JP2005140967A - 光拡散板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】スペックルパターンに変調されたコヒーレント光を用いて、基板上に形成された感光性媒体を露光、現像および固定化することにより、その表面に微細かつランダムな凹凸形状を有する微細彫刻面を形成し、該微細彫刻面を利用して光拡散板を製造することよりなる光拡散板の製造方法において、前記コヒーレント光の光源が可視光領域のレーザ1であり、かつ前記感光性媒体が可視光に高い感度を有するネガ型フォトレジストであることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
(s91)基材上に感光性媒体として、例えば重クロム酸化ゼラチン(DCG)などの感光性媒体を設けた感光基板を用意し、その感光性媒体にスペックルパターンに変調されたレーザ光を露光した後に現像・固定化する。なお、1回の露光エリアの面積は1〜数10cm2であることから、露光工程では感光性媒体の露光対象部分をずらしながら繰り返して感光性媒体全面の露光を行う。また、ポジ型フォトレジストを用いた場合には、現像したとき露光エリアは除去され、非露光エリアはそのまま残るようになる。これにより、前記スペックルパターンに対応する凹凸形状の微細彫刻面が表面に形成された感光基板となる。
(s92)ステップs91で作製された感光基板の表面に、例えば紫外線硬化型のエポキシ樹脂を塗布し、硬化させて感光基板表面の凹凸を転写させた樹脂製の型を作製する。
(s93)ついで、その樹脂製型の表面に導電化処理を施して導電層を形成し、その導電層を陰極として電鋳加工を行い、メタルマスターを作製する。このとき、導電化処理として銀鏡処理、無電解メッキ処理、真空蒸着処理、スパッタリング処理などにより金属等の導電層を形成する。また、電鋳加工として、例えばニッケルを所定厚みに電着させ、その電着ニッケル層から樹脂製型を脱型して金属電鋳のメタルマスターを得る。
あるいは、ステップs92の工程を省略し、ステップs91で作製された感光基板にステップs93の処理を施してメタルマスターを直接形成してもよい。
(s94)ステップs93で作製されたメタルマスターに基づいて、例えば熱成形のプラスチックフィルムに型押しするなどして光拡散板を製造する。
また、前記レーザがアルゴンイオンレーザであることが好ましい。
図1は、光拡散板の製造工程のうち、露光工程における露光状態の構成図である。
露光工程において、スペックルパターンに変調されたコヒーレント光を用いて、基板上に形成された感光性媒体が露光される。すなわち、レーザ1から出射されたレーザ光は対物レンズ2を経た後、マスター拡散体3を通過することにより、スペックルパターンに変調されたコヒーレント光となり、感光基板4に露光される。
また、対物レンズ2は、従来公知のものでよい。
本発明で使用される感光性媒体は、可視光に高い感度を有するネガ型フォトレジスト層である。ネガ型フォトレジスト層には、例えば、光重合性材料が好ましく、とくにアクリルモノマーあるいはメタクリルモノマーをベースにした光ラジカル重合性材料が高感度となるため好ましい。本発明において、レーザ1から出射されるレーザ光の波長領域で高い感度を有することが好ましく、例えば、アルゴンイオンレーザの波長488nmのレーザ光に対して、10mJ/cm2以下がよい。
上記に示した本発明は、感光基板上の感光性媒体に露光する工程に特徴を有するものであるため、それ以降の工程については、上記微細彫刻面から光拡散板を製造する方法であれば、どのような製造方法にも本発明の適用が可能である。例えば、微細彫刻面が形成された基板を用いて該微細彫刻面が転写された電鋳金型を製造し、次いで該電鋳金型を用いて直接または間接に光拡散板を製造する方法でよい。
(実施例1)
図1において、拡散異方性を付与するためのアパチャーを追加した構成で露光処理を行った。その露光条件を以下に示す。
(1)光源:アルゴンイオンレーザ(スペクトラフィジックス社製STABILITE2017、波長488nm、出力1W)
(2)マスター拡散体(スペックル変調用拡散板):すりガラス(透過光強度の半値幅20°)
(3)アパチャー:30mm×10mm
(4)感光基板:
i)基板:PETフィルム(厚み125μm)サイズ 対角線の長さ80インチ
ii)感光性媒体(フォトレジスト):可視光対応ネガ型ドライフィルム(デュポンMRCドライフィルム社製FMA107、厚さ25ミクロン)
(5)露光有効エリア:50×50mm
(6)露光時間:10秒
以下の条件で光拡散板を作製した。
(1)感光基板:
i)基板:PETフィルム(厚み125μm)サイズ 対角線の長さ80インチ
ii)剥離層:アクリル系樹脂(塗布厚1〜2μm)
iii)感光性媒体:ネガ型ドライフィルム(デュポンMRCドライフィルム社製FMA107、厚さ25μm)
また、その際に図3に示すように感光基板10の感光性媒体12面をマスター拡散体17側に撓ませて露光を行った。すなわち、基板1を撓ませることにより感光性媒体2をマスター拡散体7の中心に対して略円弧状に設置し、マスター拡散体7からの距離zを可能な限り感光性媒体2の平面内で一定とした。
露光条件を以下に示す。
i)光源:アルゴンイオンレーザ(スペクトラフィジックス社製STABILITE2017、波長488nm、出力1W)
ii)マスター拡散板:すりガラス(透過光強度の半値幅20°)
iii)マスター拡散体と感光基板との距離:600mm
iv)マスター拡散体上の投影形状(マスクにて調整):横×縦=60mm×10mmの長円
v)感光基板曲げ形状:横方向マスター拡散体中心に対してR600mmに湾曲
vi)露光時間:10秒
ついで、この感光基板は厚み0.160mm前後であり剛性に欠けるため、紫外線硬化性接着剤を用いてその裏面に厚み2mmのアクリル基板を接着して剛性を増し、その後の処理の利便性を図った。
電鋳工程ではスルファミン酸ニッケル水溶液浴中にて、上記導電層を陰極としてニッケル電極との間に直流電流を通電して電着層としてNi層を厚さ5mm電着した。
ついで、導電層を層間剥離させることにより、第2電鋳層を第1電鋳層から分離し、さらに第2電鋳層に付着している導電層の残存物を除去した。
Claims (4)
- スペックルパターンに変調されたコヒーレント光を用いて、基板上に形成された感光性媒体を露光、現像および固定化することにより、その表面に微細かつランダムな凹凸形状を有する微細彫刻面を形成し、該微細彫刻面を利用して光拡散板を製造することよりなる光拡散板の製造方法において、
前記コヒーレント光の光源が可視光領域のレーザであり、かつ前記感光性媒体が可視光に高い感度を有するネガ型フォトレジストであることを特徴とする光拡散板の製造方法。 - 前記微細彫刻面が形成された基板を用いて該微細彫刻面が転写された電鋳金型を製造し、次いで該電鋳金型を用いて直接または間接に光拡散板を製造することを特徴とする請求項1に記載の光拡散板の製造方法
- 対角線の長さが80インチ以上の光拡散板を製造することを特徴とする請求項1に記載の光拡散板の製造方法。
- 前記レーザがアルゴンイオンレーザであることを特徴とする請求項1に記載の光拡散板の製造方法。
Priority Applications (1)
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JP2003376838A JP2005140967A (ja) | 2003-11-06 | 2003-11-06 | 光拡散板の製造方法 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009237418A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Nitto Denko Corp | 指向性拡散フィルム、偏光板、液晶表示装置および指向性拡散フィルムの製造方法 |
JP2010135146A (ja) * | 2008-12-03 | 2010-06-17 | Asahi Kasei Corp | 照明器具 |
JP2011098378A (ja) * | 2009-11-06 | 2011-05-19 | Pulstec Industrial Co Ltd | レーザ加工装置 |
JP2015182284A (ja) * | 2014-03-24 | 2015-10-22 | ブランソン・ウルトラソニックス・コーポレーション | レーザー溶着装置 |
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2003
- 2003-11-06 JP JP2003376838A patent/JP2005140967A/ja active Pending
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