JP2005121865A - 三次元微細構造体加工用x線マスク及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】複雑な形状のX線吸収体、特に厚さの薄い部分のあるX線吸収体を有する三次元微細構造体加工用X線マスクと、この三次元微細構造体加工用X線マスクを容易に作製できる製造方法を提供する。
【解決手段】X線マスク1は、基板2からなるフレームと、フレームの表面の酸化膜3と、酸化膜3の表面に形成されX線吸収体6をメッキ形成するためのシード層4となる金属薄膜と、X線吸収体6が所望の断面形状となるように形成されたX線透過膜5と、X線吸収体6を保護する保護膜7とからなるX線透過材8とで構成されている。
【選択図】図1
【解決手段】X線マスク1は、基板2からなるフレームと、フレームの表面の酸化膜3と、酸化膜3の表面に形成されX線吸収体6をメッキ形成するためのシード層4となる金属薄膜と、X線吸収体6が所望の断面形状となるように形成されたX線透過膜5と、X線吸収体6を保護する保護膜7とからなるX線透過材8とで構成されている。
【選択図】図1
Description
本発明は、X線リソグラフィーによって三次元微細構造体を加工するために用いられる三次元微細構造体加工用X線マスク及びその製造方法に関するものである。
本発明者は、すでに下記特許文献1において、断面形状が円錐状のものや、先端部が丸みを帯びた形状の三次元微細構造体を一枚のX線マスクで形成することができる三次元微細構造体加工用X線マスク及びそれを用いた三次元微細構造体の加工方法について開示している。
特開2003−133202号公報
しかし、特許文献1のものは、X線吸収体に金を用いており、複雑な形状のX線吸収体、特に厚さの薄い部分を有するX線吸収体を作製することは困難である。
そこで、本発明の目的は、複雑な形状のX線吸収体、特に厚さの薄い部分を有するX線吸収体を備える三次元微細構造体加工用X線マスクと、この三次元微細構造体加工用X線マスクを容易に作製できる製造方法と、三次元微細構造体加工用X線マスクの製造を通常のフォトレジストパターンを使って、厚さの薄い部分のあるX線吸収体を自己成長させて簡便に製造する方法とを提供する。
本発明の三次元微細構造体加工用X線マスクは、X線リソグラフィーによって三次元微細構造体を加工するために用いられるX線マスクであって、X線吸収体の断面がX線透過方向に対して均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状又は該形状を一部に有する形状で、少なくとも前記均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状部位が金よりX線吸収係数の小さい金属からなり、前記均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状部位の肉厚方向の最大幅が50μm以下である該X線吸収体の投影部分へのX線透過強度を変化させて三次元微細構造体を加工するものである。なお、金よりX線吸収係数の小さい金属は、ニッケル、銅などのメッキ特性がよいものが好ましく、さらに金の1/10程度のX線吸収係数を有するものがより好ましい。
上記構成により、金と同様のX線吸収率を実現することができるように、X線吸収体の均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状部位の厚さを厚くするので、X線吸収体の均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状部位の加工を容易にすることができる。その結果、X線マスクを透過するX線強度を部位によって変えることができ、被加工物の表面に露光されるX線の透過強度が異ならせることが可能となり、表面に加工される微細構造体を円錐形状や、先端が丸みを帯びた形状又は面取りやテーパーを有した形状に精度良く形成することができる。
上記構成により、金と同様のX線吸収率を実現することができるように、X線吸収体の均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状部位の厚さを厚くするので、X線吸収体の均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状部位の加工を容易にすることができる。その結果、X線マスクを透過するX線強度を部位によって変えることができ、被加工物の表面に露光されるX線の透過強度が異ならせることが可能となり、表面に加工される微細構造体を円錐形状や、先端が丸みを帯びた形状又は面取りやテーパーを有した形状に精度良く形成することができる。
本発明の三次元微細構造体加工用X線マスクは、前記均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状を一部に有する形状が均一な肉厚部分を有しており、前記均一な肉厚部分が金よりX線吸収係数の小さい金属からなる。
上記構成により、X線マスクを透過するX線強度を部位によって変えることができ、被加工物の表面に露光されるX線の透過強度が異ならせることが可能となり、表面に加工される微細構造体を円錐形状や、先端が丸みを帯びた形状又は面取りやテーパーを有した形状に精度良く形成することができる。
上記構成により、X線マスクを透過するX線強度を部位によって変えることができ、被加工物の表面に露光されるX線の透過強度が異ならせることが可能となり、表面に加工される微細構造体を円錐形状や、先端が丸みを帯びた形状又は面取りやテーパーを有した形状に精度良く形成することができる。
本発明の三次元微細構造体加工用X線マスクは、前記X線吸収体の断面が、台形、六角形、三角形、半円形、又は、台形、六角形、三角形、半円形のうちから選択される一つと該選択されたものの一辺に接する方形との組合せからなる形状であることが好ましい。
上記構成により、X線マスクの肉厚を均一としないことで、X線マスクを透過するX線の強度を異ならせることが可能となり、一枚のX線マスクによって断面形状が円錐状や、先端部が丸みを帯びた形状又は面取りやテーパーを有した形状の三次元微細構造体を加工することができる。
上記構成により、X線マスクの肉厚を均一としないことで、X線マスクを透過するX線の強度を異ならせることが可能となり、一枚のX線マスクによって断面形状が円錐状や、先端部が丸みを帯びた形状又は面取りやテーパーを有した形状の三次元微細構造体を加工することができる。
本発明の三次元微細構造体加工用X線マスクは、前記X線吸収体が、フォトレジストとアルカリ可溶樹脂の二層構造の樹脂による紫外線リソグラフィー法によって自己成長形成させて、均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状に形成されることが好ましい。
上記構成により、簡便にしかも大量に製造される三次元微細構造体加工用X線マスクを提供できる。その結果、この大量の三次元微細構造体加工用X線マスクを用いることにより、三次元微細構造体を一度に大量に生産することが可能なる。
上記構成により、簡便にしかも大量に製造される三次元微細構造体加工用X線マスクを提供できる。その結果、この大量の三次元微細構造体加工用X線マスクを用いることにより、三次元微細構造体を一度に大量に生産することが可能なる。
本発明の三次元微細構造体加工用X線マスクは、前記X線吸収体が、電子ビーム描画法によって均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状に形成されていることが好ましい。
上記構成により、断面が均一な肉厚を有しない四角形以外の形状で、例えば、断面が三角形、半円形、台形等の形状のX線吸収体を容易に形成することが可能となる。
上記構成により、断面が均一な肉厚を有しない四角形以外の形状で、例えば、断面が三角形、半円形、台形等の形状のX線吸収体を容易に形成することが可能となる。
本発明の三次元微細構造体加工用X線マスクの製造方法は、X線リソグラフィーによって三次元微細構造体を加工するために用いられる三次元微細構造体加工用X線マスクの製造方法であって、X線マスク基板にレジストを塗布乾燥する工程と、前記レジストに電子ビーム描画を行なって任意の均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状部位の溝を形成する工程と、前記形状部位の溝に金よりX線吸収係数の低い金属を埋め込む工程とからなるものである。
上記構成により、安価であり、簡便にしかも大量に製造される三次元微細構造体加工用X線マスクの製造方法を提供できる。
上記構成により、安価であり、簡便にしかも大量に製造される三次元微細構造体加工用X線マスクの製造方法を提供できる。
本発明の三次元微細構造体加工用X線マスクの製造方法は、X線リソグラフィーによって三次元微細構造体を加工するために用いられる三次元微細構造体加工用X線マスクの製造方法であって、X線マスク基板表面に第一層のアルカリ可溶樹脂を塗布して所定温度で所定時間焼成する工程と、前記基板表面に第一層のアルカリ可溶樹脂を塗布された複合体の上に第二層の紫外線リソグラフィー用のフォトレジストを塗布して所定温度で所定時間焼成する工程と、前記基板表面に第一層のアルカリ可溶樹脂と第二層の紫外線リソグラフィー用のフォトレジストをコートした三層構造に紫外線リソグラフィーパターンマスクを介して第二層のフォトレジスト表面に紫外線を照射する工程と、フォトレジスト用の現像液で第二層のフォトレジストを現像することにより、紫外線を照射された部分を溶出させて第一層のアルカリ可溶樹脂表面を露出させる工程と、アルカリ可溶樹脂用の現像液で第一層のアルカリ可溶樹脂を所定温度で所定時間現像することにより、任意の均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状部位の溝を形成する工程と、前記第一層の溝部に金よりX線吸収係数の低い金属を埋め込むことにより均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状部位のX線吸収体を形成させる工程と、前記第二層において、前記紫外線の照射がされ、前記フォトレジスト用の現像液によって溶出された部分に、金又は金よりX線吸収係数の低い金属を埋め込むことにより均一な肉厚を有する平行形状のX線吸収体を形成させる工程とからなるものである。
上記構成により、断面の一部が均一な肉厚を有しない四角形以外の形状で、例えば、断面の一部が三角形、半円形、台形等の形状のX線吸収体を容易に形成することが可能となる三次元微細構造体加工用X線マスクを製造するためのフォトレジストパターンを製造できる。
上記構成により、断面の一部が均一な肉厚を有しない四角形以外の形状で、例えば、断面の一部が三角形、半円形、台形等の形状のX線吸収体を容易に形成することが可能となる三次元微細構造体加工用X線マスクを製造するためのフォトレジストパターンを製造できる。
本発明の三次元微細構造体加工用X線マスクは、X線吸収体の断面が、三角形又は台形と、該三角形又は該台形の一辺に接する方形との組合せからなる形状の三次元微細構造体加工用X線マスクであって、前記三次元微細構造体加工用X線マスクのX線吸収体の断面における三角形の底辺又は台形の下辺と、斜辺との内角が5〜85度まで制御自在に直上に記載の三次元微細構造体加工用X線マスクの製造方法によって作製されるものであることが好ましい。
上記構成により、X線マスクを透過するX線の透過強度を異ならせることができ、被加工物へのX線露光量を変えることができ、断面形状が円錐状や、先端部が丸みを帯びた形状又は面取りやテーパーを有した形状の三次元微細構造体を加工することができる三次元微細構造体加工用X線マスクを提供できる。
上記構成により、X線マスクを透過するX線の透過強度を異ならせることができ、被加工物へのX線露光量を変えることができ、断面形状が円錐状や、先端部が丸みを帯びた形状又は面取りやテーパーを有した形状の三次元微細構造体を加工することができる三次元微細構造体加工用X線マスクを提供できる。
本発明の三次元微細構造体加工用X線マスクは、X線リソグラフィーによって三次元微細構造体を加工するために用いられるX線マスクであって、X線吸収体の断面が紫外線リソグラフィーを繰り返し行って形成される多段構造であり、前記X線吸収体が金よりX線吸収係数の小さい金属からなるものである。
上記構成により、多段形状のX線吸収体を容易に形成することが可能となる三次元微細構造体加工用X線マスクを製造するためのフォトレジストパターンを提供できる。
上記構成により、多段形状のX線吸収体を容易に形成することが可能となる三次元微細構造体加工用X線マスクを製造するためのフォトレジストパターンを提供できる。
本発明の三次元微細構造体加工用X線マスクの製造方法は、基板に紫外線リソグラフィー用のフォトレジストを塗布し、所定温度で所定時間焼成する工程と、紫外線リソグラフィーパターンマスクを介して、前記フォトレジスト表面に紫外線を照射する工程と、前記紫外線照射後のフォトレジスト表面をリソグラフィー用現像液に所定時間浸漬して段付きの樹脂の凹面形状を形成する工程と、金よりX線吸収係数の低い金属をX線吸収体として埋め込む工程と、前記各工程を所定回数繰り返す工程とからなるX線リソグラフィーによって多段三次元微細構造体を加工するために用いられる三次元微細構造体加工用X線吸収体多段マスクの製造方法であって、前記各工程を所定回数繰り返す工程において、前記紫外線を照射する工程を繰り返す毎に、最上段のX線吸収体より面積の小さい紫外線リソグラフィーパターンマスクを使用して、前記段付きの樹脂の凹面形状を形成し、前記段付きの樹脂の凹面形状に金よりX線吸収係数の低い金属を埋め込んで、前記X線吸収体を多段構造とするものである。
上記構成により、X線マスクを透過するX線の透過強度を異ならせることができ、被加工物へのX線露光量を変えることができ、断面形状が多段形状の三次元微細構造体を加工することができる三次元微細構造体加工用X線マスクを容易に製造できる。
上記構成により、X線マスクを透過するX線の透過強度を異ならせることができ、被加工物へのX線露光量を変えることができ、断面形状が多段形状の三次元微細構造体を加工することができる三次元微細構造体加工用X線マスクを容易に製造できる。
以下、図面を参照しつつ本発明に係る三次元微細構造体加工用X線マスクの第1実施形態について説明する。
図1(a)は、本発明に係るX線マスク1の第1実施形態を示す断面図である。図1(a)に示すように、本実施形態に係るX線マスク1は、基板2からなるフレームと、フレームの表面の酸化膜3と、酸化膜3の表面に形成されX線吸収体6をメッキ形成するためのシード層4となる金属薄膜と、X線吸収体6が所望の断面形状となるように形成されたX線透過膜5と、X線吸収体6を保護する保護膜7とからなるX線透過材8とで構成されている。
以上のような構成のX線マスク1の作製方法について、図2を参照しつつ説明する。
以上のような構成のX線マスク1の作製方法について、図2を参照しつつ説明する。
図2(a)に示すように、基板2として、Siウェハーを使用する。この基板2の表面を(b)に示すように酸化し酸化膜3を形成する。この酸化膜3の一方の表面にX線吸収体を形成するための、例えば、Au/Crからなるシード層4を形成する((c)参照)。次いで、(d)に示すように、エポキシ樹脂等のX線透過材をスピンコートして、X線透過膜5を形成する。このX線透過膜5等が表面に形成された基板2に電子ビーム描画法を行う、図示しない電子ビーム描画装置内のX軸、Y軸及びZ軸に沿って移動自在であるとともに各軸を軸心として回転自在のテーブルに設置する。そして、このテーブルを移動させることで、このX線透過膜5の表面を加工し、この表面にX線吸収体6が所望の断面形状となるよう溝9を形成する((e)参照)。
次に、この溝9のうち下段の方形部分6bに、電気メッキにより必要な吸収層厚になるまでX線吸収体、例えば金等をメッキして、かつ、溝9のうち上段の台形部分6aに、電気メッキにより必要な吸収層厚になるまでX線吸収体、例えばニッケル等をメッキしてX線吸収体6を形成する((f)参照)。なお、この金等のメッキの代わりに、図1(b)に示すように、溝9のうち下段の台形部分6bに、電気メッキにより必要な吸収層厚になるまで、例えばニッケル、銅、クロム等をメッキすることとしてもよい。そして、このX線吸収体6のパターンを保護、保持するために再度この表面にX線透過材、例えば、エポキシ樹脂等をスピンコートして、保護膜7を形成する。
一方基板2の裏面から通常の紫外線によるフォトリソグラフィーによってフレームのパターニングを行いメンブレン部分の酸化膜3をエッチングで除去する。次いで、基板となる基板2及びシード層4のエッチングを行い、これらを除去してX線マスク1を形成する((h)参照)。これによって、X線吸収体6の断面が四角形以外の形状、本実施形態例においては、断面が逆三角形のX線マスクとできる。なお、用途によってはメンブレン部分のシード層4を、除去せずに残しておいても良い。また、基板2は、Siウェハーに限定されるものではない。さらに、基板2の表面に形成する酸化膜3は特に必要なものではないが、フレーム作製時のマスクの役割をするため、本実施形態においては好ましい一例として示した。このような、X線マスク1を使用して形成した三次元微細構造体の一例を図3に示す。図3は、テーパー形状を有した三次元微細構造体の一部の拡大写真である。
ここで、電子ビーム描画法によるX線透過膜5の表面の加工は、電子ビーム描画装置のテーブルがX軸、Y軸及びZ軸に沿って移動自在であるとともに各軸を軸心として回転自在であるため、電子ビームが一方向にのみ照射される場合であっても、テーブルを移動させることによって、電子ビームの照射位置を自在に変更することができ、例えば、図4に示すような形状や、断面が半円形状、半楕円形状、台形形状等、自在に加工することが可能となる。図5には、図4に示す電子ビーム描画法によって形成されたX線透過膜5を用いた三次元微細構造体加工用X線マスクの作成方法について示す。
図5に示すように、電子ビーム描画法によって、図4に示すような形状のように、任意の形状にX線透過膜5の表面を加工して、表面に形成された溝にX線吸収体6を電気メッキ等によって形成する。次いで、基板2をエッチング等によって除去して、任意の形状のX線吸収体6を有するX線マスクとすることができる。
次に、X線吸収体6の断面形状の違いによるX線透過強度の違いを図6に示す。図6に示すように、例えば、断面形状が図6(a)の上段に示すような四角形状のように、均一な肉厚を有する場合、このX線吸収体6の投影部分のX線透過強度は、図6(a)の下段に示すように、一様なものとなる。一方、断面形状が図6(b)、(c)、(d)のように、均一な肉厚を有しない四角形状以外の、形状である場合、そのX線吸収体6の投影部分のX線透過強度は、各図の下段に示すように、円弧若しくは丸みを帯びた状態で分布する。また、断面形状が図6(e)のように、均一な肉厚を有しない部分を有する台形と均一な肉厚を有する方形とからなる形状の場合、そのX線吸収体6の投影部分のX線透過強度は、下段に示すように、断面が台形であるテーパー形状の状態で分布する。このため、被加工物には、図6下段に示すような状態でX線が露光され、このX線透過強度に倣った形状に加工されることになる。
なお、実際の肉厚分布は、X線マスクに入る光(X線)の入射光分布や、レジストの感度率等の補正をフィードバックして得られるレジストの形状が所定の形状になることを予め考慮して、X線吸収体6の形状を決定する。
X線透過材8としては、エポキシ樹脂を使用することができ、特に好ましいのは、光反応性エポキシ樹脂である。この光反応性エポキシ樹脂は、化学的耐性が高く、Siエッチング液として使用される水酸化テトラメチルアンモニウム(以下、TMAHという。)に対して耐性があり、フレーム形成時のエッチング処理の時に特殊な表面保護をする必要がなくなる。このため、製造コストの低減はもちろんであるが、量産性を向上させることができるため、更なる製造コストの低減が可能となる。
なお、X線吸収体6の断面形状は、本実施形態例に示す形状に限定されるものではなく、例えば、円形や六角形であってもよい。この場合、それぞれ表面に半円形もしくは六角形形状の溝を電子ビーム描画法で形成し、各溝内にX線吸収体を電気メッキ等によって形成した後、いずれか一方もしくは両方の表面にエポキシ樹脂等を塗布した後、各X線吸収体が重なるように積層することで作製が可能である。
次に、図面を参照しつつ本発明に係る三次元微細構造体加工用X線マスクの第2実施形態について説明する。
図7(a)は、本発明に係るX線マスクの第2実施形態を示す断面図である。図7(a)に示すように、本実施形態に係るX線マスク11は、基板12からなるフレームと、断面が台形13bとこの台形13bの一辺に接する方形13aとからなる形状であるX線吸収体13と、X線吸収体13を保護し、X線を透過させるX線透過材層14とで構成されている。
以上のような構成のX線マスク11を作製するには、前提として、X線マスク11のX線吸収体の形状と同様の形状のX線吸収体を作製できるフォトレジストパターンが必要である。そこでまず、このフォトレジストパターンの一例について、図8を参照しつつ説明する。
図8(a)に示すように、基板12として、Siウェハーを使用する。このSiウェハーである基板12の表面に図8(b)に示すように第1のアルカリ可溶樹脂を塗布して第1樹脂層15を形成し、その後、基板12及び第1樹脂層15を焼成する。この焼成は、80〜130℃の温度で、60〜200秒間行われることが好ましい。その後、第1樹脂層15上に、第2の樹脂をさらに塗布して第2樹脂層16を形成する((c)参照)。
次に、(c)の基板12、第1樹脂層15及び第2樹脂層16からなる多層体17を焼成する。この多層体17の焼成は、80〜130℃の温度で、60〜200秒間行われることが好ましい。なお、第1の樹脂及び第2の樹脂には、クラリアントジャパン株式会社製のAZフォトレジスト等を用いることができる。
次に、(c)の基板12、第1樹脂層15及び第2樹脂層16からなる多層体17を焼成する。この多層体17の焼成は、80〜130℃の温度で、60〜200秒間行われることが好ましい。なお、第1の樹脂及び第2の樹脂には、クラリアントジャパン株式会社製のAZフォトレジスト等を用いることができる。
その後、(d)に示すように、紫外線を吸収する紫外線リソグラフィーパターンマスク18を、焼成後の多層体17に対して平行に設け、紫外線リソグラフィーパターンマスク18背面側から多層体17方向へ紫外線を照射する。そして、紫外線照射後の多層体をリソグラフィー用現像液に浸漬することによって、第2樹脂層16の紫外線を照射された部位は溶解度が比較的高いため速く溶けてしまうので、垂直方向にのみ溶け、所望の断面形状である方形となる。次に、多層体をアルカリ溶液に浸漬し、第2樹脂層16の溶出部の溝から、アルカリ溶液を浸透させて第1樹脂層15表面を溶かし、第1樹脂層15における所望の断面形状である台形を得る((e)参照)。これらにより、フォトレジストパターン19が作製される。
なお、図7(a)に示すX線吸収体の断面形状が台形部位の肉厚方向の最大幅bは、2μm以上50μm以下とするものである。図7(a)に示すX線19の断面形状が方形部位の肉厚方向の厚みaは、X線吸収体が金の場合は2μm程度でX線を遮断でき、又、金よりX線吸収係数の低い金属の場合は金より10倍程度の厚さでX線を遮断できるので、所望の三次元微細構造体を作製することができるようにbに合わせ、使用する金属によって調整するものである。
また、リソグラフィー用現像液には、TMAH(Tetra Methyl Ammonium Hydroxide)系、HMDS(1,1,1,3,3,3−hexamethyldisilazane)系、無機系のもの等が用いられる。
なお、図7(a)に示すX線吸収体の断面形状が台形部位の肉厚方向の最大幅bは、2μm以上50μm以下とするものである。図7(a)に示すX線19の断面形状が方形部位の肉厚方向の厚みaは、X線吸収体が金の場合は2μm程度でX線を遮断でき、又、金よりX線吸収係数の低い金属の場合は金より10倍程度の厚さでX線を遮断できるので、所望の三次元微細構造体を作製することができるようにbに合わせ、使用する金属によって調整するものである。
また、リソグラフィー用現像液には、TMAH(Tetra Methyl Ammonium Hydroxide)系、HMDS(1,1,1,3,3,3−hexamethyldisilazane)系、無機系のもの等が用いられる。
なお、多層体17の焼成温度と焼成時間を調整することで、台形の部分の形状を六角形、三角形、半円形等の形状に制御することができる。
次に、フォトレジストパターン19を用いて、X線マスク11を作製する。
まず、図9(a)に示すように、X線吸収体を設けるために、フォトレジストパターン19の台形断面形状部分13bのみを金よりX線吸収係数の小さい金属、例えば、ニッケル、銅、クロム等をメッキ処理し、さらに方形断面形状部分13aを金等でメッキ処理する。なお、図7(b)に示すように、フォトレジストパターン19の台形と方形とからなる断面形状部分全体に金よりX線吸収係数の小さい金属、例えば、ニッケル、銅、クロム等でメッキ処理されたX線吸収体13を有するX線マスク11としてもよい。
次いで、図9(b)に示すように、上記メッキ後のフォトレジストパターン19における第1樹脂層15及び第2樹脂層16を除去する。このようにして作製されたX線吸収体の一例を図10に示す。図10(a)はX線吸収体の上視図、図10(b)は図10(a)のX線吸収体の側面図である。本発明によれば、図10(a)に示すような数字の3の縁部分にテーパー形状を施したX線マスクを作製することも可能である。
そして、図9(c)に示すように、方形断面形状部分13aと台形断面形状部分13bとからなるX線吸収体を被覆するように基板12の上にポリイミド等からなるX線透過材層14を形成する。
最後に、図9(d)に示すように、基板12の中央部をエッチングで除去することによって、X線透過窓を形成する。
まず、図9(a)に示すように、X線吸収体を設けるために、フォトレジストパターン19の台形断面形状部分13bのみを金よりX線吸収係数の小さい金属、例えば、ニッケル、銅、クロム等をメッキ処理し、さらに方形断面形状部分13aを金等でメッキ処理する。なお、図7(b)に示すように、フォトレジストパターン19の台形と方形とからなる断面形状部分全体に金よりX線吸収係数の小さい金属、例えば、ニッケル、銅、クロム等でメッキ処理されたX線吸収体13を有するX線マスク11としてもよい。
次いで、図9(b)に示すように、上記メッキ後のフォトレジストパターン19における第1樹脂層15及び第2樹脂層16を除去する。このようにして作製されたX線吸収体の一例を図10に示す。図10(a)はX線吸収体の上視図、図10(b)は図10(a)のX線吸収体の側面図である。本発明によれば、図10(a)に示すような数字の3の縁部分にテーパー形状を施したX線マスクを作製することも可能である。
そして、図9(c)に示すように、方形断面形状部分13aと台形断面形状部分13bとからなるX線吸収体を被覆するように基板12の上にポリイミド等からなるX線透過材層14を形成する。
最後に、図9(d)に示すように、基板12の中央部をエッチングで除去することによって、X線透過窓を形成する。
なお、上記作成方法において、適宜、焼成条件(温度、焼成時間)等を変化させれば、断面形状の台形の内角を変化させることも可能である。また、上記作成方法において、適宜、焼成条件(温度、焼成時間)等を変化させれば、X線吸収体の断面が、三角形、半円形、六角形、又は、三角形、半円形のうちから選択される一つと該選択されたものの一辺に接する方形との組合せからなる形状を備えるX線マスクを製造することもできる。さらに、上記作成方法において、適宜、焼成条件(温度、焼成時間)等を変化させれば、これらの三角形、半円形、六角形などの内角も変化させることが可能である。
上記方法により作製された図10のX線吸収体を備えるX線マスクを用いて、PMMA(Poly Methyl Meth Acrylate)シートへX線の露光を行った。その結果、PMMAシートは図11に示すように、上視すると、数字の3の形状となり、上部と下部の幅が異なる三次元微細構造体を加工することができた。
なお、上記説明では、X線マスクは一つの場合について説明したが、同様の方法を一度に実施することで、同一平面上に一度に複数のX線マスクを作製可能である。その結果、この複数のX線マスクを用いることで、図12に示すような、複数の上部と下部の幅が異なる三次元微細構造体を作製することができる。なお、図12は、右図が上部と下部の幅が異なる三次元微細構造体の拡大写真、左図が複数の上部と下部の幅が異なる三次元微細構造体を示す写真、中央図が右図と左図との間の倍率で写された複数の上部と下部の幅が異なる三次元微細構造体を示す写真である。
なお、上記説明では、X線マスクは一つの場合について説明したが、同様の方法を一度に実施することで、同一平面上に一度に複数のX線マスクを作製可能である。その結果、この複数のX線マスクを用いることで、図12に示すような、複数の上部と下部の幅が異なる三次元微細構造体を作製することができる。なお、図12は、右図が上部と下部の幅が異なる三次元微細構造体の拡大写真、左図が複数の上部と下部の幅が異なる三次元微細構造体を示す写真、中央図が右図と左図との間の倍率で写された複数の上部と下部の幅が異なる三次元微細構造体を示す写真である。
次に、本発明に係る三次元微細構造体加工用X線マスクの第3実施形態について説明する。
図13は、本発明に係る三次元微細構造体加工用X線マスクの第3実施形態を示す図である。
図13に示すように、本実施形態に係るX線マスク21は、断面が階段状の多段形状であるX線吸収体22と、X線吸収体22を保護し、X線を透過させるX線透過材層23と、X線透過材層23の回りを囲むように設けられるフレーム24とで構成されている。以上のような構成のX線マスクの作製方法について説明する。
図13に示すように、本実施形態に係るX線マスク21は、断面が階段状の多段形状であるX線吸収体22と、X線吸収体22を保護し、X線を透過させるX線透過材層23と、X線透過材層23の回りを囲むように設けられるフレーム24とで構成されている。以上のような構成のX線マスクの作製方法について説明する。
まず、Siウェハーの基板に紫外線リソグラフィー用のフォトレジスト、例えばノボラック系材料(感光剤として、例えば、ナフトキノンジアジドが添加されていてもよい)やAZフォトレジストなどを塗布し、焼成する。この焼成は、90〜125℃の温度で、90〜120秒間行われることが好ましい。そして、紫外線リソグラフィーパターンマスクを介して、上記フォトレジスト表面に紫外線を照射する。その後、紫外線照射後の、例えばAZフォトレジスト表面をリソグラフィー用現像液、例えばTMAH(濃度2.38%)などに、例えば30秒以上浸漬して段付きの樹脂の凹面形状を形成する。そして、この段付きの樹脂の凹面形状に、金よりX線吸収係数の低い金属、例えば、銅、ニッケル、クロム等を一段目のX線吸収体として埋め込む。その後、上記各工程を所定回数繰り返して階段状のX線吸収体を作製していくために、紫外線を照射する工程を繰り返す毎に、最上段のX線吸収体より面積の小さい紫外線リソグラフィーパターンマスクを使用して、段付きの樹脂の凹面形状を形成し、この段付きの樹脂の凹面形状に金よりX線吸収係数の低い金属、例えば、銅、ニッケル、クロム等を埋め込んで、X線吸収体を多段構造とする。そして、所望の段数を備えたX線吸収体22が得られたら、X線吸収体22を保護し、X線を透過させるX線透過材層23を被膜し、Siウェハーの基板をエッチングで除去する。最後に、X線透過材層23の回りを囲むようにポリイミドからなるフレーム24を設ける。
本実施形態によれば、X線吸収体に金よりX線吸収係数の低い金属、例えば、銅、ニッケル、クロム等を使用するので、金を使用するのに比べ容易に所望の多段X線マスクを作製できる。
また、本実施形態のX線マスクをX線リソグラフィーに用いれば、X線マスクの厚みを調整することで、三次元微細構造体の加工深さを制御でき、様々な形状の多段三次元微細構造体を作成することができる。
また、本実施形態のX線マスクをX線リソグラフィーに用いれば、X線マスクの厚みを調整することで、三次元微細構造体の加工深さを制御でき、様々な形状の多段三次元微細構造体を作成することができる。
なお、本発明は、特許請求の範囲を逸脱しない範囲で設計変更できるものであり、上記実施形態に限定されるものではない。
1、11、21 X線マスク
2、12 基板
3 酸化膜
4 シード層
5 X線透過膜
6、13、22 X線吸収体
7 保護膜
8 X線透過材
9 溝
14、23 X線透過材層
15、16 樹脂層
17 多層体
18 紫外線リソグラフィーパターンマスク
19 フォトレジストパターン
24 フレーム
2、12 基板
3 酸化膜
4 シード層
5 X線透過膜
6、13、22 X線吸収体
7 保護膜
8 X線透過材
9 溝
14、23 X線透過材層
15、16 樹脂層
17 多層体
18 紫外線リソグラフィーパターンマスク
19 フォトレジストパターン
24 フレーム
Claims (10)
- X線リソグラフィーによって三次元微細構造体を加工するために用いられるX線マスクであって、
X線吸収体の断面がX線透過方向に対して均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状又は該形状を一部に有する形状で、少なくとも前記均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状部位が金よりX線吸収係数の小さい金属からなり、
前記均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状部位の肉厚方向の最大幅が50μm以下である該X線吸収体の投影部分へのX線透過強度を変化させて三次元微細構造体を加工する三次元微細構造体加工用X線マスク。 - 前記均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状を一部に有する形状が均一な肉厚部分を有しており、前記均一な肉厚部分が金よりX線吸収係数の小さい金属からなる請求項1記載の三次元微細構造体加工用X線マスク。
- 前記X線吸収体の断面が、台形、六角形、三角形、半円形、又は、台形、六角形、三角形、半円形のうちから選択される一つと該選択されたものの一辺に接する方形との組合せからなる形状である請求項1又は2に記載の三次元微細構造体加工用X線マスク。
- 前記X線吸収体が、電子ビーム描画法によって均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状に形成されている請求項1から3のいずれかに記載の三次元微細構造体加工用X線マスク。
- X線リソグラフィーによって三次元微細構造体を加工するために用いられる三次元微細構造体加工用X線マスクの製造方法であって、
X線マスク基板にレジストを塗布乾燥する工程と、
前記レジストに電子ビーム描画を行って任意の均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状部位の溝を形成する工程と、
前記形状部位の溝に金よりX線吸収係数の低い金属を埋め込む工程と
からなる三次元微細構造体加工用X線マスクの製造方法。 - 前記X線吸収体が、フォトレジストとアルカリ可溶樹脂の二層構造の樹脂による紫外線リソグラフィー法によって自己成長形成させて、均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状に形成される請求項1から3のいずれかに記載の三次元微細構造体加工用X線マスク。
- X線リソグラフィーによって三次元微細構造体を加工するために用いられる三次元微細構造体加工用X線マスクの製造方法であって、
X線マスク基板表面に第一層のアルカリ可溶樹脂を塗布して所定温度で所定時間焼成する工程と、
前記基板表面に第一層のアルカリ可溶樹脂を塗布された複合体の上に第二層の紫外線リソグラフィー用のフォトレジストを塗布して所定温度で所定時間焼成する工程と、
前記基板表面に第一層のアルカリ可溶樹脂と第二層の紫外線リソグラフィー用のフォトレジストをコートした三層構造に紫外線リソグラフィーパターンマスクを介して第二層のフォトレジスト表面に紫外線を照射する工程と、
フォトレジスト用の現像液で第二層のフォトレジストを現像することにより、紫外線を照射された部分を溶出させて第一層のアルカリ可溶樹脂表面画を露出させる工程と、
アルカリ可溶樹脂用の現像液で第一層のアルカリ可溶樹脂を所定温度で所定時間現像することにより、任意の均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状部位の溝を形成する工程と、
前記第一層の溝部に金よりX線吸収係数の低い金属を埋め込むことにより均一な肉厚を有しない平行形状以外の形状部位のX線吸収体を形成させる工程と、
前記第二層において、前記紫外線の照射がされ、前記フォトレジスト用の現像液によって溶出された部分に、金又は金よりX線吸収係数の低い金属を埋め込むことにより均一な肉厚を有する平行形状のX線吸収体を形成させる工程と
からなる三次元微細構造体加工用X線マスクの製造方法。 - X線吸収体の断面が、三角形又は台形と、該三角形又は該台形の一辺に接する方形との組合せからなる形状の三次元微細構造体加工用X線マスクであって、
前記三次元微細構造体加工用X線マスクのX線吸収体の断面における三角形の底辺又は台形の下辺と、斜辺との内角が5〜85度まで制御自在に請求項7に記載の前記製造方法によって作製される三次元微細構造体加工用X線マスク。 - X線リソグラフィーによって三次元微細構造体を加工するために用いられるX線マスクであって、
X線吸収体の断面が紫外線リソグラフィーを繰り返し行って形成される多段構造であり、前記X線吸収体が金よりX線吸収係数の小さい金属からなる前記X線吸収体の投影部分へのX線透過強度を変化させて三次元微細構造体を加工する三次元微細構造体加工用X線マスク。 - 基板に紫外線リソグラフィー用のフォトレジストを塗布し、所定温度で所定時間焼成する工程と、
紫外線リソグラフィーパターンマスクを介して、前記フォトレジスト表面に紫外線を照射する工程と、
前記紫外線照射後のフォトレジスト表面をリソグラフィー用現像液に所定時間浸漬して段付きの樹脂の凹面形状を形成する工程と、
前記段付きの樹脂の凹面形状に金よりX線吸収係数の低い金属をX線吸収体として埋め込む工程と、
前記各工程を所定回数繰り返す工程と
からなるX線リソグラフィーによって多段三次元微細構造体を加工するために用いられる三次元微細構造体加工用X線吸収体多段マスクの製造方法であって、
前記各工程を所定回数繰り返す工程において、前記紫外線を照射する工程を繰り返す毎に、最上段のX線吸収体より面積の小さい紫外線リソグラフィーパターンマスクを使用して、前記段付きの樹脂の凹面形状を形成し、前記段付きの樹脂の凹面形状に金よりX線吸収係数の低い金属を埋め込んで、前記X線吸収体を多段構造とする三次元微細構造体加工用X線マスクの製造方法。
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JP2003356054A JP2005121865A (ja) | 2003-10-16 | 2003-10-16 | 三次元微細構造体加工用x線マスク及びその製造方法 |
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JP2007075977A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | New Industry Research Organization | 微細立体構造体の製造方法 |
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JP2010511857A (ja) * | 2006-12-04 | 2010-04-15 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | X線用のビームフィルタ |
-
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- 2003-10-16 JP JP2003356054A patent/JP2005121865A/ja active Pending
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