarylene ether from activated dihalo benzenoid monomer, dihydroxy benzenoid monomer and Bis(hydroxyphenyl) monomer |
| US5773553A (en) | 1996-06-13 | 1998-06-30 | Xerox Corporation | Polyimide curing process and improved thermal ink jet printhead prepared thereby |
| US5939206A (en) | 1996-08-29 | 1999-08-17 | Xerox Corporation | Stabilized porous, electrically conductive substrates |
| US6124372A (en) | 1996-08-29 | 2000-09-26 | Xerox Corporation | High performance polymer compositions having photosensitivity-imparting substituents and thermal sensitivity-imparting substituents |
| US6007877A (en) | 1996-08-29 | 1999-12-28 | Xerox Corporation | Aqueous developable high performance photosensitive curable aromatic ether polymers |
| US5994425A (en) | 1996-08-29 | 1999-11-30 | Xerox Corporation | Curable compositions containing photosensitive high performance aromatic ether polymers |
| US5849809A (en) | 1996-08-29 | 1998-12-15 | Xerox Corporation | Hydroxyalkylated high performance curable polymers |
| US5958995A (en) | 1996-08-29 | 1999-09-28 | Xerox Corporation | Blends containing photosensitive high performance aromatic ether curable polymers |
| US5761809A (en) | 1996-08-29 | 1998-06-09 | Xerox Corporation | Process for substituting haloalkylated polymers with unsaturated ester, ether, and alkylcarboxymethylene groups |
| US5739254A (en) | 1996-08-29 | 1998-04-14 | Xerox Corporation | Process for haloalkylation of high performance polymers |
| US5945253A (en) * | 1996-08-29 | 1999-08-31 | Xerox Corporation | High performance curable polymers and processes for the preparation thereof |
| US5889077A (en) | 1996-08-29 | 1999-03-30 | Xerox Corporation | Process for direct substitution of high performance polymers with unsaturated ester groups |
| US5863963A (en) | 1996-08-29 | 1999-01-26 | Xerox Corporation | Halomethylated high performance curable polymers |
| US5874192A (en) | 1997-11-21 | 1999-02-23 | Xerox Corporation | Imaging members with charge transport layers containing high performance polymer blends |
| US5882814A (en) | 1997-11-21 | 1999-03-16 | Xerox Corporation | Imaging members containing high performance charge transporting polymers |
| US6273985B1 (en) | 1998-06-26 | 2001-08-14 | Xerox Corporation | Bonding process |
| US6260956B1 (en) | 1998-07-23 | 2001-07-17 | Xerox Corporation | Thermal ink jet printhead and process for the preparation thereof |
| US6139920A (en) | 1998-12-21 | 2000-10-31 | Xerox Corporation | Photoresist compositions |
| US6020119A (en) | 1999-05-17 | 2000-02-01 | Xerox Corporation | Process for halomethylation of high performance polymers |
| US6187512B1 (en) | 1999-05-17 | 2001-02-13 | Xerox Corporation | Process for halomethylation of high performance polymers |
| US6117967A (en) | 1999-06-04 | 2000-09-12 | Xerox Corporation | Arylene ether alcohol polymers |
| US6177238B1 (en) | 1999-06-04 | 2001-01-23 | Xerox Corporation | Ink jet printheads containing arylene ether alcohol polymers and processes for their formation |
| US6174636B1 (en) | 1999-06-04 | 2001-01-16 | Xerox Corporation | Imaging members containing arylene ether alcohol polymers |
| DE19949319A1 (de) * | 1999-10-13 | 2001-06-13 | Ruetgers Vft Ag | Verfahren zur Herstellung von Arylalkylethern |
| US6716956B2 (en) * | 2002-01-09 | 2004-04-06 | Xerox Corporation | Process for preparing polyarylene ethers |
| US6927273B2 (en) * | 2002-12-17 | 2005-08-09 | Xerox Corporation | Process for preparing substituted polyarylene ethers |
| US7001978B2 (en) * | 2003-11-19 | 2006-02-21 | Xerox Corporation | Unsaturated ester substituted polymers with reduced halogen content |
| US7067608B2 (en) * | 2003-11-25 | 2006-06-27 | Xerox Corporation | Process for preparing branched polyarylene ethers |
-
2003
- 2003-11-25 US US10/721,140 patent/US7396895B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-11-25 JP JP2004339865A patent/JP2005154776A/ja active Pending
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2007
- 2007-10-26 US US11/924,666 patent/US7648811B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3960815A (en) * | 1973-02-03 | 1976-06-01 | Bayer Aktiengesellschaft | Branched aromatic polyaryl-ether sulphones |
| JPS5428362A (en) * | 1977-08-04 | 1979-03-02 | Bayer Ag | Branched polyaryl sulfon * polycarbonate blend |
| JPH05339363A (ja) * | 1992-06-10 | 1993-12-21 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 芳香族ポリエーテル系共重合体の製造法 |
| JP2000509097A (ja) * | 1997-02-14 | 2000-07-18 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | ポリフェニレンエーテルの再分配および新規な構造を有するポリフェニレンエーテル |
| JPH11218943A (ja) * | 1997-11-21 | 1999-08-10 | Xerox Corp | 画像形成部材 |
| WO2003033565A1 (de) * | 2001-10-10 | 2003-04-24 | Basf Aktiengesellschaft | Thermoplastische formmassen mit verbesserter schmelzestabilität auf basis von polyarylenethersulfonen |
| WO2003033594A1 (de) * | 2001-10-10 | 2003-04-24 | Basf Aktiengesellschaft | Thermoplastische formmassen auf basis von polyarylenethersulfonen und polyamiden |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005154775A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-06-16 | Xerox Corp | 分枝ポリアリーレンエーテル類の調製プロセス |
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| Publication number | Publication date |
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