JP2005143343A - 細胞培養装置および細胞培養方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 表面に溝15などの所定の孔が形成された基板11の表面に、細胞を保持する膜体12を接合し、溝15と膜体12とから形成された空隙内の気体をシリンジなどの排気手段で排気して溝15の位置における膜体12を歪ませ、これにより膜体12上に保持された細胞に歪勾配が与えられた条件下で培養を行う。
【選択図】 図1
Description
factor)等を主要な構成要素として組織再生を行うことを基礎としている。
細胞を移植して組織を再生する方法がある。この生体内での再生方法では、患者の組織欠損部分に、移植細胞と、移植細胞を担持する担体と、成長因子とを与えることにより欠損した組織を再生する。
として異なる分化が促進されて組織が形成されることが知られている。しかし現状の細胞培養装置では、細胞を培養する際に、個々の細胞へ細胞レベルで勾配を有する培養条件が与えられた条件下ではなく、個々の細胞に対する環境が均一である条件下で培養を行うのが一般的である。
前記基板の表面に接合された、細胞を保持する膜体と、
前記孔と膜体とから形成された空隙内の気体を排気して前記孔の位置における膜体を歪ませ、これにより膜体上に保持された細胞に歪勾配を与える排気手段とを備えることを特徴とする。
それぞれ組成が異なる培地が送液される複数の流路と、
前記複数の流路と一方の端部で連通し、該端部から前記各培地を送液することにより幅方向に組成勾配を有する培地の流れを生成する単一流路とが設けられ、
前記単一流路が、前記基板の表面に形成された孔と、前記膜体を介して重なるように配置されていることを特徴とする。
前記複数の流路から、それぞれ組成が異なる培地を前記単一流路へ送液して、前記単一流路に、幅方向に組成勾配を有する培地の流れを生成し、これにより前記膜体上に保持さ
れた細胞に培地の組成勾配が与えられた条件下で培養を行うことを特徴とする。
子を説明する図であり、基板11に並列に形成された溝15の長尺方向に対する垂直断面の概略を示している。シリンジ13により排気が行われる前では、図3(a)に示したように、細胞20が保持された膜体12は平坦な状態であるが、シリンジ13により溝15と膜体12とから形成された空隙内の空気を排気すると、図3(b)に示したように、膜体12は溝15の位置において凹状に歪む。これによって、溝15の位置においてこの凹状に歪んだ膜体12上に保持された細胞20には力学的な歪が与えられる。
(1)単一の孔上における膜体の歪みに沿って、各細胞ごとに異なる歪みが与えられることによる歪勾配
(2)基板表面に形状がそれぞれ異なる複数の孔(本実施形態では溝15の幅)を形成し、この孔を単位として、各孔ごとに細胞に対して異なる歪みが与えられることによる歪勾配
の2通りがある。例えば、図3(b)では、一つの溝15の溝幅に沿って並んだ各細胞への歪が勾配を有するとともに、一つの溝15を単位として、その幅がそれぞれ異なる複数の溝15、15…によって溝15ごとに細胞に与えられる歪が勾配を有している。
のような適切な担体21を被覆して、担体上に細胞を接着するようにしてもよい。例えば、骨芽細胞の場合では、そのサイズが約10μm程度であり、一例として、溝15の幅を100μmとして幅方向へ10個の細胞が並ぶようにする。
培養を行う。
。前述した実施形態では、溝が形成された基板表面を底壁とした容器を形成するように側壁が設けられ、この容器内に培地を収容するようにしたが、本実施形態では、基板11上に組成勾配を有する培地の流れを生成する流路が設けられ、細胞に対して歪勾配とともに必要に応じて培地組成の勾配が与えられた条件下で培養するようにしている。
11…基板
12…膜体
13…シリンジ
14…培養容器
15…溝
16…側壁
17…培地
18…ジョイント
19…シリコンチューブ
20…細胞
21…担体
31…圧力センサ
32…増幅器
33…モータ/駆動回路
34…PIC
35…スイッチングレギュレータ
41a,41b,41c…流入路
42…単一流路
43a,43b,43c…流出路
44…流路形成板
51…シリコン鋳型
52…容器
53…溝
54…PDMS
55…型
56…凸部
57…貫通孔
58…ハンダ
59a…紙製容器側部
59b…紙製容器底部
61…PDMS
Claims (11)
- 表面に孔が形成された基板と、
前記基板の表面に接合された、細胞を保持する膜体と、
前記孔と膜体とから形成された空隙内の気体を排気して前記孔の位置における膜体を歪ませ、これにより膜体上に保持された細胞に歪勾配を与える排気手段とを備えることを特徴とする細胞培養装置。 - 前記孔が複数形成されていることを特徴とする請求項1に記載の細胞培養装置。
- 前記複数の孔の形状がそれぞれ異なることを特徴とする請求項2に記載の細胞培養装置。
- 前記複数の孔が溝状であり、これらの溝の短手方向の幅がそれぞれ異なるように形成されていることを特徴とする請求項3に記載の細胞培養装置。
- 前記基板の表面を底壁とした容器を形成するように側壁が設けられ、前記容器内に培地を収容するようにしたことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の細胞培養装置。
- 前記基板上に、
それぞれ組成が異なる培地が送液される複数の流路と、
前記複数の流路と一方の端部で連通し、該端部から前記各培地を送液することにより幅方向に組成勾配を有する培地の流れを生成する単一流路とが設けられ、
前記単一流路が、前記基板の表面に形成された孔と、前記膜体を介して重なるように配置されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の細胞培養装置。 - 前記基板の表面に形成された孔が溝状であり、短手方向の幅がそれぞれ異なるように形成された複数の溝が略並列に配置されるとともに、
前記単一流路が、その流れ方向が前記各溝の長手方向と略直交方向となるように配置されていることを特徴とする請求項5に記載の細胞培養装置。 - 前記単一流路を形成する溝が表面に設けられた流路形成板が、この溝と、前記基板の表面に形成された孔とが前記膜体を介して重なるように前記基板上に接合されていることを特徴とする請求項5に記載の細胞培養装置。
- 前記膜体の表面に、前記細胞を保持する担体が被覆されていることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の細胞培養装置。
- 前記膜体上に細胞を保持し、前記孔と膜体とから形成された空隙内の気体を前記排気手段により排気して前記孔の位置における膜体を歪ませ、これにより前記膜体上に保持された細胞に歪勾配が与えられた条件下で培養を行うことを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の装置を用いた細胞培養方法。
- 前記膜体上に細胞を保持し、前記孔と膜体とから形成された空隙内の気体を前記排気手段により排気して前記孔の位置における膜体を歪ませ、これにより前記膜体上に保持された細胞に歪勾配を与えるとともに、
前記複数の流路から、それぞれ組成が異なる培地を前記単一流路へ送液して、前記単一流路に、幅方向に組成勾配を有する培地の流れを生成し、これにより前記膜体上に保持された細胞に培地の組成勾配が与えられた条件下で培養を行うことを特徴とする請求項6〜8のいずれかに記載の装置を用いた細胞培養方法。
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JP2003382974A JP2005143343A (ja) | 2003-11-12 | 2003-11-12 | 細胞培養装置および細胞培養方法 |
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