JP2005114549A - 表面形状測定装置および表面形状測定方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 逐次2点法において変位センサの姿勢変化によるピッチング誤差を除去し、表面形状計測の精度を向上させる。
【解決手段】 変位センサA3および変位センサB4を保持するセンサユニットをX軸スライド7に沿って走査させ、逐次2点法によって測定対象W1 の表面形状を演算する際に、走査中の両変位センサ3、4の姿勢変化によるピッチング誤差を除去するために、X軸スライド7の一端に配設されたレーザ測長器用光源10、干渉計11およびセンサユニット側のターゲットミラー12からなるレーザ測長器によってセンサユニットの傾斜角度を計測し、得られた角度データを両変位センサ3、4による高さ位置データに取り込んで補正する。
【選択図】 図1
【解決手段】 変位センサA3および変位センサB4を保持するセンサユニットをX軸スライド7に沿って走査させ、逐次2点法によって測定対象W1 の表面形状を演算する際に、走査中の両変位センサ3、4の姿勢変化によるピッチング誤差を除去するために、X軸スライド7の一端に配設されたレーザ測長器用光源10、干渉計11およびセンサユニット側のターゲットミラー12からなるレーザ測長器によってセンサユニットの傾斜角度を計測し、得られた角度データを両変位センサ3、4による高さ位置データに取り込んで補正する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、工作機械の定盤等の平面形状や、非球面、球面、あるいは自由曲面からなる各種測定対象の表面形状を測定するための表面形状測定装置に関し、特に高精度に表面形状を測定する方法として逐次2点法を採用した表面形状測定装置および表面形状測定方法に関するものである。
従来、平面形状を高精度で測定する方法として逐次2点法といわれる計測方法が知られている。これは図6に示すように2本の変位センサを用いるもので、変位センサA103、変位センサB104を測定対象W0 の表面に対向させて、走査方向(X方向)にセンサ間隔dで変位センサ保持具105に取り付け、変位センサ保持具105が取り付けられた図示しない走査ステージをガイドに沿って移動させ、前記センサ間隔d毎に間欠的に高さ位置の測定データを得て、さらに同一点における測定対象W0 の表面の高さは同じになるという原理に基づき、変位センサA103、変位センサB104のデータ列を演算することにより、前記ガイドの真直度を分離して、測定対象W0 の表面形状が得られるという方法である。
図6においては、変位センサA103のX方向位置がXm点である地点での変位センサA103と、同地点での変位センサB104および変位センサ保持具105を実線で示し、前述のようにガイドに沿って変位センサ保持具105がセンサ間隔dだけ移動した後の、変位センサA103のX方向位置をXn点とする地点での変位センサ保持具105および変位センサA103、変位センサB104を破線で表わす。
Xm点での測定対象W0 の表面の形状データをF(Xm)、Xm点での変位センサA103の測定値をMa(Xm)、Xm点での変位センサB104の測定値をMb(Xm)、Xn点での変位センサA103の測定値をMa(Xn)、Xn点での変位センサB104の測定値をMb(Xn)、Xn点での走査ステージの移動誤差をE(Xn)とすると、以下の(11)〜(15)式が成立する。
Ma(Xm)=F(Xm) ・・・(11)
Mb(Xm)=F(Xm+d) ・・・(12)
Ma(Xn)=F(Xm+d)+E(Xn) ・・・(13)
Mb(Xn)=F(Xm+2d)+E(Xn) ・・・(14)
E(Xn)=Mb(Xm)−Ma(Xn) ・・・・(15)
Mb(Xm)=F(Xm+d) ・・・(12)
Ma(Xn)=F(Xm+d)+E(Xn) ・・・(13)
Mb(Xn)=F(Xm+2d)+E(Xn) ・・・(14)
E(Xn)=Mb(Xm)−Ma(Xn) ・・・・(15)
ここで、Ma(Xn)とMb(Xm)は同一点のデータである。
(14)式に(15)式を代入すると
Mb(Xn)=F(Xm+2d)+Mb(Xm)−Ma(Xn)
よって、
F(Xm+2d)=Mb(Xn)+Ma(Xn)−Mb(Xm) ・・・(16)
(14)式に(15)式を代入すると
Mb(Xn)=F(Xm+2d)+Mb(Xm)−Ma(Xn)
よって、
F(Xm+2d)=Mb(Xn)+Ma(Xn)−Mb(Xm) ・・・(16)
このように、走査ステージの移動誤差E(Xn)を分離した形状データF(Xm+2d)を求めることができる。すなわち、変位センサA、B間のセンサ間隔d毎に前記のような計算を繰り返すことで測定対象W0 の表面の凹凸を表わす形状データをステージ誤差を分離して求めることができる。
また、この逐次2点法による表面形状測定方法を改良した方法として特開2001−157951号公報に開示されていたものがある。これは、逐次2点法を行う変位センサとしてレーザ変位計を用い、2個のレーザ変位計の間のCCDセンサの同じ位置に2個のレーザ変位計のスポットを得るように構成するものである。
また、特開平9−210668号公報には、複数個の変位センサを用いる2点法のうちの、逐次2点法と一般2点法を組み合わせて前記変位センサの間隔以下の横分解能を得るという方法が開示されている。
特開2001−157951号公報
特開平9−210668号公報
上記従来の逐次2点法による表面形状測定方法は、前述のように、測定対象を走査する時の走査ステージの移動誤差を含まない計測が可能であるが、以下のような問題がある。
逐次2点法では変位センサを測定対象に沿って相対的に走査する時のステージ移動に伴う、変位センサと測定対象が対向する方向の平行移動誤差は分離することができるが、前記走査時のステージ移動に伴うピッチング誤差を分離することができないという問題である。
すなわち、図7に示すように、ステージに沿って変位センサ保持具105がセンサ間隔dだけ移動した後のXn点での変位センサA103、変位センサB104、変位センサ保持具105の位置は、実際には破線で示すように傾斜したものとなり、変位センサ保持具105を移動させるときのステージ移動に伴ういわゆるピッチング誤差が生じている。
このようにピッチングによって生じるXn点における変位センサB104の位置の誤差をS(Xn)とすると前記(16)式の代わりに
F(Xm+2d)=Mb(Xn)+Ma(Xn)−Mb(Xm)−S(Xn)
・・・・(17)
となり、ピッチング誤差S(Xn)が分離されずに残ってしまい、最近の高精度な工作機械等の定盤などを測定する場合には無視できないものとなっている。この問題点は、逐次2点法を改良した前述の特開2001−157951号公報や特開平9−210668号公報に記載された構成においても何ら解決していない。
F(Xm+2d)=Mb(Xn)+Ma(Xn)−Mb(Xm)−S(Xn)
・・・・(17)
となり、ピッチング誤差S(Xn)が分離されずに残ってしまい、最近の高精度な工作機械等の定盤などを測定する場合には無視できないものとなっている。この問題点は、逐次2点法を改良した前述の特開2001−157951号公報や特開平9−210668号公報に記載された構成においても何ら解決していない。
本発明は、上記従来の技術の有する未解決の課題に鑑みてなされたものであり、逐次2点法において変位センサの走査時の姿勢変化によって生じるピッチング誤差を除去し、測定対象の表面形状を高精度に測定することのできる表面形状測定装置および表面形状測定方法を提供することを目的とするものである。
本発明の表面形状測定装置は、被測定面の異なる部位の高さ位置をそれぞれ検出する少くとも2個の変位センサを所定の走査方向に所定のセンサ間隔で保持するセンサユニットと、前記センサユニットを前記走査方向に走査させて前記センサ間隔毎に前記2個の変位センサによる前記被測定面の高さ位置データを得るための走査ステージと、前記走査ステージ上の前記センサユニットの傾斜角度を計測する角度計測手段と、前記角度計測手段による角度データに基づいて前記変位センサによる前記高さ位置データを補正する補正手段と、補正された前記高さ位置データに基づいて逐次2点法によって前記被測定面の表面形状を表わす形状データを得る演算手段を備えたことを特徴とする。
走査ステージを走査方向と交差する方向に移動させる送りステージを有するとよい。
演算手段によって演算された形状データと、被測定面の設計データとの差分を算出する形状評価手段を有するとよい。
被測定面の設計データに基づいて各変位センサの前記被測定面からの離間距離を変更するためのステージ手段を備えているとよい。
角度計測手段が、レーザ測長器またはオートコリメータを有するとよい。
また本発明の表面形状測定方法は、所定のセンサ間隔で保持された複数の変位センサにより、被測定面の表面形状を検出する表面形状測定方法において、前記複数の変位センサにより前記被測定面の異なる部位の高さ位置をそれぞれ検出する工程と、前記複数の変位センサからなるセンサユニットを走査する走査ステージ上に設けられた角度計測手段により、前記センサユニットの傾斜角度を計測する工程と、前記走査ステージにより、前記センサユニットを前記センサ間隔だけ走査する工程とを繰り返し行い、前記角度計測手段により検出された角度データに基づいて各変位センサによる高さ位置データを補正することにより、前記被測定面の表面形状を表わす形状データを演算することを特徴とする。
走査ステージを走査方向と交差する方向に移動させる工程を有するとよい。
本発明の表面形状測定装置によれば、走査ステージ上を走査する変位センサの高さ方向の平行移動誤差のみを補正する従来の逐次2点法では除去することのできなかった、走査中の変位センサの姿勢の変化によるいわゆるピッチング誤差を除去することができる。これによって、平行移動誤差もピッチング誤差も含まない極めて高精度な被測定面の形状データを得ることができる。そして、このような高精度な計測で得られた形状データを設計データと比較することで、精密工作機械の定盤等の平面度等を正確に評価できる。
ピッチング誤差を演算で除去するものであるため、走査中のセンサユニットが傾斜しないように走査ステージの精度を高めるための高価なステージ機構を必要とせず、従って、正確な形状評価を行う安価な表面形状測定装置を実現できる。
センサユニットの各変位センサの被測定面からの離間距離を変更するためのステージ手段が設けられていれば、平面形状の計測に限らず、例えば、球面、非球面状の湾曲面、その他の自由曲面等の形状測定を高精度で安価に行うことができる。
本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1は、一実施の形態による表面形状測定装置を示すもので、測定対象W1 を支えるベース1上に架橋された測定本体部2を有する。測定本体部2は、被測定面である測定対象W1 の表面を走査して測定対象W1 のZ軸方向の離間距離(高さ位置)を計測する変位センサA3と、変位センサA3に対して走査方向であるX軸方向にセンサ間隔dだけ離れた位置に保持され、変位センサA3と同時に測定対象W1 の表面をトレースして測定対象W1 のZ軸方向の離間距離(高さ位置)を計測する第2の変位センサB4を有する。なお、本実施の形態では変位センサが2個の場合を用いて説明するが2個以上あってもよい。
すなわち、変位センサA3と変位センサB4はX軸方向にセンサ間隔dだけ離れた位置で測定対象W1 の表面に対向するように変位センサ保持具5によって保持され、一体的なセンサユニットを構成し、変位センサ保持具5は走査ステージ(X軸ステージ)を構成する筐体6によって支持される。また、後述するように測定対象W1 の設計データに基づいて、変位センサA3および変位センサB4と測定対象W1 の表面とのZ軸方向の離間距離を変更する機能を持たせるために、筐体6に変位センサA3、変位センサB4を測定対象W1 に向って進退移動させるためのステージ手段であるZ軸ステージ機構を設ける。
筐体6は、これをX軸方向に移動させるためのガイドであるX軸スライド7上に支持され、筐体6をX軸スライド7に沿って移動させることで、変位センサA3、変位センサB4を測定対象W1 に対してX軸方向に相対移動させることができる。X軸スライド7は、Y軸スライド8、9上をY軸方向に移動する送りステージであるY軸ステージを構成し、Y軸ステージの移動によって、変位センサA3、変位センサB4を測定対象W1 に対してY軸方向に相対移動させることができる。このように、X軸方向の走査とY軸方向の送りを組み合わせることで測定対象W1 の全面の高さ位置データに基づく逐次2点法による形状データを得て、形状評価を行うことができる。
筐体6に設けられたZ軸ステージ機構、前記X軸、Y軸ステージには図示していない例えばモータのような駆動源と、例えばボールネジのような駆動伝達機構を有しており、外部からの指令によって、変位センサA3、変位センサB4を測定対象W1 に対して任意の位置へ自動的に移動させることができる。
また、筐体6に設けられたZ軸ステージ機構のガイド、X軸スライド7、Y軸スライド8、9のガイド方式として空気圧を利用した非接触ガイドを用いることも可能であり、さらに駆動源としてリニアモータを用いることも可能である。
X軸スライド7の一端には、変位センサA3、変位センサB4を変位センサ保持具5を介して保持する筐体6がX軸スライド7に沿って移動するときの、ピッチングによる傾斜角度を計測するための角度計測手段であるレーザ測長器が設けられる。これは、レーザ測長器用光源10と、レーザ測長器用光源10から出たレーザを分割し、角度計測を行うためのレーザ測長器用干渉計11を有し、レーザ測長器用干渉計11は受光部も内蔵している。そして、筐体6には、レーザ測長器用干渉計11からのレーザ光に対向して取り付けられたレーザ測長器用のターゲットミラー12が配設されている。
筐体6が前記X軸スライド7に沿って移動するときのピッチングによる傾斜角度を上記レーザ測長器によって計測することで、筐体6に変位センサ保持具5を介して取り付けられた変位センサA3および変位センサB4の走査時すなわちX軸方向移動時の姿勢の変化によるピッチング誤差を求めることができる。
図2は、前記X軸スライド7に沿って移動したときの筐体6と、筐体6に変位センサ保持具5を介して取り付けられた変位センサA3、変位センサB4の姿勢の変化によるピッチング誤差を説明する図である。図2においては、実線で示す変位センサA3と変位センサB4がX軸方向にセンサ間隔dだけ移動してピッチング誤差が発生した状態を、変位センサA3s、変位センサB4sおよび変位センサ保持具5sとして破線で表わす。また、筐体6s、ターゲットミラー12sについても同様である。
変位センサA3、変位センサB4、変位センサ保持具5、筐体6、ターゲットミラー12の位置をXm点、変位センサA3s、変位センサB4s、変位センサ保持具5s、筐体6s、ターゲットミラー12sの位置をXn点とする。レーザ測長器の出力に基づいてピッチング誤差を補正する方法については後述する通りである。
図3は上記表面形状測定装置の制御系50およびデータ処理系51を示す。制御系50は、表面形状測定装置のX軸スライド7上のX軸ステージ、Y軸スライド8、9上のY軸ステージ等のXYZ移動軸を駆動するためのNCコントローラ52およびドライバーアンプと、NCコントローラ52を通して表面形状測定装置を操作する操作盤53を有し、データ処理系51は、表面形状測定装置に搭載されている両変位センサ3、4やレーザ測長器の電源、およびデータ取り込みアンプ54等を有し、両変位センサ3、4およびレーザ測長器用干渉計11からのデータ信号を取り込む。計測コンピュータ55は、NCコントローラ52に駆動プログラムをダウンロードし、また両変位センサ3、4やレーザ測長器からのデータをデータ取り込みアンプ54を介して取得し、測定対象W1 の表面形状を表わす形状データを演算する演算手段、ピッチング誤差を補正する補正手段等を有する。演算解析コンピュータ56は、NCコントローラ52に測定のための駆動条件等を送り、また計測コンピュータ55から測定対象W1 の測定結果である形状データを取得し、形状評価手段による形状評価、画面表示、各種演算を行う。
なお、変位センサA、Bには、静電容量型変位センサ、渦電流センサまたはレーザ変位計等のいずれかを、測定対象の表面状態によって適切に選択する。すなわち、光を反射しない表面を持つ対象物や変位センサを組み込むスペースが限られているようなときは比較的小型の静電容量型変位センサや渦電流変位センサが望ましく、光を反射する表面を持つ対象物では測定対象の表面と変位センサとの距離が大きくとれるので干渉などの心配がないレーザ変位計が望ましい。
図4は、上記の表面形状測定装置による逐次2点法の測定シーケンスを示すフローチャートであり、主に図3の演算解析コンピュータ56にて実行されるプログラムである。
図4において、ステップ1は測定開始位置に両変位センサ3、4を移動させるためのX軸スライド7上のX軸ステージ、Y軸スライド8、9上のY軸ステージ、筐体6に搭載されたZ軸ステージの移動データを計算する演算処理工程であり、ステップ2は演算解析コンピュータ56から計測コンピュータ55を介してNCコントローラ52に各移動軸の移動データを送り、X軸ステージ、Y軸ステージ、Z軸ステージを移動させる測定開始位置移動処理工程である。
ステップ3は前記ステップ2にてX軸ステージ、Y軸ステージ、Z軸ステージ等が移動した後に両変位センサ3、4、傾斜角度を計測するレーザ測長器用干渉計11からのデータをデータ取り込みアンプ54と計測コンピュータ55を介して演算解析コンピュータ56に取り込むデータ取り込み処理工程である。
ステップ4は両変位センサ3、4、レーザ測長器用干渉計11からのデータからピッチング誤差を除去した逐次2点法による表面形状の演算を行うデータ演算処理工程であり、ステップ5は測定が終了したかどうかを判断する判断処理工程、ステップ6は次に測定する位置に両変位センサ3、4を移動させるためのX軸ステージ、Y軸ステージ、Z軸ステージの移動データを計算する測定位置計算処理工程である。
ステップ7は演算解析コンピュータ56から計測コンピュータ55を介してNCコントローラ52に各移動軸の移動データを送り、X軸ステージ、Y軸ステージ、Z軸ステージを移動させる測定位置移動処理工程であり、ステップ8はステップ4のデータ演算処理にて演算した高さ位置データから測定対象W1 の表面形状を表す形状データに演算する形状データ演算処理工程である。
ステップ9はステップ8の形状データ演算処理で演算した測定対象W1 の表面形状を表示する結果表示処理工程であり、ステップ10はステップ8の形状データ演算処理で演算した測定対象W1 の形状データを演算解析コンピュータ56に内蔵あるいは図示していない外部の記憶装置に保存する結果保存処理工程である。
次に図2を用いて変位センサA3および変位センサB4が測定対象W1 の表面を走査する相対移動時におけるX軸ステージのピッチング誤差を補正する逐次2点法による演算方法を説明する。
図2において、X軸方向位置がXm点である地点での変位センサA3による測定対象W1 の表面の高さ位置のデータをMa(Xm)、変位センサB4による測定対象W1 の表面の高さ位置のデータをMb(Xm)、レーザ測長器用干渉計11からの筐体6の角度データをLd(Xm)とする。
次に、変位センサA3と変位センサB4間のセンサ間隔dだけX軸方向に移動したXn点の変位センサA3sによる測定対象W1 の表面の高さ位置データをMa(Xn)、Xn点の変位センサB4sによる測定対象W1 の表面の高さ位置データをMb(Xn)、Xn点のレーザ測長器用干渉計11からの角度データをLd(Xn)とする。
このとき、Xm点での測定対象W1 の形状データをF(Xm)、Xn点でのX軸ステージのZ軸方向移動誤差をE(Xn)、Xn点でのX軸ステージのピッチングによるZ軸方向成分誤差をS(Xn)とし、Xm点における変位センサA3、変位センサB4の測定値を基準とすると、
Ma(Xm)=F(Xm) ・・・・(1)
Mb(Xm)=F(Xm+d) ・・・・(2)
Ma(Xn)=F(Xm+d)+E(Xn) ・・・・・(3)
Mb(Xn)=F(Xm+2d)+E(Xn)+S(Xn) ・・・・(4)
E(Xn)=Mb(Xm)−Ma(Xn) ・・・・・・(5)
{Ma(Xn)とMb(Xm)は同一点のデータ}
(4)式に(5)式を代入すると
Mb(Xn)=F(Xm+2d)+Mb(Xm)−Ma(Xn)+S(Xn)
F(Xm+2d)=Mb(Xn)+Ma(Xn)−Mb(Xm)−S(Xn)
・・・・・(7)
となって、ピッチング誤差S(Xn)が残る。
Ma(Xm)=F(Xm) ・・・・(1)
Mb(Xm)=F(Xm+d) ・・・・(2)
Ma(Xn)=F(Xm+d)+E(Xn) ・・・・・(3)
Mb(Xn)=F(Xm+2d)+E(Xn)+S(Xn) ・・・・(4)
E(Xn)=Mb(Xm)−Ma(Xn) ・・・・・・(5)
{Ma(Xn)とMb(Xm)は同一点のデータ}
(4)式に(5)式を代入すると
Mb(Xn)=F(Xm+2d)+Mb(Xm)−Ma(Xn)+S(Xn)
F(Xm+2d)=Mb(Xn)+Ma(Xn)−Mb(Xm)−S(Xn)
・・・・・(7)
となって、ピッチング誤差S(Xn)が残る。
そして、Xm点での角度データLd(Xm)を基準としてXn点での角度データLd(Xn)からS(Xn)は
S(Xn)=d×sin(Ld(Xn)−Ld(Xm))
と求められるので(7)式は
F(Xm+2d)=Mb(Xn)+Ma(Xn)−Mb(Xm)
−d×sin(Ld(Xn−Ld(Xm))) ・・・・(8)
となり、X軸ステージの移動による平行移動誤差E(Xn)とピッチング誤差S(Xn)
を共に除去した形状データが得られる。
S(Xn)=d×sin(Ld(Xn)−Ld(Xm))
と求められるので(7)式は
F(Xm+2d)=Mb(Xn)+Ma(Xn)−Mb(Xm)
−d×sin(Ld(Xn−Ld(Xm))) ・・・・(8)
となり、X軸ステージの移動による平行移動誤差E(Xn)とピッチング誤差S(Xn)
を共に除去した形状データが得られる。
次に、測定対象W1 が定盤等の平面ではなく、球面あるいは非球面や自由曲面である場合に、測定対象W1 の設計データに基づいてZステージを駆動し、変位センサA3、変位センサB4を含むセンサユニットのZ軸方向の位置を変更して計測する場合を説明する。Xm点を基準としてXn点における測定対象W1 の設計データをFo(Xn)とすると、Xn点では筐体6のZ軸ステージをFo(Xn)だけ移動させる。すなわち、変位センサA3sおよび変位センサB4sの測定データにFo(Xn)が加算される。したがって、前記(3)式と(4)式の代わりに以下の(3a)式と(4a)式が用いられる。
Ma(Xn)=F(Xm+d)+Fo(Xn)+E(Xn) ・・・・(3a)
Mb(Xn)=F(Xm+2d)+Fo(Xn)+E(Xn)+S(Xn)
・・・・・(4a)
このとき
Mb(Xm)=Ma(Xn)−Fo(Xn)+E(Xn)
E(Xn)=Mb(Xm)−Ma(Xn)+Fo(Xn)
これらを(4a)式に代入すると
Mb(Xn)=F(Xm+2d)+2×Fo(Xn)+Mb(Xm)−Ma(Xn)+S(Xn)
したがって(8)式は
F(Xm+2d)=Mb(Xn)+Ma(Xn)−Mb(Xm)−2×Fo(Xn)
−d×sin(Ld(Xn)−Ld(Xm)) ・・・・(9)
となる。このように筐体6に搭載されたZ軸ステージを駆動して測定対象W1 の表面形状に従って変位センサA3と変位センサB4をZ軸方向に移動して計測する場合でも、X軸ステージの移動による平行移動誤差E(Xn)とピッチング誤差S(Xn)を共に除去した表面形状データが得られる。
Mb(Xn)=F(Xm+2d)+Fo(Xn)+E(Xn)+S(Xn)
・・・・・(4a)
このとき
Mb(Xm)=Ma(Xn)−Fo(Xn)+E(Xn)
E(Xn)=Mb(Xm)−Ma(Xn)+Fo(Xn)
これらを(4a)式に代入すると
Mb(Xn)=F(Xm+2d)+2×Fo(Xn)+Mb(Xm)−Ma(Xn)+S(Xn)
したがって(8)式は
F(Xm+2d)=Mb(Xn)+Ma(Xn)−Mb(Xm)−2×Fo(Xn)
−d×sin(Ld(Xn)−Ld(Xm)) ・・・・(9)
となる。このように筐体6に搭載されたZ軸ステージを駆動して測定対象W1 の表面形状に従って変位センサA3と変位センサB4をZ軸方向に移動して計測する場合でも、X軸ステージの移動による平行移動誤差E(Xn)とピッチング誤差S(Xn)を共に除去した表面形状データが得られる。
次に、図4に基づいて測定シーケンスの一例を説明する。
まず、操作盤53より測定開始信号がNCコントローラ52および計測コンピュータ55を介して演算解析コンピュータ56に送られ測定が開始する。測定が開始すると測定開始位置計算処理ステップ1にて測定開始位置に変位センサA3および変位センサB4を移動させるためのX軸ステージ、Y軸ステージ、Z軸ステージの移動量データを、演算解析コンピュータ56に記憶されているかまたは手動にて入力した測定対象W1 の設計形状や各種条件から計算する。
次に、測定開始位置移動処理ステップ2で、測定開始位置計算処理ステップ1にて計算した測定開始位置に変位センサA3、変位センサB4を移動させるためのX軸ステージ、Y軸ステージ、Z軸ステージの移動量データを計測コンピュータ55を介してNCコントローラ52に送り、それによってX軸ステージ、Y軸ステージ、Z軸ステージの図示していない駆動モータが駆動し、測定開始位置に変位センサA3、変位センサB4が位置決めされる。位置決めが終わるとデータ取り込み処理ステップ3にて変位センサA3、変位センサB4、角度計測用のレーザ測長器用干渉計11からのデータをデータ取り込みアンプ54と計測コンピュータ55を介して演算解析コンピュータ56に取り込む。
次に、データ演算処理ステップ4にて、データ取り込み処理ステップ3で取り込んだ変位センサA3、変位センサB4、角度計測用のレーザ測長器用干渉計11のデータの平均化や、先に説明した補正手段による(9)式に基づいたピッチング誤差補正を行い、演算手段によって逐次2点法の演算を行う。
次に、判断処理ステップ5で測定が終了したかどうかを判断し、まだ測定が終了していない場合は測定位置計算処理ステップ6へ進む。測定位置計算処理ステップ6にて次の測定位置、例えば前記変位センサA3と変位センサB4のセンサ間隔dだけX軸方向に変位センサA3、変位センサB4を移動させるためのX軸ステージ、Y軸ステージ、Z軸ステージ等の移動量データを計算する。そして測定位置移動処理ステップ7にて、測定位置計算処理ステップ6にて計算した変位センサA3、変位センサB4を移動させるためのX軸ステージ、Y軸ステージ、Z軸ステージの移動量データを演算解析コンピュータ56から計測コンピュータ55を介してNCコントローラ52に送り、X軸ステージ、Y軸ステージ、Z軸ステージを移動させる。移動が終わるとデータ取り込み処理ステップ3にシーケンスは戻り、ステップ3からステップ7の処理を繰り返す。
ステップ3からステップ7の繰り返しはY軸移動も含めて測定が終了するまで実行される。測定終了判断処理ステップ5にて測定が終了したと判断されると、シーケンスは形状データ演算処理ステップ8へ移る。形状データ演算処理ステップ8では計測した測定対象W1 の形状データから全体の傾き補正や、設計値からの差分計算等を形状評価手段によって行い形状評価に最適な形状データに変換する。続いて結果表示処理ステップ9にて形状データの3次元表示等の形状測定結果を演算解析コンピュータ56のCRTや図示していないプリンターなどに出力する。そして結果保存処理ステップ10にて、形状データ演算処理ステップ8にて計算した測定対象W1 の表面形状測定結果を演算解析コンピュータ56の内部あるいは図示していない外部の記憶装置に保存して測定が終了する。
このようなシーケンスによって、逐次2点法における変位センサ走査時のピッチング誤差を補正した表面形状測定が可能となる。以上の説明では変位センサA3、変位センサB4を保持する変位センサ保持具5を支える筐体6に搭載したZ軸ステージを測定毎に駆動しているが、例えば測定対象W1 が平面や平面に近い形状の場合は固定のまま測定することも可能である。
ちなみに変位センサA、変位センサBが静電容量タイプもしくは渦電流タイプのものは、変位センサと測定対象との距離が近いのでZ軸ステージを駆動する方が望ましい場合が多く、また変位センサA、変位センサBがレーザ変位計のように測定対象までの距離が比較的広い場合はZ軸ステージを固定したままで測定できる場合が多い。
図5は本実施の形態の一変形例を示す。これは、図1においてピッチング誤差を測定するために用いた角度測定用のレーザ測長器に替えて、オートコリメータ21を用いたものである。すなわち、X軸スライド7の一端にはオートコリメータ21が配設され、筐体6にはオートコリメータ21に対向するようにオートコリメータ用のターゲットミラー22が固定される。角度測定用のレーザ測長器用光源10、レーザ測長器用干渉計11、レーザ測長器用のターゲットミラー12の代わりにオートコリメータ21とオートコリメータ用のターゲットミラー22を用いた以外は、図1の構成と同じであり、測定シーケンスも前述と同様である。
1 ベース
2 測定本体部
3 変位センサA
4 変位センサB
5 変位センサ保持具
6 筐体
7 X軸スライド
8、9 Y軸スライド
10 レーザ測長器用光源
11 レーザ測長器用干渉計
12、22 ターゲットミラー
21 オートコリメータ
50 制御系
51 データ処理系
52 NCコントローラ
53 操作盤
54 データ取り込みアンプ
55 計測コンピュータ
56 演算解析コンピュータ
2 測定本体部
3 変位センサA
4 変位センサB
5 変位センサ保持具
6 筐体
7 X軸スライド
8、9 Y軸スライド
10 レーザ測長器用光源
11 レーザ測長器用干渉計
12、22 ターゲットミラー
21 オートコリメータ
50 制御系
51 データ処理系
52 NCコントローラ
53 操作盤
54 データ取り込みアンプ
55 計測コンピュータ
56 演算解析コンピュータ
Claims (7)
- 被測定面の異なる部位の高さ位置をそれぞれ検出する少くとも2個の変位センサを所定の走査方向に所定のセンサ間隔で保持するセンサユニットと、前記センサユニットを前記走査方向に走査させて前記センサ間隔毎に前記2個の変位センサによる前記被測定面の高さ位置データを得るための走査ステージと、前記走査ステージ上の前記センサユニットの傾斜角度を計測する角度計測手段と、前記角度計測手段による角度データに基づいて前記変位センサによる前記高さ位置データを補正する補正手段と、補正された前記高さ位置データに基づいて逐次2点法によって前記被測定面の表面形状を表わす形状データを得る演算手段を備えたことを特徴とする表面形状測定装置。
- 走査ステージを走査方向と交差する方向に移動させる送りステージを有することを特徴とする請求項1記載の表面形状測定装置。
- 演算手段によって演算された形状データと、被測定面の設計データとの差分を算出する形状評価手段を有することを特徴とする請求項1または2記載の表面形状測定装置。
- 被測定面の設計データに基づいて各変位センサの前記被測定面からの離間距離を変更するためのステージ手段を備えていることを特徴とする請求項1ないし3いずれか1項記載の表面形状測定装置。
- 角度計測手段が、レーザ測長器またはオートコリメータを有することを特徴とする請求項1ないし4いずれか1項記載の表面形状測定装置。
- 所定のセンサ間隔で保持された複数の変位センサにより、被測定面の表面形状を検出する表面形状測定方法において、前記複数の変位センサにより前記被測定面の異なる部位の高さ位置をそれぞれ検出する工程と、前記複数の変位センサからなるセンサユニットを走査する走査ステージ上に設けられた角度計測手段により、前記センサユニットの傾斜角度を計測する工程と、前記走査ステージにより、前記センサユニットを前記センサ間隔だけ走査する工程とを繰り返し行い、前記角度計測手段により検出された角度データに基づいて各変位センサによる高さ位置データを補正することにより、前記被測定面の表面形状を表わす形状データを演算することを特徴とする表面形状測定方法。
- 走査ステージを走査方向と交差する方向に移動させる工程を有することを特徴とする請求項6記載の表面形状測定方法。
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---|---|---|---|
JP2003349144A JP2005114549A (ja) | 2003-10-08 | 2003-10-08 | 表面形状測定装置および表面形状測定方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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