JP2005121814A - マイクロレンズシートの製造方法、その装置、投写スクリーンの製造方法及び投写スクリーン - Google Patents
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Abstract
【課題】 高い歩留まりで高品質のマイクロレンズシートを製造する。
【解決手段】 この複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズシートの製造方法は、レーザビームを、マイクロレンズシートを作製する型となるべき基材6上に形成された金属膜9に照射して複数のマイクロレンズに対応した複数のエッチング用穴8を形成する第1の工程と、基材6の加工始点である短辺端部6a1に形成した亀裂を、レーザビーム15の照射により発生する熱応力を利用して割断予定線に沿って誘導することにより基材6を複数の分割基材に割断する第2の工程と、複数のエッチング用穴8を介して複数の分割基材をエッチングし、複数のマイクロレンズに対応した複数の凹部を形成して複数の分割型とする第3の工程と、複数の分割型を結合してマイクロレンズシートを作製する型とする第4の工程とを有している。
【選択図】 図3
【解決手段】 この複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズシートの製造方法は、レーザビームを、マイクロレンズシートを作製する型となるべき基材6上に形成された金属膜9に照射して複数のマイクロレンズに対応した複数のエッチング用穴8を形成する第1の工程と、基材6の加工始点である短辺端部6a1に形成した亀裂を、レーザビーム15の照射により発生する熱応力を利用して割断予定線に沿って誘導することにより基材6を複数の分割基材に割断する第2の工程と、複数のエッチング用穴8を介して複数の分割基材をエッチングし、複数のマイクロレンズに対応した複数の凹部を形成して複数の分割型とする第3の工程と、複数の分割型を結合してマイクロレンズシートを作製する型とする第4の工程とを有している。
【選択図】 図3
Description
本発明は、例えば液晶リア型プロジェクションテレビやCRTリア型プロジェクションテレビなどの映像をスクリーンの背面より拡大投写して使用する映像投写装置の投写スクリーンに用いられるマイクロレンズを有するマイクロレンズシート(マイクロレンズアレイともいう)の製造方法、その装置、そのマイクロレンズシートを用いた投写スクリーンの製造方法及び投写スクリーンに関する。
従来の映像投写装置(リアプロジェクションテレビ)の光学系は、投写レンズからある角度を持った光を出射し、複数のフレネルレンズを有するフレネルシートによってある角度から略平行光に変換し、複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズシートに照射する。マイクロレンズシートでは光を拡散させ、ある一定の視野角を持った光を映像にしてユーザの目に映し出す(例えば、特許文献1参照。)。
上記した従来の映像投写装置の投写スクリーンは、投写レンズからの入射光を略平行光に変換する複数のフレネルレンズを有するフレネルシートと、各フレネルレンズからの略平行光を拡散させる複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズシートとからなる。このうち、マイクロレンズシートは、熱可塑性樹脂などを各マイクロレンズとなるべき部分に凹部が形成された型で型抜きすることによって形成されていた。そして、このマイクロレンズシートの型は、金属層の表面に機械的に、各マイクロレンズとなるべき凹部を彫る、あるいは化学的に腐食する(エッチング)などの手法の他、レーザ加工で上記各凹部を彫るなどの手法が用いられて作製されている(例えば、特許文献2参照。)。
上記したマイクロレンズシートの型の形成手法のうち、エッチングを用いる手法の場合、ほぼ同一形状のマイクロレンズとなる凹部を形成するためには、エッチング液内の温度ムラ、エッチング液の攪拌又は型となるべきガラス基板や石英基板からなる基材の揺動により発生するエッチング液の淀み、あるいはエッチング液の濃度ムラを制御する必要がある。ところが、映像投写装置は、最近、大型化(例えば、画面サイズが40〜70インチ。)の傾向があるため、上記したエッチング液内の温度ムラ、エッチング液の淀み、あるいはエッチング液の濃度ムラを十分に制御することが困難である。したがって、型となるべき基材を均一にエッチングすることができないため、ほぼ同一形状のマイクロレンズとなる凹部を形成することができず、高品質の型を作製することができない。このため、このような型を用いて作製されたマイクロレンズシートの歩留まりが低く、品質も悪いという課題があった。
本発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、その目的は、高い歩留まりで高品質のマイクロレンズシートを製造することができるマイクロレンズシートの製造方法、その装置、投写スクリーンの製造方法及び投写スクリーンを得るものである。
本発明に係るマイクロレンズシートの製造方法は、複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズシートの製造方法であって、レーザビームを、マイクロレンズシートを作製する型となるべき基材上に形成された薄膜に照射して複数のマイクロレンズに対応した複数のエッチング用穴を形成する第1の工程と、基材の加工始点に形成した亀裂を、レーザビームの照射により発生する熱応力を利用して割断予定線に沿って誘導することにより基材を複数の分割基材に割断する第2の工程と、複数のエッチング用穴を介して複数の分割基材をエッチングし、複数のマイクロレンズに対応した複数の凹部を形成して複数の分割型とする第3の工程と、複数の分割型を結合してマイクロレンズシートを作製する型とする第4の工程とを有するものである。本発明によれば、高い歩留まりで高品質のマイクロレンズシートを製造するための型を作製することができる。
また、上記の製造方法において、第2の工程では、レーザビームを回折光学素子により回折させて所定の照射形状及び強度分布を有するレーザビームを生成し、その生成されたレーザビームを基材に照射するものである。これにより、基材を溶断することなく必要な温度勾配を得ることができるので精度の高い割断が可能となる。基材の端部での切り残しの発生を少なくすることができるので、材料むだの発生を低減することができる。溶断後直ちに割断を行う場合には、短時間で精度の高い割断が可能となる。また基材の端部での切り残しの発生を防止することができる。
また、上記の製造方法において、第2の工程では、レーザビームを回折光学素子により回折させて所定の照射形状及び強度分布を有するレーザビームを生成し、その生成されたレーザビームを基材に照射するものである。これにより、基材を溶断することなく必要な温度勾配を得ることができるので精度の高い割断が可能となる。基材の端部での切り残しの発生を少なくすることができるので、材料むだの発生を低減することができる。溶断後直ちに割断を行う場合には、短時間で精度の高い割断が可能となる。また基材の端部での切り残しの発生を防止することができる。
また、上記の製造方法において、第3の工程では、複数の分割基材の各切断面に、各切断面のエッチングを防止するためのマスキングテープを貼付した後、複数の分割基材をエッチングするものである。これにより、複数の分割基材の各切断面のエッチングを防止することができる。
また、上記の製造方法において、第1の工程では、基材の切断部分を挟んだ隣接するエッチング用穴のピッチを、エッチングによる除去量を考慮して、他の領域に属して隣接するエッチング用穴のピッチよりも広くなるように形成するものである。これにより、マスキングテープを貼付することなく、複数の分割基材の各切断面のエッチングを防止することができる。
また、上記の製造方法において、上記第4の工程では、上記複数の分割型を後硬化型の接着テープ上に各切断面を突き合わせて載置した後、紫外線や熱等の刺激により前記接着テープを硬化させることにより上記複数の分割型を結合して上記型とするものである。これにより、切断面に接着材等を塗布することなく基板の接合が可能になるため、接合部のつなぎ目が目立つことがない。
また、上記の製造方法において、第1の工程では、基材の切断部分を挟んだ隣接するエッチング用穴のピッチを、エッチングによる除去量を考慮して、他の領域に属して隣接するエッチング用穴のピッチよりも広くなるように形成するものである。これにより、マスキングテープを貼付することなく、複数の分割基材の各切断面のエッチングを防止することができる。
また、上記の製造方法において、上記第4の工程では、上記複数の分割型を後硬化型の接着テープ上に各切断面を突き合わせて載置した後、紫外線や熱等の刺激により前記接着テープを硬化させることにより上記複数の分割型を結合して上記型とするものである。これにより、切断面に接着材等を塗布することなく基板の接合が可能になるため、接合部のつなぎ目が目立つことがない。
本発明に係るマイクロレンズシートの製造装置は、複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズシートの製造装置であって、レーザビームを、マイクロレンズシートを作製する型となるべき基材上に形成された薄膜に照射して複数のマイクロレンズに対応した複数のエッチング用穴を形成するレーザ加工装置と、基材の加工始点に形成した亀裂を、レーザビームの照射により発生する熱応力を利用して割断予定線に沿って誘導することにより基材を複数の分割基材に割断するレーザ割断装置と、複数のエッチング用穴を介して複数の分割基材をエッチングし、複数のマイクロレンズに対応した複数の凹部を形成して複数の分割型とするエッチング装置とを備えているものである。本発明によれば、高い歩留まりで高品質のマイクロレンズシートを製造するための型を作製することができる。
また、上記の製造装置において、レーザ割断装置は、レーザビームを回折光学素子により回折させて所定の照射形状及び強度分布を有するレーザビームを生成し、その生成されたレーザビームを基材に照射するものである。これにより、基材を溶断することなく必要な温度勾配を得ることができるので精度の高い割断が可能となる。基材の端部での切り残しの発生を少なくすることができるので、材料むだの発生を低減することができる。溶断後直ちに割断を行う場合には、短時間で精度の高い割断が可能となる。また基材の端部での切り残しの発生を防止することができる。
また、上記の製造装置において、レーザ割断装置は、レーザビームを回折光学素子により回折させて所定の照射形状及び強度分布を有するレーザビームを生成し、その生成されたレーザビームを基材に照射するものである。これにより、基材を溶断することなく必要な温度勾配を得ることができるので精度の高い割断が可能となる。基材の端部での切り残しの発生を少なくすることができるので、材料むだの発生を低減することができる。溶断後直ちに割断を行う場合には、短時間で精度の高い割断が可能となる。また基材の端部での切り残しの発生を防止することができる。
また、上記の製造装置において、エッチング装置は、各切断面のエッチングを防止するためのマスキングテープが貼付された複数の分割基材をエッチングするものである。これにより、複数の分割基材の各切断面のエッチングを防止することができる。
また、上記の製造装置において、レーザ加工装置は、基材の切断部分を挟んだ隣接するエッチング用穴のピッチを、エッチングによる除去量を考慮して、他の領域に属して隣接するエッチング用穴のピッチよりも広くなるように形成するものである。これにより、マスキングテープを貼付することなく、複数の分割基材の各切断面のエッチングを防止することができる。
また、上記の製造装置において、レーザ加工装置は、基材の切断部分を挟んだ隣接するエッチング用穴のピッチを、エッチングによる除去量を考慮して、他の領域に属して隣接するエッチング用穴のピッチよりも広くなるように形成するものである。これにより、マスキングテープを貼付することなく、複数の分割基材の各切断面のエッチングを防止することができる。
本発明に係る投写スクリーンの製造方法は、上記したいずれかのマイクロレンズシートの製造方法を用いて製造したマイクロレンズシートの、複数のマイクロレンズが形成された側がフレネルレンズを有するフレネルシート側に対向するようにフレネルシートに平行に配設して、投写スクリーンを構成するものである。本発明によれば、高い歩留まりで高品質の投写スクリーンを作製することができる。
また、本発明に係る投写スクリーンの製造方法は、上記したいずれかのマイクロレンズシートの製造装置を用いて製造したマイクロレンズシートの、複数のマイクロレンズが形成された側がフレネルレンズを有するフレネルシート側に対向するようにフレネルシートに平行に配設して、投写スクリーンを構成するものである。本発明によれば、高い歩留まりで高品質の投写スクリーンを作製することができる。
また、本発明に係る投写スクリーンの製造方法は、上記したいずれかのマイクロレンズシートの製造装置を用いて製造したマイクロレンズシートの、複数のマイクロレンズが形成された側がフレネルレンズを有するフレネルシート側に対向するようにフレネルシートに平行に配設して、投写スクリーンを構成するものである。本発明によれば、高い歩留まりで高品質の投写スクリーンを作製することができる。
本発明に係る投写スクリーンは、上記したいずれかのマイクロレンズシートの製造方法を用いて製造したマイクロレンズシートを備えたものである。本発明によれば、高い歩留まりで高品質の投写スクリーンを得ることができる。
また、本発明に係る投写スクリーンは、上記したいずれかのマイクロレンズシートの製造装置を用いて製造したマイクロレンズシートを備えたものである。本発明によれば、高い歩留まりで高品質の投写スクリーンを得ることができる。
また、本発明に係る投写スクリーンは、マイクロレンズシートのマイクロレンズと対向するように配設されたフレネルレンズを有するフレネルシートを備えたものである。本発明によれば、高い歩留まりで高品質の投写スクリーンを得ることができる。
また、本発明に係る投写スクリーンは、上記したいずれかのマイクロレンズシートの製造装置を用いて製造したマイクロレンズシートを備えたものである。本発明によれば、高い歩留まりで高品質の投写スクリーンを得ることができる。
また、本発明に係る投写スクリーンは、マイクロレンズシートのマイクロレンズと対向するように配設されたフレネルレンズを有するフレネルシートを備えたものである。本発明によれば、高い歩留まりで高品質の投写スクリーンを得ることができる。
図1は、本発明の実施の形態であるマイクロレンズシートの製造装置を構成するレーザ加工装置1の構成を示す概略図である。
この例のレーザ加工装置1は、レーザ発振器2と、集光レンズ3と、XYテーブル4とから概略構成されている。レーザ発振器2は、例えば、Nd:YAG( Neodymium : Yttrium Aluminum Garnet )レーザであり、ピーク出力1〜数kW、波長0.532μm、パルス幅0.1〜100.0msのレーザビーム5を発振して出射する。集光レンズ3は、レーザビーム5を集光してXYテーブル4上に載置された被加工物である基材6の表面に形成された金属膜(図示略)からエッチングマスク7を作製するためにエッチング用穴8を形成する加工点61に照射する。基材6は、例えば、矩形状のガラス基板や石英基板からなり、40〜70インチの画面サイズを有する映像投写装置の投写スクリーンを構成するマイクロレンズシートを形成するための型となる。エッチングマスク7は、例えば、金(Au)やクロム(Cr)等の金属膜からなる。XYテーブル4は、基材6が載置され、図示せぬ制御手段によりX軸方向又はY軸方向に移動可能に構成されている。
この例のレーザ加工装置1は、レーザ発振器2と、集光レンズ3と、XYテーブル4とから概略構成されている。レーザ発振器2は、例えば、Nd:YAG( Neodymium : Yttrium Aluminum Garnet )レーザであり、ピーク出力1〜数kW、波長0.532μm、パルス幅0.1〜100.0msのレーザビーム5を発振して出射する。集光レンズ3は、レーザビーム5を集光してXYテーブル4上に載置された被加工物である基材6の表面に形成された金属膜(図示略)からエッチングマスク7を作製するためにエッチング用穴8を形成する加工点61に照射する。基材6は、例えば、矩形状のガラス基板や石英基板からなり、40〜70インチの画面サイズを有する映像投写装置の投写スクリーンを構成するマイクロレンズシートを形成するための型となる。エッチングマスク7は、例えば、金(Au)やクロム(Cr)等の金属膜からなる。XYテーブル4は、基材6が載置され、図示せぬ制御手段によりX軸方向又はY軸方向に移動可能に構成されている。
次に、図2は、上記マイクロレンズシートの製造装置を構成するレーザ割断装置11の構成を示す概略図である。
この例のレーザ割断装置11は、レーザ発振器12と、集光レンズ13と、XYテーブル14とから概略構成されている。レーザ発振器12は、例えば、炭酸ガスレーザであり、連続発振出力数十W、波長10.6μm、スポット径が数mmであるレーザビーム15を発振して出射する。集光レンズ13は、レーザビーム15を集光してXYテーブル14上に載置された被加工物である基材6の裏面に照射する。この例のレーザ割断装置11は、レーザビーム15の照射により発生する熱応力を利用して、基材6の裏面端部に予め形成された図示せぬ亀裂を図中矢印方向に成長させて割断を進行させる。XYテーブル14は、基材6が載置され、図示せぬ制御手段によりX軸方向又はY軸方向に移動可能に構成されている。
この例のレーザ割断装置11は、レーザ発振器12と、集光レンズ13と、XYテーブル14とから概略構成されている。レーザ発振器12は、例えば、炭酸ガスレーザであり、連続発振出力数十W、波長10.6μm、スポット径が数mmであるレーザビーム15を発振して出射する。集光レンズ13は、レーザビーム15を集光してXYテーブル14上に載置された被加工物である基材6の裏面に照射する。この例のレーザ割断装置11は、レーザビーム15の照射により発生する熱応力を利用して、基材6の裏面端部に予め形成された図示せぬ亀裂を図中矢印方向に成長させて割断を進行させる。XYテーブル14は、基材6が載置され、図示せぬ制御手段によりX軸方向又はY軸方向に移動可能に構成されている。
次に、上記構成のマイクロレンズシートの製造装置を用いたマイクロレンズシートの製造方法について説明する。まず、基材6の上面に、図3(a)に示すように、化学的蒸着(CVD:Chemical Vapor Deposition)装置や物理的蒸着(PVD:Physical Vapor Deposition)装置を使用して、金(Au)やクロム(Cr)等の金属膜(薄膜)9を形成する。PVD装置としては、例えば、スパッタリング装置、真空蒸着装置、あるいはイオンプレーティング装置等がある。金属膜9の膜厚は、例えば、0.1μmとする。具体的には、クロム(Cr)膜の場合にはその膜厚を0.1μmとすれば良いが、金(Au)膜の場合には基材6との密着性が良好でないことから、膜厚が例えば0.03μmであるクロム(Cr)膜を形成した後、膜厚が例えば0.07μmである金(Au)膜を形成する。
次に、図3(b)に示すように、基材6の上面に形成された金属膜9においてマイクロレンズ26a(図8参照)に対応した位置に、図1に示すレーザ加工装置1を用いて多数のエッチング用穴8を形成することにより、エッチングマスク7を作製する。このエッチングマスク7を作製する場合、まず、その上面に金属膜9が形成された基材6を図1に示すXYテーブル4上に載置し、レーザビーム5がエッチング用穴8が形成される位置に照射されるようにXYテーブル4を移動させる。次に、レーザ発振器2を駆動させ、エッチング用穴8を形成する加工点61に、レーザ発振器2から出射されて集光レンズ3で集光されたレーザビーム5を照射して、エッチング用穴8を形成する。そして、XYテーブル4を次のエッチング用穴8を形成する位置に移動させ、次のエッチング用穴8を形成する加工点61にレーザビーム5を照射して、エッチング用穴8を形成する。同様に複数のエッチング用穴8を形成する加工を行う。なお、エッチング用穴8は、マイクロレンズ26a(図8参照)に対応した凹部22(図6参照)がエッチングできるものであれば、大きさ、形状、個数及び配置等はこれに限定するものではない。
次に、図3(c)に示すように、図2に示すレーザ割断装置11を構成するXYテーブル14上に、エッチングマスク7側がXYテーブル14に接触するように基材6を載置した後、図3(d)、図4(a)及び図5に示すように、基材6の中心点6c上を通る割断予定線18aと短辺6aとの交点である短辺端部6a1(加工始点)に、ホイール16を接触させて所定の荷重Pを加えることにより、初期亀裂19aを形成する。図4(a)は図3(d)の右側面図である。次に、レーザビーム15が初期亀裂19aに照射されるようにXYテーブル14を移動させた後、レーザ発振器12を駆動させ、図3(e)及び図4(b)に示すように、レーザ発振器12から出射されて集光レンズ13で集光されたレーザビーム15を割断予定線18a上に図3(e)に示す矢印方向に移動させつつ照射して、基材6を1/2に切断する(図4(c)参照)。図4(b)は図3(e)の右側面図である。
次に、XYテーブル14を90度回転させ、図5に示すように、基材6の中心点6c上を通る割断予定線18bと長辺6bとの交点である長辺端部6b1(加工始点)に、ホイール16を接触させて所定の荷重Pを加えることにより、初期亀裂19bを形成する。次に、レーザビーム15が初期亀裂19bに照射されるようにXYテーブル14を移動させた後、レーザ発振器12を駆動させ、図3(e)及び図4(b)に示すように、レーザ発振器12から出射されて集光レンズ13で集光されたレーザビーム15を割断予定線18b上に図3(e)に示す矢印方向に移動させつつ照射して、基材6の半分を切断する。残りの基材6も同様な方法で半分に切断し、基材6を1/4に切断する(図4(c)参照)。
次に、基材6を1/4に切断することにより作製された4個の分割基材6dの各切断面に、図4(d)に示すように、次のウエットエッチング工程での切断面のエッチングを防止するために、マスキングテープ17を貼付する。次に、図示せぬウエットエッチング装置を使用して、例えば、フッ化水素酸(HF)により4個の分割基材6dのうち不要な部分を除去して図6(a)に示す凹部22を形成する。次に、図示せぬウエットエッチング装置を使用して、例えば、塩酸又は硫酸(クロム膜の場合)、あるいは王水又は酸素や水の存在下でシアン化物イオンを含む溶液(金膜の場合)によりエッチングマスク7を除去した後、マスキングテープ17を剥がして、図6(b)に示すように、複数の凹部22が形成された分割型21を得る。
次に、図6(c)に示すように、紫外線( UV:Ultra Violet )硬化型の接着テープ23上に4個の分割型21を載置し、それぞれの切断面を突き合わせた後、図6(d)に示すように、UV光を照射して、接着テープ23を硬化させて4個の分割型21を結合することにより、型24を作製する。次に、図7(a)に示すように、型24の凹部22が形成された上面に、所定の厚さの例えばPMMA(ポリメタクリル酸メチル(ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂))などの熱可塑性の樹脂25を熱を加えながら押し当てて、図7(b)に示すように、型24の形状を樹脂25に転写する。そして、樹脂25を型24から引き離し、一方の面に複数のマイクロレンズ26aが形成されたマイクロレンズシート26を作製する。なお、マイクロレンズ26aのピッチは例えば、100μmである。
このように作製されたマイクロレンズシート26は、図8に示すように、複数のマイクロレンズ26aが形成された側がフレネルレンズを有するフレネルシート32側に対向するように、フレネルシート32に平行に配設し、投写スクリーン31を構成する。そして、図示せぬ投写レンズからの入射光Lが照射されると、フレネルシート32は入射光Lを略平行光に変換し、マイクロレンズシート26はマイクロレンズ26aにより略平行光を水平方向及び垂直方向に拡散して、ユーザに光(映像)を到達させる。
このように、この例の構成によれば、大型の画面サイズを有するマイクロレンズシートを形成するための型となるべき基材6上にエッチングマスク7を形成した後、凹部22を形成する前に、レーザ割断装置11を用いて分割基材6dを4個に切断幅がゼロで分割し、ウエットエッチングにより凹部22を形成している。大基板を小片にすることで、エッチング液内の温度ムラ、エッチング液の攪拌又は型となるべきガラス基板や石英基板からなる基材の揺動により発生するエッチング液の淀み、あるいはエッチング液の濃度ムラの制御が容易になる。これにより、基材6を均一にエッチングすることができ、ほぼ同一形状のマイクロレンズ26aとなる凹部22を形成することができる。また、4個の分割型21は、繋ぎ目が目立つことなく切断面同士を結合することができ、高品質の型24を作製することができる。このため、高い歩留まりで高品質のマイクロレンズシートを製造することができる。
以上、この実施の形態を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。
例えば、上述の実施の形態では、レーザ加工装置1及びレーザ割断装置11においていずれもXYテーブル4及び14を移動させる例を示したが、これに限定されない。例えば、レーザ加工装置1の場合は、レーザ発振器2及び集光レンズ3をX軸又はY軸方向に移動可能に構成してもよい。一方、レーザ割断装置11の場合は、レーザ発振器12及び集光レンズ13をX軸又はY軸方向に移動可能に構成してもよい。また、基材6が載置されたXYテーブル4及び14をガラスチャンバー等で囲い、基材6への異物等の付着を防止するようにしても良い。
例えば、上述の実施の形態では、レーザ加工装置1及びレーザ割断装置11においていずれもXYテーブル4及び14を移動させる例を示したが、これに限定されない。例えば、レーザ加工装置1の場合は、レーザ発振器2及び集光レンズ3をX軸又はY軸方向に移動可能に構成してもよい。一方、レーザ割断装置11の場合は、レーザ発振器12及び集光レンズ13をX軸又はY軸方向に移動可能に構成してもよい。また、基材6が載置されたXYテーブル4及び14をガラスチャンバー等で囲い、基材6への異物等の付着を防止するようにしても良い。
また、上述の実施の形態では、エッチングマスク7を形成した後に基材6を4個に分割する例を示したが、これに限定されず、その表面に金属膜9が形成された基材6を4個に分割した後、エッチングマスク7を形成しても良い。また、上述の実施の形態では、基材6を4個に分割する例を示したが、これに限定されず、2個、3個、5個、6個、あるいは8個に分割しても良い。また、上述の実施の形態では、金属膜9を基材6の上面だけに形成する例を示したが、これに限定されず、金属膜9は基材6の裏面に形成しても良い。
また、上述の実施の形態では、図4(d)に示すように、基材6を4個に分割した後、各切断面にマスキングテープ17を貼付する例を示したが、これに限定されない。例えば、図9に示すように、切断部分CPを挟んだ隣接するエッチング用穴8のピッチP2を、エッチングによる除去量を考慮して、他の領域に属して隣接するエッチング用穴8のピッチP1よりも広くしてエッチングマスク10を形成しても良い。何故なら、ウエットエッチングは等方性を有するため、分割基材6dの各切断面の形状はエッチングを行っても変化しないからである。したがって、エッチング後の分割型21の各切断面を突き合わせた場合でも、上記した実施の形態の場合と同様、完全に切断面同士を結合することができる。
また、上述の実施の形態では、分割型21を接合するのに紫外線硬化型の接着テープを用いる例を示したが、これに限定されず、電子ビーム(EB)や熱等で硬化するタイプの接着テープを用いても良い。紫外線硬化型、電子ビーム(EB)硬化型、熱硬化型を総称して、後硬化型という。
また、上述の実施の形態では、レーザ加工装置1を構成するレーザ発振器2と、レーザ割断装置11を構成するレーザ発振器12とは異なる例を示したが、これに限定されず、同一のレーザ発振器を用いても良い。
また、上述の実施の形態では、分割型21を接合するのに紫外線硬化型の接着テープを用いる例を示したが、これに限定されず、電子ビーム(EB)や熱等で硬化するタイプの接着テープを用いても良い。紫外線硬化型、電子ビーム(EB)硬化型、熱硬化型を総称して、後硬化型という。
また、上述の実施の形態では、レーザ加工装置1を構成するレーザ発振器2と、レーザ割断装置11を構成するレーザ発振器12とは異なる例を示したが、これに限定されず、同一のレーザ発振器を用いても良い。
また、上述の実施の形態では、図2に示すレーザ割断装置11を用いる例を示したが、これに限定されず、図10に示すレーザ割断装置41を用いても良い。図10において、図2の各部に対応する部分には同一の符号を付け、その説明を省略する。図10に示すレーザ割断装置41においては、図2に示す集光レンズ13に換えて、回折光学素子42及び回折光学素子移動装置43が新たに設けられている。回折光学素子42は、レーザ発振器12から出射されたレーザビーム15を回折して所定の照射形状及び強度分布を生成するために配置されている。また、回折光学素子42は、回折された照射ビーム44が所定の照射形状及び強度分布となるよう予め設計製作されたものである。回折光学素子42には、透過型と反射型があるが、それらのいずれも使用することができる。回折光学素子移動装置43は、回折光学素子42とそこへ入射するレーザビーム15との相対位置を変更するために、回折光学素子42を移動させる。
回折光学素子42は、表面凹凸型素子としてフォトレジスト露光とドライエッチングにより、透過型の場合には、使用波長に対して十分に透明な素材上に形成する。その素材としては、例えば、炭酸ガスレーザ(波長10.6μm)に対してはセレン化亜鉛(ZnSe)やゲルマニウム(Ge)を使用することができる。Nd:YAGレーザ(波長1.06μm)に対しては石英基板を使用することができる。また、反射型の場合には、凹凸形状を使用波長に対して十分に反射率が高い素材表面に形成する。例えば、レジストパターンからニッケル(Ni)電鋳により素子を作製することもできる。波長10.6μmの光がニッケル(Ni)中へ侵入する深さは〜10nmであるため、ニッケル(Ni)めっき層を十分に厚く(例えば、〜300μm)すれば十分に高い光利用効率(>95%)が得られる。
上記したレーザ割断装置41によれば以下のような効果を期待することができる。
(1)基材6を溶断することなく必要な温度勾配を得ることができるので精度の高い割断が可能となる。
(2)基材6の端部での切り残しの発生を防止することができる。
(3)溶断後直ちに割断を行う場合には、短時間で精度の高い割断が可能となる。
また、上記したレーザ割断装置41によれば、以上の効果を簡便な装置構成で実現できる。また、所望の照射形状が得られる回折光学素子42を予め準備しておくことで、簡単に照射形状の変更をすることが可能となる。
(1)基材6を溶断することなく必要な温度勾配を得ることができるので精度の高い割断が可能となる。
(2)基材6の端部での切り残しの発生を防止することができる。
(3)溶断後直ちに割断を行う場合には、短時間で精度の高い割断が可能となる。
また、上記したレーザ割断装置41によれば、以上の効果を簡便な装置構成で実現できる。また、所望の照射形状が得られる回折光学素子42を予め準備しておくことで、簡単に照射形状の変更をすることが可能となる。
1 レーザ加工装置、2,12 レーザ発振器、3,13 集光レンズ、4,14 XYテーブル、5,15 レーザビーム、6 基材、61 加工点、6a 短辺、6a1 短辺端部、6b 長辺、6b1 長辺端部、6c 中心点、6d 分割基材、7 エッチングマスク、8 エッチング用穴、9 金属膜、10 エッチングマスク、11,41 レーザ割断装置、16 ホイール、17 マスキングテープ、18a,18b 割断予定線、19a,19b 初期亀裂、21 分割型、22 凹部、23 接着テープ、24 型、25 樹脂、26 マイクロレンズシート、26a マイクロレンズ、31 投写スクリーン、32 フレネルシート、42 回折光学素子、43 回折光学素子移動装置、44 照射ビーム。
Claims (14)
- 複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズシートの製造方法であって、
レーザビームを、前記マイクロレンズシートを作製する型となるべき基材上に形成された薄膜に照射して前記複数のマイクロレンズに対応した複数のエッチング用穴を形成する第1の工程と、
前記基材の加工始点に形成した亀裂を、レーザビームの照射により発生する熱応力を利用して割断予定線に沿って誘導することにより前記基材を複数の分割基材に割断する第2の工程と、
前記複数のエッチング用穴を介して前記複数の分割基材をエッチングし、前記複数のマイクロレンズに対応した複数の凹部を形成して複数の分割型とする第3の工程と、
前記複数の分割型を結合して前記マイクロレンズシートを作製する型とする第4の工程と
を有することを特徴とするマイクロレンズシートの製造方法。 - 前記第2の工程では、前記レーザビームを回折光学素子により回折させて所定の照射形状及び強度分布を有するレーザビームを生成し、その生成されたレーザビームを前記基材に照射することを特徴とする請求項1記載のマイクロレンズシートの製造方法。
- 前記第3の工程では、前記複数の分割基材の各切断面に、前記各切断面のエッチングを防止するためのマスキングテープを貼付した後、前記複数の分割基材をエッチングすることを特徴とする請求項1又は2記載のマイクロレンズシートの製造方法。
- 前記第1の工程では、前記基材の切断部分を挟んだ隣接する前記エッチング用穴のピッチを、前記エッチングによる除去量を考慮して、他の領域に属して隣接する前記エッチング用穴のピッチよりも広くなるように形成することを特徴とする請求項1又は2記載のマイクロレンズシートの製造方法。
- 前記第4の工程では、前記複数の分割型を後硬化型の接着テープ上に各切断面を突き合わせて載置した後、紫外線や熱等の刺激により前記接着テープを硬化させることにより前記複数の分割型を結合して前記型とすることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のマイクロレンズシートの製造方法。
- 複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズシートの製造装置であって、
レーザビームを、前記マイクロレンズシートを作製する型となるべき基材上に形成された薄膜に照射して前記複数のマイクロレンズに対応した複数のエッチング用穴を形成するレーザ加工装置と、
前記基材の加工始点に形成した亀裂を、レーザビームの照射により発生する熱応力を利用して割断予定線に沿って誘導することにより前記基材を複数の分割基材に割断するレーザ割断装置と、
前記複数のエッチング用穴を介して前記複数の分割基材をエッチングし、前記複数のマイクロレンズに対応した複数の凹部を形成して複数の分割型とするエッチング装置と
を備えていることを特徴とするマイクロレンズシートの製造装置。 - 前記レーザ割断装置は、前記レーザビームを回折光学素子により回折させて所定の照射形状及び強度分布を有するレーザビームを生成し、その生成されたレーザビームを前記基材に照射することを特徴とする請求項6記載のマイクロレンズシートの製造装置。
- 前記エッチング装置は、各切断面のエッチングを防止するためのマスキングテープが貼付された前記複数の分割基材をエッチングすることを特徴とする請求項6又は7記載のマイクロレンズシートの製造装置。
- 前記レーザ加工装置は、前記基材の切断部分を挟んだ隣接する前記エッチング用穴のピッチを、前記エッチングによる除去量を考慮して、他の領域に属して隣接する前記エッチング用穴のピッチよりも広くなるように形成することを特徴とする請求項6又は7記載のマイクロレンズシートの製造装置。
- 請求項1乃至5のいずれかに記載のマイクロレンズシートの製造方法を用いて製造したマイクロレンズシートの、前記複数のマイクロレンズが形成された側がフレネルレンズを有するフレネルシート側に対向するように前記フレネルシートに平行に配設して、投写スクリーンを構成することを特徴とする投写スクリーンの製造方法。
- 請求項6乃至9のいずれかに記載のマイクロレンズシートの製造装置を用いて製造したマイクロレンズシートの、前記複数のマイクロレンズが形成された側がフレネルレンズを有するフレネルシート側に対向するように前記フレネルシートに平行に配設して、投写スクリーンを構成することを特徴とする投写スクリーンの製造方法。
- 請求項1乃至5のいずれかに記載のマイクロレンズシートの製造方法を用いて製造したマイクロレンズシートを備えたことを特徴とする投写スクリーン。
- 請求項6乃至9のいずれかに記載のマイクロレンズシートの製造装置を用いて製造したマイクロレンズシートを備えたことを特徴とする投写スクリーン。
- 前記マイクロレンズシートのマイクロレンズと対向するように配設されたフレネルレンズを有するフレネルシートを備えたことを特徴とする請求項12又は13記載の投写スクリーン。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003355363A JP2005121814A (ja) | 2003-10-15 | 2003-10-15 | マイクロレンズシートの製造方法、その装置、投写スクリーンの製造方法及び投写スクリーン |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2003355363A JP2005121814A (ja) | 2003-10-15 | 2003-10-15 | マイクロレンズシートの製造方法、その装置、投写スクリーンの製造方法及び投写スクリーン |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005121814A true JP2005121814A (ja) | 2005-05-12 |
Family
ID=34612987
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JP2003355363A Withdrawn JP2005121814A (ja) | 2003-10-15 | 2003-10-15 | マイクロレンズシートの製造方法、その装置、投写スクリーンの製造方法及び投写スクリーン |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2005121814A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007090769A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Saitama Univ | ガラス型の製造方法およびアクリル系樹脂板の製造方法 |
CN106226851A (zh) * | 2016-10-20 | 2016-12-14 | 北京理工大学 | 一种微透镜阵列和其制造方法 |
CN106249323A (zh) * | 2016-10-20 | 2016-12-21 | 北京理工大学 | 一种微透镜阵列模具和其制造方法 |
-
2003
- 2003-10-15 JP JP2003355363A patent/JP2005121814A/ja not_active Withdrawn
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CN106226851B (zh) * | 2016-10-20 | 2020-08-07 | 北京理工大学 | 一种微透镜阵列和其制造方法 |
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