JP2005122154A - 露光方法、レジストパターン形成方法、マスター情報担体の製造方法、磁気記録媒体の製造方法、磁気記録再生装置の製造方法、および磁気記録再生装置 - Google Patents
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Abstract
しかし、更に微細なパターンを目指した場合、従来方法ではレジストから発生する窒素ガスの抜けが不十分で、フォトマスクとレジスト間に隙間が発生し、UV光の回り込みによってレジストパターン形状の不具合やバラツキが生じていた。
【解決手段】レジストパターン形成に必要な露光時間を分割し、露光している時間と非露光時間を複数回繰り返し処理することにより、一回の露光に対して発生する窒素量を少なくし、且つ、抜気用凹部を介した真空引きによって外周部より効率よく排出されるので、隙間の発生を大幅に抑えることができ、良好な形状パターンが安定して得られる。
【選択図】図3
Description
図1は本実施の形態1の露光方法に係り、露光時間および非露光時間と露光によって排出される窒素ガス量の関係を示す図である。
図2(a)〜図2(c)、図3(d)〜図3(h)は本実施の形態2に係るパターン形成方法を示す断面図である。
実施の形態3は実施の形態2に係るレジストパターン形成方法を、マスター情報担体の製造方法に用いた実施の形態である。
実施の形態4は実施の形態3に係るマスター情報担体の製造法を用いた磁気記録媒体の製造方法、磁気記録再生装置の製造方法、および磁気記録再生装置について説明する。
以下、本発明の一実施例について説明する。基体上にレジスト厚約0.7μmのレジスト膜をスピンコート塗布し、90℃のホットプレートで1分間ソフトベークした後、レジスト膜表面の一部分にUV照射パワー10mW/cm2で2秒〜4秒露光し現像することによって段差量が約0.1〜0.5μmのレジストの凹凸を形成した。
11 非磁性基体
13 基体凹所
15 基体外端部
155 非磁性基体外周部
2 レジスト
21 レジスト凹所
211 レジストパターン
25 レジスト表面の凹凸
251 抜気用凹部
252 レジスト膜の凸部
3 抜気用凹部を形成するためのフォトマスク
31 所要の形状パターンを有するフォトマスク
32 フォトマスクの透過部
33 ディジタル信号に対応したパターンを有するフォトマスク
39 マスター情報担体
4 UV光
41 窒素ガス
5 エッチング
6 強磁性薄膜
63 強磁性薄膜パターン
7 真空引き
8 隙間
Claims (13)
- 基体表面に塗布したレジスト膜の表面が、レジスト膜の凸部と抜気用凹部を有し、前記レジスト膜の表面に真空引きによりフォトマスクを密着させた後、所要のパターンを露光する方法において、露光している時間と非露光時間が複数回にわたり繰り返し処理される間欠露光であることを特徴とする露光方法。
- 少なくとも非露光時に、前記抜気用凹部を介して真空引きしていることを特徴とする請求項1に記載の露光方法。
- 常に前記抜気用凹部を介して真空引きを行いながら処理し、前記露光している時間をt1、前記非露光時間をt2とすると、t1≦t2の関係が成り立つことを特徴とする請求項1に記載の露光方法。
- 非露光時に前記抜気用凹部を介して真空引きを行いながら処理し、前記露光している時間をt1、前記非露光時間をt2とすると、2t1≦t2の関係が成り立つことを特徴とする請求項1に記載の露光方法。
- 基体の表面にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜の少なくとも一部を露光・現像することにより前記レジスト膜表面にレジスト膜の凸部と抜気用凹部とを形成する工程と、前記レジスト膜にフォトマスクを重ねた状態で、前記抜気用凹部を介して真空引きすることにより、前記レジスト膜の凸部と前記フォトマスクとを密着させる工程と、前記レジスト膜に対して所要のパターンを露光・現像する工程とを含み、前記所要のパターンを露光する工程において、露光している時間と非露光時間が複数回にわたり繰り返し処理される間欠露光であって、少なくとも非露光時に、前記抜気用凹部を介して真空引きしていることを特徴とするレジストパターン形成方法。
- 非磁性基体の表面にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜の少なくとも一部を露光・現像することにより前記レジスト膜表面にレジスト膜の凸部と抜気用凹部とを形成する工程と、前記レジスト膜にフォトマスクを重ねた状態で、前記抜気用凹部を介して真空引きすることにより、前記レジスト膜の凸部と前記フォトマスクとを密着させる工程と、前記レジスト膜に対して所要のパターンを露光・現像してレジスト凹所を形成し、前記レジスト凹所の底部に前記非磁性基体の表面を露出させる工程と、前記所要のパターンを露光・現像した後の前記レジスト膜表面および前記レジスト凹所を通じて露出させた前記非磁性基体表面に対して強磁性薄膜を堆積する工程と、前記所要のパターンを露光・現像した後の前記レジスト膜を前記所要のパターンを露光・現像した後の前記レジスト膜表面に堆積した前記強磁性薄膜とともに除去して前記非磁性基体表面上に情報信号対応の強磁性薄膜パターンを形成する工程とを含み、前記レジスト凹所を形成する工程における前記所要のパターンの露光方法が、露光している時間と非露光時間が複数回にわたり繰り返し処理される間欠露光であって、少なくとも非露光時に、前記抜気用凹部を介して真空引きしていることを特徴とするマスター情報担体の製造方法。
- 非磁性基体の表面にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜の少なくとも一部を露光・現像することにより前記レジスト膜表面にレジスト膜の凸部と抜気用凹部とを形成する工程と、前記レジスト膜にフォトマスクを重ねた状態で、前記抜気用凹部を介して真空引きすることにより、前記レジスト膜の凸部と前記フォトマスクとを密着させる工程と、前記レジスト膜に対して所要のパターンを露光・現像してレジスト凹所を形成し、前記レジスト凹所の底部に前記非磁性基体の表面を露出させる工程と、前記所要のパターンを露光・現像した後の前記レジスト膜をマスクにしてエッチングを行い、前記レジスト凹所を通じて露出させた前記非磁性基体表面に基体凹所を形成する工程と、前記基体凹所に埋め込む状態で前記エッチング後に残存する前記レジスト膜表面および前記基体凹所に対して強磁性薄膜を堆積する工程と、前記基体凹所に埋め込んだ強磁性薄膜を残す状態で前記エッチング後に残存する前記レジスト膜を前記エッチング後に残存する前記レジスト膜表面に堆積した前記強磁性薄膜とともに除去して前記非磁性基体表面に情報信号対応の強磁性薄膜パターンを形成する工程とを含み、前記レジスト凹所を形成する工程における前記所要のパターンの露光方法が、露光している時間と非露光時間が複数回にわたり繰り返し処理される間欠露光であって、少なくとも非露光時に、前記抜気用凹部を介して真空引きしていることを特徴とするマスター情報担体の製造方法。
- 非磁性基体の表面に強磁性薄膜を堆積する工程と、前記強磁性薄膜の表面にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜の少なくとも一部を露光・現像することにより前記レジスト膜表面にレジスト膜の凸部と抜気用凹部とを形成する工程と、前記レジスト膜にフォトマスクを重ねた状態で、前記抜気用凹部を介して真空引きすることにより、前記レジスト膜の凸部と前記フォトマスクとを密着させる工程と、前記レジスト膜に対して所要のパターンを露光・現像してレジスト凹所を形成し、前記レジスト凹所の底部に前記強磁性薄膜を露出する工程と、前記所要のパターンを露光・現像した後の前記レジスト膜をマスクにしてエッチングを行い、前記レジスト凹所を通じて露出させた部分の前記強磁性薄膜を除去する工程と、エッチング後に残存する前記レジスト膜を除去して前記非磁性基体表面に情報信号対応の強磁性薄膜パターンを形成する工程とを含み、前記レジスト凹所を形成する工程における前記所要のパターンを露光する方法が、露光している時間と非露光時間が複数回にわたり繰り返し処理される間欠露光であって、少なくとも非露光時に、前記抜気用凹部を介して真空引きしていることを特徴とするマスター情報担体の製造方法。
- 非磁性基体上に情報信号に対応する強磁性薄膜パターンが形成されたマスター情報担体を製造する工程と、前記マスター情報担体を磁気記録媒体の表面に対向配置した状態で外部磁界を印加し、前記強磁性薄膜パターンに対応する磁化情報を前記磁気記録媒体に記録する工程とを備えた磁気記録媒体の製造方法であって、前記マスター情報担体を製造する工程は、前記強磁性薄膜パターンを形成するためのレジストパターンの形成工程を含んでおり、前記レジストパターンの形成工程は、非磁性基体の表面にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜の少なくとも一部を露光・現像することにより前記レジスト膜表面にレジスト膜の凸部と抜気用凹部を形成する工程と、前記レジスト膜にフォトマスクを重ねた状態で、前記抜気用凹部を介して真空引きすることにより前記レジスト膜の凸部にフォトマスクを密着させる工程と、前記レジスト膜に対して所要のパターンを露光・現像する工程を含み、前記所要のパターンを露光する工程において、露光方法が、露光している時間と非露光時間が複数回にわたり繰り返し処理される間欠露光であって、少なくとも非露光時に、前記抜気用凹部を介して真空引きしていることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
- 前記情報信号がトラッキングサーボに用いるための信号である請求項9に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 請求項9に記載の磁気記録媒体の製造方法を含む磁気記録再生装置の製造方法であって、前記強磁性薄膜のパターンに対応する磁化情報が記録された前記磁気記録媒体を回転部分に搭載する工程を備えた磁気記録再生装置の製造方法。
- 請求項9に記載の磁気記録媒体の製造方法により製造した磁気記録媒体と、薄膜磁気ヘッドと、前記薄膜磁気ヘッドが前記磁気記録媒体と対向するように支持する支持部材と、前記磁気記録媒体を回転させる回転手段と、
前記支持部材に結合され、前記薄膜磁気ヘッドを前記磁気記録媒体の膜面に沿って移動させる移動手段と、前記薄膜磁気ヘッド、前記回転手段及び前記移動手段と電気的に結合され、前記薄膜磁気ヘッドと信号を交換し、前記磁気記録媒体の回転を制御し、前記薄膜磁気ヘッドの移動を制御する処理手段とを備えたことを特徴とする磁気記録再生装置。 - 前記情報信号がトラッキングサーボに用いるための信号である請求項12に記載の磁気記録再生装置。
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