JP2005116902A - Method for mounting version-number information managing circuit to semiconductor integrated circuit - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、半導体集積回路への版数情報管理回路の実装方法に係り、例えば、LSI等の半導体集積回路に実装され、同一品種で機能変更を行った半導体集積回路を識別するための版数情報を保持して管理する半導体集積回路への版数情報管理回路の実装方法に関する。 The present invention relates to a method of mounting a version number information management circuit on a semiconductor integrated circuit, for example, a version number for identifying a semiconductor integrated circuit that is mounted on a semiconductor integrated circuit such as an LSI and whose function has been changed for the same product type. The present invention relates to a method of mounting a version number information management circuit on a semiconductor integrated circuit that holds and manages information.
大規模集積回路(LSI)、超大規模集積回路(VLSI)、あるいは超々大規模集積回路(ULSI)等の半導体集積回路は、近年、高集積化、高密度化が進められるのに伴って、百万個以上のトランジスタから構成されるものが実現可能となっている。
中央処理装置(CPU)、記憶装置(ROM、RAM)、バッファ、各種の信号処理を行う複数個の周辺装置等をバスや信号線等を介して接続して構成したシステムを、1個の半導体チップ内に組み込んだシステムLSIがその一例である。
Semiconductor integrated circuits such as large-scale integrated circuits (LSIs), ultra-large scale integrated circuits (VLSI), or ultra-large scale integrated circuits (ULSI) have recently become more and more highly integrated and more dense. What consists of more than 10,000 transistors can be realized.
A system in which a central processing unit (CPU), a storage device (ROM, RAM), a buffer, and a plurality of peripheral devices that perform various signal processing are connected via a bus, signal line, etc. One example is a system LSI incorporated in a chip.
このようなシステムLSIに例えば論理的誤りが検出された場合に、このLSIを再度作り直さなくても、簡単な配線の変更等によって、論理的誤りの訂正が可能となることがある。
例えば、図10に示すように、基板上の所定の領域に、インスタンスとしてのレジスタ101,102,103、OR回路104、AND回路105、レジスタ106,107が形成され、レジスタ101,102とOR回路104の入力側とが接続され、レジスタ102,103とAND回路105の入力側とが接続され、OR回路104の出力側とレジスタ106とが接続され、AND回路105の出力側とレジスタ107とが接続されているものとする。
レジスタ106に格納されるデータは、レジスタ101,102の出力をOR回路104によってOR演算した結果であり、レジスタ107に格納されるデータは、レジスタ102,103の出力をAND回路105によってAND演算した結果である。
For example, when a logical error is detected in such a system LSI, it may be possible to correct the logical error by simply changing the wiring without re-creating the LSI.
For example, as shown in FIG. 10,
The data stored in the
ここで、論理的に誤りがあったとする。すなわち、AND回路105には、レジスタ102,103の出力ではなく、図11に示すように、OR回路104の演算結果と、レジスタ103の出力とが入力されるように接続されていなければならなかったものとする。
この場合は、同図に示すように、レジスタ102とAND回路105の入力側との接続を断って、OR回路104の出力側とAND回路105の入力側との接続を追加することによって論理的な誤りを訂正することができる。
Here, it is assumed that there is a logical error. That is, the
In this case, as shown in the figure, the connection between the
ところで、LSIは、多層配線構造を有しており、例えば、図12に示すように、LSIを構成する回路素子やマクロセル等の機能ブロックの入出力端子が形成された端子形成層M0と、入出力端子同士を接続するための配線が行われる第1配線層M1,第2配線層M2,第3配線層M3,第4配線層M4とを備えてなっている。
例えば、同図に示すように、任意の回路素子108,109同士を接続する場合、回路素子108の出力端子108bと回路素子109の入力端子108aとを、第1配線層M1,第2配線層M2,第3配線層M3,第4配線層M4を用いて配線して接続する。
ここで、例えば、回路素子108,109間の上方の第1配線層M1,第2配線層M2,第3配線層M3上に、それぞれ他の配線(同図中太破線によって示す)が形成されている場合には、これらの配線を避けるために、第1配線層M1,第2配線層M2,第3配線層M3,第4配線層M4を経由して配線を行う。
By the way, the LSI has a multilayer wiring structure. For example, as shown in FIG. 12, a terminal forming layer M 0 in which input / output terminals of functional blocks such as circuit elements and macro cells constituting the LSI are formed; A first wiring layer M 1 , a second wiring layer M 2 , a third wiring layer M 3 , and a fourth wiring layer M 4 are provided for wiring for connecting the input / output terminals.
For example, as shown in the figure, when
Here, for example, on the first wiring layer M 1 , second wiring layer M 2 , and third wiring layer M 3 above the
図10の回路図に示すような回路は、実際には、図13に示すように、基板上111に、回路素子としてのレジスタ102や、OR回路104、AND回路105、レジスタ106等が配置され、各配線層M1(M2,M3,M4)に配線が形成されてそれそれ接続されてなっている。
訂正前の各回路素子間の接続関係について説明する。同図に示すように、レジスタ102とOR回路104とは、第1配線層M1上の配線N1a、第2配線層M2上の配線N2a、第3配線層M3上の配線N3a、第4配線層M4上の配線N4a、第3配線層M3上の配線N3b、第2配線層M2上の配線N2b、第1配線層M1上の配線N1bを経由して接続されている。
The circuit shown in the circuit diagram of FIG. 10 is actually provided with a
The connection relationship between each circuit element before correction will be described. As shown in the figure, the
また、レジスタ102とAND回路105とは、第1配線層M1上の配線N1a、第2配線層M2上の配線N2a、第3配線層M3上の配線N3a、第4配線層M4上の配線N4a、第3配線層M3上の配線N3c、第2配線層M2上の配線N2c、第1配線層M1上の配線N1cを経由して接続されている。
また、OR回路104とレジスタ106とは、第1配線層M1上の配線N1d、第2配線層M2上の配線N2d、第3配線層M3上の配線N3d、第4配線層M4上の配線N4b、第3配線層M3上の配線N3e、第2配線層M2上の配線N2e、第1配線層M1上の配線N1eを経由して接続されている。
The
The
訂正後の各回路素子間の接続関係は、図14に示すように、第4配線層M4上の配線の一部が削除し、替わりに一部が追加されたものである。
すなわち、同図に示すように、レジスタ102とAND回路105の入力側とは、第4配線層M4上の配線N4aの一部配線N4am(図13参照)が削除されることによって、接続が断たれている。
また、OR回路104の出力側とAND回路105の入力側とは、第4配線層M4上の配線N4bの一部配線N4bmが追加されたことによって、新たに接続されている。
また、レジスタ102とOR回路104との接続関係、及びOR回路104とレジスタ106との接続関係の変更はない。
Connections between each circuit element after correction, as shown in FIG. 14, the fourth remove part of the wiring on the wiring layer M 4, in which part instead is added.
That is, as shown in the figure, the
Further, the input side of the output side and the
Further, the connection relationship between the
このように、最上層の第4配線層M4の配線の変更によって、論理的誤りの訂正が可能となる。
上述したように他の配線を避けるためのみならず、訂正を容易とするために、予め、各回路素子や配線の配置位置を工夫しておく技術が提案されている。
例えば、訂正や変更が生じ易いと予測される箇所(領域)には、接続対象の回路素子同士を隣接配置したり、配線を可能な限り多くの配線層を経由させると共に、互いに所定の離隔を保たせた配線対を各配線層に形成するようにする。
これによって、例えば論理的誤りが検出されたLSIを新たに作り直すことなく、例えば最上層の配線を若干変更するのみで、既に形成された部分を無駄にすることがないので、コストを低減することができる。
Thus, by changing the fourth wiring layer M 4 wiring of the uppermost layer, it is possible to correct the logical errors.
As described above, in order not only to avoid other wirings but also to facilitate correction, a technique has been proposed in which the arrangement positions of circuit elements and wirings are devised in advance.
For example, in a place (area) where it is predicted that correction or change is likely to occur, circuit elements to be connected are arranged adjacent to each other, wiring is routed through as many wiring layers as possible, and a predetermined distance from each other is provided. The maintained wiring pair is formed in each wiring layer.
As a result, it is possible to reduce the cost because, for example, the uppermost layer wiring is slightly changed without re-creating an LSI in which a logical error is detected, and the already formed portion is not wasted. Can do.
ところで、上述したLSIは、例えば回路素子間の配線の誤りの修正や、若干機能を変更するような修正を行った場合に、同一品種で機能変更を行ったLSIを識別するための版数情報を保持し、読み出すことができるように、版数情報管理回路を備えている(例えば、特許文献1、特許文献2参照。)。
この版数情報管理回路112は、図15及び図16に示すように、高電位保持回路113と、低電位保持回路114と、版数情報記憶レジスタ115,116と、版数情報出力部117とを有してなっている。
By the way, the above-mentioned LSI has version number information for identifying an LSI whose function has been changed for the same product type when, for example, correction of wiring errors between circuit elements or correction that slightly changes the function is performed. Is provided with a version number information management circuit (see, for example,
As shown in FIGS. 15 and 16, the version number information management circuit 112 includes a high
高電位保持回路113は、電源に接続されて、版数情報記憶レジスタ115,116に高電位を与えるための回路であり、例えば所定の回路素子118に接続されていると共に、必要に応じて版数情報記憶レジスタ115,116に接続される。
低電位保持回路114は、接地に接続されて、版数情報記憶レジスタ115,116に低電位を与えるための回路であり、初期状態では、版数情報記憶レジスタ115,116に接続されている。
The high
The low
また、版数情報記憶レジスタ115,116は、高電位保持回路113又は低電位保持回路114に接続され、「0」又は「1」の1ビットのデータを保持するレジスタである。
また、版数情報出力部117は、版数情報記憶レジスタ115,116からそれそれ1ビットのデータを読み出して版数情報として出力する回路である。
版数情報記憶レジスタ115,116の出力値b0,b1の組合せによって、版数が表現される。例えば、出力値b0,b1がそれぞれ「0」,「0」の場合は、版数は「0」(初期状態)、改版されて、出力値b0,b1がそれぞれ「0」,「1」の場合は、版数は「1」、出力値b0,b1がそれぞれ「1」,「0」の場合は、版数は「2」、出力値b0,b1がそれぞれ「1」,「1」の場合は、版数は「3」とされる。
The version number
The version number
The version number is expressed by a combination of the output values b 0 and b 1 of the version number
図15の回路図に示すような回路は、実際には、図17に示すように、基板上111に、回路素子としての高電位保持回路113や、低電位保持回路114、版数情報記憶レジスタ115,116等が配置され、例えば配線層M1,M2に配線が形成されてそれそれ接続されてなっている。
訂正前の各回路素子間の接続関係について説明する。同図に示すように、低電位保持回路114と版数情報記憶レジスタ115とは、第1配線層M1上の配線P1a、第2配線層M2上の配線P2a、第1配線層M1上の配線P1bを経由して接続されている。
The circuit as shown in the circuit diagram of FIG. 15 actually has a high
The connection relationship between each circuit element before correction will be described. As shown in the figure, the low
また、低電位保持回路114と版数情報記憶レジスタ116とは、第1配線層M1上の配線P1a、P1c、第2配線層M2上の配線P2b、第1配線層M1上の配線P1dを経由して接続されている。
また、高電位保持回路113と回路素子118とが、第1配線層M1上の配線P1e、第2配線層M2上の配線P2c、第1配線層M1上の配線P1fを経由して接続されている。
これによって、版数情報記憶レジスタ115,116の出力値b0,b1は、それぞれ「0」,「0」となり、版数は「0」である。
Also, the low
Also, the high
As a result, the output values b 0 and b 1 of the version number
例えばマクロセルを構成する所定の回路素子同士の接続関係を変更する必要がある場合に、版数を初期状態の「0」から改訂後の「1」に変更しようとするときは、図18に示すように、第1配線層M1上の配線の一部が削除し、替わりに一部が追加して、版数情報管理回路112を構成する回路素子間の接続関係を変更する。
すなわち、同図に示すように、低電位保持回路114と版数情報記憶レジスタ116とは、第1配線層M1上の配線P1c(図17参照)が削除されることによって、接続が断たれている。
For example, when it is necessary to change the connection relationship between predetermined circuit elements constituting a macro cell, the version number is changed from “0” in the initial state to “1” after revision as shown in FIG. as such, a portion of the first wiring layer M 1 on the wiring is removed, add part instead, it changes the connection relation between the circuit elements constituting the version information management circuit 112.
That is, as shown in the figure, the connection between the low
また、高電位保持回路113と版数情報記憶レジスタ116とは、第1配線層M1上の配線P1gが追加されたことによって、新たに接続されている。
また、低電位保持回路114と版数情報記憶レジスタ115との接続関係、及び高電位保持回路113と回路素子118との接続関係の変更はない。
これによって、版数情報記憶レジスタ115,116の出力値b0,b1は、それぞれ「0」,「1」となり、版数は「1」である。
このように、第1配線層M1の配線の変更によって、改版を示す版数情報の変更がなされる。
Further, the connection relationship between the low
As a result, the output values b 0 and b 1 of the version number information storage registers 115 and 116 become “0” and “1”, respectively, and the version number is “1”.
Thus, by changing the first wiring layer M 1 lines, changing the version information that indicates the revision is made.
解決しようとする問題点は、上記従来技術では、LSIの例えばマクロセルの所定の配線層の一部を変更(追加又は削除)するのにともなって、版数情報管理回路の配線層の一部を変更する場合に、両者の配線層が異なっているので、それぞれの配線層について、変更のためのマスクデータを作成し、かつ、フォトマスクを作成しなけらればならなくなるので、コストが嵩むという点である。 The problem to be solved is that, in the above prior art, a part of the wiring layer of the version number information management circuit is changed as a part of a predetermined wiring layer of an LSI, for example, a macro cell is changed (added or deleted). When changing, both wiring layers are different, so it is necessary to create mask data for changing each wiring layer and to create a photomask, which increases costs It is.
上記課題を解決するために、請求項1記載の発明は、同一品種で機能変更を行った半導体集積回路又は該半導体集積回路を構成する機能ブロックを識別するための版数情報を管理する版数情報管理回路の実装方法に係り、半導体チップ上に、半導体集積回路本体を構成する回路素子又は機能ブロックの入出力端子を形成すると共に、上記版数情報管理回路を構成し上記版数情報を格納するための複数のレジスタと、上記複数のレジスタのうち、所定の上記レジスタを第1の電位に保持するための第1の電位保持回路と、所定の上記レジスタを上記第1の電位よりも低い第2の電位に保持するための第2の電位保持回路とを形成する第1のステップと、多層構造の配線層を形成して、上記入出力端子間を接続すると共に、上記複数のレジスタのうち、所定の上記レジスタと、上記第1の電位保持回路又は上記第2の電位保持回路とを、所定の上記各レジスタに格納された情報の組合せが上記版数情報を表すように接続する第2のステップとを含み、 上記第2のステップでは、上記多層構造の全配線層のうち、上記入出力端子間の接続を行うための配線経路に含まれる所定の配線層を経由して、上記レジスタと上記第1の電位保持回路又は上記第2の電位保持回路とを接続することを特徴としている。
In order to solve the above problems, the invention described in
また、請求項2記載の発明は、請求項1記載の半導体集積回路への版数情報管理回路の実装方法に係り、上記第2のステップでは、上記入出力端子間の接続を行うための配線経路に含まれる所定の上記配線層で、上記入出力端子間の接続関係の変更を行う場合は、同時に、所定の上記配線層で、所定の上記レジスタと、上記第1の電位保持回路又は上記第2の電位保持回路との間で、接続替えを行うことによって、上記版数情報の改訂を行うことを特徴としている。 According to a second aspect of the present invention, there is provided a method for mounting a version number information management circuit on a semiconductor integrated circuit according to the first aspect. In the second step, wiring for connecting the input / output terminals is performed. When changing the connection relation between the input / output terminals in the predetermined wiring layer included in the path, at the same time, in the predetermined wiring layer, the predetermined register and the first potential holding circuit or the The version number information is revised by changing the connection with the second potential holding circuit.
また、請求項3記載の発明は、請求項1又は2記載の半導体集積回路への版数情報管理回路の実装方法に係り、上記第2のステップでは、所定の上記レジスタと、上記第1の電位保持回路又は上記第2の電位保持回路との間の接続は、上記多層構造の全ての配線層を経由して行うことを特徴としている。 According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for mounting a version number information management circuit on a semiconductor integrated circuit according to the first or second aspect. In the second step, the predetermined register and the first Connection between the potential holding circuit or the second potential holding circuit is performed through all wiring layers of the multilayer structure.
また、請求項4記載の発明は、請求項1、2又は3記載の半導体集積回路への版数情報管理回路の実装方法に係り、上記第2のステップでは、所定の上記入出力端子間の接続は、上記多層構造の全ての配線層を経由して行うことを特徴としている。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for mounting a version number information management circuit on a semiconductor integrated circuit according to the first, second, or third aspect. In the second step, between the predetermined input / output terminals. The connection is performed through all the wiring layers of the multilayer structure.
また、請求項5記載の発明は、請求項1乃至4のいずれか1に記載の半導体集積回路への版数情報管理回路の実装方法に係り、上記入出力端子間の接続を行うための配線経路に含まれる所定の上記配線層は、上記入出力端子間の接続関係の変更箇所としての可能性のある配線層として予め設定されていることを特徴としている。 According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method for mounting a version number information management circuit on a semiconductor integrated circuit according to any one of the first to fourth aspects, wherein the wiring for connecting the input / output terminals is provided. The predetermined wiring layer included in the route is set in advance as a wiring layer that may be a place where the connection relation between the input / output terminals is changed.
また、請求項6記載の発明は、請求項1乃至5のいずれか1に記載の半導体集積回路への版数情報管理回路の実装方法に係り、上記第1のステップでは、上記各レジスタに対して、専用の上記第1の電位保持回路及び上記第2の電位保持回路が対応付けられて配置されることを特徴としている。 According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method for mounting a version number information management circuit on a semiconductor integrated circuit according to any one of the first to fifth aspects. The dedicated first potential holding circuit and the second potential holding circuit are arranged in association with each other.
また、請求項7記載の発明は、請求項6記載の半導体集積回路への版数情報管理回路の実装方法に係り、上記第1のステップで、上記レジスタと、上記第1の電位保持回路又は上記第2の電位保持回路とを互いに隣接させて配置し、上記第2のステップで、上記入出力端子間の接続関係の変更を行わない場合には、上記レジスタと、上記第2の電位保持回路又は上記第1の電位保持回路とを、第1の配線経路に沿った第1の配線によって接続し、上記第1の電位保持回路又は上記第2の電位保持回路には、第2の配線経路に沿った第2の配線を接続し、上記第1及び第2の配線を、上記多層構造の全ての配線層を経由させると共に、所定の離隔を保った状態で互いに隣接させて配置し、上記入出力端子間の接続関係の変更を所定の上記配線層で行う場合には、所定の上記レジスタに接続された上記第1の配線と、対応する上記第2の配線とを、所定の上記配線層で切断した後、上記レジスタ側で上記第1及び第2の配線を接続して、上記レジスタと、上記第1の電位保持回路又は上記第2の電位保持回路と接続することを特徴としている。 A seventh aspect of the invention relates to a method of mounting a version number information management circuit on a semiconductor integrated circuit according to the sixth aspect, wherein in the first step, the register and the first potential holding circuit or When the second potential holding circuit is arranged adjacent to each other and the connection relation between the input / output terminals is not changed in the second step, the register and the second potential holding circuit are provided. A circuit or the first potential holding circuit is connected by a first wiring along a first wiring path, and a second wiring is connected to the first potential holding circuit or the second potential holding circuit. Connecting the second wirings along the path, the first and second wirings are routed through all the wiring layers of the multilayer structure and arranged adjacent to each other while maintaining a predetermined separation; A change in the connection relationship between the input / output terminals is performed according to a predetermined wiring layer. When performing, the first wiring connected to the predetermined register and the corresponding second wiring are cut by the predetermined wiring layer, and then the first and second wirings are formed on the register side. The wiring is connected to the register and the first potential holding circuit or the second potential holding circuit.
また、請求項8記載の発明は、請求項1乃至7のいずれか1に記載の半導体集積回路への版数情報管理回路の実装方法に係り、上記複数のレジスタは、少なくとも予め設定された最大版数に対応した数設けられ、上記複数のレジスタのうちの所定のレジスタが、上記第1の電位保持回路に接続された場合には、対応する上記版数情報を表すことを特徴としている。 According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a method for mounting a version number information management circuit on a semiconductor integrated circuit according to any one of the first to seventh aspects, wherein the plurality of registers have at least a preset maximum value. A number corresponding to the version number is provided, and when a predetermined register of the plurality of registers is connected to the first potential holding circuit, the corresponding version number information is represented.
また、請求項9記載の発明は、請求項1乃至8のいずれか1に記載の半導体集積回路への版数情報管理回路の実装方法に係り、上記各レジスタは、1ビットの情報を格納することを特徴としている。 A ninth aspect of the invention relates to a method of mounting a version number information management circuit on a semiconductor integrated circuit according to any one of the first to eighth aspects, wherein each register stores 1-bit information. It is characterized by that.
この発明の構成によれば、半導体集積回路本体の所定の配線の一部を変更(追加又は削除)するのにともなって、版数情報管理回路の配線の一部を変更する場合に、変更する箇所の配線層を同層とすることができるので、例えば、変更のためのマスクデータを別々に作成する必要がなく、かつ、同一のフォトマスクを用いることができるので、コストを低減することができる。 According to the configuration of the present invention, a part of the wiring of the version number information management circuit is changed when a part of the predetermined wiring of the semiconductor integrated circuit body is changed (added or deleted). Since the wiring layer of the place can be made the same layer, for example, it is not necessary to create mask data for change separately, and the same photomask can be used, so that the cost can be reduced. it can.
半導体集積回路本体の変更と、対応する版数情報管理回路の変更とが、同層の配線層で実行可能とされていることによって、コストを低減するという目的を実現した。 The change of the semiconductor integrated circuit main body and the corresponding change of the version information management circuit can be executed in the same wiring layer, thereby realizing the purpose of reducing the cost.
図1は、この発明の一実施例である半導体集積回路への版数情報管理回路の形成方法を説明するための説明図、図2は、同版数情報管理回路の構成を示すブロック図、図3は、同版数情報管理回路を構成する各版数情報設定レジスタの出力と、版数情報エンコード部の出力との間の関係を示す図、図4は、同半導体集積回路の構成を示すブロック図、図5は、同半導体集積回路への版数情報管理回路の形成方法を説明するための説明図、図6は、同版数情報管理回路の構成を示すブロック図、また、図7乃至図9は、同半導体集積回路への版数情報管理回路の形成方法を説明するための説明図である。 FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining a method of forming a version number information management circuit in a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of the version number information management circuit. FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the output of each version number information setting register constituting the version number information management circuit and the output of the version number information encoding unit, and FIG. 4 shows the configuration of the semiconductor integrated circuit. FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining a method of forming a version number information management circuit in the semiconductor integrated circuit. FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of the version number information management circuit. 7 to 9 are explanatory views for explaining a method of forming a version number information management circuit in the semiconductor integrated circuit.
まず、訂正が行われない場合の(すなわち、版数0(初期状態)の場合の)版数情報(HWレビジョン(Hard Ware Revision)情報)を管理する版数情報管理回路の形成方法について、図1及び図2を用いて説明する。
この例では、4層の配線層を形成し、各層の配線層を形成する度に、検証を行い、例えば論理的誤りが検出された場合に、マクロセル(機能ブロック)等を構成する回路素子間の接続関係の訂正を行い、同層の版数情報管理回路を構成する配線で接続関係の訂正を行う。
なお、図1中、格子状に配置された点線群は、回路素子や配線の基板上の位置等を示すために描いた座標表示用補助線で、実際に形成されているものではない。
First, a method for forming a version number information management circuit for managing version number information (HW Ware Revision information) when correction is not performed (that is, version number 0 (initial state)) is shown in FIG. This will be described with reference to FIG. 1 and FIG.
In this example, four wiring layers are formed, and verification is performed each time a wiring layer of each layer is formed. For example, when a logical error is detected, between circuit elements constituting a macro cell (functional block) or the like The connection relation is corrected by the wirings constituting the version information management circuit in the same layer.
In FIG. 1, the dotted line groups arranged in a lattice pattern are auxiliary lines for coordinate display drawn to show the positions of circuit elements and wirings on the substrate, and are not actually formed.
図1及び図2に示すように、基板1上に、版数情報設定レジスタ2,3,4と、各版数情報設定レジスタ2(3,4)に対応した高電位保持回路(第1の電位保持回路)5(6,7)及び低電位保持回路(第2の電位保持回路)8(9,11)と、入力回路12,13,14と、版数情報エンコード部15と、版数情報記憶レジスタ16,17と、版数情報出力部18とを形成する。
この例では、図1に示すように、版数情報設定レジスタ2と高電位保持回路5とは、基板1上に、矢印xに示す向きに沿って相隣るように配置される。また、低電位保持回路8と入力回路12とは、版数情報設定レジスタ2及び高電位保持回路5と所定距離離れた箇所に、矢印xに示す向きに沿って相隣るように配置される。版数情報設定レジスタ3,4についても同様である。
As shown in FIGS. 1 and 2, on the
In this example, as shown in FIG. 1, the version
版数情報設定レジスタ2(3,4)は、高電位保持回路5(6,7)又は低電位保持回路8(9,11)に接続され、「0」又は「1」の1ビットのデータを保持するレジスタである。
また、高電位保持回路5(6,7)は、電源に接続されて、版数情報設定レジスタ2(3,4)に高電位を与えるための回路であり、低電位保持回路8(9,11)は、接地に接続されて、版数情報設定レジスタ2(3,4)に低電位を与えるための回路である。また、入力回路12(13,14)は、高電位保持回路5(6,7)又は低電位保持回路8(9,11)からの出力を受ける回路である。
The version number information setting register 2 (3, 4) is connected to the high potential holding circuit 5 (6, 7) or the low potential holding circuit 8 (9, 11), and is 1-bit data “0” or “1”. Is a register that holds
The high potential holding circuit 5 (6, 7) is a circuit that is connected to a power source and applies a high potential to the version number information setting register 2 (3, 4). 11) is a circuit which is connected to the ground and applies a low potential to the version number setting register 2 (3, 4). The input circuit 12 (13, 14) is a circuit that receives an output from the high potential holding circuit 5 (6, 7) or the low potential holding circuit 8 (9, 11).
また、版数情報エンコード部15は、各版数情報設定レジスタ2(3,4)から、それぞれ1ビットのデータを受け取り、版数を示す対応する2ビットのデータを出力する回路である。
また、版数情報記録レジスタ16,17は、版数情報エンコード部15から出力されたデータのうち、それぞれ、出力値b0、出力値b1の1ビットデータを受け取って保持するレジスタである。
また、版数情報出力部18は、版数情報格納レジスタ(レジスタ)16,17からそれそれ1ビットのデータを読み出して版数情報として出力する回路である。
なお、版数情報設定レジスタ2,3,4や、高電位保持回路5,6,7、低電位保持回路8,9,11等の各単位回路の入出力端子は、同層に形成されるものとする。
The version number
The version number information recording registers 16 and 17 are registers that receive and hold 1-bit data of the output value b 0 and the output value b 1 , respectively, among the data output from the version number
The version number
Note that the input / output terminals of the unit circuits such as the version number information setting registers 2, 3, 4, the high
次に、図1に示すように、版数情報設定レジスタ2と低電位保持回路8との接続経路を構成する第1層配線L1a,L1bを形成すると共に、高電位保持回路5と入力回路12との接続経路を構成するための第1層配線L1c,L1dを形成する。
すなわち、版数情報設定レジスタ2の入出力端子に、ビアコンタクト(層間配線)を介して接続するように、第1層配線L1aを同図中矢印yに示す向きに沿って低電位保持回路8に向けて形成し、かつ、低電位保持回路8の入出力端子に、ビアコンタクトを介して接続するように、第1層配線L1bを矢印yに示す向きに沿って版数情報設定レジスタ2に向けて形成する。
Next, as shown in FIG. 1, first layer wirings L 1a and L 1b constituting a connection path between the version number
That is, the first-layer wiring L1a is connected to the input / output terminal of the version number
さらに、高電位保持回路5の入出力端子に、ビアコンタクトを介して接続するように、第1層配線L1cを矢印yに示す向きに沿って入力回路12に向けて形成し、かつ、入力回路12の入出力端子に、ビアコンタクトを介して接続するように、第1層配線L1dを矢印yに示す向きに沿って高電位保持回路5に向けて形成する。
ここで、第1層配線L1aと第1層配線L1cとは、所定の離隔を保った状態で互いに平行に配置されている。同様に、第1層配線L1bと第1層配線L1dとも、所定の離隔を保った状態で互いに平行に配置されている。
Further, the first layer wiring L1c is formed toward the
Here, the first layer wiring L 1a and the first layer wiring L 1c are arranged in parallel to each other while maintaining a predetermined separation. Similarly, the first layer wiring L 1b and the first layer wiring L 1d are arranged in parallel with each other while maintaining a predetermined separation.
次に、第1層配線L1a,L1b,L1c,L1dの上に絶縁層を介して、版数情報設定レジスタ2と低電位保持回路8との接続経路を構成する第2層配線L2a,L2bを形成すると共に、高電位保持回路5と入力回路12との接続経路を構成する第2層配線L2c,L2dを形成する。
すなわち、第1層配線L1aの端部に、ビアコンタクトを介して接続するように、第2層配線L2aを同図中矢印xに示す向きに沿って低電位保持回路8に向けて形成し、かつ、第1層配線L1aの端部に、ビアコンタクトを介して接続するように、第2層配線L2bを矢印xに示す向きに沿って版数情報設定レジスタ2に向けて形成する。
Next, the second layer wiring constituting the connection path between the version number
That is, the second layer wiring L 2a is formed toward the low potential holding circuit 8 along the direction indicated by the arrow x in the figure so as to be connected to the end portion of the first layer wiring L 1a through the via contact. In addition, the second layer wiring L 2b is formed toward the version number
さらに、第1層配線L1cの端部に、ビアコンタクトを介して接続するように、第2層配線L2cを矢印xに示す向きに沿って入力回路12に向けて形成し、かつ、第1層配線L1dの端部に、ビアコンタクトを介して接続するように、第2層配線L2dを矢印xに示す向きに沿って高電位保持回路5に向けて形成する。
ここで、第2層配線L2aと第2層配線L2cとは、所定の離隔を保った状態で互いに平行に配置されている。同様に、第2層配線L2bと第2層配線L2dとも、所定の離隔を保った状態で互いに平行に配置されている。
Further, the second layer wiring L 2c is formed toward the
Here, the second layer wiring L 2a and the second layer wiring L 2c are arranged in parallel with each other while maintaining a predetermined separation. Similarly, the second layer wiring L 2b and the second layer wiring L 2d are arranged in parallel with each other while maintaining a predetermined separation.
次に、第2層配線L2a,L2b,L2c,L2dの上に絶縁層を介して、版数情報設定レジスタ2と低電位保持回路8との接続経路を構成する第3層配線L3a,L3bを形成すると共に、高電位保持回路5と入力回路12との接続経路を構成する第3層配線L3c,L3dを形成する。
すなわち、第2層配線L2aの端部に、ビアコンタクトを介して接続するように、第3層配線L3aを同図中矢印yに示す向きに沿って低電位保持回路8に向けて形成し、かつ、第2層配線L2aの端部に、ビアコンタクトを介して接続するように、第3層配線L3bを矢印yに示す向きに沿って版数情報設定レジスタ2に向けて形成する。
Next, the third layer wiring constituting the connection path between the version number
That is, the third layer wiring L 3a is formed toward the low potential holding circuit 8 along the direction indicated by the arrow y in the figure so as to be connected to the end of the second layer wiring L 2a through the via contact. In addition, the third layer wiring L 3b is formed toward the version number
さらに、第2層配線L2cの端部に、ビアコンタクトを介して接続するように、第3層配線L3cを矢印yに示す向きに沿って入力回路12に向けて形成し、かつ、第2層配線L3dの端部に、ビアコンタクトを介して接続するように、第3層配線L3dを矢印yに示す向きに沿って高電位保持回路5に向けて形成する。
ここで、第3層配線L3aと第3層配線L3cとは、所定の離隔を保った状態で互いに平行に配置されている。同様に、第3層配線L3bと第3層配線L3dとも、所定の離隔を保った状態で互いに平行に配置されている。
Further, the third layer wiring L 3c is formed toward the
Here, the third layer wiring L 3a and the third layer wiring L 3c are arranged in parallel with each other while maintaining a predetermined separation. Similarly, the third layer wiring L 3b and the third layer wiring L 3d are also arranged in parallel with each other while maintaining a predetermined separation.
次に、第3層配線L3a,L3b,L3c,L3dの上に絶縁層を介して、版数情報設定レジスタ2と低電位保持回路8との接続経路を構成する第4層配線L4eを形成して、版数情報設定レジスタ2と低電位保持回路8との接続を完了させると共に、高電位保持回路5と入力回路12との接続経路を構成する第3層配線L4fを形成して、高電位保持回路5と入力回路12との接続を完了させる。
すなわち、第3層配線L3a,L3b端部に、ビアコンタクトを介して接続するように、第4層配線L4eを同図中矢印xに示す向きに沿って形成し、かつ、第3層配線L3c、L3dの端部に、ビアコンタクトを介して接続するように、第4層配線L4fを矢印xに示す向きに沿って形成する。
ここで、第4層配線L4eと第4層配線L4fとは、所定の離隔を保った状態で互いに平行に配置されている。
このようにして、版数情報設定レジスタ2と低電位保持回路8、高電位保持回路5と入力回路12は、共に、全ての層配線を経由するように、かつ、それぞれの接続経路を構成する配線は、互いに所定の離隔を保って隣接して平行配置されるように形成される。
Next, the fourth layer wiring constituting the connection path between the version number
That is, the fourth layer wiring L 4e is formed along the direction indicated by the arrow x in the drawing so as to be connected to the end portions of the third layer wirings L 3a and L 3b via via contacts, The fourth layer wiring L 4f is formed along the direction indicated by the arrow x so as to be connected to the end portions of the layer wirings L 3c and L 3d via via contacts.
Here, the fourth layer wiring L 4e and the fourth layer wiring L 4f are arranged in parallel with each other while maintaining a predetermined separation.
In this way, the version number
同様にして、版数情報設定レジスタ3(4)と低電位保持回路9(11)、高電位保持回路6(7)と入力回路13(14)についても、4層の層配線を用いて接続がなされる。
さらに、版数情報設定レジスタ2,3,4と版数情報エンコード部15、版数情報エンコード部15と版数情報記憶レジスタ16,17、版数情報記憶レジスタ16,17と版数情報出力部18とについても接続がなされ、版数情報管理回路19が形成される。
このようにして形成された版数情報管理回路19は、版数情報設定レジスタ2,3,4と、各版数情報設定レジスタ2(3,4)に対応した高電位保持回路5(6,7)及び低電位保持回路8(9,11)と、入力回路12,13,14と、版数情報エンコード部15と、版数情報記憶レジスタ16,17と、版数情報出力部18とを有してなっている。
Similarly, the version number information setting register 3 (4) and the low potential holding circuit 9 (11), and the high potential holding circuit 6 (7) and the input circuit 13 (14) are also connected using four layers of wiring. Is made.
Further, the version number information setting registers 2, 3, 4 and the version number
The version number information management circuit 19 formed in this way includes the version number information setting registers 2, 3, and 4 and the high potential holding circuit 5 (6, 6) corresponding to each version number information setting register 2 (3, 4). 7) and the low potential holding circuit 8 (9, 11), the
版数情報エンコード部15において、図3に示すように、版数情報設定レジスタ2,3,4の出力値r1,r2,r3が、それぞれ、「0」、「0」、「0」のとき、版数情報エンコード部15出力値b0,b1が、それぞれ「0」、「0」となって、版数「0」(初期状態)を示す。
また、版数情報設定レジスタ2,3,4の出力値r1,r2,r3が、それぞれ、「1」、「0」、「0」のとき、版数情報エンコード部15の出力値b0,b1が、それぞれ「0」、「1」となって、版数「1」を示す。
In the version number
When the output values r 1 , r 2 , r 3 of the version number information setting registers 2, 3, 4 are “1”, “0”, “0”, respectively, the output value of the version number information encoding unit 15 b 0 and b 1 are “0” and “1”, respectively, indicating the version number “1”.
また、版数情報設定レジスタ3,4の出力値r2,r3が、それぞれ、「1」、「0」のとき、版数情報エンコード部15の出力値b0,b1が、それぞれ「1」、「0」となって、版数「2」を示す。
ここで、版数情報設定レジスタ2の出力値r1は、「0」であっても、「1」であっても、出力値b0,b1の組合せは変化しない。同図で、「D.C.(Don‘t Care)」は、版数情報エンコード部15の出力値b0,b1の組合せが、版数情報設定レジスタ2(3,4)の出力値r1(r2,r3)に無関係であることを意味している。
When the output values r 2 and r 3 of the version number
Here, even if the output value r 1 of the version
また、版数情報設定レジスタ4の出力値r3が、「1」のとき、版数情報エンコード部15の出力値b0,b1が「1」、「1」となって、版数「3を」示す。ここで、版数情報設定レジスタ2,3の出力値r1,r2は、それそれ、「0」であっても、「1」であっても、出力値b0,b1の組合せは変化しない。
ここでは、各版数情報設定レジスタ2(3,4)は、低電位保持回路8(9,11)に接続され、全てデータ「0」が保持され、版数情報エンコード部15の出力値b0,b1は共に「0」であり、版数情報出力部18からは、版数「0」が出力される。
When the output value r 3 of the version number information setting register 4 is “1”, the output values b 0 and b 1 of the version number
Here, each version number information setting register 2 (3, 4) is connected to the low potential holding circuit 8 (9, 11), all data “0” is held, and the output value b of the version number
版数情報管理回路19の形成と同時に、マクロセル等も形成され、半導体集積回路21が製造される。
この例の半導体集積回路21は、図4に示すように、例えばシステムLSI等の半導体チップであり、基板1上のコア領域22に配置され、SRAMやDRAM等の特定の機能を有する複数のマクロセル23,23,…と、基板1上の周辺領域24に配置されたインタフェース回路25,25,…と、半導体集積回路本体の版数情報を保持する版数情報管理回路19とを備えてなっている。
At the same time as the version number information management circuit 19 is formed, a macro cell and the like are also formed, and the semiconductor integrated circuit 21 is manufactured.
As shown in FIG. 4, the semiconductor integrated circuit 21 of this example is a semiconductor chip such as a system LSI, for example, and is disposed in the
なお、各マクロセル23の周囲には、マクロセル23を取り囲むようにシールド部(不図示)が形成されている。
また、この例半導体集積回路21は、多層層配線構造を有し、背景技術の項で述べた技術と同様に、マクロセル23やインタフェース回路25を構成する回路素子等のうち、所定の回路素子間を接続するための接続経路は、全ての層配線を経由するように形成されている。
これに対応して、版数情報管理回路19を構成する版数情報設定レジスタ2(3,4)と、高電位保持回路5(6,7)又は低電位保持回路8(9,11)とを接続するための接続経路は、上述したように、4層の全ての層配線を経由するように形成されている。
A shield portion (not shown) is formed around each
In addition, this example semiconductor integrated circuit 21 has a multilayer wiring structure, and in the same manner as the technology described in the background section, among the circuit elements constituting the
Correspondingly, the version number information setting register 2 (3, 4) constituting the version number information management circuit 19 and the high potential holding circuit 5 (6, 7) or the low potential holding circuit 8 (9, 11) As described above, the connection path for connecting the two is formed so as to pass through all the four layer wirings.
次に、例えばマクロセルを構成する回路素子間の接続関係の訂正に伴って、同層の版数情報管理回路を構成する層配線で接続関係の訂正を行って改版が行われる場合の(すなわち、版数1以降の場合の)版数情報管理回路の形成方法について、図5乃至図9を用いて説明する。
まず、訂正が行われない場合と同様に、図5及び図6に示すように、基板1上に、版数情報設定レジスタ2,3,4と、各版数情報設定レジスタ2(3,4)に対応した高電位保持回路5(6,7)及び低電位保持回路8(9,11)と、入力回路12,13,14と、版数情報エンコード部15と、版数情報記憶レジスタ16,17と、版数情報出力部18とを形成する。
Next, for example, when the connection relationship between the circuit elements constituting the macro cell is corrected, the revision is performed by correcting the connection relationship in the layer wiring constituting the version information management circuit of the same layer (that is, A method of forming a version number information management circuit (in the case of
First, as in the case where correction is not performed, as shown in FIGS. 5 and 6, the version number information setting registers 2, 3, 4 and the version number information setting registers 2 (3, 4) are provided on the substrate 1. ) Corresponding to the high potential holding circuit 5 (6, 7) and the low potential holding circuit 8 (9, 11), the
次に、図5に示すように、版数情報設定レジスタ2と低電位保持回路8との接続経路を構成する第1層配線L1a,L1bを形成すると共に、高電位保持回路5と入力回路12との接続経路を構成するための第1層配線L1c,L1dを形成し、第2層以降の配線も同様にして行う。ここで、版数情報管理回路19の形成と同時に、マクロセル等も形成される。
検証の結果、例えばマクロセルで、回路素子間を接続するための接続経路が、全ての層配線を経由するように形成された箇所で、論理的な誤りが発見され、背景技術の項で述べたように、マクロセルを構成する回路素子間の接続関係を第1層で訂正した場合には、これに伴って、同層の版数情報管理回路を構成する第1層配線で接続関係の訂正を行って改版を行う。
Next, as shown in FIG. 5, first layer wirings L 1a and L 1b that form a connection path between the version
As a result of the verification, for example, in a macro cell, a logical error was found at a location where a connection path for connecting circuit elements was formed so as to pass through all the layer wirings, and was described in the background section. As described above, when the connection relationship between circuit elements constituting the macro cell is corrected in the first layer, the connection relationship is corrected in the first layer wiring constituting the version information management circuit in the same layer. Go and do a revision.
例えば、同図に示すように、第1層配線L1a,L1bの中間部をそれそれ除去して、第1層配線L1e,L1f,L1g,L1hを残し、第1層配線L1eと第1層配線L1fとを第1層配線L1pによって接続し、かつ、第1層配線L1eと第1層配線L1hとを第1層配線L1qによって接続する。
これによって、版数情報設定レジスタ2は、図6に示すように、高電位保持回路5に接続され、版数情報設定レジスタ2.3.4の出力値r1,r2,r3が、それぞれ、「1」、「0」、「0」となって、出力値b0,b1が「0」、「1」となり、版数情報出力部18からは、版数「1」が出力されることとなる。
これによって、入力回路12と低電位保持回路8とが接続される。このように、第1層配線でのみ接続関係の訂正が行われた場合には、版数情報出力部18からは、版数「1」が出力されることとなる。
For example, as shown in the figure, the intermediate portions of the first layer wirings L 1a and L 1b are respectively removed to leave the first layer wirings L 1e , L 1f , L 1g and L 1h , and the first layer wirings L 1e and the first layer wiring L 1f are connected by the first layer wiring L 1p , and the first layer wiring L 1e and the first layer wiring L 1h are connected by the first layer wiring L 1q .
As a result, the version number
As a result, the
また、例えばマクロセルで、回路素子間を接続するための接続経路が、全ての層配線を経由するように形成された箇所で、論理的な誤りが発見され、マクロセルを構成する回路素子間の接続関係を第2層で訂正した場合には、これに伴って、同層の版数情報管理回路を構成する第2層配線で接続関係の訂正を行って改版を行う。
すなわち、図7に示すように、第2層配線L2a,L2bの中間部をそれそれ除去して、第2層配線L2e,L2f,L2g,L2hを残し、第2層配線L2eと第2層配線L2fとを第2層配線L2pによって接続し、かつ、第2層配線L2eと第2層配線L2hとを第2層配線L2qによって接続する。
これによって、版数情報設定レジスタ2は、図6に示すように、高電位保持回路5に接続され、版数情報設定レジスタ2.3.4の出力値r1,r2,r3が、それぞれ、「1」、「0」、「0」となって、出力値b0,b1が「0」、「1」となり、版数情報出力部18からは、版数「1」が出力されることとなる。
In addition, for example, in a macro cell, when a connection path for connecting circuit elements is formed so as to pass through all layer wirings, a logical error is found, and connection between circuit elements constituting the macro cell is established. When the relationship is corrected in the second layer, the revision is performed by correcting the connection relationship in the second layer wiring constituting the version number information management circuit in the same layer.
That is, as shown in FIG. 7, the intermediate portions of the second layer wirings L 2a and L 2b are respectively removed to leave the second layer wirings L 2e , L 2f , L 2g and L 2h , and the second layer wirings L 2e and the second layer wiring L 2f are connected by the second layer wiring L 2p , and the second layer wiring L 2e and the second layer wiring L 2h are connected by the second layer wiring L 2q .
As a result, the version number
また、例えばマクロセルで、回路素子間を接続するための接続経路が、全ての層配線を経由するように形成された箇所で、論理的な誤りが発見され、マクロセルを構成する回路素子間の接続関係を第3層で訂正した場合には、これに伴って、同層の版数情報管理回路を構成する第3層配線で接続関係の訂正を行って改版を行う。
すなわち、図8に示すように、第3層配線L3a,L3bの中間部をそれそれ除去して、第3層配線L3e,L3f,L 3h,L2hを残し、第3層配線L3eと第3層配線L3fとを第3層配線L3pによって接続し、かつ、第3層配線L3eと第3層配線L3hとを第3層配線L3qによって接続する。
これによって、版数情報設定レジスタ2は、図6に示すように、高電位保持回路5に接続され、版数情報設定レジスタ2.3.4の出力値r1,r2,r3が、それぞれ、「1」、「0」、「0」となって、出力値b0,b1が「0」、「1」となり、版数情報出力部18からは、版数「1」が出力されることとなる。
In addition, for example, in a macro cell, when a connection path for connecting circuit elements is formed so as to pass through all layer wirings, a logical error is found, and connection between circuit elements constituting the macro cell is established. When the relationship is corrected in the third layer, the revision is performed by correcting the connection relationship in the third layer wiring constituting the version number information management circuit in the same layer.
That is, as shown in FIG. 8, the middle portions of the third layer wirings L 3a and L 3b are respectively removed to leave the third layer wirings L 3e , L 3f , L 3h and L 2h , and the third layer wirings L 3e and the third layer wiring L 3f are connected by the third layer wiring L 3p , and the third layer wiring L 3e and the third layer wiring L 3h are connected by the third layer wiring L 3q .
As a result, the version number
また、例えばマクロセルで、回路素子間を接続するための接続経路が、全ての層配線を経由するように形成された箇所で、論理的な誤りが発見され、マクロセルを構成する回路素子間の接続関係を第4層で訂正した場合には、これに伴って、同層の版数情報管理回路を構成する第4層配線で接続関係の訂正を行って改版を行う。
すなわち、図9に示すように、第4層配線L4e,L4fの中間部をそれそれ除去して、第4層配線L4g,L4h,L 4p,L4qを残し、第4層配線L4gと第4層配線L4hとを第4層配線L4rによって接続し、かつ、第4層配線L4pと第4層配線L4qとを第4層配線L4sによって接続する。
これによって、版数情報設定レジスタ2は、図6に示すように、高電位保持回路5に接続され、版数情報設定レジスタ2,3,4の出力値r1,r2,r3が、それぞれ、「1」、「0」、「0」となって、出力値b0,b1が「0」、「1」となり、版数情報出力部18からは、版数「1」が出力されることとなる。
In addition, for example, in a macro cell, when a connection path for connecting circuit elements is formed so as to pass through all layer wirings, a logical error is found, and connection between circuit elements constituting the macro cell is established. When the relationship is corrected in the fourth layer, the revision is performed by correcting the connection relationship in the fourth layer wiring constituting the version number information management circuit of the same layer.
That is, as shown in FIG. 9, the intermediate portions of the fourth layer wirings L 4e and L 4f are removed accordingly, leaving the fourth layer wirings L 4g , L 4h , L 4p and L 4q , and the fourth layer wirings. L 4g and the fourth layer wiring L 4h are connected by the fourth layer wiring L 4r , and the fourth layer wiring L 4p and the fourth layer wiring L 4q are connected by the fourth layer wiring L 4s .
As a result, the version number
また、2度目の修正を、層配線の訂正によって行った場合には、版数情報設定レジスタ3が、高電位保持回路6に接続され、版数情報設定レジスタ3の出力値r2が、「1」となって、出力値b0,b1が「1」、「0」となり、版数情報出力部18からは、版数「2」が出力されることとなる。
さらに、3度目の修正を、層配線の訂正によって行った場合には、版数情報設定レジスタ4が、高電位保持回路7に接続され、版数情報設定レジスタ4の出力値r3が、「1」となって、出力値b0,b1が「1」、「1」となり、版数情報出力部18からは、版数「3」が出力されることとなる。
When the second correction is performed by correcting the layer wiring, the version number
Further, when the third correction is performed by correcting the layer wiring, the version number information setting register 4 is connected to the high
このように、この例の構成によれば、半導体集積回路の所定の層配線の一部を変更するのにともなって、版数情報管理回路の層配線の一部を変更する場合に、両者の層配線が形成された配線層を同層とすることができるので、それぞれの配線層について、別々にマスクデータを作成する必要がなく、同一のフォトマスクを用いることができるので、コストを低減することができる。
また、複数の配線層で訂正を行う場合には、単一の版数情報設定レジスタについてのみ接続を変更すれば足りるので、簡単に版数を改訂することができる。
Thus, according to the configuration of this example, when a part of the layer wiring of the version information management circuit is changed along with a part of the predetermined layer wiring of the semiconductor integrated circuit, Since the wiring layer on which the layer wiring is formed can be the same layer, it is not necessary to create mask data separately for each wiring layer, and the same photomask can be used, thereby reducing costs. be able to.
Further, when correction is made in a plurality of wiring layers, it is only necessary to change the connection for a single version number information setting register, so that the version number can be easily revised.
以上、この発明の実施例を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施例に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があってもこの発明に含まれる。
例えば、上述した実施例では、版数情報管理回路の配線について、全配線層を経由させる場合について述べたが、版数情報管理回路の配線は、必ずしも全配線層を経由させなくても良い。例えば、最上層を必ず経由するようにし、マクロセルの端子間の配線も、所定の配線については、最上層を必ず経由するようにしても良い。
また、各レジスタに対して、専用の高電位保持回路及び低電位保持回路を対応付けて配置する場合について述べたが、共通としても良い。
また、配線層を4層とする場合について述べたが、5層以上でも良いし、3層以下であっても良い。
また、レジスタの数を3つとする場合について述べたが、4つ以上であっても良い。
また、レジスタの出力値の一部を組合せによって版数の表現に無関係とする場合について述べたが、これを廃して表現可能な版数を増加させるようにしても良い。
また、入力回路は、他の回路素子を兼用しても良い。
また、コア領域に配置されるマクロセルとしては、例えば、SRAM等のメモリのマクロセルの他、CPUのマクロセル、グラフィック・ディスプレイ・コントローラのマクロセルも含んでいても良い。
また、半導体集積回路の全体としての版数情報の改訂を行う場合に限らず、半導体集積回路の版数情報は変更されなくても、半導体集積回路を構成する機能ブロックとしての例えばマクロセルの版数情報の改訂を行う場合にも適用することができる。このための版数情報管理回路は、マクロセル内に形成しても良いし、例えば基板上の周辺領域に形成しても良い。
The embodiment of the present invention has been described in detail with reference to the drawings. However, the specific configuration is not limited to this embodiment, and there are design changes and the like without departing from the gist of the present invention. Are also included in the present invention.
For example, in the above-described embodiments, the case where the wiring of the version number information management circuit is routed through all wiring layers has been described. However, the wiring of the version number information management circuit does not necessarily have to be routed through all wiring layers. For example, the uppermost layer may always be routed, and the wiring between the terminals of the macro cell may be necessarily routed through the uppermost layer for a predetermined wire.
In addition, although the case where the dedicated high potential holding circuit and the low potential holding circuit are arranged in association with each register has been described, they may be shared.
Moreover, although the case where the wiring layer is four layers has been described, it may be five layers or more, or three layers or less.
Further, the case where the number of registers is three has been described, but four or more registers may be used.
Further, although a case has been described in which a part of the output value of the register is made irrelevant to the expression of the version number by a combination, it is possible to eliminate this and increase the expressible version number.
The input circuit may also be used as another circuit element.
The macro cells arranged in the core region may include, for example, a macro cell of a CPU and a macro cell of a graphic display controller in addition to a macro cell of a memory such as an SRAM.
Further, the present invention is not limited to the revision of the version information of the entire semiconductor integrated circuit, and the version number of, for example, a macro cell as a functional block constituting the semiconductor integrated circuit, even if the version information of the semiconductor integrated circuit is not changed. It can also be applied when information is revised. The version number information management circuit for this purpose may be formed in the macro cell, or may be formed in a peripheral region on the substrate, for example.
最上層を形成した後に検証する場合のほか、一層毎に検証を行う場合に適用することができる。 The present invention can be applied to the case where verification is performed for each layer in addition to the case where verification is performed after the uppermost layer is formed.
1 基板
2,3,4 版数情報設定レジスタ(レジスタ)
5,6,7 高電位保持回路(第1の電位保持回路)
8,9,11 低電位保持回路(第2の電位保持回路)
15 版数情報エンコード部
16,17 版数情報記憶レジスタ
18 版数情報出力部
19 版数情報管理回路
21 半導体集積回路
23 マクロセル(機能ブロック)
L1a,L1b,L1c,L1d 第1層配線
L2a,L2b,L2c,L2d 第2層配線
L3a,L3b,L3c,L3d 第3層配線
L4e,L4f 第4層配線
1
5, 6, 7 High potential holding circuit (first potential holding circuit)
8, 9, 11 Low potential holding circuit (second potential holding circuit)
15 Version
L 1a , L 1b , L 1c , L 1d first layer wiring L 2a , L 2b , L 2c , L 2d second layer wiring L 3a , L 3b , L 3c , L 3d third layer wiring L 4e , L 4f 4th layer wiring
Claims (9)
半導体チップ上に、半導体集積回路本体を構成する回路素子又は機能ブロックの入出力端子を形成すると共に、前記版数情報管理回路を構成し前記版数情報を格納するための複数のレジスタと、前記複数のレジスタのうち、所定の前記レジスタを第1の電位に保持するための第1の電位保持回路と、所定の前記レジスタを前記第1の電位よりも低い第2の電位に保持するための第2の電位保持回路とを形成する第1のステップと、
多層構造の配線層を形成して、前記入出力端子間を接続すると共に、前記複数のレジスタのうち、所定の前記レジスタと、前記第1の電位保持回路又は前記第2の電位保持回路とを、所定の前記各レジスタに格納された情報の組合せが前記版数情報を表すように接続する第2のステップとを含み、
前記第2のステップでは、前記多層構造の全配線層のうち、前記入出力端子間の接続を行うための配線経路に含まれる所定の配線層を経由して、前記レジスタと前記第1の電位保持回路又は前記第2の電位保持回路とを接続する
ことを特徴とする半導体集積回路への版数情報管理回路の実装方法。 A method of mounting a version number information management circuit for managing version number information for identifying a semiconductor integrated circuit whose function has been changed in the same product or a functional block constituting the semiconductor integrated circuit,
A plurality of registers for forming the version number information management circuit and storing the version number information, and forming input / output terminals of circuit elements or functional blocks constituting the semiconductor integrated circuit main body on the semiconductor chip, Among the plurality of registers, a first potential holding circuit for holding the predetermined register at a first potential, and a second potential for holding the predetermined register at a second potential lower than the first potential A first step of forming a second potential holding circuit;
A wiring layer having a multilayer structure is formed to connect the input / output terminals, and among the plurality of registers, the predetermined register and the first potential holding circuit or the second potential holding circuit A second step of connecting such that a combination of information stored in each of the predetermined registers represents the version number information, and
In the second step, the register and the first potential are passed through a predetermined wiring layer included in a wiring path for connecting the input / output terminals among all the wiring layers of the multilayer structure. A method of mounting a version number information management circuit on a semiconductor integrated circuit, comprising: connecting a holding circuit or the second potential holding circuit.
前記第2のステップで、前記入出力端子間の接続関係の変更を行わない場合には、前記レジスタと、前記第2の電位保持回路又は前記第1の電位保持回路とを、第1の配線経路に沿った第1の配線によって接続し、前記第1の電位保持回路又は前記第2の電位保持回路には、第2の配線経路に沿った第2の配線を接続し、
前記第1及び第2の配線を、前記多層構造の全ての配線層を経由させると共に、所定の離隔を保った状態で互いに隣接させて配置し、
前記入出力端子間の接続関係の変更を所定の前記配線層で行う場合には、所定の前記レジスタに接続された前記第1の配線と、対応する前記第2の配線とを、所定の前記配線層で切断した後、前記レジスタ側で前記第1及び第2の配線を接続して、前記レジスタと、前記第1の電位保持回路又は前記第2の電位保持回路と接続する
ことを特徴とする請求項6記載の半導体集積回路への版数情報管理回路の実装方法。 In the first step, the register and the first potential holding circuit or the second potential holding circuit are arranged adjacent to each other,
If the connection relationship between the input / output terminals is not changed in the second step, the register and the second potential holding circuit or the first potential holding circuit are connected to the first wiring. Connected by a first wiring along a path, and connected to the first potential holding circuit or the second potential holding circuit by a second wiring along a second wiring path;
The first and second wirings are arranged adjacent to each other while passing through all wiring layers of the multilayer structure and maintaining a predetermined separation,
When the connection relation between the input / output terminals is changed in the predetermined wiring layer, the first wiring connected to the predetermined register and the corresponding second wiring are connected to the predetermined wiring layer. After cutting at the wiring layer, the first and second wirings are connected on the register side, and the register is connected to the first potential holding circuit or the second potential holding circuit. A method for mounting a version number information management circuit on a semiconductor integrated circuit according to claim 6.
9. The method of mounting a version number information management circuit on a semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein each register stores 1-bit information.
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JP2003351416A JP2005116902A (en) | 2003-10-09 | 2003-10-09 | Method for mounting version-number information managing circuit to semiconductor integrated circuit |
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JP2011228349A (en) * | 2010-04-15 | 2011-11-10 | Toshiba Corp | Semiconductor device |
US9734277B2 (en) | 2014-11-10 | 2017-08-15 | Socionext Inc. | Semiconductor device designing method, designing apparatus, and computer-readable storage medium |
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