JP2004197098A - 置換ポリアリーレンエーテルの調製方法 - Google Patents
置換ポリアリーレンエーテルの調製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004197098A JP2004197098A JP2003419449A JP2003419449A JP2004197098A JP 2004197098 A JP2004197098 A JP 2004197098A JP 2003419449 A JP2003419449 A JP 2003419449A JP 2003419449 A JP2003419449 A JP 2003419449A JP 2004197098 A JP2004197098 A JP 2004197098A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- chemical formula
- polymer
- reaction mixture
- integer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 0 CCCC1(C)CC(C)(C[N+](*(C)CC2(CC)[C@@]([C@](C)C3)C3(C)C2)[O-])CC1 Chemical compound CCCC1(C)CC(C)(C[N+](*(C)CC2(CC)[C@@]([C@](C)C3)C3(C)C2)[O-])CC1 0.000 description 8
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N C1CC=CCC1 Chemical compound C1CC=CCC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYWOMGYSMHVWBJ-UHFFFAOYSA-N CC(C(CCC(C)(C1)Cl)CCC1(C)Cl)c1ccccc1 Chemical compound CC(C(CCC(C)(C1)Cl)CCC1(C)Cl)c1ccccc1 LYWOMGYSMHVWBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEHCZQIETWSDEG-UHFFFAOYSA-N CC(CCC1)(CCC1C(C(CCC1)CCC1(C)O)C(F)(F)F)O Chemical compound CC(CCC1)(CCC1C(C(CCC1)CCC1(C)O)C(F)(F)F)O QEHCZQIETWSDEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIURTGBSLPFKKC-UHFFFAOYSA-N Cc1c(-c2ccccc2)[nH]c(-c(cc2)ccc2-c2nc(C)c(-c3ccccc3)[nH]2)[nH]1 Chemical compound Cc1c(-c2ccccc2)[nH]c(-c(cc2)ccc2-c2nc(C)c(-c3ccccc3)[nH]2)[nH]1 ZIURTGBSLPFKKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKFIWRPOVFNPKR-UHFFFAOYSA-N O=C(c(cc1)ccc1F)c1ccccc1F Chemical compound O=C(c(cc1)ccc1F)c1ccccc1F LKFIWRPOVFNPKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNDHXHLGYBJDRD-UHFFFAOYSA-N O=C(c(cccc1)c1F)c1ccccc1F Chemical compound O=C(c(cccc1)c1F)c1ccccc1F GNDHXHLGYBJDRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G75/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen, or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G75/20—Polysulfones
- C08G75/23—Polyethersulfones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/34—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives
- C08G65/38—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives derived from phenols
- C08G65/40—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives derived from phenols from phenols (I) and other compounds (II), e.g. OH-Ar-OH + X-Ar-X, where X is halogen atom, i.e. leaving group
- C08G65/4012—Other compound (II) containing a ketone group, e.g. X-Ar-C(=O)-Ar-X for polyetherketones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/34—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives
- C08G65/48—Polymers modified by chemical after-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2650/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G2650/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterized by the type of post-polymerisation functionalisation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Polyethers (AREA)
Abstract
Description
本発明はハロメチル化高性能ポリアリーレンエーテルポリマー類を調製するための方法に関する。
特許文献1,2には、少なくとも光感応性添加置換基を有するいくつかのモノマーの繰り返し単位を有する光パターニング可能なポリマーを含有する改善された組成物が開示されている。また、特許文献3,4には、化学線放射に暴露されるポリマーの架橋または鎖長伸張が可能な少なくとも光感応性添加置換基を有するいくつかのモノマーの繰り返し単位を有する光パターニング可能なポリマーを含有する改善された組成物が開示されている。
そのほかに、光感応性添加置換基を有するいくつかのモノマーの繰り返し単位を有する光パターニング可能なポリマーを含有する組成物、該ポリマーの製造方法、が開示されている(例えば、特許文献5から特許文献9)。
周知の組成物および方法は所期の目的には適しているが、マイクロエレクトロニクス応用分野に適した改良材料が必要とされている。熱に安定で、電気絶縁性、機械的に強固な光パターニング可能なポリマー材料が必要とされている。さらに、マイクロエレクトロニクス装置の製造プロセスにおける硬化後工程中での収縮が少ない光パターニング可能なポリマー材料が必要とされている。さらに、品質保持期間が比較的長い光パターニング可能なポリマー材料が必要とされている。比較的低い露光エネルギーでパターニングすることができる光パターニング可能なポリマー材料もまた必要とされている。さらに、硬化形態で、良好な溶剤抵抗を示す光パターニング可能なポリマー材料が必要とされている。さらに、スピン鋳造技術によりマイクロエレクトロニクス装置により適用し硬化させた場合、縁ビードが減少し、見かけの口縁およびくぼみが存在しない光パターニング可能なポリマー材料が必要とされている。さらに、ポリマーに付着した重合可能な官能基および/または架橋部位を組み込むことにより高解像度で高アスペクト比を有する光パターニング可能なポリマー材料を調製するための方法が必要とされている。ポリマー鎖に付着したハロメチル基を有する光パターニング可能なポリマーを調製するための方法が必要とされている。さらに、安全および無毒であるという理由で望ましい光パターニング可能なポリマー材料を調製するための方法が必要とされている。さらに、コスト削減できる光パターニング可能なポリマー材料を調製するための方法が必要とされている。さらに、得られたポリマー材料の物理特性において可撓性が得られる光パターニング可能なポリマー材料を調製するための方法が必要とされている。
(式中、mは0または1の整数であり、
Xは塩素、臭素またはヨウ素であるハロゲン原子であり、
Xは塩素、臭素またはヨウ素であるハロゲン原子であり、
(式中、Rはアルキル基(置換アルキル基を含む、置換基の例としてはヒドロキシなどが挙げられるがこれらに限定されるものではない)であり、典型的には1〜約20の炭素原子、好ましくは1〜約10の炭素原子、およびより好ましくは1〜約5の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこの範囲外とすることができ、またはアリール基(置換アリール基を含む、置換基の例としてはヒドロキシなどが挙げられるがこれに限定されるものではない)であり、典型的には6〜約18の炭素原子、好ましくは6〜約12の炭素原子、およびより好ましくは6の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこの範囲外とすることができ、またはこれらの混合物である)
(式中、(1)Zは、
,
,
または
であり、cは0または1であり;(2)Arは
,
または
であり;(3)Gは約2〜約10の炭素原子を含むアルキルまたはイソアルキル基から選択されるアルキル基であり;(4)Ar′は、
,
または
であり;(5)Xは
,
,
,
,
(sは0、1または2である)
または
であり、(6)qは0または1である)
またはこれらの混合物であり、n、eおよびfはそれぞれ、互いに関係なく、繰り返しモノマーユニットの数を表し、ここでeは0であってもよく、nおよびfはそれぞれ少なくとも1である)、
該方法は、(A)(i)第1の溶媒と、(ii)化学式:
または
(式中、Yは塩素原子またはフッ素原子である)の化合物と、(iii)化学式:
,
の化合物と、(iv)必要に応じて、化学式:
;
の化合物と、を含む第1の反応混合物を提供する工程と;
(B)前記第1の反応混合物を加熱し、前記第1の反応混合物から生成水を除去し、これにより重合反応を実施し、化学式:
または
;
の中間ポリマーを形成する工程と;
(C)(i)第2の溶媒と、(ii)前記中間ポリマーと、(iii)ハロゲン原子を含むN−ハロスクシンイミドであって、N−ハロスクシンイミド中のハロゲン原子はXであるハロゲン原子と同じである、N−ハロスクシンイミドと、を含む第2の反応混合物を提供する工程と;
(D)前記第2の反応混合物を加熱し、重合反応を実施し、化学式:
または
.
のポリマーを形成する工程と、を含む。
該方法は、(A)(i)第1の溶媒と、(ii)化学式:
または
(式中、Yは塩素原子またはフッ素原子である)の化合物と、(iii)化学式:
の化合物と、(iv)必要に応じて、化学式:
の化合物と、を含む第1の反応混合物を提供する工程と;
(B)前記第1の反応混合物を加熱し、前記第1の反応混合物から生成水を除去し、これにより重合反応を実施し、化学式:
または
の中間ポリマーを形成する工程と;
(C)(i)第2の溶媒と、(ii)前記中間ポリマーと、(iii)ハロゲン原子を含むN−ハロスクシンイミドであって、N−ハロスクシンイミド中のハロゲン原子はXであるハロゲン原子と同じである、N−ハロスクシンイミドと、を含む第2の反応混合物を提供する工程と;
(D)前記第2の反応混合物を加熱し、重合反応を実施し、化学式:
または
のポリマーを形成する工程と、を含む。
上記化学式のポリマーでは、フェニル基およびA基は置換することもできる。置換基は重合前後のいずれかにおいて配置することができる。
上記化学式のポリマーでは、Xはまた、2またはそれ以上の塩素、臭素、またはヨウ素の混合物とすることもできる。この種類のポリマーは2またはそれ以上の異なるハロゲン原子を有するN−ハロスクシンイミド反応物の混合物を使用して調製することができる。
化学式:
または
,
の物質では、mおよび「A」は、上述した結果的に得られるポリマー組成物に対し規定した通りである。この化学式の適した物質の特定の例としては、化学式:
,
の4,4′−ジフルオロベンゾフェノン、化学式:
,
の4,4′−ジクロロベンゾフェノン、化学式:
,
の3,4′−ジフルオロベンゾフェノン、化学式:
,
の3,4′−ジクロロベンゾフェノン、化学式:
,
の3,3′−ジフルオロベンゾフェノン、化学式:
,
の3,3′−ジクロロベンゾフェノン、化学式:
,
の2,4′−ジフルオロベンゾフェノン、化学式:
,
の2,4′−ジクロロベンゾフェノン、化学式:
,
の2,3′−ジフルオロベンゾフェノン、化学式:
,
の2,3′−ジクロロベンゾフェノン、化学式:
,
の2,2′−ジフルオロベンゾフェノン、化学式:
,
の2,2′−ジクロロベンゾフェノン、化学式:
,
,
,
,
,
,
または
の物質では、mおよび「A」は、上述した結果的に得られるポリマー組成物に対し規定した通りである。この化学式の適した物質の特定の例としては、化学式:
の4,4′−ジフルオロベンゾフェノン、化学式:
の4,4′−ジクロロベンゾフェノン、化学式:
の3,4′−ジフルオロベンゾフェノン、化学式:
の3,4′−ジクロロベンゾフェノン、化学式:
の3,3′−ジフルオロベンゾフェノン、化学式:
の3,3′−ジクロロベンゾフェノン、化学式:
の2,4′−ジフルオロベンゾフェノン、化学式:
の2,4′−ジクロロベンゾフェノン、化学式:
の2,3′−ジフルオロベンゾフェノン、化学式:
の2,3′−ジクロロベンゾフェノン、化学式:
の2,2′−ジフルオロベンゾフェノン、化学式:
の2,2′−ジクロロベンゾフェノン、化学式:
,
,
,
,
,
,
,
,
の化合物などが挙げられる。さらに、2つの「Y」原子は1つの分子内で同じである必要はなく、フルオロクロロベンゾフェノンの場合のように1つはフッ素、もう一方は塩素とすることができる。この化学式の2またはそれ以上の化合物の混合物もまた使用することができる。
eが0より大きな整数である場合、第1の反応混合物はまた、化学式:
.
の物質を含む。化学式:
,
の物質では、「B」は上述した結果的に得られるポリマー組成物に対し規定した通りである。この化学式の適した物質の特定の例としては、化学式:
のもの、例えば、化学式:
のビスフェノール−A、化学式:
のもの、例えば、化学式:
のヘキサフルオロビスフェノール−A、化学式:
のもの、例えば、化学式:
のビスフェノール−M、化学式:
のもの、例えば、化学式:
のビスフェノール−S、化学式:
のもの、例えば、化学式:
のビスフェノール−Z、化学式:
の物質を含む。化学式:
の物質では、「B」は上述した結果的に得られるポリマー組成物に対し規定した通りである。この化学式の適した物質の特定の例としては、化学式:
のもの、例えば、化学式:
のビスフェノール−A、化学式:
のもの、例えば、化学式:
のヘキサフルオロビスフェノール−A、化学式:
のもの、例えば、化学式:
のビスフェノール−M、化学式:
のもの、例えば、化学式:
のビスフェノール−S、化学式:
のもの、例えば、化学式:
のビスフェノール−Z、化学式:
(式中、Z、Ar、Ar′およびqは「B」基について上述した通りである)の化合物などが挙げられる。この化学式の2またはそれ以上の化合物の混合物もまた使用することができる。化学式:
の物質は任意の所望のまたは有効量で存在することができ、所望の比の「B」基を有するコポリマーを得ることができる。ポリマーはまた、eが0である場合、「B」基を含まないことも可能であり、以下の化学式:
または
のポリマーが得られる。
化学式:
の物質は、例えばポートランド所在のTCIアメリカ(America)からビスフェノール−Cとして、または2,2−ビス(4−ヒドロキシル−3−メチルフェニル)プロパンとして市販されている。ビスフェノール−Cは第1の反応混合物中に任意の所望のまたは有効相対量で存在し、1つの態様では、化学式:
または
,
のモノマー1モル毎に少なくとも約0.05モルのビスフェノール−Cが、他の態様では、化学式:
または
,
のモノマー1モル毎に少なくとも約0.2モルのビスフェノール−Cが、さらに他の態様では、化学式:
または
,
のモノマー1モル毎に少なくとも約0.5モルのビスフェノール−Cが、および1つの態様では、化学式:
または
,
のモノマー1モル毎にせいぜい約1.5モルのビスフェノール−Cが、他の態様では、化学式:
または
,
のモノマー1モル毎にせいぜい約1.2モルのビスフェノール−Cが、さらに他の態様では、化学式:
または
,
のモノマー1モル毎にせいぜい約0.9モルのビスフェノール−Cが、存在するが、ビスフェノール−Cの相対量はこれらの範囲外とすることができる。
の物質は、例えばポートランド所在のTCIアメリカ(America)からビスフェノール−Cとして、または2,2−ビス(4−ヒドロキシル−3−メチルフェニル)プロパンとして市販されている。ビスフェノール−Cは第1の反応混合物中に任意の所望のまたは有効相対量で存在し、1つの態様では、化学式:
または
のモノマー1モル毎に少なくとも約0.05モルのビスフェノール−Cが、他の態様では、化学式:
または
のモノマー1モル毎に少なくとも約0.2モルのビスフェノール−Cが、さらに他の態様では、化学式:
または
のモノマー1モル毎に少なくとも約0.5モルのビスフェノール−Cが、および1つの態様では、化学式:
または
のモノマー1モル毎にせいぜい約1.5モルのビスフェノール−Cが、他の態様では、化学式:
または
のモノマー1モル毎にせいぜい約1.2モルのビスフェノール−Cが、さらに他の態様では、化学式:
または
のモノマー1モル毎にせいぜい約0.9モルのビスフェノール−Cが、存在するが、ビスフェノール−Cの相対量はこれらの範囲外とすることができる。
選択した第1の溶媒はこの特別の反応のために適した任意の極性非プロトン性溶媒とすることができる。適した第1の溶媒の例としては、N,N−ジメチルアセトアミド、スルホラン(テトラメチレンスルホン、またはTMSとも呼ばれる)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリジノン、ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)、四塩化炭素、など、ならびにこれらの混合物が挙げられる。
第1の溶媒は第1の反応混合物中に任意の所望のまたは有効な相対量で存在し、1つの態様では溶媒中に少なくとも約1重量%の固体反応物で、他の態様では溶媒中に少なくとも約5重量%の固体反応物で、さらに他の態様では溶媒中に少なくとも約10重量%の固体反応物で、および1つの態様では溶媒中にせいぜい約75重量%の固体反応物で、他の態様では溶媒中にせいぜい約50重量%の固体反応物で、さらに他の態様では溶媒中にせいぜい約35重量%の固体反応物で存在するが、溶媒の相対量はこれらの範囲外とすることができる。
必要に応じて、ポリマー末端基をハロゲンまたはフェノール以外の官能基としたい場合、第1の反応混合物はまた、化学式:
(式中、aは1〜5、好ましくは1〜約3、さらに好ましくは1の整数であり、およびヒドロキシ基に対しパラ位に配置され、R′は水素原子、典型的には1〜約20の炭素原子、好ましくは1〜約8の炭素原子、より好ましくは1〜約4の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができるアルキル基(直鎖状、分枝、飽和、不飽和、環状および置換アルキル基を含み、酸素、窒素、硫黄、珪素、リンなどのヘテロ原子がアルキル基中に存在することができる)、典型的には2〜約14の炭素原子、好ましくは約6〜約10の炭素原子を有するアリール基(置換アリール基を含む)、典型的には7〜約50の炭素原子、好ましくは7〜約23の炭素原子、より好ましくは7〜約11の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができるアリールアルキル基(置換アリールアルキル基を含む)、典型的には7〜約50の炭素原子、好ましくは7〜約23の炭素原子、より好ましくは7〜約11の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができるアルキルアリール基(置換アルキルアリール基を含む)、典型的には1〜約20の炭素原子、好ましくは1〜約8の炭素原子、より好ましくは1〜約4の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができるアルコキシ基(直鎖状、分枝、飽和、不飽和、環状、および置換アルコキシ基を含み、酸素、窒素、硫黄、珪素、リンなどのヘテロ原子がアルコキシ基中に存在することができる)、典型的には6〜約100の炭素原子、好ましくは約7〜約23の炭素原子、より好ましくは約7〜約11の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができるアリールオキシ基(置換アリールオキシ基を含む)、典型的には7〜約100の炭素原子、好ましくは7〜約23の炭素原子、より好ましくは7〜約11の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができるアリールアルキルオキシ基(置換アリールアルキルオキシ基を含む)、典型的には7〜約100の炭素原子、好ましくは7〜約23の炭素原子、より好ましくは7〜約11の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができるアルキルアリールオキシ基(置換アルキルアリールオキシ基を含む)、ポリアルキレンオキシ基であり、ここでポリアルキレンオキシ基中では各繰り返しアルキレンオキシド基は互いに関係なく、典型的には約2〜約100の炭素原子、好ましくは約2〜約20の炭素原子、より好ましくは約2〜約6の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができ、ポリアルキレンオキシ基は2またはそれ以上の異なる種類の繰り返しアルキレンオキシド繰り返しモノマーユニット(例えば、ポリエチレンオキシドおよびポリプロピレンオキシドなどのブロックまたはランダムコポリマー類など)を含むことができ、ポリアルキレンオキシ基は典型的には1〜約500の繰り返しアルキレンオキシユニット、好ましくは1〜約10の繰り返しアルキレンユニット、より好ましくは1〜約4の繰り返しアルキレンオキシユニットを有するが、繰り返しアルキレンオキシユニットの数はこれらの範囲外とすることができ、および置換アルキル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリール、アルコキシ、アリールオキシ、アリールアルキルオキシ、アルキルアリールオキシ、およびポリアルキレンオキシ基上の置換基はヒドロキシ基、アミン基、アンモニウム基、シアノ基、ピリジン基、ピリジニウム基、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロソ基、ハロゲン原子、ニトロ基、スルホン基、アシル基、それらの混合物などとすることができるがこれらに限定されるものではなく、2またはそれ以上の置換基は一緒になり環を形成することができる)の物質を含むことができる。この化学式の適した物質の特定の例としては、2−メチルフェノール、3−メチルフェノール、4−メチルフェノール、2−エチルフェノール、3−エチルフェノール、4−エチルフェノール、2−n−プロピルフェノール、3−n−プロピルフェノール、4−n−プロピルフェノール、2−イソプロピルフェノール、3−イソプロピルフェノール、4−イソプロピルフェノール、2−n−ブチルフェノール、3−n−ブチルフェノール、4−n−ブチルフェノール、2−イソブチルフェノール、3−イソブチルフェノール、4−イソブチルフェノール、2−sec−ブチルフェノール、3−sec−ブチルフェノール、4−sec−ブチルフェノール、2−t−ブチルフェノール、3−t−ブチルフェノール、4−t−ブチルフェノール、ペンチルフェノールのすべての可能な異性体(分枝および直鎖状を含む)、ヘキシルフェノールのすべての可能な異性体(分枝および直鎖状を含む)、ヘプチルフェノールのすべての可能な異性体(分枝および直鎖状を含む)、オクチルフェノールのすべての可能な異性体(分枝および直鎖状を含む)、ノニルフェノールのすべての可能な異性体(分枝および直鎖状を含む)、デシルフェノールのすべての可能な異性体(分枝および直鎖状を含む)、ウンデシルフェノールのすべての可能な異性体、ドデシルフェノールのすべての可能な異性体(分枝および直鎖状を含む)、2−フェニルフェノール、3−フェニルフェノール、4−フェニルフェノール、2−トリルフェノール、3−トリルフェノール、4−トリルフェノール、2−ベンジルフェノール、3−ベンジルフェノール、4−ベンジルフェノール、2−メトキシフェノール、3−メトキシフェノール、4−メトキシフェノール、2−エトキシフェノール、3−エトキシフェノール、4−エトキシフェノール、2−n−プロポキシフェノール、3−n−プロポキシフェノール、4−n−プロポキシフェノール、2−イソプロポキシフェノール、3−イソプロポキシフェノール、4−イソプロポキシフェノール、2−n−ブトキシフェノール、3−n−ブトキシフェノール、4−n−ブトキシフェノール、2−イソブトキシフェノール、3−イソブトキシフェノール、4−イソブトキシフェノール、2−sec−ブトキシフェノール、3−sec−ブトキシフェノール、4−sec−ブトキシフェノール、2−t−ブトキシフェノール、3−t−ブトキシフェノール、4−t−ブトキシフェノール、ペンチルオキシフェノールの全ての可能な異性体、ヘキシルオキシフェノールの全ての可能な異性体(分枝および直鎖を含む)、ヘプチルオキシフェノールの全ての可能な異性体(分枝および直鎖を含む)、オクチルオキシフェノールの全ての可能な異性体(分枝および直鎖を含む)、ノニルオキシフェノールの全ての可能な異性体(分枝および直鎖を含む)、デシルオキシフェノールの全ての可能な異性体(分枝および直鎖を含む)、ウンデシルオキシフェノールの全ての可能な異性体(分枝および直鎖を含む)、ドデシルオキシフェノールの全ての可能な異性体(分枝および直鎖を含む)、2−フェノキシフェノール、3−フェノキシフェノール、4−フェノキシフェノール、2−トリルオキシフェノール、3−トリルオキシフェノール、4−トリルオキシフェノール、2−ベンジルオキシフェノール、3−ベンジルオキシフェノール、4−ベンジルオキシフェノール、2−(ポリエチレンオキシ)フェノール、3−(ポリエチレンオキシ)フェノール、4−(ポリエチレンオキシ)フェノール、2−(ポリプロピレンオキシ)フェノール、3−(ポリプロピレンオキシ)フェノール、4−(ポリプロピレンオキシ)フェノール、2−(ポリブチレンオキシ)フェノール、3−(ポリブチレンオキシ)フェノール、4−(ポリブチレンオキシ)フェノール、上記化合物の全ての2,3−二置換変形体、上記化合物の全ての2,4−二置換変形体、上記化合物の全ての2,5−二置換変形体、上記化合物の全ての2,6−二置換変形体、上記化合物の全ての3,4−二置換変形体、上記化合物の全ての3,5−二置換変形体、上記化合物の全ての2,3,4−三置換変形体、上記化合物の全ての2,3,5−三置換変形体、上記化合物の全ての2,3,6−三置換変形体、上記化合物の全ての2,4,5−三置換変形体、上記化合物の全ての2,4,6−三置換変形体、上記化合物の全ての3,4,5−三置換変形体、上記化合物の全ての3,4,6−三置換変形体、上記化合物の全ての2,3,4,5−四置換変形体、上記化合物の全ての2,3,4,6−四置換変形体、上記化合物の全ての2,3,5,6−四置換変形体、上記化合物のすべての五置換変形体、など、ならびにこれらの混合物が挙げられる。得られたポリマーは化学式:
(ポリマー化学式の左側の末端基に対する)または
(ポリマー化学式の右側の末端基に対する)
で表される、この物質を基本とする末端基を有する。
(式中、aは1〜5、好ましくは1〜約3、さらに好ましくは1の整数であり、およびヒドロキシ基に対しパラ位に配置され、R′は水素原子、典型的には1〜約20の炭素原子、好ましくは1〜約8の炭素原子、より好ましくは1〜約4の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができるアルキル基(直鎖状、分枝、飽和、不飽和、環状および置換アルキル基を含み、酸素、窒素、硫黄、珪素、リンなどのヘテロ原子がアルキル基中に存在することができる)、典型的には2〜約14の炭素原子、好ましくは約6〜約10の炭素原子を有するアリール基(置換アリール基を含む)、典型的には7〜約50の炭素原子、好ましくは7〜約23の炭素原子、より好ましくは7〜約11の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができるアリールアルキル基(置換アリールアルキル基を含む)、典型的には7〜約50の炭素原子、好ましくは7〜約23の炭素原子、より好ましくは7〜約11の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができるアルキルアリール基(置換アルキルアリール基を含む)、典型的には1〜約20の炭素原子、好ましくは1〜約8の炭素原子、より好ましくは1〜約4の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができるアルコキシ基(直鎖状、分枝、飽和、不飽和、環状、および置換アルコキシ基を含み、酸素、窒素、硫黄、珪素、リンなどのヘテロ原子がアルコキシ基中に存在することができる)、典型的には6〜約100の炭素原子、好ましくは約7〜約23の炭素原子、より好ましくは約7〜約11の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができるアリールオキシ基(置換アリールオキシ基を含む)、典型的には7〜約100の炭素原子、好ましくは7〜約23の炭素原子、より好ましくは7〜約11の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができるアリールアルキルオキシ基(置換アリールアルキルオキシ基を含む)、典型的には7〜約100の炭素原子、好ましくは7〜約23の炭素原子、より好ましくは7〜約11の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができるアルキルアリールオキシ基(置換アルキルアリールオキシ基を含む)、ポリアルキレンオキシ基であり、ここでポリアルキレンオキシ基中では各繰り返しアルキレンオキシド基は互いに関係なく、典型的には約2〜約100の炭素原子、好ましくは約2〜約20の炭素原子、より好ましくは約2〜約6の炭素原子を有するが、炭素原子の数はこれらの範囲外とすることができ、ポリアルキレンオキシ基は2またはそれ以上の異なる種類の繰り返しアルキレンオキシド繰り返しモノマーユニット(例えば、ポリエチレンオキシドおよびポリプロピレンオキシドなどのブロックまたはランダムコポリマー類など)を含むことができ、ポリアルキレンオキシ基は典型的には1〜約500の繰り返しアルキレンオキシユニット、好ましくは1〜約10の繰り返しアルキレンユニット、より好ましくは1〜約4の繰り返しアルキレンオキシユニットを有するが、繰り返しアルキレンオキシユニットの数はこれらの範囲外とすることができ、および置換アルキル、アリール、アリールアルキル、アルキルアリール、アルコキシ、アリールオキシ、アリールアルキルオキシ、アルキルアリールオキシ、およびポリアルキレンオキシ基上の置換基はヒドロキシ基、アミン基、アンモニウム基、シアノ基、ピリジン基、ピリジニウム基、エーテル基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボニル基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホスホニウム基、ニトリル基、メルカプト基、ニトロソ基、ハロゲン原子、ニトロ基、スルホン基、アシル基、それらの混合物などとすることができるがこれらに限定されるものではなく、2またはそれ以上の置換基は一緒になり環を形成することができる)の物質を含むことができる。この化学式の適した物質の特定の例としては、2−メチルフェノール、3−メチルフェノール、4−メチルフェノール、2−エチルフェノール、3−エチルフェノール、4−エチルフェノール、2−n−プロピルフェノール、3−n−プロピルフェノール、4−n−プロピルフェノール、2−イソプロピルフェノール、3−イソプロピルフェノール、4−イソプロピルフェノール、2−n−ブチルフェノール、3−n−ブチルフェノール、4−n−ブチルフェノール、2−イソブチルフェノール、3−イソブチルフェノール、4−イソブチルフェノール、2−sec−ブチルフェノール、3−sec−ブチルフェノール、4−sec−ブチルフェノール、2−t−ブチルフェノール、3−t−ブチルフェノール、4−t−ブチルフェノール、ペンチルフェノールのすべての可能な異性体(分枝および直鎖状を含む)、ヘキシルフェノールのすべての可能な異性体(分枝および直鎖状を含む)、ヘプチルフェノールのすべての可能な異性体(分枝および直鎖状を含む)、オクチルフェノールのすべての可能な異性体(分枝および直鎖状を含む)、ノニルフェノールのすべての可能な異性体(分枝および直鎖状を含む)、デシルフェノールのすべての可能な異性体(分枝および直鎖状を含む)、ウンデシルフェノールのすべての可能な異性体、ドデシルフェノールのすべての可能な異性体(分枝および直鎖状を含む)、2−フェニルフェノール、3−フェニルフェノール、4−フェニルフェノール、2−トリルフェノール、3−トリルフェノール、4−トリルフェノール、2−ベンジルフェノール、3−ベンジルフェノール、4−ベンジルフェノール、2−メトキシフェノール、3−メトキシフェノール、4−メトキシフェノール、2−エトキシフェノール、3−エトキシフェノール、4−エトキシフェノール、2−n−プロポキシフェノール、3−n−プロポキシフェノール、4−n−プロポキシフェノール、2−イソプロポキシフェノール、3−イソプロポキシフェノール、4−イソプロポキシフェノール、2−n−ブトキシフェノール、3−n−ブトキシフェノール、4−n−ブトキシフェノール、2−イソブトキシフェノール、3−イソブトキシフェノール、4−イソブトキシフェノール、2−sec−ブトキシフェノール、3−sec−ブトキシフェノール、4−sec−ブトキシフェノール、2−t−ブトキシフェノール、3−t−ブトキシフェノール、4−t−ブトキシフェノール、ペンチルオキシフェノールの全ての可能な異性体、ヘキシルオキシフェノールの全ての可能な異性体(分枝および直鎖を含む)、ヘプチルオキシフェノールの全ての可能な異性体(分枝および直鎖を含む)、オクチルオキシフェノールの全ての可能な異性体(分枝および直鎖を含む)、ノニルオキシフェノールの全ての可能な異性体(分枝および直鎖を含む)、デシルオキシフェノールの全ての可能な異性体(分枝および直鎖を含む)、ウンデシルオキシフェノールの全ての可能な異性体(分枝および直鎖を含む)、ドデシルオキシフェノールの全ての可能な異性体(分枝および直鎖を含む)、2−フェノキシフェノール、3−フェノキシフェノール、4−フェノキシフェノール、2−トリルオキシフェノール、3−トリルオキシフェノール、4−トリルオキシフェノール、2−ベンジルオキシフェノール、3−ベンジルオキシフェノール、4−ベンジルオキシフェノール、2−(ポリエチレンオキシ)フェノール、3−(ポリエチレンオキシ)フェノール、4−(ポリエチレンオキシ)フェノール、2−(ポリプロピレンオキシ)フェノール、3−(ポリプロピレンオキシ)フェノール、4−(ポリプロピレンオキシ)フェノール、2−(ポリブチレンオキシ)フェノール、3−(ポリブチレンオキシ)フェノール、4−(ポリブチレンオキシ)フェノール、上記化合物の全ての2,3−二置換変形体、上記化合物の全ての2,4−二置換変形体、上記化合物の全ての2,5−二置換変形体、上記化合物の全ての2,6−二置換変形体、上記化合物の全ての3,4−二置換変形体、上記化合物の全ての3,5−二置換変形体、上記化合物の全ての2,3,4−三置換変形体、上記化合物の全ての2,3,5−三置換変形体、上記化合物の全ての2,3,6−三置換変形体、上記化合物の全ての2,4,5−三置換変形体、上記化合物の全ての2,4,6−三置換変形体、上記化合物の全ての3,4,5−三置換変形体、上記化合物の全ての3,4,6−三置換変形体、上記化合物の全ての2,3,4,5−四置換変形体、上記化合物の全ての2,3,4,6−四置換変形体、上記化合物の全ての2,3,5,6−四置換変形体、上記化合物のすべての五置換変形体、など、ならびにこれらの混合物が挙げられる。得られたポリマーは化学式:
(ポリマー化学式の左側の末端基に対する)または
(ポリマー化学式の右側の末端基に対する)
で表される、この物質を基本とする末端基を有する。
この必要に応じて用いられる末端キャップ付加物および炭酸塩基についての更なる情報は、共に係属中の米国出願第10/040,850号において開示されている。
化学式:
または
,
の物質と、溶媒と、ビスフェノール−Cと、任意の必要に応じて用いられる成分とを含む第1の反応混合物を任意の所望のまたは有効な温度、1つの態様では少なくとも100℃、他の態様では少なくとも約120℃、さらに他の態様では少なくとも140℃、および1つの態様ではせいぜい約180℃、他の態様ではせいぜい約170℃、さらに他の態様ではせいぜい約160℃まで加熱するが、温度はこれらの範囲外とすることができる。
または
の物質と、溶媒と、ビスフェノール−Cと、任意の必要に応じて用いられる成分とを含む第1の反応混合物を任意の所望のまたは有効な温度、1つの態様では少なくとも100℃、他の態様では少なくとも約120℃、さらに他の態様では少なくとも140℃、および1つの態様ではせいぜい約180℃、他の態様ではせいぜい約170℃、さらに他の態様ではせいぜい約160℃まで加熱するが、温度はこれらの範囲外とすることができる。
反応は典型的には窒素、アルゴンなどの不活性雰囲気の存在下で実施されるが、必ずしもそうである必要はない。
化学式:
または
,
の物質と、溶媒と、ビスフェノール−Cと、任意の必要に応じて用いられる成分とを含む第1の反応混合物を、任意の所望のまたは有効な期間、1つの態様では少なくとも約0.5時間、他の態様では少なくとも約2時間、さらに他の態様では少なくとも約5時間、および1つの態様ではせいぜい約10時間、他の態様ではせいぜい約9時間、さらに他の態様ではせいぜい8時間の間反応させるが、反応期間はこれらの範囲外とすることができる。
または
の物質と、溶媒と、ビスフェノール−Cと、任意の必要に応じて用いられる成分とを含む第1の反応混合物を、任意の所望のまたは有効な期間、1つの態様では少なくとも約0.5時間、他の態様では少なくとも約2時間、さらに他の態様では少なくとも約5時間、および1つの態様ではせいぜい約10時間、他の態様ではせいぜい約9時間、さらに他の態様ではせいぜい8時間の間反応させるが、反応期間はこれらの範囲外とすることができる。
重合反応中に水が生成するが、フェノキシド化合物は水が存在すると不安定なため、この水を反応混合物から除去する。水を除去する1つの方法は、トルエンなどの溶媒を用いた共沸蒸留である。第1の反応混合物から水を除去するために任意の他の望ましいまたは有効な方法も使用することができる。溶媒は第1の反応混合物中に任意の有効量、典型的には反応器内容物の少なくとも約1重量%、好ましくは反応器内容物の少なくとも約12重量%、および典型的には反応器内容物のせいぜい約30重量%、好ましくは反応器内容物のせいぜい約15重量%で存在するが、溶媒の量はこれらの範囲外とすることができる。
反応完了後、化学式:
または
の中間ポリマーを、非溶媒(例えばメタノール)中への析出および濾過による収集、溶媒の真空除去、水中への噴霧および濾過による収集、などの任意の所望の方法または複数の方法の組み合わせにより単離する。
または
の中間ポリマーを、非溶媒(例えばメタノール)中への析出および濾過による収集、溶媒の真空除去、水中への噴霧および濾過による収集、などの任意の所望の方法または複数の方法の組み合わせにより単離する。
中間ポリマー(および本発明により調製した最終ポリマー)は一般に化学式:
のモノマーが化学式:
または
.
のモノマーに結合されるように配列された繰り返しユニットを有する。したがって、化学式:
のモノマーを「A」と、化学式:
のモノマーを「B」と、化学式:
のモノマーを「C」と呼ぶものとすると、必要に応じて用いられる「B」モノマーが存在しない場合、ポリマーは化学式−A−C−A−C−A−C−の交互コポリマーである。必要に応じて用いられる「B」モノマーもまた存在する場合、Bモノマーはポリマー全体にランダムに分散されるが、例えば、−A−B−A−C−A−C−A−C−A−B−A−B−A−C−のように、必ず「A」モノマーと結合される。
のモノマーが化学式:
または
のモノマーに結合されるように配列された繰り返しユニットを有する。したがって、化学式:
のモノマーを「A」と、化学式:
のモノマーを「B」と、化学式:
のモノマーを「C」と呼ぶものとすると、必要に応じて用いられる「B」モノマーが存在しない場合、ポリマーは化学式−A−C−A−C−A−C−の交互コポリマーである。必要に応じて用いられる「B」モノマーもまた存在する場合、Bモノマーはポリマー全体にランダムに分散されるが、例えば、−A−B−A−C−A−C−A−C−A−B−A−B−A−C−のように、必ず「A」モノマーと結合される。
その後、化学式:
または
の中間ポリマーを第2の溶媒とN−ハロスクシンイミドと共に混合する。第2の溶媒はN−ハロスクシンイミドに対して不活性な、この特別な反応に適した任意の所望の溶媒とすることができる。適した第2の溶媒の例としては、四塩化炭素、テトラクロロジフルオロエタン、トリクロロトリフルオロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモベンゼン、ジブロモベンゼンなど、ならびにこれらの混合物が挙げられる。
または
の中間ポリマーを第2の溶媒とN−ハロスクシンイミドと共に混合する。第2の溶媒はN−ハロスクシンイミドに対して不活性な、この特別な反応に適した任意の所望の溶媒とすることができる。適した第2の溶媒の例としては、四塩化炭素、テトラクロロジフルオロエタン、トリクロロトリフルオロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモベンゼン、ジブロモベンゼンなど、ならびにこれらの混合物が挙げられる。
N−ハロスクシンイミドは、N−クロロスクシンイミド、N−ブロモスクシンイミド、またはN−ヨードスクシンイミドとすることができる。これらは全て例えばウィスコンシン州所在のアルドリッチケミカル社(Aldrich Chemical Co.)から市販されている。N−ハロスクシンイミドは第2の反応混合物中に任意の所望のまたは有効な量で存在する。N−ハロスクシンイミドの量を増加させると、ハロメチル基に変換されるポリマー上のメチル基の割合が増大する。得られたハロゲン化ポリマーを、ハロメチル基が感光性基と置換された感光材料の形成における中間体として使用する場合、ハロメチル基に変換されるポリマー上のメチル基の割合は得られるポリマーの感光性、およびこのように形成された架橋感光性ポリマーの架橋密度を制御する。第2の反応混合物中のN−ハロスクシンイミドの量は、1つの態様では化学式:
または
,
の中間ポリマー上のメチル基の1モルあたり少なくとも約0.01モルのN−ハロスクシンイミド、他の態様では、化学式:
または
,
の中間ポリマー上のメチル基の1モルあたり少なくとも約0.1モルのN−ハロスクシンイミド、さらに他の態様では、化学式:
または
,
の中間ポリマー上のメチル基の1モルあたり少なくとも約0.5モルのN−ハロスクシンイミド、および1つの態様では、化学式:
または
,
の中間ポリマー上のメチル基の1モルあたりせいぜい約1モルのN−ハロスクシンイミド、他の態様では、化学式:
または
,
の中間ポリマー上のメチル基の1モルあたりせいぜい約0.9モルのN−ハロスクシンイミド、さらに他の態様では、化学式:
または
,
の中間ポリマー上のメチル基の1モルあたりせいぜい約0.8モルのN−ハロスクシンイミドであるが、N―ハロスクシンイミドの相対量はこれらの範囲外とすることができる。
または
の中間ポリマー上のメチル基の1モルあたり少なくとも約0.01モルのN−ハロスクシンイミド、他の態様では、化学式:
または
の中間ポリマー上のメチル基の1モルあたり少なくとも約0.1モルのN−ハロスクシンイミド、さらに他の態様では、化学式:
または
の中間ポリマー上のメチル基の1モルあたり少なくとも約0.5モルのN−ハロスクシンイミド、および1つの態様では、化学式:
または
の中間ポリマー上のメチル基の1モルあたりせいぜい約1モルのN−ハロスクシンイミド、他の態様では、化学式:
または
の中間ポリマー上のメチル基の1モルあたりせいぜい約0.9モルのN−ハロスクシンイミド、さらに他の態様では、化学式:
または
の中間ポリマー上のメチル基の1モルあたりせいぜい約0.8モルのN−ハロスクシンイミドであるが、N―ハロスクシンイミドの相対量はこれらの範囲外とすることができる。
第2の反応混合物はまた、必要に応じて、反応を促進するために過酸化ベンゾイル、AIBN(アゾビスイソブチルニトリル)、など、ならびにこれらの混合物を含む、ラジカル開始剤などの他の成分を含むこともできる。ラジカル開始剤は、例えばウィスコンシン州ミルウォーキー所在のアルドリッチケミカル社および他の民間供給業者から市販されている。ラジカル開始剤が存在する場合、その量は任意の所望のまたは有効な量であり、1つの態様ではN−ハロスクシンイミドの少なくとも約0.01モル%、および1つの態様ではN−ハロシクシンイミドのせいぜい約0.1モル%であるが、その量はこれらの範囲外とすることができる。
化学式:
または
,
のポリマーと、N−ブロモスクシンイミドを含む反応混合物を任意の所望のまたは有効な温度、1つの態様では少なくとも40℃、他の態様では少なくとも50℃、および1つの態様ではせいぜい約70℃、他の態様ではせいぜい60℃まで加熱するが、その温度はこれらの範囲外とすることができる。
または
のポリマーと、N−ブロモスクシンイミドを含む反応混合物を任意の所望のまたは有効な温度、1つの態様では少なくとも40℃、他の態様では少なくとも50℃、および1つの態様ではせいぜい約70℃、他の態様ではせいぜい60℃まで加熱するが、その温度はこれらの範囲外とすることができる。
反応は典型的には窒素、アルゴンなどの不活性雰囲気の存在下で実施されるが、必ずしもそうである必要はない。
化学式:
または
,
の中間ポリマーとN−ハロスクシンイミドを含む第2の反応混合物を任意の所望のまたは有効な期間、1つの態様では少なくとも約0.5時間、他の態様では少なくとも約1時間、さらに他の態様では少なくとも約4時間、および1つの態様ではせいぜい10時間、他の態様ではせいぜい約9時間、さらに他の態様ではせいぜい約8時間の間反応させることができるが、その期間はこれらの範囲外とすることができる。
または
の中間ポリマーとN−ハロスクシンイミドを含む第2の反応混合物を任意の所望のまたは有効な期間、1つの態様では少なくとも約0.5時間、他の態様では少なくとも約1時間、さらに他の態様では少なくとも約4時間、および1つの態様ではせいぜい10時間、他の態様ではせいぜい約9時間、さらに他の態様ではせいぜい約8時間の間反応させることができるが、その期間はこれらの範囲外とすることができる。
反応完了後、ポリマー生成物は任意の所望のまたは有効な方法により単離することができる。例えば、第2の反応混合物中のすべての不溶性物質は濾過することができ、得られた濾液を直ちに激しく撹拌したメタノール溶液に添加することができる。繊維性ポリマー生成物をその後濾過により収集し、メタノールにより洗浄し、所望の純度レベルに達成させる。
本発明の方法により形成したポリマーは任意の所望の分子量を有することができる。ダルトンで表した形成ポリマーの重量平均分子量(Mw)は1つの態様では少なくとも約5,000、他の態様では少なくとも約10,000、さらに他の態様では少なくとも約15,000、および1つの態様ではせいぜい約500,000、他の態様ではせいぜい約50,000、さらに他の態様ではせいぜい約20,000であるが、分子量はこれらの範囲外とすることができる。本明細書で記述した分子量値はゲル透過クロマトグラフィーを用いて測定され、ポリスチレン標準に対するものである。
本発明のハロゲン化ポリマーは任意の所望のまたは有効な方法により感光性ポリマーに変換することができる。例えば、米国特許第5,761,809号で記述されているように、ハロメチル基を有するポリマーは、不飽和エステル塩類、アルコキシド塩類、アルキルカルボン酸塩類、およびそれらの混合物から選択される物質と反応させることができ、これにより選択した塩に対応する官能基を有する硬化可能なポリマーが形成される。
実施例1
A部
化学式:
のポリマーであって、左末端基が化学式:
であり、右末端基が化学式:
であり、式中kは繰り返しモノマーユニットの数を表すポリマーを以下のように調製した。炭酸カリウム(437.7g、3.167モル;オンタリオ州ジョージタウン所在のカレドン研究所(Caledon Laboratories)から入手)、ビスフェノールC(339.7g、1.327モル:オレゴン州ポートランド所在のTCIケミカル社(TCI Chemical CO.)から入手)、4,4′−ジフルオロベンゾフェノン(312.9g、1.434モル;サウスカロライナ州ウエストコロンビア所在のオークウッドケミカルズ(Oakwood Chemicals)およびニュージャージー州モリスタウン所在のハニーウエルスペシャルティケミカルズ(Honeywell Specialty Chemicals)から入手)、4−t−ブチルフェノール(32.4g、0.216モル:オンタリオ州オークヴィル所在のアルドリッチケミカルカナダ(Aldrich Chemical Canada)から入手)、トルエン(173.0g、200.0ml;オンタリオ州ジョージタウン所在のカレドン研究所から入手)およびN,N−ジメチルアセトアミド(1,894.0g、2,021.3ml;オンタリオ州オークヴィル所在のアルドリッチケミカルカナダから入手)を、クライゼン(Claisen)アダプター、窒素バブラー、水中温度計、および水冷凝縮器を上に載せたトルエン(370ml)を含む500mlスチルヘッドを備えた5リットルの三つ口モートン(Morton)フラスコに添加した。ガラス撹拌ロッドおよびテフロン(TEFLON:登録商標)ブレードを備えたIKA RW 20DZM.n頭上撹拌装置を用いて、反応混合物を500rpmで機械的に撹拌した。反応混合物を窒素のスローパージ下で6時間還流させ、蒸発液を反応フラスコ中に再循環させ、周期的に生成水を排出した。室温まで空冷した後、反応混合物を1リットルのN,N−ジメチルアセトアミドで希釈し、#4ファットマン(Whatman)濾紙を通して真空濾過し、激しく撹拌中の30リットルのメタノール(オンタリオ州ジョージタウン所在のカレドン研究所から入手)に徐々に添加した。沈澱を#1ファットマン濾紙を通す真空濾過により単離した後、1時間、5リットルの脱イオン水中で撹拌し、再濾過し、続いて1時間、5リットルのメタノール中で撹拌し、最終濾過を実施した。沈澱を真空オーブン(30℃、7mtorr)中で3日間乾燥させると、白色のさらさらの粉末(558g)が得られた。1Hおよび19F NMR分光写真により、得られたポリマーは末端フッ素官能基を有しておらず、適当な化学量論量でモノフェノール末端基が存在することが確認されることが示された。
A部
化学式:
のポリマーであって、左末端基が化学式:
であり、右末端基が化学式:
であり、式中kは繰り返しモノマーユニットの数を表すポリマーを以下のように調製した。炭酸カリウム(437.7g、3.167モル;オンタリオ州ジョージタウン所在のカレドン研究所(Caledon Laboratories)から入手)、ビスフェノールC(339.7g、1.327モル:オレゴン州ポートランド所在のTCIケミカル社(TCI Chemical CO.)から入手)、4,4′−ジフルオロベンゾフェノン(312.9g、1.434モル;サウスカロライナ州ウエストコロンビア所在のオークウッドケミカルズ(Oakwood Chemicals)およびニュージャージー州モリスタウン所在のハニーウエルスペシャルティケミカルズ(Honeywell Specialty Chemicals)から入手)、4−t−ブチルフェノール(32.4g、0.216モル:オンタリオ州オークヴィル所在のアルドリッチケミカルカナダ(Aldrich Chemical Canada)から入手)、トルエン(173.0g、200.0ml;オンタリオ州ジョージタウン所在のカレドン研究所から入手)およびN,N−ジメチルアセトアミド(1,894.0g、2,021.3ml;オンタリオ州オークヴィル所在のアルドリッチケミカルカナダから入手)を、クライゼン(Claisen)アダプター、窒素バブラー、水中温度計、および水冷凝縮器を上に載せたトルエン(370ml)を含む500mlスチルヘッドを備えた5リットルの三つ口モートン(Morton)フラスコに添加した。ガラス撹拌ロッドおよびテフロン(TEFLON:登録商標)ブレードを備えたIKA RW 20DZM.n頭上撹拌装置を用いて、反応混合物を500rpmで機械的に撹拌した。反応混合物を窒素のスローパージ下で6時間還流させ、蒸発液を反応フラスコ中に再循環させ、周期的に生成水を排出した。室温まで空冷した後、反応混合物を1リットルのN,N−ジメチルアセトアミドで希釈し、#4ファットマン(Whatman)濾紙を通して真空濾過し、激しく撹拌中の30リットルのメタノール(オンタリオ州ジョージタウン所在のカレドン研究所から入手)に徐々に添加した。沈澱を#1ファットマン濾紙を通す真空濾過により単離した後、1時間、5リットルの脱イオン水中で撹拌し、再濾過し、続いて1時間、5リットルのメタノール中で撹拌し、最終濾過を実施した。沈澱を真空オーブン(30℃、7mtorr)中で3日間乾燥させると、白色のさらさらの粉末(558g)が得られた。1Hおよび19F NMR分光写真により、得られたポリマーは末端フッ素官能基を有しておらず、適当な化学量論量でモノフェノール末端基が存在することが確認されることが示された。
B部
化学式:
のポリマーであって、左末端基が化学式:
であり、右末端基が化学式:
であり、式中kは繰り返しモノマーユニットの数を表すポリマーを以下のように調製した。この実施例のA部で調製したポリマー(10.0g、23mmol)、N−ブロモスクシンイミド(9.01g、50.6mmol;メチル基に対し2.2当量;オンタリオ州ミシソーガ所在のアルドリッチケミカル社(Aldrich Chemical Co.)から入手)、過酸化ベンゾイル(55mg、0.2mmol;オンタリオ州ミシソーガ所在のアルドリッチケミカル社から入手)、およびN,N−ジメチルアセトアミド(1,894.0g、2,021.3ml;オンタリオ州オークヴィル所在のアルドリッチケミカルカナダから入手)を窒素口、水冷凝縮器およびガラス栓を備えた250リットルの三つ口丸底フラスコに添加した。ガラス撹拌ロッドおよびテフロン(登録商標)ブレードを備えたIKA RW 20DZM.n頭上撹拌装置を用いて、反応混合物を500rpmで機械的に撹拌した。反応混合物を窒素ブランケット下で16時間還流させた。室温まで空冷した後、反応混合物を激しく撹拌中の500mlのメタノールに添加した。沈澱を#1ファットマン濾紙を通す真空濾過により単離した後、100mlの1,2−ジクロロエタンに再溶解した。不溶性の物質をすべて#1ファットマン濾紙を通す真空濾過により濾過した。その後、この溶液を激しく撹拌した500mlのメタノールに添加した。得られた沈澱を#1ファットマン濾紙を通す真空濾過により単離し、真空オーブン(30℃、7mtorr)中で3日間乾燥させると、白色のさらさらの粉末(11g)が得られた。1H NMR分光写真(CDCl3)により、得られたポリマーは17%のメチル残基および83%のブロモメチル基を有することが示された。
化学式:
のポリマーであって、左末端基が化学式:
であり、右末端基が化学式:
であり、式中kは繰り返しモノマーユニットの数を表すポリマーを以下のように調製した。この実施例のA部で調製したポリマー(10.0g、23mmol)、N−ブロモスクシンイミド(9.01g、50.6mmol;メチル基に対し2.2当量;オンタリオ州ミシソーガ所在のアルドリッチケミカル社(Aldrich Chemical Co.)から入手)、過酸化ベンゾイル(55mg、0.2mmol;オンタリオ州ミシソーガ所在のアルドリッチケミカル社から入手)、およびN,N−ジメチルアセトアミド(1,894.0g、2,021.3ml;オンタリオ州オークヴィル所在のアルドリッチケミカルカナダから入手)を窒素口、水冷凝縮器およびガラス栓を備えた250リットルの三つ口丸底フラスコに添加した。ガラス撹拌ロッドおよびテフロン(登録商標)ブレードを備えたIKA RW 20DZM.n頭上撹拌装置を用いて、反応混合物を500rpmで機械的に撹拌した。反応混合物を窒素ブランケット下で16時間還流させた。室温まで空冷した後、反応混合物を激しく撹拌中の500mlのメタノールに添加した。沈澱を#1ファットマン濾紙を通す真空濾過により単離した後、100mlの1,2−ジクロロエタンに再溶解した。不溶性の物質をすべて#1ファットマン濾紙を通す真空濾過により濾過した。その後、この溶液を激しく撹拌した500mlのメタノールに添加した。得られた沈澱を#1ファットマン濾紙を通す真空濾過により単離し、真空オーブン(30℃、7mtorr)中で3日間乾燥させると、白色のさらさらの粉末(11g)が得られた。1H NMR分光写真(CDCl3)により、得られたポリマーは17%のメチル残基および83%のブロモメチル基を有することが示された。
実施例2
A部
化学式:
のポリマーであって、左末端基が化学式:
であり、右末端基が化学式:
であり、式中n、eおよびfは繰り返しモノマーユニットの数を表すポリマーを以下のように調製した。炭酸カリウム(437.7g、3.167モル;オンタリオ州ジョージタウン所在のカレドン研究所から入手)、ビスフェノール−A(151.45g、0.6635mol;アルバータ州カルガリー所在のシェルカナダケミカル社(Shell Canada Chemical Co.)から入手可能)、ビスフェノールC(169.85g、0.6635モル:オレゴン州ポートランド所在のTCIケミカル社から入手可能)、4,4′−ジフルオロベンゾフェノン(312.9g、1.434モル;サウスカロライナ州ウエストコロンビア所在のオークウッドケミカルズおよびニュージャージー州モリスタウン所在のハニーウエルスペシャルティケミカルズから入手可能)、4−t−ブチルフェノール(32.4g、0.216モル:オンタリオ州オークヴィル所在のアルドリッチケミカルカナダから入手可能)、トルエン(173.0g、200.0ml;オンタリオ州ジョージタウン所在のカレドン研究所から入手可能)およびN,N−ジメチルアセトアミド(1,894.0g、2,021.3ml;オンタリオ州オークヴィル所在のアルドリッチケミカルカナダから入手可能)を、クライゼンアダプター、窒素バブラー、水中温度計、および水冷凝縮器を上に載せたトルエン(370ml)を含む500mlのスチルヘッドを備えた5リットルの三つ口モートンフラスコに添加する。ガラス撹拌ロッドおよびテフロン(登録商標)ブレードを備えたIKA RW 20DZM.n頭上撹拌装置を用いて、反応混合物を500rpmで機械的に撹拌する。反応混合物を窒素のスローパージ下で6時間還流させ、蒸発液を反応フラスコ中に再循環させ、周期的に生成水を排出する。室温まで空冷した後、反応混合物を1リットルのN,N−ジメチルアセトアミドで希釈し、#4ファットマン濾紙を通して真空濾過し、激しく撹拌中の30リットルのメタノール(オンタリオ州ジョージタウン、カレドン研究所から入手可能)に徐々に添加する。沈澱を#1ファットマン濾紙を通す真空濾過により単離した後、1時間、5リットルの脱イオン水中で撹拌し、再濾過し、続いて1時間、5リットルのメタノール中で撹拌し、最終濾過を実施する。沈澱を真空オーブン(30℃、7mtorr)中で3日間乾燥させると、生成物が得られる。1Hおよび19F NMR分光写真により、得られたポリマーは末端フッ素官能基を有しておらず、適当な化学量論量でモノフェノール末端基が存在することが確認されることが示されると考えられる。
A部
化学式:
のポリマーであって、左末端基が化学式:
であり、右末端基が化学式:
であり、式中n、eおよびfは繰り返しモノマーユニットの数を表すポリマーを以下のように調製した。炭酸カリウム(437.7g、3.167モル;オンタリオ州ジョージタウン所在のカレドン研究所から入手)、ビスフェノール−A(151.45g、0.6635mol;アルバータ州カルガリー所在のシェルカナダケミカル社(Shell Canada Chemical Co.)から入手可能)、ビスフェノールC(169.85g、0.6635モル:オレゴン州ポートランド所在のTCIケミカル社から入手可能)、4,4′−ジフルオロベンゾフェノン(312.9g、1.434モル;サウスカロライナ州ウエストコロンビア所在のオークウッドケミカルズおよびニュージャージー州モリスタウン所在のハニーウエルスペシャルティケミカルズから入手可能)、4−t−ブチルフェノール(32.4g、0.216モル:オンタリオ州オークヴィル所在のアルドリッチケミカルカナダから入手可能)、トルエン(173.0g、200.0ml;オンタリオ州ジョージタウン所在のカレドン研究所から入手可能)およびN,N−ジメチルアセトアミド(1,894.0g、2,021.3ml;オンタリオ州オークヴィル所在のアルドリッチケミカルカナダから入手可能)を、クライゼンアダプター、窒素バブラー、水中温度計、および水冷凝縮器を上に載せたトルエン(370ml)を含む500mlのスチルヘッドを備えた5リットルの三つ口モートンフラスコに添加する。ガラス撹拌ロッドおよびテフロン(登録商標)ブレードを備えたIKA RW 20DZM.n頭上撹拌装置を用いて、反応混合物を500rpmで機械的に撹拌する。反応混合物を窒素のスローパージ下で6時間還流させ、蒸発液を反応フラスコ中に再循環させ、周期的に生成水を排出する。室温まで空冷した後、反応混合物を1リットルのN,N−ジメチルアセトアミドで希釈し、#4ファットマン濾紙を通して真空濾過し、激しく撹拌中の30リットルのメタノール(オンタリオ州ジョージタウン、カレドン研究所から入手可能)に徐々に添加する。沈澱を#1ファットマン濾紙を通す真空濾過により単離した後、1時間、5リットルの脱イオン水中で撹拌し、再濾過し、続いて1時間、5リットルのメタノール中で撹拌し、最終濾過を実施する。沈澱を真空オーブン(30℃、7mtorr)中で3日間乾燥させると、生成物が得られる。1Hおよび19F NMR分光写真により、得られたポリマーは末端フッ素官能基を有しておらず、適当な化学量論量でモノフェノール末端基が存在することが確認されることが示されると考えられる。
B部
化学式:
のポリマーであって、左末端基が化学式:
であり、右末端基が化学式:
であり、式中n、eおよびfは繰り返しモノマーユニットの数を表すポリマーを、実施例IのA部で調製したポリマーの代わりにこの実施例のA部で調製したポリマーを使用することを除き実施例IのB部において記述した方法により調製する。
化学式:
のポリマーであって、左末端基が化学式:
であり、右末端基が化学式:
であり、式中n、eおよびfは繰り返しモノマーユニットの数を表すポリマーを、実施例IのA部で調製したポリマーの代わりにこの実施例のA部で調製したポリマーを使用することを除き実施例IのB部において記述した方法により調製する。
C部
この実施例のB部で調製したポリマー上のブロモメチル基の変換は以下のように実施する。この実施例のB部で調製したポリマー(8.0g)、アクリル酸ナトリウム(3.5g、37.2mmol;オンタリオ州ミシソーガ所在のアルドリッチケミカル社から入手可能)、およびN,N−ジメチルアセトアミド(55ml;オンタリオ州オークヴィル所在のアルドリッチケミカルカナダから入手可能)を、琥珀色の広口瓶に加え密閉する。反応混合物を軌道振とう機(オービタルシェイカー:orbital shaker)により室温で約7日間機械的に撹拌し、この時点で反応混合物を激しく撹拌した500mlのメタノールに添加する。得られた沈澱を#1ファットマン濾紙を通す真空濾過により単離した後、100mlの1,2−ジクロロエタンに再溶解する。不溶性物質をすべて#1ファットマン濾紙を通す真空濾過により濾過する。その後、この溶液を激しく撹拌した500mlのメタノールに添加する。得られた沈澱を#1ファットマン濾紙を通す真空濾過により単離した後、真空オーブン(30℃、7mtorr)中で3日間乾燥させると、生成物が得られる。1H NMR分光写真(CDCl3)により、全てのブロモメチル基がアクリレート基に変換されていることが示されると考えられる。
この実施例のB部で調製したポリマー上のブロモメチル基の変換は以下のように実施する。この実施例のB部で調製したポリマー(8.0g)、アクリル酸ナトリウム(3.5g、37.2mmol;オンタリオ州ミシソーガ所在のアルドリッチケミカル社から入手可能)、およびN,N−ジメチルアセトアミド(55ml;オンタリオ州オークヴィル所在のアルドリッチケミカルカナダから入手可能)を、琥珀色の広口瓶に加え密閉する。反応混合物を軌道振とう機(オービタルシェイカー:orbital shaker)により室温で約7日間機械的に撹拌し、この時点で反応混合物を激しく撹拌した500mlのメタノールに添加する。得られた沈澱を#1ファットマン濾紙を通す真空濾過により単離した後、100mlの1,2−ジクロロエタンに再溶解する。不溶性物質をすべて#1ファットマン濾紙を通す真空濾過により濾過する。その後、この溶液を激しく撹拌した500mlのメタノールに添加する。得られた沈澱を#1ファットマン濾紙を通す真空濾過により単離した後、真空オーブン(30℃、7mtorr)中で3日間乾燥させると、生成物が得られる。1H NMR分光写真(CDCl3)により、全てのブロモメチル基がアクリレート基に変換されていることが示されると考えられる。
Claims (4)
- 以下の化学式のポリマーを調製するための方法であって、:
または
(式中、mは0または1の整数であり、
Xは塩素、臭素またはヨウ素であるハロゲン原子であり、Aは、
,
,
,
,
,
,
,
(式中、Rはアルキル基、アリール基、またはこれらの混合物である)
,
,
,
またはこれらの混合物であり、Bは、
,
,
,
,
,
,
,
,
,
,
(式中、vは1〜約20の整数である)
(式中、tは1〜約20の整数である)
(式中、uは1〜約20の整数である)
,
,
,
,
,
,
,
,
(式中、R1およびR2はそれぞれ、互いに関係なく、アルキル基、アリール基、またはそれらの混合物であり、pは0または1の整数である)
(式中、bは0または1の整数である)
(式中、(1)Zは、
,
,
または
であり、cは0または1であり;(2)Arは
,
または
であり;(3)Gは約2〜約10の炭素原子を含むアルキルまたはイソアルキル基から選択されるアルキル基であり;(4)Ar′は、
,
または
であり;(5)Xは
,
,
,
,
(式中、sは0、1または2である)
または
であり、(6)qは0または1である)
またはこれらの混合物であり、n、eおよびfはそれぞれ、互いに独立した整数であってで、繰り返しモノマーユニットの数を表し、ここでeは0であってもよく、nおよびfはそれぞれ少なくとも1である)、
該方法は、(A)(i)第1の溶媒と、(ii)化学式:
または
(式中、Yは塩素原子またはフッ素原子である)の化合物と、(iii)化学式:
の化合物と、(iv)必要に応じて、化学式:
の化合物と、を含む第1の反応混合物を提供する工程と;
(B)前記第1の反応混合物を加熱し、第1の反応混合物から生成水を除去し、これにより重合反応を実施し、化学式:
または
の中間ポリマーを形成する工程と;
(C)(i)第2の溶媒と、(ii)前記中間ポリマーと、(iii)ハロゲン原子を含むN−ハロスクシンイミドであって、N−ハロスクシンイミド中のハロゲン原子はXであるハロゲン原子と同じである、N−ハロスクシンイミドと、を含む第2の反応混合物を提供する工程と;
(D)前記第2の反応混合物を加熱し、これにより重合反応を実施し、化学式:
または
のポリマーを形成する工程と、を含むポリマーを調製するための方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/322,110 US6927273B2 (en) | 2002-12-17 | 2002-12-17 | Process for preparing substituted polyarylene ethers |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004197098A true JP2004197098A (ja) | 2004-07-15 |
Family
ID=32592969
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003419449A Withdrawn JP2004197098A (ja) | 2002-12-17 | 2003-12-17 | 置換ポリアリーレンエーテルの調製方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6927273B2 (ja) |
JP (1) | JP2004197098A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106565952A (zh) * | 2015-07-14 | 2017-04-19 | Sk新技术株式会社 | 用于制备抗蚀剂下层膜的聚合物,含有其的组合物及使用该组合物制造半导体装置的方法 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU2003292816A1 (en) * | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Ube Industries, Ltd. | Bisphenol compound and aromatic polyaryl ether |
US7396895B2 (en) * | 2003-11-25 | 2008-07-08 | Xerox Corporation | Branched polyarylene ethers and processes for the preparation thereof |
RU2520565C1 (ru) * | 2012-11-19 | 2014-06-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова (КБГУ) | Ароматические блок-сополиэфиры |
CN104877128B (zh) * | 2015-06-05 | 2016-11-09 | 南阳师范学院 | 一种卤甲基化聚芳醚及其制备方法 |
KR102385375B1 (ko) | 2015-07-13 | 2022-04-11 | 에스케이이노베이션 주식회사 | 신규한 레지스트 하층막 형성용 중합체, 이를 포함하는 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 이를 이용한 레지스트 패턴의 형성 방법 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5773553A (en) | 1996-06-13 | 1998-06-30 | Xerox Corporation | Polyimide curing process and improved thermal ink jet printhead prepared thereby |
US5889077A (en) | 1996-08-29 | 1999-03-30 | Xerox Corporation | Process for direct substitution of high performance polymers with unsaturated ester groups |
US5939206A (en) | 1996-08-29 | 1999-08-17 | Xerox Corporation | Stabilized porous, electrically conductive substrates |
US5849809A (en) | 1996-08-29 | 1998-12-15 | Xerox Corporation | Hydroxyalkylated high performance curable polymers |
US5739254A (en) | 1996-08-29 | 1998-04-14 | Xerox Corporation | Process for haloalkylation of high performance polymers |
US5994425A (en) | 1996-08-29 | 1999-11-30 | Xerox Corporation | Curable compositions containing photosensitive high performance aromatic ether polymers |
US5958995A (en) | 1996-08-29 | 1999-09-28 | Xerox Corporation | Blends containing photosensitive high performance aromatic ether curable polymers |
US6007877A (en) | 1996-08-29 | 1999-12-28 | Xerox Corporation | Aqueous developable high performance photosensitive curable aromatic ether polymers |
US5945253A (en) | 1996-08-29 | 1999-08-31 | Xerox Corporation | High performance curable polymers and processes for the preparation thereof |
US6124372A (en) | 1996-08-29 | 2000-09-26 | Xerox Corporation | High performance polymer compositions having photosensitivity-imparting substituents and thermal sensitivity-imparting substituents |
US5761809A (en) | 1996-08-29 | 1998-06-09 | Xerox Corporation | Process for substituting haloalkylated polymers with unsaturated ester, ether, and alkylcarboxymethylene groups |
US5863963A (en) | 1996-08-29 | 1999-01-26 | Xerox Corporation | Halomethylated high performance curable polymers |
US5874192A (en) | 1997-11-21 | 1999-02-23 | Xerox Corporation | Imaging members with charge transport layers containing high performance polymer blends |
US5882814A (en) | 1997-11-21 | 1999-03-16 | Xerox Corporation | Imaging members containing high performance charge transporting polymers |
US5814426A (en) | 1997-11-21 | 1998-09-29 | Xerox Corporation | Imaging members containing high performance polymers |
US6273985B1 (en) | 1998-06-26 | 2001-08-14 | Xerox Corporation | Bonding process |
US6260956B1 (en) | 1998-07-23 | 2001-07-17 | Xerox Corporation | Thermal ink jet printhead and process for the preparation thereof |
US6139920A (en) | 1998-12-21 | 2000-10-31 | Xerox Corporation | Photoresist compositions |
US6020119A (en) | 1999-05-17 | 2000-02-01 | Xerox Corporation | Process for halomethylation of high performance polymers |
US6187512B1 (en) | 1999-05-17 | 2001-02-13 | Xerox Corporation | Process for halomethylation of high performance polymers |
US6117967A (en) | 1999-06-04 | 2000-09-12 | Xerox Corporation | Arylene ether alcohol polymers |
US6177238B1 (en) | 1999-06-04 | 2001-01-23 | Xerox Corporation | Ink jet printheads containing arylene ether alcohol polymers and processes for their formation |
US6174636B1 (en) | 1999-06-04 | 2001-01-16 | Xerox Corporation | Imaging members containing arylene ether alcohol polymers |
US6716956B2 (en) * | 2002-01-09 | 2004-04-06 | Xerox Corporation | Process for preparing polyarylene ethers |
-
2002
- 2002-12-17 US US10/322,110 patent/US6927273B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-12-17 JP JP2003419449A patent/JP2004197098A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106565952A (zh) * | 2015-07-14 | 2017-04-19 | Sk新技术株式会社 | 用于制备抗蚀剂下层膜的聚合物,含有其的组合物及使用该组合物制造半导体装置的方法 |
CN106565952B (zh) * | 2015-07-14 | 2020-07-24 | Sk新技术株式会社 | 用于制备抗蚀剂下层膜的聚合物,含有其的组合物及使用该组合物制造半导体装置的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6927273B2 (en) | 2005-08-09 |
US20040122204A1 (en) | 2004-06-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1263836B1 (en) | Aromatic polyetherketones | |
EP0182648B1 (en) | Process for the preparation of polyetherketones | |
Lee et al. | Synthesis and characterization of multiblock copolymers based on hydrophilic disulfonated poly (arylene ether sulfone) and hydrophobic partially fluorinated poly (arylene ether ketone) for fuel cell applications | |
JPH039128B2 (ja) | ||
TW200829545A (en) | Monomers comprising superacidic groups, and polymers therefrom | |
Yang et al. | Synthesis of poly [arylene ether sulfone-b-vinylidene fluoride] block copolymers | |
EP3141564A1 (en) | Polymer brush | |
WO2011050572A1 (zh) | 聚联苯砜醚与聚醚砜三元共聚物的制备方法 | |
US20170009006A1 (en) | Polyarylene materials | |
JP2004197098A (ja) | 置換ポリアリーレンエーテルの調製方法 | |
JP2005154776A (ja) | 分枝ポリアリーレンエーテル類およびそれらの調製プロセス | |
JPH024828A (ja) | 加工性の改良されたポリアリールエーテルケトン | |
EP2444446B1 (en) | Method for preparing poly (diphenyl ether sulfone) and poly (diphenyl ether diphenyl sulfone) ternary polymer | |
JP2005154775A (ja) | 分枝ポリアリーレンエーテル類の調製プロセス | |
CN108440751B (zh) | 2,6-二甲基-4-(三(3,5-二甲基苯基)甲基)苯酚、制备及端基功能化聚芳醚 | |
Marestin et al. | Synthesis of poly (aryl ether) s bearing phosphonated side-chains from phosphonate ester-containing bisphenols | |
JP2010095614A (ja) | ポリエーテルエーテルケトンの製法 | |
JP5223193B2 (ja) | ポリカルボシラン及びその製造方法並びに絶縁性材料 | |
Ajioka et al. | Synthesis of Well‐Defined Rod‐Coil Diblock Copolymer of Aromatic Polyether and Polyacrylonitrile by Chain‐Growth Condensation Polymerization and Atom Transfer Radical Polymerization | |
JP2010070658A (ja) | ポリエーテルエーテルケトンの製法 | |
Miyatake et al. | Synthesis of novel phosphinic acid‐containing polymers | |
US6716956B2 (en) | Process for preparing polyarylene ethers | |
Gomes et al. | Synthesis and Characterization of Poly (arylene ether oxadiazole) Telechelics | |
US7001978B2 (en) | Unsaturated ester substituted polymers with reduced halogen content | |
JPH0255729A (ja) | 芳香剤ポリマー |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061213 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20090820 |