JP2005125445A - キャリア - Google Patents

キャリア Download PDF

Info

Publication number
JP2005125445A
JP2005125445A JP2003362917A JP2003362917A JP2005125445A JP 2005125445 A JP2005125445 A JP 2005125445A JP 2003362917 A JP2003362917 A JP 2003362917A JP 2003362917 A JP2003362917 A JP 2003362917A JP 2005125445 A JP2005125445 A JP 2005125445A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
work
carrier
workpiece
hole
abrasive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003362917A
Other languages
English (en)
Inventor
Masamitsu Tanaka
昌光 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daishinku Corp
Original Assignee
Daishinku Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daishinku Corp filed Critical Daishinku Corp
Priority to JP2003362917A priority Critical patent/JP2005125445A/ja
Publication of JP2005125445A publication Critical patent/JP2005125445A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

【課題】 ワークの損傷を抑制するとともに、研磨効率を高め、平坦度、平行度、厚みのばらつき等の悪影響が生じにくいキャリアを提供する。
【解決手段】 所定の間隔を介して形成された複数のワーク収納孔32にワークWを保持するとともに、上定盤と下定盤の間で研磨材とともに回転させて前記ワークを研磨してなるキャリアにおいて、前記ワーク収納孔は、ワークの形状とはめ合うワーク収納領域321と、当該ワーク収納領域から漸次幅が狭まる空隙領域322を形成した。
【選択図】 図1

Description

本発明は水晶板、圧電セラミック板等のワークの主面を研磨する場合に、ワークを保持するキャリアの構造に関するものである。
水晶板、圧電セラミック板等の圧電振動板は通信機器等の周波数制御、あるいはコンピュータ等のクロック源として幅広く用いられている。これらの圧電振動板(以下、ワークと称す)は、例えば、丸孔や方形の孔が形成されたキャリアにワークを収納し、遊星運動させて研磨するプラネタリ型研磨装置を用いて主面研磨される。特許文献1では、プラネタリ研磨装置として、上板と下板の間に、複数のワークを収容する八角形の孔が形成されたキャリアが開示されている。そして、当該キャリアにワークを装着し、前記上下板と前記ワークを当接させた状態で、研磨材を介在させ、当該キャリアを自転・公転させることにより研磨を行っている。なお、キャリアの材質として、一般的にSK材(ブルースチール)などの金属平板が用いられている。
特開平6−278015号
近年、水晶振動子において、基本波での高周波化が要求されるようになり、薄型化のされたワークの研磨対応の必要性が求められている。しかしながら、従来のキャリアでは、キャリアの孔形状に対してワークの形状が対応しておらず、キャリアの孔内部でワークが遊動するので、これら薄型化されたワークでは、ワークの損傷等が発生しやすいと言った問題点があった。また、キャリアの孔形状に対してワークの形状が小さいと、キャリアの孔内部でワークが自転するので、ワークの中央部に対して周辺部の研磨が促進され、ワークの研磨ばらつきが発生しやすいと言った問題点もあった。さらに、キャリアが自転するとキャリアの中心側に対して外周側では、上下板と接触し移動する量が多くなるので、ワークのキャリア中心側とキャリア外周側とで研磨のばらつき(キャリア外周側がより研磨される)が発生しやすいと言った問題点もあった。このように、従来のキャリアでは、研磨加工後のワークの平坦度、平行度、厚みのばらつき等の悪影響が生じやすいものであった。
本発明は上記問題点を解決するためになされたもので、ワークの損傷を抑制するとともに、研磨効率を高め、平坦度、平行度、厚みのばらつき等の悪影響が生じにくいキャリアを提供することを目的とするものである。
本発明の請求項1によるキャリアは、所定の間隔を介して形成された複数のワーク収納孔にワークを保持するとともに、上定盤と下定盤の間で研磨材とともに回転させて前記ワークを研磨してなるキャリアにおいて、前記ワーク収納孔は、ワークの形状とはめ合うワーク収納領域と、当該ワーク収納領域から漸次幅が狭まる空隙領域を形成した事を特徴とする。
また、本発明の請求項2によるキャリアは、同一円周方向に所定の間隔を介して形成された複数のワーク収納孔にワークを保持するとともに、上定盤と下定盤の間で研磨材とともに回転させて前記ワークを研磨してなるキャリアにおいて、前記ワーク収納孔は、ワークの形状とはめ合うワーク収納領域と、当該ワーク収納領域からキャリアの中心方向に向かって、漸次幅が狭まる空隙領域を形成した事を特徴とする。
また、本発明の請求項3によるキャリアは、上記構成において、同一円周方向に隣接する前記ワーク収納孔の間には、前記ワーク収納孔より小さな空隙孔を形成した事を特徴とする。
本発明によれば、前記キャリアのワーク収納孔は、ワークの形状とはめ合うワーク収納領域が形成されているので、前記ワーク収納孔のワーク収納領域でワークを遊動させずに保持することができ、ワークの損傷を抑制できる。また、前記ワーク収納孔の空隙領域は、ワーク収納領域から漸次幅が狭まるように形成されているので、当該空隙領域へワークがずれ込むこともなくなり、ワークの損傷を抑制している。さらに、前記ワーク収納孔は、ワーク収納領域から漸次幅が狭まる空隙領域を具備しているので、キャリアが回転してワークを研磨する際、前記空隙領域では、研磨材を溜めながら、幅広のワーク収納領域へと向かって効率的に研磨材を送り込み、前記ワーク収納領域へ研磨材を供給していく事ができる。このため、研磨材がワークの周りに集まり、効率的な研磨が行える。
請求項2によれば、上述の作用効果に加え、前記ワーク収納孔の空隙領域は、ワーク収納領域からキャリアの中心方向に向かって、漸次幅が狭まるように形成されているので、キャリアが自転するときに、ワーク収納領域より中心側に位置する空隙領域へワークがずれ込みにくく、より一層ワークの損傷を抑制できる構成となる。また、前記ワーク収納孔は、ワーク収納領域からキャリアの中心方向に向かって、漸次幅が狭まる空隙領域を具備しているので、キャリアが自転してワークを研磨する際、前記空隙領域では、研磨材を溜めながら、中心側からより外周側に位置しかつ幅広のワーク収納領域へと向かってより一層効率的に研磨材を送り込み、前記ワーク収納領域へ研磨材を供給していく事ができる。このため、研磨材がワークの周りに均一に集まり、さらなる効率的かつ均一な研磨が行える。さらに、研磨材を供給する空隙領域をワーク収納領域よりキャリアの中心側に形成することで、キャリアの中心側の研磨材の量を増大させて、キャリア中心側の研磨効率を高めており、キャリアが自転に伴うワークのキャリア中心側とキャリア外周側とで研磨のばらつきを改善することができる。
請求項3によれば、上述の作用効果に加え、前記ワーク収納孔より小さな空隙孔が形成されているので、この孔でキャリアの熱歪みを逃がしたり、キャリアの平行度、平坦度が低下することなく、ばらつきの小さいより精度の高い研磨が行える。また、ワーク収納孔と同一円周方向に隣接して空隙孔を形成しているので、研磨材がキャリアの上下面に対してお互い回り込みが促進され、ワーク周囲で研磨材が均一化するため、さらなる効率的かつ均一な研磨が行える。さらに、ワークの研磨カスを溜めて、研磨ばらつきをなくすことができる。
以上のように、本発明では、ワークの損傷を抑制するとともに、研磨効率を高め、平坦度、平行度、厚みのばらつき等が生じにくいキャリアを提供することができる。
本発明による第1の実施例を、プラネタリ研磨装置を例にとり、図面とともに説明する。図1は本発明の第1の実施形態によるキャリアの平面図であり、図2は本発明の研磨機の一部を示す模式的断面図であり、図3は本発明の研磨機の上定盤を取り外した状態の平面図である。
研磨機は、上定盤1と下定盤2、キャリア3、外周部分のインターナルギアG1と中央の太陽ギアG2、主軸Sとからなる。また、ワークWは、例えば矩形板状の水晶ウェハWを用いている。前記キャリア3は、円盤形状で、外周部分に歯車31とキャリア内部の円周方向に所定の間隔を介して形成されたワーク収納孔32が形成されている。
前記研磨機の上下板1,2の間には、前記ワーク収納孔32にワークWが収納されたキャリア3と研磨材水溶液(研磨材)4とが介在し、当該キャリアの外周部分の歯車31を前記インターナルギアG1と太陽ギアG2に歯合させて、前記組立キャリア体3を自転かつ公転させることにより、前記ワークWの上下面を研磨している。
本発明では、前記ワーク収納孔の形状に特徴があるので、以下詳細を説明する。
前記ワーク収納孔32には、ワークWの形状とはめ合う矩形状のワーク収納領域321と、当該ワーク収納領域からキャリアの中心方向に向かって、漸次幅が狭まる台形状の空隙領域322を形成している。前記空隙領域322は、ワーク収納領域321と接する外方端部でワークWの幅と同じであるが、ワーク収納領域321からキャリアの中心方向に向かって、漸次幅が狭まるように形成されているので、当該空隙領域322へワークWがずれ込むこともなくなり、ワークの損傷を抑制している。また、図示しないが、前記ワーク収納領域321の角部分には、それぞれ面取加工やR面加工が施されているので、ワークの損傷を抑制するのにより好ましい形態となっている。
前記キャリアの同一円周方向に隣接するワーク収納孔32の間には、前記ワーク収納孔32よりの小さな円形の空隙孔33が形成されており、キャリアの中央には中心孔34が形成されている。このようなワーク収納孔が形成されたキャリア3は、SK材(ブルースチール)などをプレス加工、あるいはエッチング加工により構成することができる。
これらの構成により、前記キャリアのワーク収納孔のワーク収納領域321では、ワークWを遊動させずしっかり保持してワークの損傷を抑制するとともに、前記キャリアのワーク収納孔の空隙領域322では、キャリアが回転してワークを研磨する際に、研磨材を溜めながら、前記ワーク収納領域へで研磨材を効率的に供給するので、研磨材がワークの周りに集まり、研磨効率を高めることができる。また、前記空隙孔33では、キャリアの熱歪みを逃がすとともに、研磨材の回り込みを促進し、より精度の高く、効率的かつ均一な研磨が行える。
前記第1の実施形態では、漸次幅が狭まる空隙領域322として、台形状のもの例にしているが、三角形状でもよく、また、図4(第2の実施形態)、図5(第3の実施形態)に示すように曲率形状のものであっても同様の効果を奏することが出来る。図4では、空隙領域の漸次幅が狭まる辺に曲率部を形成しており、図5では、空隙領域を半円形状として形成している。前記図4、図5の実施形態では、キャリア外周方向に向かって大きく形成された複数の空隙孔331,332が形成されているので、キャリアの熱歪みをより逃がすことができるとともに、研磨材の回り込みもより一層促進することができる。
また、前記実施形態では、ワークWとして矩形状として、矩形状のワーク収納領域に対して空隙領域をキャリアの中心方向に向かって形成したものを例にしているが、図6(第4の実施形態)に示すように、円形のワーク収納領域323からキャリアの逆自転方向に向かって、漸次幅が狭まる楕円形状の空隙領域324を形成してもよい。前記図6の実施形態では、研磨材を供給する空隙領域をワーク収納領域より逆自転側に形成することで、キャリアの自転した際に、ワークの研磨開始点(ワーク収納領域323におけるキャリアの自転側A)に対して研磨終了点(ワーク収納領域323におけるキャリアの逆自転側B)の研磨効率高めることで、前記研磨開始点と前記研磨終了点の研磨のばらつきを改善することができる。
なお、前記本発明の実施形態では、前記ワーク収納孔を、キャリアの中心から円周方向に90°ずらした放射形状で4箇所に形成し、かつ各ワーク収納孔の間にも、前記空隙孔を、キャリアの内心から円周方向に90°ずらした放射形状で、同じように4箇所に形成している。しかしながら、前記ワーク収納孔の形成される位置と形成される数、および前記空隙孔の形成される位置と形成される数については、ワークWのサイズ、ワークWの研磨条件等により、公知の技術の範囲で適宜調整することは可能である。また、前記ワーク収納孔におけるワーク収納領域と空隙領域の形状、ワーク収納領域に対する空隙領域の形成される位置(形成される方向)、ワーク収納領域に対する空隙領域の形成される数、および空隙孔の形状等についても、前記実施形態に限るものではなく、ワークWの形状やワークWのサイズ、ワークWの研磨条件等により、公知の技術の範囲で適宜変更することは可能である。
本発明の第1の実施形態によるキャリアの平面図。 本発明の研磨機の一部を示す模式的断面図。 本発明の研磨機の上定盤を取り外した状態の平面図。 本発明の第2の実施形態によるキャリアの平面図。 本発明の第3の実施形態によるキャリアの平面図。 本発明の第4の実施形態によるキャリアの平面図。
符号の説明
1 上板
2 下板
3 キャリア
4 研磨材
W ワーク

Claims (3)

  1. 所定の間隔を介して形成された複数のワーク収納孔にワークを保持するとともに、上定盤と下定盤の間で研磨材とともに回転させて前記ワークを研磨してなるキャリアにおいて、前記ワーク収納孔は、ワークの形状とはめ合うワーク収納領域と、当該ワーク収納領域から漸次幅が狭まる空隙領域を形成した事を特徴とするキャリア。
  2. 同一円周方向に所定の間隔を介して形成された複数のワーク収納孔にワークを保持するとともに、上定盤と下定盤の間で研磨材とともに回転させて前記ワークを研磨してなるキャリアにおいて、前記ワーク収納孔は、ワークの形状とはめ合うワーク収納領域と、当該ワーク収納領域からキャリアの中心方向に向かって、漸次幅が狭まる空隙領域を形成した事を特徴とするキャリア。
  3. 同一円周方向に隣接する前記ワーク収納孔の間には、前記ワーク収納孔より小さな空隙孔を形成した事を特徴とする特許請求項2記載のキャリア。
JP2003362917A 2003-10-23 2003-10-23 キャリア Pending JP2005125445A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003362917A JP2005125445A (ja) 2003-10-23 2003-10-23 キャリア

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003362917A JP2005125445A (ja) 2003-10-23 2003-10-23 キャリア

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005125445A true JP2005125445A (ja) 2005-05-19

Family

ID=34642381

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003362917A Pending JP2005125445A (ja) 2003-10-23 2003-10-23 キャリア

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005125445A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007301650A (ja) * 2006-05-09 2007-11-22 Naoetsu Seimitsu Kako Kk 角型基板用キャリア及び角型基板用両面研磨装置並びに角型基板の研磨方法
JP2014028411A (ja) * 2012-07-31 2014-02-13 Kyocera Crystal Device Corp 研磨用キャリア

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007301650A (ja) * 2006-05-09 2007-11-22 Naoetsu Seimitsu Kako Kk 角型基板用キャリア及び角型基板用両面研磨装置並びに角型基板の研磨方法
JP2014028411A (ja) * 2012-07-31 2014-02-13 Kyocera Crystal Device Corp 研磨用キャリア

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5635957B2 (ja) 被研磨物の研磨方法、及び研磨パッド
JPWO2006001340A1 (ja) 両面研磨用キャリアおよびその製造方法
KR101605384B1 (ko) 양두 연삭 장치 및 웨이퍼의 제조 방법
JP4406878B2 (ja) 単結晶インゴットの当て板
JP2002217149A (ja) ウエーハの研磨装置及び研磨方法
JP2011161611A (ja) キャリア取り付け方法
KR102110919B1 (ko) 양면 연마 장치
JP4103808B2 (ja) ウエーハの研削方法及びウエーハ
KR20080071934A (ko) 슬러리 소비를 감소시키기 위한 홈을 갖는 연마 패드
KR100746373B1 (ko) 양면 연마장치의 캐리어 플레이트 구조
JP2005125445A (ja) キャリア
KR102098260B1 (ko) 워크의 양두연삭방법
JP2019111618A (ja) 単結晶基板の加工方法
KR100886603B1 (ko) 웨이퍼 연마 장치 및 웨이퍼 연마 방법
JP5007527B2 (ja) ウェーハ製造方法
JP2000210863A (ja) キャリア
JP2007130695A (ja) 平面研磨定盤
KR101043487B1 (ko) 웨이퍼 양면연마기의 연마패드 보정장치와 보정방법
JP2005238413A (ja) ラップ盤用回転定盤
JP2010005777A (ja) 研磨装置用リテーナリング、これを用いた研磨方法
JP2006116675A (ja) 研磨クロス及びウェーハ研磨装置
JP5411648B2 (ja) マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランク用基板の製造装置、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法
JPH09193024A (ja) 研削砥石
JP2006043787A (ja) 平面研削用セグメント砥石
JP2011161560A (ja) 円形板材の端面加工方法および端面加工装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050606

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070726

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070730

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20071126