JP2005110204A - コンデンサーマイクロフォン及びその作製方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 コンデンサーマイクロフォン1は、ベースプレート31とバックプレート13と振動板32と梁部12aとを有する。振動板32と梁部12aとは一体に形成されている。振動板32は、バックプレート13との間に空隙Aを保って対向配置されている。梁部12aの表面には、可動側電極としてのAl膜51が設けられ、バックプレート13の表面には、固定側電極としてのAl膜52が設けられ、Al膜51,52は同一平面上にある。
【選択図】 図2
Description
(2)上記のコンデンサーマイクロフォンにおいては、梁状部材は、十字形状であり、梁部と固定端部とを有し、梁部は、バックプレートに形成された十字形状の開口内に位置するように設けられ、固定端部は、梁部を両持ちで支持するようにベースプレートに固定されていることが好ましい。また、一対の電極は、可動側電極と固定側電極とを有し、可動側電極は梁部の上面に設けられ、固定側電極はバックプレートの上面に設けられていることが好ましい。
(3)請求項1〜3のいずれかのコンデンサーマイクロフォンにおいては、ベースプレート、バックプレート、振動板および梁状部材をSOIウエハに対してフォトリソグラフィー法により作製してもよい。
(4)請求項5のコンデンサーマイクロフォンをフォトリソグラフィー法で作製する方法は、周辺部がベースプレート上に支持されるバックプレートを形成する工程と、バックプレートと所定の間隔を空けて振動板を形成する工程と、振動板をベースプレートから吊持する梁状部材を形成する工程と、振動板とバックプレートとの間の容量変化を電気信号として取り出す一対の電極を形成する工程とを備えることを特徴とする。
(5)請求項6の発明によるマイクロフォンシステムは、請求項1〜4のいずれか一つに記載のコンデンサーマイクロフォンと、コンデンサーマイクロフォンから取り出された電気信号から、コンデンサーマイクロフォンの共振周波数領域において振動板に作用する音圧に応じた信号を抽出する検波回路とを備えたことを特徴とする。
(6)請求項7の発明によるマイクロフォンシステムは、互いに共振周波数が異なる請求項1〜4のいずれか一つに記載のコンデンサーマイクロフォンを同一ウエハ基板上に複数形成したマイクロフォンアレイと、複数のコンデンサーマイクロフォンの各々に設けられ、各コンデンサーマイクロフォンから取り出された電気信号から、各コンデンサーマイクロフォンの共振周波数領域において振動板に作用する音圧に応じた信号をそれぞれ抽出する複数の検波回路と、各検波回路からの信号が入力され、入力された各信号を合成して合成信号を出力する合成回路とを備えたことを特徴とする。
(7)請求項8の発明は、請求項7に記載のマイクロフォンシステムにおいて、複数のコンデンサーマイクロフォンの各共振周波数領域を合わせたものが一つの連続した周波数領域を形成するように、各コンデンサーマイクロフォンの共振周波数を互いにずらして設定したこものである。
前記
−第1の実施の形態−
図1は、本実施の形態のコンデンサーマイクロフォンの全体構成を模式的に示す透視図であり、3次元直交座標で方向を表わす。図2は、図1のI−Iに沿って切断したXZ断面図である。図3は、図1の上面図である。
梁部11a,12aは、SiO2層20、上部Si層10、下地層40および金属層50が順次設けられた構造である。同様に、固定端部11b,12bも、SiO2層20、上部Si層10、下地層40および金属層50が順次設けられた構造である。
ベースプレート31は、下部Si層30のみから成る。振動板32は、主として下部Si層30から成るが、梁部11a,12aとの結合部分には下地層40と金属層50が順次設けられている。振動板32の結合部分に形成された下地層40は、梁部11a,12aの側面も覆っているが、金属層50は、必ずしも梁部11a,12aの側面を覆っていない。従って、振動板32の結合部分に形成された金属層50は、梁部11a,12aに形成された金属層50に導通していなくともよい。
工程(a)では、下部Si層30,SiO2層20,上部Si層10の厚さがそれぞれ500μm,1μm,25μmのSOIウエハ100を準備する。
工程(b)では、上部Si層10の表面に、レジスト41をスピンコーターにより3000rpm,30secの条件で塗布し、90℃,5minの条件でベークする。
工程(c)では、梁部11a,12aの周辺部分15に対応したパターンのマスクを用いて、レジスト41に対して紫外線露光を4.0sec行い、現像を1.5min行って、周辺部分15のレジスト41を除去する。
工程(e)では、硫酸過水(H2SO4+H2O2)により90℃−5min洗浄してレジスト41を除去し、強フッ酸により露出しているSiO2層20をエッチング除去した後、LPCVD(low pressure chemical vapor deposition)により、多結晶シリコン膜40を600nm堆積させる。図5(b)は、図5(a)のIII−III断面図であり、図示のように、梁部12aの露出部分は、多結晶シリコン膜40で覆われている。
工程(h)では、硫酸過水により90℃−5min洗浄して厚膜レジスト42を除去する。最表面には多結晶シリコン膜40が存在する。この後に、工程(g)のエッチングによるエッチング面を保護するために、再び厚膜レジストを塗布し、ベークする。
図6を参照して説明する。
工程(i)では、真空蒸着により下部Si層30にアルミニウム(Al)層31を厚さ0.1μm形成する。
工程(k)では、混酸P液(H3PO4+HNO3+CH3COOH+H2O2)に2min浸漬することにより、Al層31にパターン形成のためのエッチングを行い、さらに、RIE、すなわち酸素ガスを用いたアッシングにより、レジスト43を除去する。
工程(m)では、ICP−RIEにより下部Si層30のリング状領域Rを約55μmエッチングする。このエッチング量が振動板32の厚さを決定する。
工程(n)では、リムーバ(レジスト剥離液)により、厚膜レジスト44を除去する。このとき、工程(h)でコンデンサーマイクロフォン1の上側の面に塗布した保護用厚膜レジストも剥離されるため、再度、上側の面にスピンコーターにより2000rpm,25secの条件で保護用厚膜レジストを塗布し、110℃,10minの条件でベークする。
工程(p)では、硫酸過水により90℃−5min洗浄した後に、強フッ酸によりSiO2層20を除去する。これにより、振動板32は、バックプレート32から完全に分離する。
次に、上述したコンデンサーマイクロフォンを用いたマイクロフォンシステムの電気回路について説明する。マイクロフォン素子から音圧に応じた電気信号を取り出すための電気回路としては、一般的にはFM方式と電圧検出方式とがある。
図9は電圧検出方式における電気回路を示したものであり、コンデンサーマイクロフォンの静電容量をCm、電極間の電極傾度をGとしたときの交流に対する等価回路を表したものである。Uは振動板の変位であり、R0は負荷抵抗である。マイクロフォン素子の静電容量Cd(F)は次式(1)で求めることができる。
Cm=ε0・εr・(S/d) …(1)
ただし、ε0は真空の誘電率でε0=8.854×10−12(F/m)である。また、εrは比誘電率であり、空気の場合εr≒1である。S(m2)は電極の面積、d(m)は電極の間隔である。
E=GU/{1+(1/jωCmR0)} …(2)
電圧検出方式で音圧に応じた電圧変化を得るためには、電極のいずれか一方に直流電圧を印加する。または、エレクトレットコンデンサーマイクロフォンのように、帯電した膜(エレクトレット)をいずれかの電極に貼り付けるようにしても良い。
図10はFM方式における電気回路を示したものである。80は上述したコンデンサーマイクロフォンから成るマイクロフォン素子であり、81は発振回路、82はFM検波回路、83はスピーカーである。発振回路81にはコンデンサー81b,81c、コイル81dおよび反転増幅器81aが設けられている。マイクロフォン素子80の静電容量Cmは上述した式(1)で算出されるが、振動板と電極との間隔は振動板32の変位量によって変化するため、静電容量Cmは音圧によって変化することになる。
Fosc=1/2π{L×C1×C2/(C1+C2)}1/2 …(3)
上述した第1の実施の形態では、基板上に一つのコンデンサーマイクロフォンを形成したが、1枚の基板上に周波数特性の異なる複数のコンデンサーマイクロフォンをアレイ状に形成するようにしても良い。そして、これら複数のコンデンサーマイクロフォンを1つのマイクロフォンシステムとして利用する。具体的な応用例としては、ウェアラブル体調モニタリングシステムの一つであるウェアラブル聴診システムの検音部や、携帯通信機器の音声入力端末などがある。
次に、図18の断面二次モーメントI、バネ定数k、共振周波数f0および振幅量AVについて説明する。本実施の形態では、一例として図19に示すような構成を共振系モデルとして採用する。この共振系モデルでは、固定端部312aを固定端(図19のB点)とする複数の片支持梁330の自由端(図19のC点)に、ブリッジ312の固定部312cおよび振動板311が固定されていると考える。
θC=FCL2/2EI=FL2/8EI …(4)
θMC=MCL/EI …(5)
MC=FL/8 …(6)
X=X1+X2
=FCL3/3EI+(−MCL2/2EI)
=FL3/12EI−FL3/16EI
=FL3/48EI …(7)
k=F/X
=48EI/L3 …(8)
このとき、マイクロフォン素子の共振周波数f0は、振動板311の質量をmとすれば式(9)のように表される。
f0=(1/2π)√(k/m)
=(1/2π)√(48EI/mL3) …(9)
I=(Wt3/12)×N …(10)
Nは梁部312bに形成された梁330の本数である。すなわち、梁330の寸法W、t、Lおよび本数Nを調整することにより、マイクロフォン素子の共振周波数f0を所望の値に設定することができる。
m(dx2/d2t)+r(dx/dt)+kx=PScosωt …(11)
右辺は音圧による外力である。式(11)において、γ=r/2m、ω0=2πf0=√(k/m)とおくと、式(11)は次式(12)のように変形される。ただし、ω0>γであるとする。
dx2/d2t+2γ(dx/dt)+ω0 2x=(PS/m)cosωt …(12)
AV=(PS/m)×1/{(ω0 2−ω2)2+4γ2ω2}1/2 …(13)
ここで、γ=r/2mであるから、式(13)の振幅AVは機械抵抗rを未知数として含んでいるが、この機械抵抗rは実測された共振の鋭さQ(=f0/Δf)からr=ω0m/Qを用いて算出することができる。図20は、図18のマイクロフォン素子304に関して、振幅量AVの理論値と実測値とを示したものである。図20から、上述したモデルから算出される振幅量AVと実測値との間に、十分に整合性がとれていることが分かる。
10 上部Si層
11,12,312 ブリッジ
11a,12a 梁部
13 バックプレート
20 SiO2層
21 スペーサ
30 下部Si層
31 ベースプレート
32,311 振動板
40 下地層(多結晶シリコン膜)
50 金属層
51,52 電極膜(Al膜)
81 発振回路
82 FM検波回路
90 マイクロフォンヘッド
100 SOIウエハ
200 マスク
300 マイクロフォンアレイ
310 電極部
312b 梁部
313 ベース部
330 梁
A 空隙
d ギャップ長
F 固定側電極取出し口
M 可動側電極取出し口
R リング状領域(リング状空間)
Claims (8)
- フォトリソグラフィー法で作製されるコンデンサーマイクロフォンであって、
周辺部がベースプレート上に支持されるバックプレートと、
前記バックプレートと所定の間隔を空けて設けられる振動板と、
前記振動板を前記ベースプレートから吊持する梁状部材と、
前記振動板と前記バックプレートとの間の容量変化を電気信号として取り出す一対の電極とを備えることを特徴とするコンデンサーマイクロフォン。 - 請求項1に記載のコンデンサーマイクロフォンにおいて、
前記梁状部材は十字形状であり、
前記十字形状の梁状部材は梁部と固定端部とを有し、
前記梁部は、前記バックプレートに形成された十字形状の開口内に位置するように設けられ、
前記固定端部は、前記梁部を両持ちで支持するように前記ベースプレートに固定されていることを特徴とするコンデンサーマイクロフォン。 - 請求項2に記載のコンデンサーマイクロフォンにおいて、
前記一対の電極は可動側電極と固定側電極とを有し、
前記可動側電極は前記梁部の上面に設けられ、前記固定側電極は前記バックプレートの上面に設けられていることを特徴とするコンデンサーマイクロフォン。 - 請求項1〜3のいずれかに記載のコンデンサーマイクロフォンにおいて、
前記ベースプレート、前記バックプレート、前記振動板および前記梁状部材は、SOIウエハに対して、フォトリソグラフィー法により作製することを特徴とするコンデンサーマイクロフォン。 - コンデンサーマイクロフォンをフォトリソグラフィー法で作製する方法であって、
周辺部がベースプレート上に支持されるバックプレートを形成する工程と、
前記バックプレートと所定の間隔を空けて振動板を形成する工程と、
前記振動板を前記ベースプレートから吊持する梁状部材を形成する工程と、
前記振動板と前記バックプレートとの間の容量変化を電気信号として取り出す一対の電極を形成する工程とを備えることを特徴とするコンデンサーマイクロフォンの作製方法。 - 請求項1〜4のいずれか一つに記載のコンデンサーマイクロフォンと、
前記コンデンサーマイクロフォンから取り出された電気信号から、前記コンデンサーマイクロフォンの共振周波数領域において前記振動板に作用する音圧に応じた信号を抽出する検波回路とを備えたことを特徴とするマイクロフォンシステム。 - 互いに共振周波数が異なる請求項1〜4のいずれか一つに記載のコンデンサーマイクロフォンを同一ウエハ基板上に複数形成したマイクロフォンアレイと、
前記複数のコンデンサーマイクロフォンの各々に設けられ、前記各コンデンサーマイクロフォンから取り出された電気信号から、前記各コンデンサーマイクロフォンの共振周波数領域において前記振動板に作用する音圧に応じた信号をそれぞれ抽出する複数の検波回路と、
前記各検波回路からの各信号が入力され、入力された各信号を合成して合成信号を出力する合成回路とを備えたことを特徴とするマイクロフォンシステム。 - 請求項7に記載のマイクロフォンシステムにおいて、
前記複数のコンデンサーマイクロフォンの各共振周波数領域を合わせたものが一つの連続した周波数領域を形成するように、前記各コンデンサーマイクロフォンの共振周波数を設定したことを特徴とするマイクロフォンシステム。
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