JP2005114594A - 半導体装置検査用配線板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体装置のバーンイン検査で用いる検査用配線板の製造工程を少なくする。
【解決手段】絶縁基板の第1主面に、半導体装置の外部電極端子と電気的に接続するコンタクト端子を設け、前記絶縁基板の第1主面の裏面(第2主面)に、前記コンタクト端子と電気的に接続された導体パターンが設けられてなり、前記導体パターンのうち、あらかじめ定められたパターンに電流を印加して、前記半導体装置の動作を検査するために用いる検査用配線板であって、前記コンタクト端子の前記外部電極端子と接触する部分に凹部が設けられている検査用配線板である。
【選択図】 図2
【解決手段】絶縁基板の第1主面に、半導体装置の外部電極端子と電気的に接続するコンタクト端子を設け、前記絶縁基板の第1主面の裏面(第2主面)に、前記コンタクト端子と電気的に接続された導体パターンが設けられてなり、前記導体パターンのうち、あらかじめ定められたパターンに電流を印加して、前記半導体装置の動作を検査するために用いる検査用配線板であって、前記コンタクト端子の前記外部電極端子と接触する部分に凹部が設けられている検査用配線板である。
【選択図】 図2
Description
本発明は、検査用配線板及びその製造方法に関し、特に、外部電極端子が小型、高密度の半導体装置を検査する配線板に適用して有効な技術に関するものである。
従来、半導体装置の初期不良の検査には、バーンイン検査がある。前記バーンイン検査は、検査用ソケットに前記半導体装置を収納し、あらかじめ定められた温度、例えば125℃に加熱した状態で前記半導体装置を動作させ、故障した半導体装置を取り除く検査である。
前記半導体装置のうち、例えば、BGA(Ball Grid Array)と呼ばれる形態の半導体装置のバーンイン検査で用いる検査用ソケット8は、例えば、図9に示すように、耐熱性を有する筐体(半導体装置支持部材)801の内側に、絶縁基板1の表面にコンタクト端子2を設けた配線板(以下、検査用配線板と称する)が取り付けられている(例えば、非特許文献1を参照)。前記コンタクト端子2は、前記半導体装置6の外部電極端子601と電気的に接続する端子であり、前記絶縁基板1の裏面側に設けられた導体パターン3により、前記筐体801の表面に設けられる信号入出力用端子802と電気的に接続される。図9に示したような検査用ソケット8を用いて前記バーンイン検査を行うときには、前記筐体801の内部に半導体装置6を収納し、前記半導体装置の外部電極端子601と前記検査用配線板のコンタクト端子2の導通を確保した状態で加熱し、前記信号入力端子802から信号を入力したときの出力を調べ、前記半導体装置6が正常に動作しているか否かの判断をする。
また、前記半導体装置6は、近年、小型化、高密度化が進んでおり、外部電極端子601は小径化、高密度化されるようになってきているので、前記検査用配線板のコンタクト端子2も小径化、高密度化する必要がある。そのため、近年では、例えば、図10(a)及び図10(b)に示すように、絶縁基板1の第1主面1Aに前記コンタクト端子2を設け、前記絶縁基板1の第1主面1Aの裏面(第2主面)1Bに、前記コンタクト端子2とビア202で接続された導体パターン3を設けた検査用配線板が用いられるようになってきている。ここで、図10(b)は図10(a)のD−D’線での断面図である。このとき、前記導体パターン3は、前記コンタクト端子2よりも面積が狭い前記ビア202用のランドが設けられている間をぬって前記信号入出力用端子802がある場所まで引き出せばよい。そのため、前記コンタクト端子2の高密度化、多ピン化が容易である。
また、前記検査用配線板のコンタクト端子2上には、例えば、図10(a)及び図10(b)に示したように、扇形等の突起9を設けることがある(例えば、非特許文献1を参照。)。前記突起9は、前記半導体装置6の外部電極端子601と接触したときに、前記外部電極端子601に食い込み、前記外部電極端子601の表面に生じた酸化膜を除去することができる。そのため、前記酸化膜による電気抵抗の増加を防ぎ、電気的な接続信頼性を確保した状態で検査を行うことができる。
また、前記検査用配線板は、一般のプリント配線板で用いられている、アディティブ法,サブトラクティブ法等を用いて製造される。ここで、例えば、前記図10(a)及び図10(b)に示した検査用配線板の製造方法を簡単に説明すると、まず、例えば、図11(a)に示すように、前記絶縁基板1の第1主面1A及び第2主面1Bのそれぞれに導体膜201,3が形成された積層板に、前記第1主面1A側からブラインドビアホール1Cを形成する。次に、図11(b)に示すように、前記第1主面1Aの導体膜201と前記第2主面1Bの導体膜3をブラインドビア202で電気的に接続する。次に、図11(c)に示すように、前記絶縁基板1の第1主面1A側の導体膜201(202)上に、開口部10Aを有するめっきレジスト10を形成した後、図11(d)に示すように、例えば、扇型等の突起9を形成する。このとき、前記突起9は、電気銅めっき等で前記コンタクト端子2として残る部分に形成する。次に、図12(a)に示すように、前記絶縁基板1の第1主面1A側の導体膜201(202)上、及び第2主面側の導体膜3上のそれぞれにエッチングレジスト5を形成し、図12(b)に示すように、エッチングで前記各導体膜201,202,3の不要な部分を除去して前記コンタクト端子2及び前記導体パターン3を形成する。その後、前記エッチングレジスト5を除去し、前記コンタクト端子2及び前記導体パターン3の表面に金めっき4、あるいはニッケルめっきを下地にした金めっきを形成すると、図10(a)及び図10(b)に示したような検査用配線板が得られる。
また、前記突起9は、図11(d)に示したように、前記コンタクト端子2を形成する前に形成してもよいし、例えば、前記非特許文献1に記載されているように、前記コンタクト端子2を形成してから前記突起9を形成してもよい。
珍田 聡 他, 「0.5mmピッチBGAパッケージのバーンインソケット用銅めっきバンプ付TABテープ材」, エレクトロニクス実装学会誌, (社)エレクトロニクス実装学会, Vol.4, No.4(2001.7), p312-317
珍田 聡 他, 「0.5mmピッチBGAパッケージのバーンインソケット用銅めっきバンプ付TABテープ材」, エレクトロニクス実装学会誌, (社)エレクトロニクス実装学会, Vol.4, No.4(2001.7), p312-317
しかしながら、前記従来の技術では、前記検査用配線板は、例えば、図10(a)及び図10(b)に示したように、前記コンタクト端子2の表面に突起9を設けることで、前記半導体装置6の外部電極端子601との電気的な接続信頼性を確保している。そのため、検査用配線板を製造するときには、前記突起9を形成する工程が必要であり、製造にかかる時間が長くなるという問題があった。また、製造工程が多く、且つ製造にかかる時間が長くなるので、前記検査用配線板の製造コストが上昇という問題があった。
また、前記コンタクト端子2の小径化にともない、前記突起9の小型化も進んでいる。また、前記突起9は、例えば、電気銅めっきで形成するが、めっき液の組成の変化、印加する電力の変化等により、前記突起9の先端部(表面部)が丸くなってしまうことがある。また、その他にも、例えば、前記突起9の高さにばらつきが生じることもある。そのため、前記各コンタクト端子2上の突起9の先端形状にばらつきが生じ、前記半導体装置の外部電極端子601との接触不良が起きたり、前記外部電極端子601の表面の酸化膜を除去できなかったりする場合が生じ、検査時の半導体装置の動作が不安定になりやすく、正確な検査が難しいという問題があった。
本発明の目的は、半導体装置のバーンイン検査で用いる検査用配線板の製造工程を少なくすることが可能な技術を提供することにある。
本発明の他の目的は、半導体装置のバーンイン検査における検査精度を向上させることが可能な技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろう。
本願において開示される発明の概要を説明すれば、以下の通りである。
(1)絶縁基板の第1主面に、半導体装置の外部電極端子と電気的に接続するコンタクト端子を設け、前記絶縁基板の第1主面の裏面(第2主面)に、前記コンタクト端子と電気的に接続された導体パターンが設けられてなり、前記導体パターンのうち、あらかじめ定められたパターンに電流を印加して、前記半導体装置の動作を検査するために用いる検査用配線板であって、前記コンタクト端子の前記外部電極端子と接触する部分に凹部が設けられている検査用配線板である。
前記(1)の手段によれば、前記凹部の段差(エッジ)が、従来の前記コンタクト端子上の突起のエッジと同じ役割をする。そのため、前記段差が、前記半導体装置の外部電極端子の表面に生じた酸化膜をワイピング(除去)し、正確な検査をすることができる。
また、前記コンタクト端子に凹部を形成して段差(エッジ)を設けるので、前記絶縁基板の表面から前記エッジまでの高さのばらつきがほとんどない。そのため、前記コンタクト部と半導体装置の外部電極端子の接触不良が生じにくく、正確な検査をすることができる。
また、前記(1)の手段において、前記コンタクト端子の凹部は、例えば、エッチング等で前記コンタクト端子を形成するときに同時に形成したものであれば、底面に前記絶縁基板が露出している。
(2)絶縁基板の第1主面に、半導体装置の外部電極端子と電気的に接続するコンタクト端子を設け、前記絶縁基板の第1主面の裏面(第2主面)に、前記コンタクト端子と電気的に接続された導体パターンが設けられてなり、前記導体パターンのうち、あらかじめ定められたパターンに電流を印加して、前記半導体装置の動作を検査するために用いる検査用配線板であって、前記コンタクト端子の前記外部電極端子と接触する部分に、前記コンタクト端子及び前記絶縁基板を貫通する貫通穴が設けられている検査用配線板である。
前記(2)の手段によれば、前記貫通穴の前記コンタクト端子側の端部(エッジ)が、従来の前記コンタクト端子上の突起のエッジと同じ役割をする。そのため、前記段差が、前記半導体装置の外部電極端子の表面に生じた酸化膜をワイピング(除去)し、正確な検査をすることができる。
また、前記コンタクト端子に貫通穴を形成して段差(エッジ)を設けるので、前記絶縁基板の表面から前記エッジまでの高さのばらつきがほとんどない。そのため、前記コンタクト部と半導体装置の外部電極端子の接触不良が生じにくく、正確な検査をすることができる。
(3)絶縁基板の第1主面に、半導体装置の外部電極端子と電気的に接続するコンタクト端子を形成し、前記絶縁基板の第1主面の裏面(第2主面)に、前記コンタクト端子と電気的に接続された導体パターンを形成するステップを有し、前記導体パターンのうち、あらかじめ定められたパターンに電流を印加して、前記半導体装置の動作を検査するために用いる検査用配線板の製造方法であって、前記絶縁基板の第1主面及び第2主面に導体膜を形成するステップと、絶縁基板の第1主面の導体膜と前記第2主面の導体膜を、あらかじめ定められた位置で電気的に接続するステップと、前記絶縁基板の第1主面の導体膜の、あらかじめ定められた位置に凹部を形成するステップと、前記絶縁基板の第1主面の導体膜及び前記第2主面の導体膜のそれぞれの不要な部分を除去して、前記コンタクト端子及び前記導体パターンを形成するステップとを有し、前記凹部は、前記コンタクト端子として残る部分に形成する検査用配線板の製造方法である。
前記(3)の手段によれば、前記コンタクト端子を形成するステップで前記コンタクト端子の表面に段差(エッジ)を形成することができる。そのため、例えば、従来の前記コンタクト端子上に突起を形成する工程が不要になり、短時間で検査用配線板を製造することができる。
(4)絶縁基板の第1主面に、半導体装置の外部電極端子と電気的に接続するコンタクト端子を形成し、前記絶縁基板の第1主面の裏面(第2主面)に、前記コンタクト端子と電気的に接続された導体パターンを形成するステップを有し、前記導体パターンのうち、あらかじめ定められたパターンに電流を印加して、前記半導体装置の動作を検査するために用いる検査用配線板の製造方法であって、前記絶縁基板の第1主面及び第2主面に導体膜を形成するステップと、絶縁基板の第1主面の導体膜と前記第2主面の導体膜を、あらかじめ定められた位置で電気的に接続するステップと、前記絶縁基板及び前記導体膜を貫通する貫通穴を、あらかじめ定められた位置に形成するステップと、前記絶縁基板の第1主面の導体膜及び前記第2主面の導体膜のそれぞれの不要な部分を除去して、前記コンタクト端子及び前記導体パターンを形成するステップとを有し、前記貫通穴を形成するステップは、前記絶縁基板の第1主面の導体膜の、前記コンタクト端子として残る部分に対し貫通穴を形成する検査用配線板の製造方法である。
(5) 絶縁基板の第1主面に、半導体装置の外部電極端子と電気的に接続するコンタクト端子を形成し、前記絶縁基板の第1主面の裏面(第2主面)に、前記コンタクト端子と電気的に接続された導体パターンを形成するステップを有し、前記導体パターンのうち、あらかじめ定められたパターンに電流を印加して、前記半導体装置の動作を検査するために用いる検査用配線板の製造方法であって、前記絶縁基板の第1主面及び第2主面に導体膜を形成するステップと、絶縁基板の第1主面の導体膜と前記第2主面の導体膜を、あらかじめ定められた位置で電気的に接続するステップと、前記絶縁基板の第1主面の導体膜及び前記第2主面の導体膜のそれぞれの不要な部分を除去して、前記コンタクト端子及び前記導体パターンを形成するステップと、前記コンタクト端子及び前記絶縁基板を貫通する貫通穴を形成するステップとを有する検査用配線板の製造方法である。
前記(4)及び(5)の手段によれば、前記コンタクト端子に貫通穴を形成するステップで前記コンタクト端子の表面に段差(エッジ)を形成することができる。このとき、前記貫通穴を形成するステップを、例えば、金型を用いた打ち抜き加工で行えば、従来のコンタクト端子上に突起を形成するステップに比べて簡単に、且つ短時間でエッジを形成することができる。そのため、検査用配線板の製造時間を短縮でき、製造コストも低減できる。
またこのとき、前記金型を用いた打ち抜き加工は、前記絶縁基板の第2主面側から打ち抜くことが好ましい。前記第2主面側から打ち抜くことにより、前記第1主面側、すなわち前記コンタクト端子のエッジ部分はかえりが生じて鋭さが増し、前記半導体装置の外部電極端子に生じた酸化膜を除去しやすくなる。
以下、本発明について、図面を参照して実施の形態(実施例)とともに詳細に説明する。
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは、同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、以下の通りである。
(1)半導体装置のバーンイン検査で用いる検査用配線板の製造工程を少なくすることができる。
(2)半導体装置のバーンイン検査における検査精度を向上させることができる。
(実施例1)
図1及び図2は、本発明による実施例1の検査用配線板の概略構成を示す模式図であり、図1は検査用配線板全体の平面図、図2(a)は図1のコンタクト端子の拡大平面図、図2(b)は図2(a)のA−A’線での断面図である。
図1及び図2は、本発明による実施例1の検査用配線板の概略構成を示す模式図であり、図1は検査用配線板全体の平面図、図2(a)は図1のコンタクト端子の拡大平面図、図2(b)は図2(a)のA−A’線での断面図である。
図1,図2(a),及び図2(c)において、1は絶縁基板、1Aは絶縁基板の第1主面、1Bは絶縁基板の第2主面、2はコンタクト端子、2Aはコンタクト端子の開口部、201は導体膜、202はブラインドビア、3は導体膜、4は金めっきである。
本実施例1の検査用配線板は、例えば、BGAと呼ばれる形態の半導体装置のバーンイン検査に用いる配線板であり、図1,図2(a),図2(b)に示すように、絶縁基板1の第1主面1Aに、前記半導体装置の外部電極端子と電気的に接続するコンタクト端子2が設けられ、前記絶縁基板1の第1主面1Aの裏面(第2主面)1Bに、前記コンタクト端子2と電気的に接続された導体パターン3が設けられている。このとき、前記コンタクト端子2と前記導体パターン3は、図2(b)に示したように、ブラインドビア202で電気的に接続されている。またこのとき、前記コンタクト端子2は、前記絶縁基板1の第1主面1Aに設けられた導体膜201と前記ブラインドビア202の一部が積層された状態になっている。
また、前記コンタクト端子2及び前記導体パターン3の表面には、例えば、金めっき4が施されている。またこのとき、前記導体パターン3は、前記絶縁基板1の半導体チップを載せる領域1Dの外側に引き出されており、図9に示したような、検査用ソケット8の信号入出力用端子802と電気的に接続できるようになっている。
また、前記コンタクト端子2は、図2(a)及び図2(b)に示したように、前記半導体装置の外部電極端子が接触する部分が開口しており、開口部2Aの底面に前記絶縁基板1が露出している。
図3は、本実施例1の検査用配線板の製造方法を説明するための模式図であり、図3(a),図3(b),図3(c),図3(d)はそれぞれ、製造工程中の断面図である。
本実施例1の検査用配線板を製造するときには、まず、図3(a)に示すように、前記絶縁基板1の第1主面1A及び第2主面1Bのそれぞれに導体膜201,3が形成された積層板に開口部(ブラインドビアホール)1Cを形成する。このとき、前記絶縁基板1には、例えば、ポリイミドテープのようなフィルム状の基板を用い、前記導体膜201,3には、例えば、電解銅箔等を用いる。また、前記ブラインドビアホール1Cは、例えば、前記絶縁基板1の第1主面1A側から、炭酸ガスレーザー等のレーザー光線を照射して形成する。
次に、図3(b)に示すように、前記ブラインドビアホール1Cの内部に導体(ブラインドビア)202を形成して、第1主面1A側の導体膜201と第2主面1B側の導体膜3を電気的に接続する。前記ブラインドビア202は、例えば、前記絶縁基板1の第1主面1A側の導体膜201を陰極とした電気銅めっきで形成する。このとき、前記電気銅めっきは、図3(b)に示したように、前記ブラインドビアホール1Cの内部だけでなく、前記第1主面1側の導体膜201上にも形成される。
次に、図3(c)に示すように、前記絶縁基板1の第1主面1A側の導体膜201,202上、及び第2主面1B側の導体膜3上に、エッチングレジスト5を形成する。このとき、前記第1主面1A側のエッチングレジスト5は、図1に示したような形状のコンタクト端子2が残るように形成する。また、前記第2主面1B側のエッチングレジスト5は、前記コンタクト端子2との電気的接続を確保でき、且つ検査用ソケットの信号入出力用端子と接続できるような導体パターン3が得られるように形成する。
次に、図3(d)に示すように、前記エッチングレジスト5をマスクとして前記各導体膜201,202,3をエッチングして不要な部分を除去し、前記コンタクト端子2及び導体パターン3を形成する。その後、前記エッチングレジスト5を除去し、前記コンタクト端子2及び前記導体パターン3の表面に金めっき、あるいはニッケルめっきを下地にして金めっき4を形成すると、本実施例1の検査用配線板を得ることができる。
このように、エッチングで前記コンタクト端子を形成する工程で、前記コンタクト端子2に開口部(凹部)2Aを形成することで、従来の、例えば、前記コンタクト端子2上の突起9を形成する製造方法に比べて、少ない工程で前記検査用配線板を製造することができる。
図4及び図5は、本実施例1の検査用配線板を用いた半導体装置の検査方法を説明するための模式図であり、図4は検査時のコンタクト端子周辺の断面図、図5(a)は検査後の半導体装置の外部電極端子の平面図、図5(b)は図5(a)のB−B’線での断面図である。
本実施例1の検査用配線板を用いて半導体装置のバーンイン検査を行うときには、例えば、図9に示したように、前記検査用配線板を検査用ソケット8に取り付けておき、前記検査用配線板上に半導体装置6を載せて固定する。このとき、コンタクト端子2に形成された開口部2Aに外部電極端子601を落とし込むようにし、前記コンタクト端子2は、図4に示したように、前記開口部2Aの角(エッジ)が前記半導体装置6の外部電極端子601に食い込む。前記半導体装置の外部電極端子601は、例えば、スズ鉛合金、スズ銀合金等のはんだ材料からなり、表面に酸化膜601Aができている。そのため、前記コンタクト端子2のエッジを、前記外部電極端子601に食い込ませて前記酸化膜601をこすり取り、あるいはエッジを外部電極端子601に突き刺し、前記コンタクト端子2と前記外部電極端子601の接触部の電気抵抗の増加を防ぐことができる。また、従来の、前記コンタクト端子2上に突起を形成する場合と異なり、前記コンタクト端子2の前記外部電極端子601と接触する部分の高さのばらつきをなくすことができる。以上のことから、本実施例1の検査用配線板を用いて検査をすれば、従来よりも正確な検査をすることができる。
また、前記検査用配線板を用いてバーンイン検査を行った後、前記半導体装置6の外部電極端子601には、図5(a)及び図5(b)に示したような圧痕601Bが残る。しかしながら、前記コンタクト端子の開口部2Aの大きさを調節すれば、前記圧痕601Bは小さくできるので、検査後の半導体装置6を、例えばマザーボード等の実装基板に実装するときの位置合わせの精度に影響が出ないようにすることができる。
以上説明したように、本実施例1の検査用配線板及びその製造方法によれば、前記コンタクト端子2を形成する工程で、従来の、前記コンタクト端子2上の突起9に相当する段差(エッジ)を形成できるので、製造工程を少なくすることができる。また、短時間で前記エッジを形成することができるので、従来の、コンタクト端子2上に突起9を形成する検査用配線板に比べて製造コストを低減することができる。
また、エッチングにより形成した前記コンタクト端子2の開口部2Aのエッジは、前記半導体装置6の外部電極端子601の表面に生じた酸化膜601Aを除去するのに十分な鋭さを持つので、前記酸化膜601Aによる接触抵抗の増加を防ぎ、正確な検査をすることができる。
また、前記従来のコンタクト端子2上の突起9のような高さのばらつきが生じにくいので、前記コンタクト端子2と前記半導体装置6の外部電極端子601の接触不良を低減することができる。
また、本実施例1の検査用配線板のように、前記コンタクト端子2を設けた面(第1主面1A)の裏面(第2主面1B)に、前記検査用ソケット8の信号入出力用端子802と電気的に接続する導体パターン3を設けた場合、前記コンタクト端子2の間をぬって前記導体パターン3を引き出す場合に比べて、前記導体パターンの引き回しが容易になる。そのため、外部電極端子601が高密度化、多ピン化された半導体装置6の検査用配線板として用いることができる。
図6は、前記実施例1の検査用配線板の変形例を説明するための模式図であり、図6(a)及び図6(b)はそれぞれコンタクト端子の開口部の変形例を示す平面図である。
前記実施例1では、前記コンタクト端子2の開口部2Aは、例えば、図2(a)に示したように、底面が矩形(正方形)状になっているが、これに限らず、前記開口部は、例えば、図6(a)に示したような十字形の底面の開口部2Bであってもよい。この場合、前記十字の交点部分のエッジが、前記半導体装置6の外部電極端子601に食い込む。また、前記コンタクト端子2の開口部は、図6(b)に示すように、円の外周から中心に向かって数本のV字形の溝(切り欠き)があるような底面の開口部2Cであってもよい。この場合、前記V字形の溝と対応する前記コンタクト端子2のV字形の突出部2Vの先端が前記半導体装置6の外部電極端子601に食い込む。また、図6(a)及び図6(b)に示したような底面の開口部2B,2Cに限らず、前記半導体装置6の外部電極端子601の表面に生じた酸化膜601Aを除去できる鋭さを持つエッジを有する開口部であればよいことは言うまでもない。
(実施例2)
図7は、本発明による実施例2の検査用配線板の概略構成を示す模式図であり、図7(a)はコンタクト端子の拡大平面図、図7(b)は図7(a)のC−C’線での断面図である。
図7は、本発明による実施例2の検査用配線板の概略構成を示す模式図であり、図7(a)はコンタクト端子の拡大平面図、図7(b)は図7(a)のC−C’線での断面図である。
図7(a)及び図7(b)において、1は絶縁基板、1Aは絶縁基板の第1主面、1Bは絶縁基板の第2主面、2はコンタクト端子、201は導体膜、202はブラインドビア、3は導体パターン、4はめっき、7は貫通穴である。
本実施例2の検査用配線板は、前記実施例1で説明した検査用配線板と同様に、絶縁基板1の第1主面1Aに、半導体装置の外部電極端子と電気的に接続するコンタクト端子2が設けられ、前記絶縁基板1の第1主面1Aの裏面(第2主面)1Bに、前記コンタクト端子2と検査用ソケット8の信号入出力用端子802とを電気的に接続するための導体パターン3が設けられている。
また、本実施例2の検査用配線板は、図7(a)及び図7(b)に示すように、前記コンタクト端子2及び前記絶縁基板1を貫通する貫通穴7が設けられている。
図8は、本実施例2の検査用配線板の製造方法を説明するための模式図であり、図8(a),図8(b),図8(c),図8(d)はそれぞれ、製造工程中の断面図である。
本実施例2の検査用配線板を製造するときには、まず、図8(a)に示すように、前記絶縁基板1の第1主面1A及び第2主面1Bのそれぞれに導体膜201,3が形成された積層板に開口部(ブラインドビアホール)1Cを形成する。このとき、前記絶縁基板1には、例えば、ポリイミドテープのようなフィルム状の基板を用い、前記導体膜201,3には、例えば、電解銅箔等を用いる。また、前記ブラインドビアホール1Cは、例えば、前記絶縁基板1の第1主面1A側から、炭酸ガスレーザー等のレーザー光線を照射して形成する。
次に、図8(b)に示すように、前記ブラインドビアホール1Cの内部に導体(ブラインドビア)202を形成して、第1主面1A側の導体膜201と第2主面1B側の導体膜3を電気的に接続する。前記ブラインドビア202は、例えば、前記絶縁基板1の第1主面1A側の導体膜201を陰極とした電気銅めっきで形成する。このとき、前記電気銅めっきは、図8(b)に示したように、前記ブラインドビアホール1Cの内部だけでなく、前記第1主面1A側の導体膜201上にも形成される。
次に、図8(c)に示すように、前記絶縁基板1の第1主面1A側の導体膜201,202上、及び第2主面1B側の導体膜3上にエッチングレジスト5を形成し、前記各導体膜201,202,3の不要な部分を除去して前記コンタクト端子2及び前記導体パターン3を形成する。このとき、前記第1主面1A側のエッチングレジスト5は、図1に示したような外形のコンタクト端子2が残るように形成する。また、前記第2主面1B側のエッチングレジスト5は、前記コンタクト端子2との電気的接続を確保でき、且つ検査用ソケット8の信号入出力用端子802と接続できるような導体パターン3が得られるように形成する。
次に、図8(d)に示すように、前記エッチングレジスト5を除去し、前記コンタクト端子2及び前記絶縁基板1を貫通する貫通穴7を形成する。前記貫通穴7は、例えば、金型を用いた打ち抜き加工で形成する。このとき、前記金型のパンチは、前記絶縁基板1の第2主面1B側に設けて打ち抜くことが好ましい。前記第2主面1B側にパンチを設けて打ち抜くことにより、前記貫通通穴7は、前記コンタクト端子2側にかえりが生じて角(エッジ)が鋭くなる。
その後、前記コンタクト端子2及び前記導体パターン3の表面に金めっき、あるいはニッケルめっきを下地にして金めっき4を形成すると、本実施例2の検査用配線板を得ることができる。
本実施例2の検査用配線板を用いた半導体装置のバーンイン検査、及び検査後の半導体装置6の外部電極端子601にできる圧痕601B等は、前記実施例1で説明したとおりなので、詳細な説明は省略する。
以上説明したように、本実施例2の検査用配線板及びその製造方法によれば、金型を用いた打ち抜き加工により、従来の、前記コンタクト端子2上の突起9に相当するエッジを形成できるので、製造工程を少なくすることができる。また、金型を用いた打ち抜き加工をすることにより、短時間で前記エッジを形成することができるので、従来の、コンタクト端子2上に突起9を形成する検査用配線板に比べて製造コストを低減することができる。
また、打ち抜き加工により形成した前記コンタクト端子2の開口端のエッジは、前記半導体装置6の外部電極端子601の表面に生じた酸化膜601Aを除去するのに十分な鋭さを持つので、前記酸化膜601Aによる接触抵抗の増加を防ぎ、正確な検査をすることができる。
また、前記従来のコンタクト端子2上の突起9のような高さのばらつきが生じにくいので、前記コンタクト端子2と前記半導体装置6の外部電極端子601の接触不良を低減することができる。
また、本実施例1の検査用配線板のように、前記コンタクト端子2を設けた面(第1主面1A)の裏面(第2主面1B)に、前記検査用ソケット8の信号入出力用端子802と電気的に接続する導体パターン3を設けた場合、前記コンタクト端子2の間をぬって前記導体パターン3を引き出す場合に比べて、前記導体パターン3の引き回しが容易になる。そのため、外部電極端子601が高密度化、多ピン化された半導体装置6の検査用配線板として用いることができる。
また、図示は省略するが、本実施例2の検査用配線板においても、前記コンタクト端子2の開口部は、端面が矩形(正方形)状である必要はなく、種々変更可能であることは言うまでもない。
以上、本発明を、前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々変更可能であることはもちろんである。
1 絶縁基板
1A 絶縁基板の第1主面
1B 絶縁基板の第2主面
1C ブラインドビアホール
1D 半導体チップを載せる領域
2 コンタクト端子
201 導体膜
202 ブラインドビア
2A,2B,2C コンタクト端子の開口部
2V コンタクト端子の突起
3 導体パターン(導体膜)
4 金めっき
5 エッチングレジスト
6 半導体装置
601 半導体装置の外部電極端子
7 貫通穴
8 検査用ソケット
801 検査用ソケットの筐体
802 信号入出力用端子
9 コンタクト端子上の突起
10 めっきレジスト
1A 絶縁基板の第1主面
1B 絶縁基板の第2主面
1C ブラインドビアホール
1D 半導体チップを載せる領域
2 コンタクト端子
201 導体膜
202 ブラインドビア
2A,2B,2C コンタクト端子の開口部
2V コンタクト端子の突起
3 導体パターン(導体膜)
4 金めっき
5 エッチングレジスト
6 半導体装置
601 半導体装置の外部電極端子
7 貫通穴
8 検査用ソケット
801 検査用ソケットの筐体
802 信号入出力用端子
9 コンタクト端子上の突起
10 めっきレジスト
Claims (8)
- 絶縁基板の第1主面に、半導体装置の外部電極端子と電気的に接続するコンタクト端子を設け、前記絶縁基板の第1主面の裏面(第2主面)に、前記コンタクト端子と電気的に接続された導体パターンが設けられてなり、前記導体パターンのうち、あらかじめ定められたパターンに電流を印加して、前記半導体装置の動作を検査するために用いる検査用配線板であって、
前記コンタクト端子の前記外部電極端子と接触する部分に凹部が設けられていることを特徴とする検査用配線板。 - 前記コンタクト端子の凹部は、底面に前記絶縁基板が露出していることを特徴とする請求項1に記載の検査用配線板。
- 絶縁基板の第1主面に、半導体装置の外部電極端子と電気的に接続するコンタクト端子を設け、前記絶縁基板の第1主面の裏面(第2主面)に、前記コンタクト端子と電気的に接続された導体パターンが設けられてなり、前記導体パターンのうち、あらかじめ定められたパターンに電流を印加して、前記半導体装置の動作を検査するために用いる検査用配線板であって、
前記コンタクト端子の前記外部電極端子と接触する部分に、前記コンタクト端子及び前記絶縁基板を貫通する貫通穴が設けられていることを特徴とする検査用配線板。 - 絶縁基板の第1主面に、半導体装置の外部電極端子と電気的に接続するコンタクト端子を形成し、前記絶縁基板の第1主面の裏面(第2主面)に、前記コンタクト端子と電気的に接続された導体パターンを形成するステップを有し、前記導体パターンのうち、あらかじめ定められたパターンに電流を印加して、前記半導体装置の動作を検査するために用いる検査用配線板の製造方法であって、
前記絶縁基板の第1主面及び第2主面に導体膜を形成するステップと、
絶縁基板の第1主面の導体膜と前記第2主面の導体膜を、あらかじめ定められた位置で電気的に接続するステップと、
前記絶縁基板の第1主面の導体膜の、あらかじめ定められた位置に凹部を形成するステップと、
前記絶縁基板の第1主面の導体膜及び前記第2主面の導体膜のそれぞれの不要な部分を除去して、前記コンタクト端子及び前記導体パターンを形成するステップとを有し、
前記凹部は、前記コンタクト端子として残る部分に形成することを特徴とする検査用配線板の製造方法。 - 絶縁基板の第1主面に、半導体装置の外部電極端子と電気的に接続するコンタクト端子を形成し、前記絶縁基板の第1主面の裏面(第2主面)に、前記コンタクト端子と電気的に接続された導体パターンを形成するステップを有し、前記導体パターンのうち、あらかじめ定められたパターンに電流を印加して、前記半導体装置の動作を検査するために用いる検査用配線板の製造方法であって、
前記絶縁基板の第1主面及び第2主面に導体膜を形成するステップと、
絶縁基板の第1主面の導体膜と前記第2主面の導体膜を、あらかじめ定められた位置で電気的に接続するステップと、
前記絶縁基板及び前記導体膜を貫通する貫通穴を、あらかじめ定められた位置に形成するステップと、
前記絶縁基板の第1主面の導体膜及び前記第2主面の導体膜のそれぞれの不要な部分を除去して、前記コンタクト端子及び前記導体パターンを形成するステップとを有し、
前記貫通穴を形成するステップは、前記絶縁基板の第1主面の導体膜の、前記コンタクト端子として残る部分に対し貫通穴を形成することを特徴とする検査用配線板の製造方法。 - 絶縁基板の第1主面に、半導体装置の外部電極端子と電気的に接続するコンタクト端子を形成し、前記絶縁基板の第1主面の裏面(第2主面)に、前記コンタクト端子と電気的に接続された導体パターンを形成するステップを有し、前記導体パターンのうち、あらかじめ定められたパターンに電流を印加して、前記半導体装置の動作を検査するために用いる検査用配線板の製造方法であって、
前記絶縁基板の第1主面及び第2主面に導体膜を形成するステップと、
絶縁基板の第1主面の導体膜と前記第2主面の導体膜を、あらかじめ定められた位置で電気的に接続するステップと、
前記絶縁基板の第1主面の導体膜及び前記第2主面の導体膜のそれぞれの不要な部分を除去して、前記コンタクト端子及び前記導体パターンを形成するステップと、
前記コンタクト端子及び前記絶縁基板を貫通する貫通穴を形成するステップとを有することを特徴とする検査用配線板の製造方法。 - 前記貫通穴を形成するステップは、金型を用いた打ち抜き加工で行うことを特徴とする請求項5または請求項6に記載の検査用配線板の製造方法。
- 前記金型を用いた打ち抜き加工は、前記絶縁基板の第2主面側から打ち抜くことを特徴とする請求項7に記載の検査用配線板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003350285A JP2005114594A (ja) | 2003-10-09 | 2003-10-09 | 半導体装置検査用配線板及びその製造方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007121285A (ja) * | 2005-10-24 | 2007-05-17 | Verigy (Singapore) Pte Ltd | Dutコンタクタのための方法及び装置 |
CN114264939A (zh) * | 2021-11-08 | 2022-04-01 | 中国船舶重工集团公司第七0九研究所 | 一种高速数字集成电路测试系统的校准适配板 |
-
2003
- 2003-10-09 JP JP2003350285A patent/JP2005114594A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007121285A (ja) * | 2005-10-24 | 2007-05-17 | Verigy (Singapore) Pte Ltd | Dutコンタクタのための方法及び装置 |
CN114264939A (zh) * | 2021-11-08 | 2022-04-01 | 中国船舶重工集团公司第七0九研究所 | 一种高速数字集成电路测试系统的校准适配板 |
CN114264939B (zh) * | 2021-11-08 | 2024-05-14 | 中国船舶重工集团公司第七0九研究所 | 一种高速数字集成电路测试系统的校准适配板 |
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