JP2002134615A - System for designing semiconductor integrated circuit - Google Patents

System for designing semiconductor integrated circuit

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JP2002134615A
JP2002134615A JP2000323401A JP2000323401A JP2002134615A JP 2002134615 A JP2002134615 A JP 2002134615A JP 2000323401 A JP2000323401 A JP 2000323401A JP 2000323401 A JP2000323401 A JP 2000323401A JP 2002134615 A JP2002134615 A JP 2002134615A
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JP
Japan
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wiring
cell
circuit
correction
change
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JP2000323401A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaru Hattori
大 服部
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make an effective correction only by the change of a wiring layer even if a circuit is to be changed after making a mask in a standard cell design method. SOLUTION: In a circuit change method determining means 102, on the basis of a logic correction indication 112 for indicating the logic to be corrected and a correcting cell library 113, the circuit change for the logic correction and a method for executing a connection change of terminals influenced by a delay characteristic due to the change is determined, and in a circuit connection changing means 103, circuit connection information, where the logic is corrected, is made. By making a pattern design using this configuration, without using spare cells, the logic correction after making the mask can be made only by the change of the wiring layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路装
置の、設計および回路修正を行う設計装置に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a design apparatus for designing and modifying a semiconductor integrated circuit device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路の設計時にシステムの仕
様変更などの理由による論理修正のために既に設計され
た回路の変更を行うことがしばしばあり、半導体集積回
路の製造には各物理層毎にマスクを作成して用いている
が、このマスク作成後に回路の変更を行う場合、修正す
るマスクが多いとそれだけ経費や修正に要する時間が増
加することになる。
2. Description of the Related Art When designing a semiconductor integrated circuit, it is often the case that an already designed circuit is changed for a logical modification due to a change in system specifications or the like. Although a mask is created and used, when a circuit is changed after the mask is created, the cost and time required for the correction increase as the number of masks to be corrected increases.

【0003】このようなマスク作成後の回路変更を容易
に、或いは安価に行う方法として、スタンダードセル設
計方式においては、あらかじめレイアウト設計の際に使
用しない予備のセルを挿入し、この予備のセルを用いて
回路変更を行う方法がある。例えば、特開平2−191
361号公報、特開平5−243378号公報、特開平
6−232260号公報などに開示されているように、
空き領域に配線が未接続の予備のセルを挿入し、配線層
のマスク修正による回路修正を容易に行う方法がある。
As a method for easily or inexpensively changing the circuit after making such a mask, in a standard cell design method, a spare cell which is not used at the time of layout design is inserted in advance, and the spare cell is used. There is a method of making a circuit change using such a method. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-191
361, JP-A-5-243378, JP-A-6-232260, and the like,
There is a method in which a spare cell to which a wiring is not connected is inserted into a vacant area to easily perform circuit correction by correcting a wiring layer mask.

【0004】また、配線層でのマスク修正を容易にす
る、もしくは集束イオンビームなどによる配線修正を容
易にする方法としては、特開平5−190816号公報
に開示されているように、途中の配線を可能な限り少な
くして最上の配線層まで配線を行い、集束イオンビーム
などによる配線の加工を容易にしたり、特開平6−29
5955号公報に開示されているようにセル列の両端の
予備セルを配線することで、回路修正時の配線を容易に
したり、特開平11−274311号公報に開示されて
いるように配線を最上位配線層を経由することで配線修
正を容易に行う方法がある。
As a method for facilitating the correction of a mask in a wiring layer or the correction of a wiring by a focused ion beam or the like, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-190816, Wiring is performed to the uppermost wiring layer with as little as possible to facilitate processing of wiring by a focused ion beam or the like.
By laying out spare cells at both ends of a cell row as disclosed in Japanese Patent No. 5955, wiring at the time of circuit correction can be facilitated, or wiring can be minimized as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-274311. There is a method of easily performing wiring correction by passing through an upper wiring layer.

【0005】さらに、スタンダードセル設計方式では、
機能セルの組み合わせにより所望の回路を設計してお
り、通常のパターン設計では使用されない機能セルの内
部ノードの信号を使用し、マニュアル作業でパターン設
計を修正することも可能である。
Further, in the standard cell design method,
A desired circuit is designed by a combination of function cells, and it is also possible to manually modify the pattern design using signals of internal nodes of the function cells that are not used in normal pattern design.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、スタン
ダードセル設計方式において、機能セルの内部ノードに
配線を行うと、配線の負荷容量によりセルの遅延特性が
変化するという課題がある。また、他のピン間の遅延特
性に影響しないようにバッファ論理を形成するとセル面
積が増大するという課題がある。
However, in the standard cell design method, when wiring is performed on an internal node of a functional cell, there is a problem that the delay characteristic of the cell changes due to the load capacitance of the wiring. Further, there is a problem that the cell area increases if the buffer logic is formed so as not to affect the delay characteristics between other pins.

【0007】また、配線層でのマスク修正を容易にする
ために、最上位の配線層まで配線を引き上げたり、セル
列両端の予備のセルを配線すると、余分な配線が生じる
ため、配線効率が低下するという課題がある。逆に予備
のセルが未配線であったり、配線での端子の引き出しが
短すぎる場合、既配線によって予備のセルの端子への接
続が困難となるため、修正に必要な配線層が増大すると
いう課題がある。
In addition, if wiring is pulled up to the uppermost wiring layer or spare cells at both ends of the cell column are wired to facilitate the mask correction in the wiring layer, extra wiring is generated, so that the wiring efficiency is reduced. There is a problem that it decreases. Conversely, if the spare cell is unwired or the terminals are not drawn out too short, it is difficult to connect the spare cells to the terminals due to the existing wiring, so that the number of wiring layers required for repair increases. There are issues.

【0008】本発明は、以上のような問題点を解決する
ために、回路修正において、必要最小限のパターン変更
での修正を可能とし、機能セルライブラリに登録されて
いる遅延特性を変更することなく回路変更を可能とする
半導体集積回路の設計装置を提供することを目的とす
る。
According to the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, it is possible to modify a circuit with a minimum necessary pattern change and modify a delay characteristic registered in a function cell library. It is an object of the present invention to provide a device for designing a semiconductor integrated circuit capable of changing a circuit without any change.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載の半導体集積回路設計装置は、修正前
の回路接続情報に対する所定の論理修正指示に従い、回
路の接続変更によって遅延特性に影響を与えないように
回路変更方法を決定する回路変更決定手段と、回路変更
方法に従って、回路接続情報の要素素子間の接続を変更
し、修正後の回路接続情報を出力する回路接続変更手段
を備えた構成とする。この構成によると、マスク作成後
の論理修正を行う場合でも、遅延特性に影響を与えるこ
となく、多くの予備のセルを使わずに比較的小規模な配
線層の変更だけで対応することが可能となる。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit designing apparatus according to a first aspect of the present invention, wherein a delay characteristic is changed by changing a circuit connection in accordance with a predetermined logical correction instruction for circuit connection information before correction. Circuit change determining means for determining a circuit change method so as not to affect circuit connection, and circuit connection change means for changing connections between element elements of circuit connection information according to the circuit change method and outputting corrected circuit connection information The configuration is provided with. According to this configuration, even if the logic is modified after the mask is created, it is possible to respond to the delay characteristics without affecting the delay characteristics and by using a relatively small wiring layer change without using many spare cells. Becomes

【0010】また、請求項2記載の半導体集積回路設計
装置は、修正前の回路接続情報に示されるセルの配置情
報に基づき、セルの片側もしくは両側に十分な空き領域
がある場合に、セルを、論理修正用素子を含むセルに置
換する回路変更方法を決定する置換セル決定手段と、回
路変更方法に従って、回路接続情報の要素素子間の接続
を変更し、修正後の回路接続情報を出力する回路接続変
更手段を備えた構成とする。この構成により、適当なセ
ルを論理修正用素子を含むセルに置換しておけば、マス
ク設計後の論理修正を比較的容易に配線層のみで実施す
ることが可能となる。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit designing apparatus which, based on the cell arrangement information indicated in the circuit connection information before correction, determines whether a cell has sufficient free space on one or both sides of the cell. A replacement cell determining means for determining a circuit change method for replacing a cell including a logic correction element, and changing the connection between the element elements of the circuit connection information according to the circuit change method, and outputting the corrected circuit connection information. It is configured to include a circuit connection changing unit. With this configuration, if an appropriate cell is replaced with a cell including a logic correction element, logic correction after mask design can be relatively easily performed only on the wiring layer.

【0011】さらに、請求項3記載の半導体集積回路設
計装置は、できる限り上の配線層にある電源配線の近傍
の領域を配置領域とする配置制限手段と、予備のセルを
制限領域に配置する配置修正手段と、予備のセルの入力
端子を電源配線に接続し、かつ、所定の配線層で所定の
配線長となるような配線制限を出力する配線制限手段
と、予備のセルの入力端子に接続する配線を配線制限に
従い修正する配線修正手段を備えた構成とする。この構
成により、マスク作成後の論理修正を予備のセルを用い
て行う場合、配線層のみで修正することができ、変更す
る配線層の数を抑制することが可能となる。
Further, in the semiconductor integrated circuit designing apparatus according to the present invention, an arrangement limiting means for setting an area near the power supply wiring in the wiring layer as high as possible as an arrangement area, and spare cells are arranged in the restricted area. Arrangement correcting means, wiring limiting means for connecting the input terminal of the spare cell to the power supply wiring, and outputting a wiring limit so as to have a predetermined wiring length in a predetermined wiring layer; A configuration is provided that includes wiring correction means for correcting wiring to be connected in accordance with wiring restrictions. With this configuration, when the logical correction after the mask is created is performed using spare cells, the correction can be performed using only the wiring layers, and the number of wiring layers to be changed can be suppressed.

【0012】[0012]

【発明の実施形態】以下本発明の実施の形態について、
図面を参照して説明する。 (実施形態1)図1は本発明の第1の実施形態における
回路修正装置の構成を示すブロック図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below.
This will be described with reference to the drawings. (Embodiment 1) FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a circuit correction device according to a first embodiment of the present invention.

【0013】回路修正装置101は、修正前の回路接続
情報111と論理修正指示112と修正用セルライブラ
リ113を入力とし、回路変更指示114を出力する回
路変更方法決定手段102と、修正前の回路接続情報1
11と回路変更指示114を入力とし、修正後の回路接
続情報115を出力とする回路接続変更手段103とか
ら構成される。修正用セルライブラリ113は、図3の
ようにセル名301と内部ノード論理302と遅延特性
に影響する出力端子303が記述されている。
The circuit correction apparatus 101 receives circuit connection information 111 before correction, a logic correction instruction 112 and a cell library 113 for correction as inputs, and outputs a circuit change instruction 114. Connection information 1
11 and a circuit connection changing unit 103 that receives the circuit change instruction 114 as input and outputs the corrected circuit connection information 115 as output. As shown in FIG. 3, the correction cell library 113 describes a cell name 301, an internal node logic 302, and an output terminal 303 that affects delay characteristics.

【0014】次に、図2を用いて回路修正の過程を説明
する。図2(A)は修正前の回路接続情報111を示す
回路図であり、図2(B)は修正後の回路接続情報11
5を示す回路図である。セル211のセル名はNAND
2でインスタンス名はI1、セル213のセル名はAN
D2でインスタンス名はI3である。端子221はセル
211の出力端子で、出力端子222はセル213の出
力端子である。出力端子222は配線241に接続され
ている。
Next, the process of circuit correction will be described with reference to FIG. FIG. 2A is a circuit diagram showing the circuit connection information 111 before correction, and FIG. 2B is a circuit diagram showing the circuit connection information 11 after correction.
FIG. The cell name of the cell 211 is NAND
2, the instance name is I1, and the cell name of cell 213 is AN
In D2, the instance name is I3. The terminal 221 is an output terminal of the cell 211, and the output terminal 222 is an output terminal of the cell 213. The output terminal 222 is connected to the wiring 241.

【0015】回路修正指示112には図4のように、修
正する信号名401と修正論理402が記述されてい
る。図3より分かるように、修正用セルライブラリ11
3にはNAND2が登録されていないため、回路変更方
法決定手段102では、セル211を修正前の回路接続
情報111に含まれる予備のセル215に変更する。
As shown in FIG. 4, a signal name 401 to be corrected and a correction logic 402 are described in the circuit correction instruction 112. As can be seen from FIG.
Since no NAND2 is registered in No. 3, the circuit change method determining means 102 changes the cell 211 to the spare cell 215 included in the circuit connection information 111 before correction.

【0016】回路修正指示112に記述された修正する
信号413に対応する出力端子222を有するセル21
3は、修正用セルライブラリ113に登録されているセ
ル311であるので、修正論理414と内部ノード論理
312とを比較し、セル311の内部ノードにて遅延特
性に影響を与えずに修正論理414を実現できるので、
出力端子222に接続されている配線241を内部ノー
ド231に接続し、遅延特性に影響する出力端子222
を開放する。この例では、内部ノード論理312にて修
正論理414を実現できたが、修正用セルライブラリ1
13に登録されているセルであっても、内部ノード論理
302にて修正論理402が実現できない場合には、先
の例と同様に、回路修正指示112に記述された修正す
る信号401に対応するセルを、修正前の回路接続情報
111に含まれる予備のセルに置き換えて修正を実現す
る。
Cell 21 having output terminal 222 corresponding to signal 413 to be modified described in circuit modification instruction 112
3 is the cell 311 registered in the correction cell library 113, the correction logic 414 is compared with the internal node logic 312, and the correction logic 414 is not affected by the internal node of the cell 311 without affecting the delay characteristic. Can be realized,
The wiring 241 connected to the output terminal 222 is connected to the internal node 231 so that the output terminal 222 that affects the delay characteristics is connected.
To release. In this example, the modification logic 414 can be realized by the internal node logic 312.
When the modification logic 402 cannot be realized by the internal node logic 302 even in the cell registered in the circuit 13, the cell 401 corresponds to the signal 401 to be modified described in the circuit modification instruction 112, as in the previous example. The correction is realized by replacing the cell with a spare cell included in the circuit connection information 111 before the correction.

【0017】回路変更方法決定手段102で決定された
回路変更指示114には、セル211からセル215へ
の変更と、セル213の接続変更が記述される。回路接
続変更手段103では、回路変更指示114に記述され
た接続変更を行い、修正後の回路接続情報115が出力
される。
The circuit change instruction 114 determined by the circuit change method determining means 102 describes a change from the cell 211 to the cell 215 and a change in the connection of the cell 213. The circuit connection changing means 103 changes the connection described in the circuit change instruction 114, and outputs the corrected circuit connection information 115.

【0018】このように、実施の形態1記載の半導体集
積回路設計装置によれば、全ての修正を予備のセルを使
って行う回路修正に比べ予備のセルの使用数が削減で
き、また、接続を変更するセルにおいても同一セル内の
接続変更で済むため、配線層の変更を少なくすることが
できる。また、内部ノードに配線を接続する場合でも、
遅延特性に影響のある端子を使用しないため、セルライ
ブラリに登録されている遅延特性の変更を回避できる。 (実施形態2)図5は本発明の第2の実施形態における
半導体集積回路設計装置の構成を示すブロック図であ
る。
As described above, according to the semiconductor integrated circuit design apparatus of the first embodiment, the number of spare cells used can be reduced as compared with the circuit modification in which all modifications are made using spare cells. In the cell in which is changed, only the connection change in the same cell is required, so that the change of the wiring layer can be reduced. Also, even when wiring is connected to internal nodes,
Since terminals that affect the delay characteristics are not used, it is possible to avoid changing the delay characteristics registered in the cell library. (Embodiment 2) FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit designing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【0019】回路修正装置501は、修正前の回路接続
情報511とセル配置情報512と修正用セルライブラ
リ513を入力とし、置換セル指示514を出力する置
換セル決定手段502と、回路接続情報511と置換セ
ル指示514を入力とし、修正後の回路接続情報515
を出力する回路接続変更手段503とから構成される。
修正用セルライブラリ513は、図6のように置換前セ
ル名601と置換後セル名602と増加面積603が記
述されている。
The circuit correction device 501 receives circuit connection information 511 before correction, cell arrangement information 512, and a cell library for correction 513 as inputs, and outputs replacement cell instructions 514. The replacement cell instruction 514 is input, and the corrected circuit connection information 515 is input.
And a circuit connection changing means 503 for outputting the same.
In the correction cell library 513, a cell name 601 before replacement, a cell name 602 after replacement, and an increased area 603 are described as shown in FIG.

【0020】次に、図7を用いて回路修正の過程を説明
する。図7(A)は修正前の回路接続情報511を示す
回路図であり、図7(B)は修正後の回路接続情報51
5を示す回路図である。図8(A)は修正前の回路のセ
ル配置であり、図8(B)は修正後の回路のセル配置で
ある。セル711、712、713、714、716
は、それぞれ811、812、813、814、816
に対応する。
Next, the process of circuit correction will be described with reference to FIG. FIG. 7A is a circuit diagram showing the circuit connection information 511 before correction, and FIG. 7B is a circuit diagram showing the circuit connection information 51 after correction.
FIG. FIG. 8A shows the cell arrangement of the circuit before correction, and FIG. 8B shows the cell arrangement of the circuit after correction. Cells 711, 712, 713, 714, 716
Are 811, 812, 813, 814, and 816, respectively.
Corresponding to

【0021】置換セル決定手段502では、セル配置情
報512から修正前のセルの片側もしくは両側の空き領
域を確認し、修正セルライブラリ513に記述されたセ
ルで増加面積が空き領域以下の場合は、置換するセルと
して置換セル指示514に出力する。
The replacement cell determination means 502 checks the free area on one or both sides of the cell before correction from the cell arrangement information 512, and if the increased area of the cell described in the corrected cell library 513 is smaller than the free area, It outputs to the replacement cell instruction 514 as a replacement cell.

【0022】セル711には面積2の空き領域821が
あり、セル711に該当するセル611はセル612に
置換するときの増加面積613が1であるため、セル7
11はセル612であるセル716に置換する。セル7
12、713、714は修正セルライブラリ513に記
述されていないため置換しない。また、修正セルライブ
ラリ513に記述してあっても、セルの片側もしくは両
側に増加面積603以上の空き領域がない場合は置換し
ない。
The cell 711 has a free area 821 having an area of 2. The cell 611 corresponding to the cell 711 has an increased area 613 of 1 when the cell 611 is replaced with the cell 612.
11 is replaced with a cell 716 which is a cell 612. Cell 7
12, 713 and 714 are not described because they are not described in the corrected cell library 513. Further, even if the cell is described in the corrected cell library 513, if there is no free area with the increased area 603 or more on one side or both sides of the cell, the cell is not replaced.

【0023】置換セル決定手段502で決定された回路
変更は、置換セル指示514に記述される。回路接続変
更手段503では、置換セル指示514に記述された接
続変更を行い、修正後の回路接続情報515が出力され
る。
The circuit change determined by the replacement cell determination means 502 is described in a replacement cell instruction 514. The circuit connection changing unit 503 changes the connection described in the replacement cell instruction 514, and outputs the corrected circuit connection information 515.

【0024】マスク作成前のレイアウト設計時に、実施
形態2の半導体集積回路設計装置を使用して論理修正用
素子を含むセルに置換しておき、マスク作成後に論理修
正が必要になった場合は、実施形態1の半導体集積回路
設計装置を使用して回路変更を行う。
At the time of layout design before mask creation, the semiconductor integrated circuit designing apparatus according to the second embodiment is used to replace the cells with cells containing logic correction elements. The circuit is changed using the semiconductor integrated circuit design device of the first embodiment.

【0025】図7を用いて実施形態1の半導体集積回路
設計装置を使用した場合について説明する。実施形態1
の回路修正を行う前の回路は図7(B)となる。
A case where the semiconductor integrated circuit designing apparatus of the first embodiment is used will be described with reference to FIG. Embodiment 1
FIG. 7B shows a circuit before the circuit correction is performed.

【0026】回路修正指示112には図4のように、修
正する信号名と修正する論理が記述されている。セル7
16、713は共に修正用セルライブラリ113に登録
されているセルであるため内部ノードを接続し、遅延特
性に影響のある端子を開放する。修正後の回路接続情報
115として、図7(C)に示す回路が出力される。
As shown in FIG. 4, the circuit correction instruction 112 describes the signal name to be corrected and the logic to be corrected. Cell 7
Since both cells 16 and 713 are cells registered in the correction cell library 113, they connect internal nodes and open terminals that affect the delay characteristics. The circuit shown in FIG. 7C is output as the corrected circuit connection information 115.

【0027】このように、マスク作成前の設計におい
て、実施形態2の半導体集積回路設計装置を用いて回路
変更を行っておけば、マスク作成後の回路変更におい
て、予備のセルの使用数を削減できるという効果が得ら
れる。 (実施形態3)図9は本発明の第3の実施形態における
半導体集積回路設計装置の構成を示すブロック図であ
る。
As described above, if the circuit is changed using the semiconductor integrated circuit designing apparatus of the second embodiment in the design before the mask is formed, the number of spare cells used in the circuit change after the mask is formed can be reduced. The effect that it can be obtained is obtained. (Embodiment 3) FIG. 9 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit designing apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【0028】レイアウト設計装置901は、電源配線情
報911を入力とし、予備のセルの配置位置を制限する
配置制限情報912を出力する配置制限手段902と、
配置制限情報912と配置情報913を入力として予備
セルを配置し予備のセル配置後配置情報914を出力す
る配置修正手段903と、最小配線指定915と配線量
情報916を入力とし、予備のセルの入力端子の配線を
制限する配線制限情報917を出力する配線制限手段9
04と、配線制限情報917と配線情報918を入力と
して予備セルの入力端子を配線し、予備のセル配線後配
線情報919を出力する配線修正手段905とから構成
される。
The layout design apparatus 901 receives the power supply wiring information 911 as input, and outputs arrangement restriction information 912 for restricting the arrangement position of spare cells.
A placement correction unit 903 that receives the placement restriction information 912 and the placement information 913 to place a spare cell and outputs the spare cell placement information 914, a minimum wiring designation 915 and a wiring amount information 916, and inputs the spare cell. Wiring restriction means 9 for outputting wiring restriction information 917 for restricting the wiring of input terminals
And wiring correction means 905 for inputting the input terminal of the spare cell using the wiring restriction information 917 and the wiring information 918 as input and outputting the wiring information 919 after the spare cell wiring.

【0029】配置制限手段902では、電源配線情報9
11の近傍に予備のセルを配置するように配置制限情報
912を作成する。配線制限手段904では、予備のセ
ルの入力端子に接続されている配線を可能な限り上位の
層の電源配線に接続し、かつ、配線量情報916から総
配線量の最も少ない配線層を選び、最小配線指定915
で指定された長さ以上の配線長を有するような配線制限
情報917を作成する。
In the arrangement limiting means 902, the power supply wiring information 9
The placement restriction information 912 is created so that a spare cell is placed near the location 11. The wiring limiting unit 904 connects the wiring connected to the input terminal of the spare cell to the power supply wiring of the upper layer as much as possible, and selects the wiring layer having the smallest total wiring amount from the wiring amount information 916, Minimum wiring designation 915
The wiring restriction information 917 having a wiring length equal to or longer than the length specified in the above is created.

【0030】次に、図10を用いて、配置制限手段90
2、配置修正手段903の実施過程を説明する。図10
(A)は予備のセル配置前のレイアウト図であり、図1
0(B)は予備のセル配置後のレイアウト図である。電
源配線情報911には図10(A)から得られた電源配
線情報が記述されている。配置制限手段902では、電
源配線情報911から電源配線1003の近傍に予備の
セルを配置可能な領域1001の情報を作成する。配置
修正手段903では、予備のセル1002を予備のセル
を配置可能な領域1001に配置する。その結果とし
て、図10(B)のようにレイアウトされる。
Next, with reference to FIG.
2. An implementation process of the arrangement correcting unit 903 will be described. FIG.
FIG. 1A is a layout diagram before a spare cell is arranged, and FIG.
0 (B) is a layout diagram after a spare cell is arranged. The power supply wiring information 911 describes the power supply wiring information obtained from FIG. The placement limiting unit 902 creates information of the area 1001 where a spare cell can be placed near the power supply wiring 1003 from the power supply wiring information 911. The arrangement correcting unit 903 arranges the spare cell 1002 in the area 1001 where the spare cell can be arranged. As a result, the layout is performed as shown in FIG.

【0031】次に、図11を用いて、配線制限手段90
4、配線修正手段905の実施過程を説明する。図11
(A)は予備のセルの配線前のレイアウト図であり、図
11(B)は予備のセルの配線後のレイアウト図であ
る。配線1103は電源配線であり、最上層の第4配線
層の配線である。
Next, referring to FIG.
4. An implementation process of the wiring correction means 905 will be described. FIG.
FIG. 11A is a layout diagram of a spare cell before wiring, and FIG. 11B is a layout diagram of a spare cell after wiring. The wiring 1103 is a power supply wiring and is a wiring of a fourth wiring layer of the uppermost layer.

【0032】図12は配線量情報916で、配線層12
01と、それぞれの配線層での配線量1202が記述さ
れており、第3配線層が最も配線量が少ないことを示し
ている。最小配線指定915には配線を変更する際に最
低必要な配線長が記述されている。配線制限手段904
では、予備のセル1101の入力端子1102と、その
最も近傍にある最上位の層となる第4配線層で配線され
ている電源配線1103とを最も配線量の少ない第3配
線層で前記最低必要な配線長を満たす配線を行うように
配線制限情報917を作成する。配線修正手段905で
は、配線を配線制限情報917に指定された制限を満た
すように配線修正を行う。
FIG. 12 shows the wiring amount information 916,
01 and the amount of wiring 1202 in each wiring layer is described, indicating that the third wiring layer has the least amount of wiring. The minimum wiring designation 915 describes the minimum required wiring length when changing the wiring. Wiring limiting means 904
Then, the input terminal 1102 of the spare cell 1101 and the power supply wiring 1103 wired in the fourth wiring layer, which is the nearest uppermost layer, are connected by the third wiring layer having the smallest wiring amount to the minimum necessary. The wiring restriction information 917 is created so as to perform wiring satisfying a proper wiring length. The wiring correction means 905 corrects the wiring so as to satisfy the restriction specified in the wiring restriction information 917.

【0033】図11(B)を用いて、配線方法について
説明する。予備のセル1101の入力端子1102は第
1配線層であるとする。ビア1104にて第2配線層、
第3配線層へ接続されている。第3配線層の配線110
5は配線制限情報917で指定された最低必要な配線長
を満たしており、ビア1106にて第4配線層へ接続さ
れて第4配線層の配線1107で電源配線1103へ接
続されている。
The wiring method will be described with reference to FIG. The input terminal 1102 of the spare cell 1101 is assumed to be a first wiring layer. A second wiring layer at via 1104,
It is connected to the third wiring layer. Wiring 110 of third wiring layer
Reference numeral 5 satisfies the minimum required wiring length specified by the wiring restriction information 917, is connected to the fourth wiring layer by the via 1106, and is connected to the power supply wiring 1103 by the wiring 1107 of the fourth wiring layer.

【0034】なお、マスク作成後の回路修正において
は、第3配線層の配線1105を切断して電源への接続
を断ち、第3配線層で予備のセル1101の端子110
2の所定の接続変更を行う。
When the circuit is modified after the mask is formed, the wiring 1105 in the third wiring layer is cut off to disconnect the connection to the power supply, and the terminal 110 of the spare cell 1101 is disconnected in the third wiring layer.
2. A predetermined connection change is performed.

【0035】このように、実施形態3の半導体集積回路
設計装置によれば、マスク作成後の回路修正において、
容易に配線層のみで変更ができるようになる。しかも、
予備のセルの端子から、十分な長さの、配線量の少ない
配線層で電源に接続しているため、単一の配線層の変更
だけでの修正が可能になる。また、予備のセルを電源配
線の近傍に配置しているため、予備のセルの端子の電源
への配線を短くすることが可能となる。
As described above, according to the semiconductor integrated circuit designing apparatus of the third embodiment, in the circuit modification after the mask is created,
The change can be easily made only by the wiring layer. Moreover,
Since the terminals of the spare cells are connected to the power supply through a wiring layer having a sufficient length and a small amount of wiring, it is possible to perform correction by changing only a single wiring layer. In addition, since the spare cell is arranged near the power supply wiring, it is possible to shorten the wiring of the terminal of the spare cell to the power supply.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上説明したように本発明の半導体集積
回路設計装置は、マスク作成後に論理修正を行う際に、
セルの内部ノードに配線を接続し、遅延特性に影響のあ
る端子を開放することで、予備のセルの使用数を削減
し、セルライブラリの遅延特性を変更することなく、配
線層の変更だけで回路変更を行えるという効果がある。
また、マスク設計前の設計の段階で、セルの片側もしく
は両側に空き領域のあるセルを論理修正に使用できる素
子を追加したセルに置換することで、マスク作成後の論
理修正を行う際に、予備のセルの使用数を削減できると
いう効果がある。さらに、予備のセルを可能な限り上位
の層の電源配線の近傍に配置し、予備のセルの入力端子
の配線をその電源配線に接続し、その配線の際に、所定
の配線層に切断可能で最短の配線を行うことで、マスク
作成後の論理修正を行う際に、単一の配線層の変更だけ
で修正できるという効果がある。
As described above, the semiconductor integrated circuit designing apparatus of the present invention can be used to perform a logical correction after a mask is created.
By connecting wiring to the internal nodes of the cell and opening the terminals that affect the delay characteristics, the number of spare cells used can be reduced, and without changing the delay characteristics of the cell library, only changing the wiring layer There is an effect that the circuit can be changed.
Also, at the design stage before the mask design, by replacing cells having empty areas on one or both sides of the cells with cells added with elements that can be used for logic correction, when performing logic correction after mask creation, This has the effect of reducing the number of spare cells used. In addition, the spare cell can be placed as close as possible to the power supply wiring of the upper layer, and the wiring of the input terminal of the spare cell can be connected to the power supply wiring, and the wiring can be cut to a predetermined wiring layer at the time of the wiring By performing the shortest wiring, there is an effect that the correction can be performed only by changing a single wiring layer when performing the logical correction after the mask is created.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】請求項1記載の半導体集積回路設計装置におけ
る回路修正装置の構成図
FIG. 1 is a configuration diagram of a circuit correction device in a semiconductor integrated circuit design device according to claim 1.

【図2】請求項1記載の半導体集積回路設計装置におけ
る修正前後の回路接続図
FIG. 2 is a circuit connection diagram before and after correction in the semiconductor integrated circuit design apparatus according to claim 1.

【図3】請求項1記載の半導体集積回路設計装置におけ
る修正用セルライブラリを示す図
FIG. 3 is a diagram showing a correction cell library in the semiconductor integrated circuit design apparatus according to claim 1;

【図4】請求項1記載の半導体集積回路設計装置におけ
る論理修正指示を示す図
FIG. 4 is a diagram showing a logic correction instruction in the semiconductor integrated circuit designing apparatus according to claim 1;

【図5】請求項2記載の半導体集積回路設計装置におけ
る回路修正装置の構成図
FIG. 5 is a configuration diagram of a circuit correction device in the semiconductor integrated circuit design device according to claim 2.

【図6】請求項2記載の半導体集積回路設計装置におけ
る修正用セルライブラリを示す図
FIG. 6 is a diagram showing a correction cell library in the semiconductor integrated circuit design apparatus according to claim 2;

【図7】請求項2記載の半導体集積回路設計装置におけ
る修正前後の回路接続図
FIG. 7 is a circuit connection diagram before and after correction in the semiconductor integrated circuit design apparatus according to claim 2.

【図8】請求項2記載の半導体集積回路設計装置におけ
るセル配置図
FIG. 8 is a cell layout diagram in the semiconductor integrated circuit designing apparatus according to claim 2;

【図9】請求項3記載の半導体集積回路設計装置におけ
る回路修正装置の構成図
FIG. 9 is a configuration diagram of a circuit correction device in the semiconductor integrated circuit design device according to claim 3.

【図10】請求項3記載の半導体集積回路設計装置にお
けるセル配置図
FIG. 10 is a cell layout diagram in the semiconductor integrated circuit designing apparatus according to claim 3.

【図11】請求項3記載の半導体集積回路設計装置にお
ける配線図
FIG. 11 is a wiring diagram in the semiconductor integrated circuit designing apparatus according to claim 3.

【図12】請求項3記載の半導体集積回路設計装置にお
ける配線量情報を示す図
FIG. 12 is a diagram showing wiring amount information in the semiconductor integrated circuit designing apparatus according to claim 3;

【符号の説明】 101 回路修正装置 102 回路変更方法決定手段 103 回路接続変更手段 111 修正前の回路接続情報 112 論理修正指示 113 修正用セルライブラリ 114 回路変更指示 115 修正後の回路接続情報 211 セル 212 セル 213 セル 214 セル 215 セル 221 出力端子 222 出力端子 231 内部ノード 241 配線 301 セル名 302 内部ノード論理 303 出力端子 311 セル 312 内部ノード論理 401 信号名 402 修正論理 413 信号 414 修正論理 501 回路修正装置 502 置換セル決定手段 503 回路接続変更手段 511 修正前の回路接続情報 512 セル配置情報 513 修正用セルライブラリ 514 置換セル指示 515 修正後の回路接続情報 601 置換前セル名 602 置換後セル名 603 増加面積 611 セル 612 セル 613 増加面積 711 セル 712 セル 713 セル 714 セル 716 セル 811 セル 812 セル 813 セル 814 セル 816 セル 821 空き領域 901 レイアウト設計装置 902 配置制限手段 903 配置修正手段 904 配線制限手段 905 配線修正手段 911 電源配線情報 912 配置制限情報 913 配置情報 914 予備のセル配置後配置情報 915 最小配線指定 916 配線量情報 917 配線制限情報 918 配線情報 919 予備のセル配線後配線情報 1001 予備のセルを配置可能な領域 1002 予備のセル 1003 電源配線 1101 予備のセル 1102 入力端子 1103 電源配線 1104 ビア 1105 第3配線層の配線 1106 ビア 1107 第4配線層の配線 1201 配線層 1202 配線量DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 Circuit correction device 102 Circuit change method determination means 103 Circuit connection change means 111 Circuit connection information before correction 112 Logic correction instruction 113 Cell library for correction 114 Circuit change instruction 115 Circuit connection information after correction 211 Cell 212 Cell 213 cell 214 cell 215 cell 221 output terminal 222 output terminal 231 internal node 241 wiring 301 cell name 302 internal node logic 303 output terminal 311 cell 312 internal node logic 401 signal name 402 correction logic 413 signal 414 correction logic 501 circuit correction device 502 Replacement cell determination means 503 Circuit connection change means 511 Circuit connection information before correction 512 Cell arrangement information 513 Cell library for correction 514 Replacement cell instruction 515 Circuit connection information after correction 601 Cell name before replacement 02 Replaced cell name 603 Increased area 611 Cell 612 Cell 613 Increased area 711 Cell 712 Cell 713 Cell 714 Cell 716 Cell 811 Cell 812 Cell 813 Cell 814 Cell 816 Cell 821 Free area 901 Layout design unit 902 Restriction layout unit 902 904 wiring restriction means 905 wiring correction means 911 power supply wiring information 912 placement restriction information 913 placement information 914 spare cell placement information 915 minimum wiring designation 916 wiring amount information 917 wiring limit information 918 wiring information 919 preliminary cell wiring information 1001 Spare cell placement area 1002 Spare cell 1003 Power supply wiring 1101 Spare cell 1102 Input terminal 1103 Power supply wiring 1104 Via 1105 Wiring of third wiring layer 1106 1107 The fourth wiring 1201 wiring layer 1202 lines of wiring layers

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】修正前の回路接続情報に対する所定の論理
修正指示に従い、回路の接続変更によって遅延特性に影
響を与えないように回路変更方法を決定する回路変更決
定手段と、 前記回路変更方法に従って、前記回路接続情報の要素素
子間の接続を変更し、修正後の回路接続情報を出力する
回路接続変更手段を備えた半導体集積回路設計装置。
1. A circuit change determining means for determining a circuit change method in accordance with a predetermined logical correction instruction for circuit connection information before correction so that a change in circuit connection does not affect delay characteristics. A semiconductor integrated circuit designing apparatus comprising: a circuit connection changing unit configured to change a connection between element elements of the circuit connection information and output the corrected circuit connection information.
【請求項2】修正前の回路接続情報に示されるセルの配
置情報に基づき、前記セルの片側もしくは両側に十分な
空き領域がある場合に、前記セルを、論理修正用素子を
含むセルに置換する回路変更方法を決定する置換セル決
定手段と、 前記回路変更方法に従って、前記回路接続情報の要素素
子間の接続を変更し、修正後の回路接続情報を出力する
回路接続変更手段を備えた半導体集積回路設計装置。
2. If there is a sufficient free area on one or both sides of the cell based on the cell arrangement information indicated in the circuit connection information before correction, the cell is replaced with a cell including a logic correction element. A semiconductor device, comprising: a replacement cell determining means for determining a circuit change method to be performed; and a circuit connection changing means for changing a connection between element elements of the circuit connection information according to the circuit change method and outputting corrected circuit connection information. Integrated circuit design equipment.
【請求項3】できる限り上の配線層にある電源配線の近
傍の領域を配置領域とする配置制限手段と、 予備のセルを前記制限領域に配置する配置修正手段と、 前記予備のセルの入力端子を前記電源配線に接続し、か
つ、所定の配線層で所定の配線長となるような配線制限
を出力する配線制限手段と、 前記予備のセルの入力端子に接続する配線を前記配線制
限に従い修正する配線修正手段を備えた半導体集積回路
設計装置。
3. An arrangement limiting means for setting an area as close as possible to a power supply wiring in a wiring layer as high as possible, an arrangement correcting means for arranging a spare cell in the limited area, and an input of the spare cell. A wiring limiting means for connecting a terminal to the power supply wiring, and outputting a wiring limit so as to have a predetermined wiring length in a predetermined wiring layer; and a wiring connecting to an input terminal of the spare cell according to the wiring restriction. A semiconductor integrated circuit design device having a wiring correction means for correcting.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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