JP2005149548A - 半導体集積回路 - Google Patents

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好信 西山
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Abstract

【課題】外部からモニター端子を介したノイズの影響を受けにくく、かつモニター端子数を減少できる半導体集積回路を提供する。
【解決手段】複数ビット単位のデータを保持するとともに前記複数ビット単位のデータを出力するための複数のノードを有するデータ保持回路を備え、前記複数のノードの状態をモニターすることが可能な半導体集積回路において、前記複数のノードの状態をモニターするためのテスト信号が入力されるテスト端子と、前記テスト信号に基づいて、前記複数のノードのうちの少なくとも1つのノードを選択するとともに、前記少なくとも1つのノードの状態を合成してモニター信号として出力するノード選択回路と、前記テスト信号に基づいて、前記モニター信号を出力するスイッチ回路と、前記スイッチ回路から出力される前記モニター信号を外部に出力するモニター端子とを備える。
【選択図】 図1

Description

本発明は、半導体集積回路に関する。
近年、フラッシュメモリを搭載した1チップのフラッシュメモリ搭載マイコン(以下フラシュマイコンと称す)が提案されている(例えば、特許文献1参照)。こうしたフラッシュマイコンでは、出荷前テストなどにおいて、チップ内部に搭載したフラッシュメモリに関するデータリテンション(Data Retension)特性やリードディスターブ(Read Disturb)特性などを評価することが行われている。そのため、従来のフラッシュマイコンは、フラッシュメモリにおける各メモリセルの内部状態(メモリセルの電流値や電圧値、フローティングゲートの蓄積電荷等)について、外部でモニターするためのモニター端子を備えている。
図4には、従来のフラッシュマイコン300の構成を示している。従来のフラッシュマイコン300は、複数のフラッシュメモリセルを備えたメモリセルアレイ40における各メモリセルの状態をモニターすべき複数のアナログノードAN(1〜n)と同じ数だけのモニター端子13を備えている。
またフラッシュマイコン300は、メモリセルアレイ40の状態を読み出すモードである“テストモード”を設定するためのテスト信号を入力するTST端子14端子を備えている。テスト信号がTST端子14に入力されると、スイッチング素子60(例えばNチャンネル型MOSトランジスタ)が導通する。そして各アナログノードANの値がモニター端子13を介し外部に出力されることにより、メモリセルの内部状態がモニターされる。
モニター端子13は、“テストモード”以外の場合すなわちスイッチング素子60が非導通の場合(“通常モード”と称する)にはユーザー端子やデータ出力端子として兼用してもよい。同図では、モニター端子13について、センスアンプ70を介してメモリセルアレイ40から読み出したデジタル信号を出力するユーザー端子と兼用させた例が示されている。
特開平5−66249号公報
ところで、従来のフラッシュマイコン300では、モニター端子13に対して例えば負の電圧レベルが大きいスパイク状のノイズが印加された場合、スイッチング素子60が非導通の状態(すなわちTST端子にテスト信号が入力されず、“通常モード”である)にあるにも関わらず、ノイズの影響を受けることがある。この場合、外部からモニター端子13及びスイッチング素子60を介して当該ノイズがフラッシュマイコン300内部に混入してしまうことになる。その結果、当該ノイズによって、フラッシュマイコン300内部にあるメモリセルアレイ40や、メモリセルアレイ40の周辺に設けられた周辺回路の誤動作や故障を招く恐れがある。
また、 従来のフラッシュマイコン300では、1つのモニター端子13に対して1つのスイッチング素子60が対応している。このため、モニター端子13の数分、外部からノイズが混入される機会が増えることになる。よって、従来のフラッシュマイコン300では、モニター端子13を介して外部からノイズの影響を受けやすいという問題点があった。
本発明は、外部からモニター端子を介したノイズの影響を受けにくく、かつモニター端子数を減少できる半導体集積回路を提供することを目的とする。
本発明に係る主たる発明は、複数ビット単位のデータを保持するとともに前記複数ビット単位のデータを出力するための複数のノードを有するデータ保持回路を備え、前記複数のノードの状態をモニターすることが可能な半導体集積回路において、前記複数のノードの状態をモニターするためのテスト信号が入力されるテスト端子と、前記テスト信号に基づいて、前記複数のノードのうちの少なくとも1つのノードを選択するとともに、前記少なくとも1つのノードの状態を合成してモニター信号として出力するノード選択回路と、前記テスト信号に基づいて、前記モニター信号を出力するスイッチ回路と、前記スイッチ回路から出力される前記モニター信号を外部に出力するモニター端子とを備えたことを特徴とする。
本発明の他の特徴については、添付図面及び本明細書の記載により明らかにする。
本発明によれば、外部からのモニター端子を介したノイズの影響を受けにくく、かつモニター端子数を減少できる半導体集積回路を提供することができる。
<システム構成>
図1には、本発明の実施形態に係る1チップのフラッシュマイコン(『半導体集積回路』)100と、外部装置(ROMライター、テスターなど)200とによって構成されたシステムを示している。
まず、フラッシュマイコン100は、データ端子11と、クロック端子12と、TST端子(『テスト端子』)14と、モニター端子15と、を有している。
データ端子11には、メモリセルアレイ40に書き込み又は読み出しを行うためのアドレスデータや書き込みデータ等のデータDATAが外部装置200から入力される。
クロック端子12には、クロック信号CLKが外部装置200から入力される。フラッシュマイコン100は、クロック信号CLKに同期してデータDATAが入力されることによって適宜のデータ処理を行う。
TST端子14には、テスト信号が外部装置200から入力される。テスト信号とはモニター端子15からメモリセルアレイ40のノードの状態を読み出すモードである“テストモード”を設定するための信号である。“テストモード”以外の場合は“通常モード”となっておりモニターは行われない。“テストモード”及び“通常モード”は、TST端子14に入力されるテスト信号に基づいて切り替えられる。例えばフラッシュマイコン100は、テスト信号が“HIGH”レベルのときは“テストモード”となり、“LOW”レベルのときは“通常モード”となる。
モニター端子15には、後述のアナログノードAN(1〜n)の状態を示すモニター信号が出力される。なお、図1においてモニター端子15は、所定のユーザー端子と兼用させずに単独で使用しているが、出力選択が可能な回路を設けることにより“通常モード”の際に、ユーザー端子や他のデータ出力端子と兼用出来るようにしてもよい。
また、フラッシュマイコン100は、シリアルパラレル変換部10と、アドレスラッチ部20と、アドレスデコーダ部80と、データラッチ部(『データラッチ回路』)30と、メモリセルアレイ40と、ビットセレクタ部(『ノード選択回路』)50と、スイッチング素子(請求項1及び7に記載の『スイッチ回路』)61とを有している。シリアルパラレル変換部10は、例えばnビットのシフトレジスタであり、nビットのシリアルデータをクロックに同期して入力する。そしてnビットのシリアルデータが保持された後シリアルパラレル変換部10は、適宜のラッチタイミングにてパラレル出力を行う。
アドレスラッチ部20は、シリアルパラレル変換部10から出力されたメモリセルのアドレスデータを保持する。そして、アドレスラッチ部20は、保持しておいたアドレスデータをメモリセルアレイ40の周辺回路として設けられたアドレスデコーダ部80に対して出力する。この結果、当該アドレスデコーダ部80によって、書き込み動作や読み出し動作の対象となるメモリセルが選択される。
データラッチ部30は、シリアルパラレル変換部10から出力された、メモリセルに書き込みを行うための書き込みデータを保持する。この保持しておいた書き込みデータによって、メモリセルアレイ40の周辺回路として設けられた高電圧発生回路(不図示)が制御されて、書き込み対象となるメモリセルへのデータの書き込みが行われる。また、データラッチ部30に保持されたパラレルデータは、ラッチデータTDとしてビットセレクタ部50に出力される。
メモリセルアレイ40(『データ保持回路』)は、図2に示すように、NAND型フラッシュメモリを採用することができ、1ビットのデータを格納するメモリセル41aがメモリセルアレイ40の記憶容量の分複数配設されている。またこのビット単位のメモリセル41aを選択するためのトランジスタ41bがデータ線毎に配設されている
この構成によりメモリセルアレイ40は複数ビット単位のデータを保持することが出来る。またメモリセルアレイ40には保持された複数ビット単位のデータを出力するため複数のアナログノードANが接続されており、1本のアナログノードANに対して複数のデータ線が接続されている。
なお、メモリセルアレイ40は、NAND型フラッシュメモリに限定されるものではなく、NOR型フラッシュメモリや、その他の不揮発性メモリとしてもよい。また、メモリセルは、多値ビットのデータを格納するメモリセルでもよい。
メモリセル41aは、半導体基板とゲート電極との間に絶縁膜を介してフローティングゲートを形成しており、このフローティングゲートへの電荷注入の有無によって“0”又は“1”のビット情報が記憶できる。なお、メモリセル41aの一方の端子(ソース電極)は接地されており、他方の端子(ドレイン電極)は選択トランジスタ41bの一方の端子(ソース電極)と接続されている。また、メモリセル41aのゲート電極には、当該メモリセル41aへの書き込み動作や読み出し動作などを可能とするためのワード線が接続されている。メモリセルの読み出しにおいては、選択されたメモリセルのビット情報が、データ線を搬送経路として出力される。
選択トランジスタ41bは、例えばNチャンネル型MOSトランジスタによって形成される。なお、選択トランジスタ41bは、Pチャンネル型MOSトランジスタでもよい。この選択トランジスタ41bの一方の端子(ソース電極)は、前述したとおり、メモリセル41aの他方の端子(ドレイン電極)と接続されており、他方の端子(ソース電極)はデータ線を介してアナログノードANと接続されている。なお、アナログノードANは、モニターのためにデータ線上に配設されたノードである。アナログノードANと接続されたメモリセルの状態を示すモニター信号がモニター端子15を介して外部装置200に出力されることによって、メモリセル内部状態がモニターされる。また、選択トランジスタ41bのゲート電極には、書き込み動作や読み出し動作の対象として、当該選択トランジスタ41bに接続されたメモリセル41aを選択するための信号線が接続されている。
以上のメモリセルアレイ40の構成によって、フラッシュマイコン100は、当該メモリセル41aのゲート電極に接続されたワード線をアサートするとともに、当該メモリセル41aに接続された選択トランジスタ41bのゲート電極に接続された信号線をアサートすることで、書き込み動作や読み出し動作などの対象となるメモリセル41aを選択する。ここで、“テストモード”となった場合、前述のようにして選択されたメモリセルの状態を示すモニター信号が、データ線を介してアナログノードANに出力されることになる。なお、このモニター信号としては、例えば、メモリセル41aにおけるドレイン−ソース間電流Idsを出力することが出来る。
また、メモリセルアレイ40では、“テストモード”時、フラッシュマイコン100内部にて生成される書き込み禁止信号に基づいて、各メモリセルへのデータの書き込みを禁止するように構成されている。なお、この書き込み禁止信号は、TST端子14を介して入力されたテスト信号に基づいて生成してもよいし、外部装置200より供給してもよい。
ビットセレクタ部50は、TST端子14を介して入力されたテスト信号と、データラッチ部30より入力されたラッチデータTDに基づいて、アナログノードAN(1〜n)のいずれかを選択し、さらにその選択したアナログノードANにおいて流れる電流Idsを合成しモニター信号として出力する。ここで、各アナログノードANの状態を、アナログノードANに流れる電流であるIdsを用いて表すことにする
なお、図3には、ビットセレクタ部50の回路構成例を示している。
ビットセレクタ部50は、外部装置200でモニターすべきアナログノードAN(1〜n)の数分、AND素子(『制御回路』)51及びスイッチング素子(請求項4に記載の『選択回路』)52を有している。
スイッチング素子52は、例えばNチャンネル型MOSトランジスタによって形成されている。なお、スイッチング素子52は、Pチャンネル型MOSトランジスタでもよい。このスイッチング素子52では、ドレイン−ソース路の一端には対応するアナログノードANが接続されており、当該アナログノードANのIdsが入力される。また、ドレイン−ソース路の他端には、各スイッチング素子52のドレイン−ソース路の他端が共通して接続されるとともに、第スイッチング素子61のドレイン−ソース路の一端が接続されている。
AND素子51は、スイッチング素子52の導通状態を制御するための制御手段である。AND素子51の一方の入力端子には、当該AND素子51の制御対象となるスイッチング素子52に対応づけられたアナログノードANを選択すべく、当該アナログノードANに対応するラッチデータTDが入力される。また、各AND素子51の他方の入力端子には、TST端子14を介して入力されたテスト信号が共通して入力される。そして、AND素子51の出力が、スイッチング素子52のゲート電極に入力されるように配線される。
以上のビットセレクタ部50の構成により、フラッシュマイコン100は、AND素子51の出力に基づいてスイッチング素子52の導通状態を制御することができ、導通したスイッチング素子52に接続されたいずれかのアナログノードANが選択される。選択されたアナログノードANのIdsは合成されてモニター信号として、スイッチング素子61へ入力されることになる。
ラッチデータTDをアナログノードANの選択に用いることにより、メモリセル41aの書き込み状態にかかわらず、アナログノードANのIdsをモニターすることが可能である。
例えば、メモリセルアレイ40に書き込みを行い、その際保持されたラッチデータTDを用いてアナログノードANのIdsをモニターを行う場合には、まず、当該一のアナログノードANに対応するメモリセル41aに対して書き込みを行うことで、データラッチ部30に当該一のアナログノードANに対応するメモリセル41aを指定するラッチデータTDを保持させておく。そして、この保持させておいたラッチデータTDとテスト信号に基づいて、ビットセレクタ部50は、モニターすべきアナログノードANを効率良く選択することが可能となる。
一方、すでに書き込み済みのメモリセルアレイ40について、任意のアナログノードANについてモニターを行う場合には、まずデータラッチ部30に、モニターを行いたいメモリセル41aに対して“HIGH”とした新たなラッチデータTDを入力する。テスト信号がTST端子14に入力され“テストモード”になるとデータラッチ部30はメモリセルアレイ40には書き込みを行わず、ビットセレクタ部50のみにラッチデータTDを出力する。ビットセレクタ部50は、入力されたラッチデータTDとテスト信号に基づいてアナログノードANの選択を行い、後述するようにラッチデータTDが“HIGH”のアナログノードANの値を選択する。選択されたアナログノードANのIdsはモニター信号となり、スイッチング素子61に出力される。このように、“HIGH”または“LOW”がすでに書き込まれているメモリセルアレイ40においても、新たなラッチデータTDを適用することにより任意のアナログノードANのIdsをモニターすることができる。
このようにラッチデータTDとテスト信号に基づいてアナログノードANを選択することによって、モニターを行いたい任意のアナログノードANのIdsを、メモリセルの書き込み状態にかかわらず容易にモニターすることができる。さらにデータラッチ部をアナログノードAN選択に流用できるため、回路の追加を最小限にできる。
スイッチング素子61は、例えばNチャンネル型MOSトランジスタによって形成される。なお、スイッチング素子61は、Pチャンネル型MOSトランジスタでももよい。
スイッチング素子61は、”テストモード”時以外(通常モード)では、モニター端子15を介して外部装置200にモニター信号を出力させないために設けたものである。
具体的には、スイッチング素子61のドレイン−ソース路の一端には、前述したように、ビットセレクタ部50の各スイッチング素子52のドレイン−ソース路の他端が接続されており、ドレイン−ソース路の他端にはモニター端子15が接続されている。また、スイッチング素子61のゲート電極には、TST端子14を介して入力されたテスト信号が入力される。
以上の構成により、例えば外部装置200よりTST端子14を介して“HIGH”レベルのテスト信号が入力され“テストモード”となった場合、スイッチング素子61は導通となる。この結果、ビットセレクタ部50において選択されたモニター信号が、スイッチング素子61及びモニター端子15を介して外部装置200に出力される。一方、“LOW”レベルのテスト信号の場合、フラッシュマイコン100は“通常モード”となり、スイッチング素子61は非導通となる。この結果モニター信号は、外部装置200に出力されない。
なお以上の実施の形態においてはメモリセル41aのドレイン−ソース間電流Idsをモニターする場合を説明したが、電圧をモニターするようにしてもよい。またテスト信号がHIGH”レベルで“テストモード”となるようにしたが、“LOW”レベルで“テストモード”となるようにしてもよい。
<フラッシュマイコンの動作>
本発明に係るフラッシュマイコン100の動作について、図1及び図3を用いて説明する。なお、以下の説明では、特に断らない限り、フラッシュマイコン100が動作の主体とする。また、メモリセルアレイ40に書き込みを行い、その際保持されたラッチデータTDを用いてアナログノードANのモニターを行う場合について説明する。
まず、フラッシュマイコン100は、メモリセルアレイ40において外部装置200より指定(選択)されたメモリセル41aへのデータの書き込みを行う。データラッチ部30には、前述の指定されたメモリセル41aへの書き込みデータがラッチデータTDとして保持されている。
この場合に、外部装置200において、メモリセルアレイ40の各メモリセルの状態をアナログノードANを介してモニターすべく、フラッシュマイコン100のTST端子14にテスト信号が入力される。この結果として、スイッチング素子61のゲート電極が“HIGH”レベルとなって導通するとともに、ビットセレクタ部50内の各AND素子51の一方の入力端子が“HIGH”レベルとなる。また、前述のテスト信号に基づいて書き込み禁止信号が生成されて、メモリセルアレイ40の各メモリセルへの書き込みが禁止された状態となる。
この状態で、データラッチ部30に保持されているラッチデータTDが、当該ラッチデータTDに対応する各AND素子51の他方の入力端子に入力される。ここで、前述したとおり、各AND素子51の一方の入力端子では“HIGH”レベルの状態にあるので、ラッチデータTDで“HIGH”が入力されたAND素子51、すなわち、データの書き込みが行われたメモリセルのアナログノードAN(以下、選択アナログノードANと称する。)に対応するAND素子51は、“HIGH”レベルを示す信号を当該選択アナログノードANに対応するスイッチング素子52のゲート電極に出力する。この結果、当該スイッチング素子52が導通する。そして、当該スイッチング素子52のドレイン−ソース路の一端に入力された選択アナログノードANのIdsが合成されたモニター信号が、スイッチング素子61の一ドレイン−ソース路の一端に入力される。
一方、ラッチデータTDで“LOW”が入力されたAND素子51、すなわち、データの書き込みが行われていないメモリセルのアナログノードAN(以下、非選択アナログノードANと称する。)に対応するAND素子51は、“LOW”レベルを示す信号を当該非選択アナログノードANに対応づけられたスイッチング素子52のゲート電極に出力する。この結果、当該スイッチング素子52が非導通となる。
つぎに、スイッチング素子61のドレイン−ソース路の一端には、前述したように、選択アナログノードANのIdsを示すモニター信号が入力されることになる。ここで、スイッチング素子61は導通した状態にあるので、入力されたモニター信号がモニター端子15を介して外部装置200に出力されることになる。
以上、メモリセルアレイ40に書き込みを行い、そのラッチデータを用いてアナログノードANのIdsのモニターを行う場合について説明したが、前述したようにすでに書き込み済みのメモリセルアレイ40においても、新たなラッチデータTDを適用することにより任意のアナログノードANのIdsのモニターを行うことが可能である。
このように、本発明によれば、モニター信号をスイッチング素子60を介して外部に出力するモニター端子15の数を減らすことができる。また、当該モニター端子15と併せて当該スイッチング素子60の数も減らすことができる。この結果として、外部からモニター端子を介したスパイク状のノイズが混入して、回路素子を誤動作や故障とする機会が減少することになる。よって、外部よりモニター端子を介したノイズの影響を受けにくいフラッシュマイコンおよびそのモニター信号についての信号出力方法を提供することができる。
また、データ保持回路としてメモリセルを適用することにより、メモリセルのデータビットのモニターができ、データ量の多いアナログノードの評価を効果的に行う事ができる。
さらに書き込みおよび読み出し可能な不揮発性メモリについて経年劣化や製造バラツキにおける特性評価(メモリセルの電流値や電圧値、フローティングゲートの蓄積電荷等)を行うことができる。
以上、本発明の実施の形態について、その実施の形態に基づき具体的に説明したが、これに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
例えば、本発明は、フラッシュマイコンに限定されるものでなく、外部にてモニターすべき内部ノードの状態を示すモニター信号を出力するための出力端子を備えた、様々な用途の半導体集積回路において採用することが可能である。
また、前述したアナログノードANのモニターにおいて、データ保持回路にフラッシュメモリを使用した形態を例示しているが、これに限定されるものではない。例えば、SRAMやDRAMなどの揮発性メモリをデータ保持回路としたメモリセルの内部状態を外部でモニターすべく、当該メモリセルが接続されたデータ線上に配設したノードとしてもよい。また、不揮発性メモリや揮発性メモリ以外にも、外部において特性評価や論理の整合性評価などを外部にてモニターする必要のある様々な回路素子について、本発明に係るノードを配設することができる。
本発明に係るフラッシュマイコンを含めたシステム構成図である。 本発明に係るメモリセルアレイの内部構造を説明する図である。 本発明に係るビットセレクタ部の構成を説明する図である。 従来のフラッシュマイコンのブロック図である。
符号の説明
10 シリアルパラレル変換部
11 データ端子
12 クロック端子
13 モニター端子
14 TST端子
15 モニター端子
20 アドレスラッチ部
30 データラッチ部
40 メモリセルアレイ
41a メモリセル
41b 選択トランジスタ
50 ビットセレクタ部
51 AND素子
52、60、61 スイッチング素子
70 センスアンプ
80 アドレスデコーダ部
100 フラッシュマイコン
200 外部装置

Claims (6)

  1. 複数ビット単位のデータを保持するとともに前記複数ビット単位のデータを出力するための複数のノードを有するデータ保持回路を備え、前記複数のノードの状態をモニターすることが可能な半導体集積回路において、
    前記複数のノードの状態をモニターするためのテスト信号が入力されるテスト端子と、
    前記テスト信号に基づいて、前記複数のノードのうちの少なくとも1つのノードを選択するとともに、前記少なくとも1つのノードの状態を合成してモニター信号として出力するノード選択回路と、
    前記テスト信号に基づいて、前記モニター信号を出力するスイッチ回路と、
    前記スイッチ回路から出力される前記モニター信号を外部に出力するモニター端子と、
    を、備えたことを特徴とする半導体集積回路。
  2. 前記データ保持回路が保持すべきデータをラッチするとともに前記ノード選択回路に出力するデータラッチ回路を備え、
    前記ノード選択回路は、
    前記データラッチ回路から出力されたデータと前記テスト信号とに基づいて前記データ保持回路における前記ノードを選択することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。
  3. 前記データ保持回路は、
    前記複数ビット単位のデータが書き込まれるとともに前記複数のノードを介して読み出されるメモリセルアレイであることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体集積回路。
  4. 前記ノード選択回路は、
    前記複数のノードに各々対応し、導通状態の場合にのみ対応する前記ノードの状態を前記スイッチ回路に出力する複数の選択回路と、
    前記複数の選択回路に各々対応し、前記書き込みデータと前記テスト信号に基づいて対応する前記選択回路の導通状態を制御する複数の制御回路と、
    を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体集積回路。
  5. 前記メモリセルアレイは、書き込み及び読み出し可能な不揮発性メモリであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の半導体集積回路。
  6. 前記半導体集積回路は、前記メモリセルアレイを搭載したマイクロコンピュータであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の半導体集積回路。
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