JP2005113166A - サブゼロ処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 液化冷媒の供給口および排気口を有する冷却槽内に被冷却物を置き、前記供給口から、液化冷媒および/またはその気化ガスを直接に被冷却物に当てない向きに噴射しながら、冷却槽内に対流拡散する冷気により該被冷却物を冷却させ、該冷却物を冷却した後の冷気が、排出口から排出されるか、または前記液化冷媒の供給口にて新規液化冷媒および/またはその気化ガスにより、再び低温な冷気として冷却槽内を循環するように冷却物、液化冷媒の供給口および排気口を配置したことを特徴とするサブゼロ処理方法。被冷却物を−60℃以下にまで冷却することを特徴とする上記のサブゼロ処理方法。
【選択図】 なし
Description
サブゼロ処理においては、従来冷却媒体としてドライアイス、ドライアイス・アセトン、ドライアイス・メタノール、また液体窒素(沸点−196℃)および液化炭酸等が用いられている。また、処理対象物(以下被冷却物ということがある)の冷却方法としては、冷却媒体中に被冷却物を浸漬する方法(浸漬法)、内部を冷凍機等で冷却された冷却槽内に被冷却物を入れておく方法(低温雰囲気法)、液体窒素や液化炭酸等の低温冷媒を被冷却物に直接噴射する方法(直接噴霧法)等があった。
この低温雰囲気法では例えば特許文献2に記載の発明のように、通常冷却槽内にファンを装備しそれによって内部雰囲気を撹拌することが行われていた。
すなわち、本発明は、液化冷媒の供給口および排気口を有する冷却槽内に被冷却物を置き、前記供給口から、液化冷媒および/またはその気化ガスを直接に被冷却物に当てない向きに噴射しながら、冷却槽内に対流拡散する冷気により該被冷却物を冷却させ、該冷却物を冷却した後の冷気が、排出口から排出されるか、または前記液化冷媒の供給口にて新規液化冷媒および/またはその気化ガスにより、再び低温な冷気として冷却槽内を循環するように冷却物、液化冷媒の供給口および排気口を配置したことを特徴とするサブゼロ処理方法である。
冷却槽の壁面は、断熱材料で構成されることが好ましく、具体的には硬質ウレタンフォーム等の断熱効果を持った材料を使用できる。
液化冷媒またはその気化ガスの冷却槽への供給においては、供給口の先にノズルを使用することが好ましい。液化冷媒を霧状に噴射できるスプレーノズルを用いるのがさらに好ましい。
本発明においては、冷却槽内の気体を強制撹拌することなく、噴射される冷媒の持つ運動エネルギーおよび/または冷媒の気化による体積膨張等により、槽内の雰囲気ガスを対流拡散させる。冷媒の好ましい供給速度は、冷却槽内の容積、サブゼロ処理温度、対象物の重量等により異なる。
上記のようにするため、本発明によれば、常にフレッシュな低温気化ガスの状態で被冷却物を冷却でき、被冷却物により加温された暖かい気化ガスが、そのまま被冷却物の冷却、場合によっては加熱に使われることを避けられ、常に低温の液化冷媒および/またはその気化ガスの潜熱および顕熱を有効に利用することができる。この液化冷媒の供給口、排気口の個数は、特に限定されない。その配置は、液化冷媒の供給量と排気量がバランスし、かつ液化冷媒および/または気化ガスが、対流循環できるスペースがあればよい。
図1は、本発明のサブゼロ処理方法の一実施例を示す概略図である。断熱材1で囲まれた直方体の冷却槽2の内部に被冷却物9が置かれている。図示していない液体窒素ボンベまたは液化炭酸ボンベから送られてくる冷媒は、液体冷媒導入弁8を経て配管3に入り、冷却槽内にある冷媒供給口5に達する。冷媒供給口5から噴射される冷媒は、最初冷却槽の壁面に当たった後、拡散して被冷却物9を冷却する。被冷却物9の近傍に設置された熱電対6で測定された温度を温度調節計7にフィードバックし、これを受けて温度調節計7が液体冷媒導入弁8の開閉程度をコントロールすることにより、サブゼロ処理温度を調整する。
実施例Aおよび比較例Bの冷却を行った場合の被冷却物の冷却速度を図3に示した。図3から明らかなように、実施例Aでは冷却に要する時間が約12分であり、それは比較例Bの約21分に比べて約57%である。
2・・・冷却槽
3・・・冷媒導入経路
4・・・低温ガス排出口
5・・・液体冷媒供給口
6・・・熱電対
7・・・温度調節計
8・・・液体冷媒導入弁
9・・・被冷却物
10・・・撹拌ファン
Claims (2)
- 液化冷媒の供給口および排気口を有する冷却槽内に被冷却物を置き、前記供給口から、液化冷媒および/またはその気化ガスを直接に被冷却物に当てない向きに噴射しながら、冷却槽内に対流拡散する冷気により該被冷却物を冷却させ、該冷却物を冷却した後の冷気が、排出口から排出されるか、または前記液化冷媒の供給口にて新規液化冷媒および/またはその気化ガスにより、再び低温な冷気として冷却槽内を循環するように冷却物、液化冷媒の供給口および排気口を配置したことを特徴とするサブゼロ処理方法。
- 被冷却物を−60℃以下にまで冷却することを特徴とする請求項1記載のサブゼロ処理方法。
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JP2003345194A JP2005113166A (ja) | 2003-10-03 | 2003-10-03 | サブゼロ処理方法 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2012207306A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-25 | Ipsen Inc | 焼入れ方法及び同方法を実施するための装置 |
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CN107345729A (zh) * | 2017-07-21 | 2017-11-14 | 中国科学院理化技术研究所 | 一种深冷处理装置 |
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2003
- 2003-10-03 JP JP2003345194A patent/JP2005113166A/ja active Pending
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