JP2005120393A - 超精密研磨方法及び超精密研磨装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガスクラスターイオンビーム10を被加工物の表面に向かって照射させる照射手段と、ガスクラスタービーム10が照射される被加工物12の表面位置を変えるために照射手段と被加工物12とを相対的に移動させる移動手段13,14と、被加工物12の表面位置に対し、ガスクラスタービーム10を照射する照射時間を制御する制御手段100とを具備する。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の超精密研磨に用いるガスクラスターイオンビーム加工装置を示す。
照射時間=(照射ドーズ量×照射面積×電気素量e)/(検出イオン電流量)…式(1)
図6は本発明の実施の形態2を示す。この実施の形態では、被加工物として、凸形状の球面成形型20に対する加工を行うものである。
2 作動排気部
3 イオン化部
10 ガスクラスターイオンビーム
12 平面成形型
Claims (7)
- 被加工物の表面位置に対して照射するガスクラスターイオンビームの照射時間を制御して被加工物の表面の形状創成及び研磨を行うことを特徴とする超精密研磨方法。
- 被加工物の表面形状と被加工物の目標形状との形状差及びガスクラスターイオンビームの照射ドーズ量に対するスパッタリング深さのデータに基づいて被加工物の表面位置に対するガスクラスタービームの照射時間を算出する工程と、
算出された照射時間に基づいて、ガスクラスタービームの照射時間を被加工物の表面位置によって変化させることにより被加工物の表面の形状創成及び研磨を行う工程と、
を有することを特徴とする超精密研磨方法。 - 前記ガスクラスタービームの照射方向が被加工物の表面に対して垂直であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の超精密研磨方法。
- 前記ガスクラスタービームの照射方向と被加工物の表面とが常に垂直になるように、ガスクラスタービームを照射する照射手段と、前記被加工物とを相対的に揺動させることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の超精密研磨方法。
- ガスクラスターイオンビームを被加工物の表面に向かって照射させる照射手段と、
ガスクラスタービームが照射される被加工物の表面位置を変えるために、前記照射手段と被加工物とを相対的に移動させる移動手段と、
被加工物の表面位置に対し、ガスクラスタービームを照射する照射時間を制御する制御手段と、を具備することを特徴とする超精密研磨装置。 - ガラスクラスターイオンビームを被加工物の表面に向かって照射させる照射手段と、
ガスクラスタービームが照射される被加工物の表面位置を変えるために、前記照射手段と被加工物とを相対的に移動させる移動手段と、
被加工物の表面形状と被加工物の目標形状との形状差及びガスクラスタービームの照射ドーズ量に対するスパッタリング深さのデータに基づいて被加工物の表面位置に対するガスクラスタービームの照射時間を算出する算出手段と、
算出手段で算出された照射時間に基づいて前記移動手段を制御してガスクラスタービームの照射時間を被加工物の表面位置によって変化させる制御手段と、
を具備することを特徴とする超精密研磨装置。 - 前記照射手段から照射されるガスクラスタービームの照射方向と被加工物の表面とが常に垂直になるように照射手段と被加工物とを相対的に揺動させる揺動手段をさらに具備することを特徴とする請求項5または請求項6に記載の超精密研磨装置。
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