JP2005109493A - 非対称にパターニングされた磁気メモリ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、非対称にパターン形成された磁気メモリ記憶デバイスを提供する。特定の実施形態では、少なくとも1つの磁気メモリセル(302)が提供される。各磁気メモリセル(302)は、第1のサイズの少なくとも1つの強磁性データ層(304)と、データ層(304)に接触する中間層(306)と、第2のサイズの少なくとも1つの強磁性基準層(308)を提供する。強磁性データ層(304)は、変更可能な磁化の配向によって特徴付けられ、強磁性基準層(308)は、基準磁界によって特徴付けられる。基準層(308)は、データ層(304)と対向し、かつデータ層(304)と非対称をなすように中間層(306)と接触する。磁気メモリセル(302)は、「1つの端部の関与」だけを有するものとして特徴付けられる。より具体的には、非対称な位置合わせにより、磁極の一方の組のみが、ほぼ垂直に位置合わせされ、互いに影響を強く受け合う。
【選択図】図3A
Description
302 磁気メモリセル
304 データ層
306 中間層
308 基準層
Claims (16)
- 非対称にパターニングされた磁気メモリ(300)記憶デバイスであって、
少なくとも1つの磁気メモリセル(302)を備え、
該セルの各々は、
第1のサイズの少なくとも1つの強磁性データ層(304)であって、該データ層(304)は変更可能な磁化の向きによって特徴付けられることからなる、少なくとも1つの強磁性データ層と、
該データ層(304)と接触する中間層(306)と、
第2のサイズの少なくとも1つの強磁性基準層(308)であって、該基準層(308)は基準磁界によって特徴付けられ、該基準層(308)は前記中間層(306)と接触するが、前記データ層(304)とは逆の側にあり、前記データ層(304)と非対称であることからなる、少なくとも1つの強磁性基準層
とによって特徴付けられることからなる、磁気メモリ記憶デバイス。 - 前記データ層(304)は前記基準層(308)よりも小さい、請求項1に記載の磁気メモリ。
- 前記データ層(304)はさらに、第1の端部(314)と、第2の端部(316)と、それらの間の長手方向軸(320)に沿ったある長さ(318)とを有することを特徴とし、前記変更可能な磁化は前記データ層(304)の各端部(314、316)に整列するN極(322)およびS極(324)を有し、
前記基準層(308)は、第1の端部(350)と、第2の端部(342)と、それらの間の長手方向軸(356)に沿ったある長さ(354)とを有することを特徴とし、前記基準磁界は前記基準層(308)の各端部(350、352)に整列するN極(358)およびS極(360)を有し、前記データ層(304)の前記長さ(354)は前記基準層(308)の前記長さ(318)とは異なる、請求項1に記載の磁気メモリ。 - 前記データ層(304)の前記第1の端部(314)は前記基準層(308)の前記第1の端部(350)に概ね垂直に位置合わせされる、請求項3に記載の磁気メモリ。
- 前記データ層(304)の前記極と前記基準層(308)の前記極との間の相互作用は1つの端部の関与として特徴付けることができる、請求項4に記載の磁気メモリ。
- 前記データ層(304)の磁界は前記長手方向軸(320)を中心にして概ね対称である、請求項3に記載の磁気メモリ。
- 前記データ層(304)は直角の角度を有する概ね平坦な平行四辺形である、請求項6に記載の磁気メモリ。
- 前記中間層(306)はトンネル層である、請求項1に記載の磁気メモリ。
- 非対称にパターニングされた磁気メモリ記憶デバイスであって、
少なくとも1つの磁気メモリセル(302)を備え、
該セル(302)の各々は、
第1の端部(314)と、第2の端部(316)と、それらの間の長手方向軸(320)に沿ったある長さ(318)とを有し、前記長手方向軸(320)に沿った変更可能な磁化の向きによってさらに特徴付けられる、第1のサイズの少なくとも1つの強磁性データ層(304)であって、前記変更可能な磁化は該データ層(304)の各端部(314、316)に整列するN極(322)およびS極(324)を有することからなる、少なくとも1つの強磁性データ層と、
該データ層(304)と接触する中間層(306)と、
該中間層(306)と接触し、前記データ層(304)とは逆の側にあり、かつ前記データ層(304)と非対称である、第2のサイズの強磁性基準層(308)であって、該基準層(308)は第1の端部(350)と、第2の端部(352)と、それらの間の長手方向軸(356)に沿ったある長さ(354)とを有し、該基準層は、さらに、前記長手方向軸(356)に沿った基準磁界によって特徴付けられ、該基準磁界は、前記基準層(308)の各端部に整列するN極(358)およびS極(360)を有することからなる、強磁性基準層
とによって特徴付けられることからなる、磁気メモリ記憶デバイス。 - 前記データ層(304)の磁界は前記長手方向軸(320)を中心にして概ね対称である、請求項9に記載の磁気メモリ。
- 前記データ層(304)は直角の角度を有する概ね平坦な平行四辺形である、請求項10に記載の磁気メモリ。
- 前記データ層(304)は前記基準層(308)よりも小さい、請求項9に記載の磁気メモリ。
- 前記データ層(304)の前記極と前記基準層(308)の前記極との間の相互作用は1つの端部の関与として特徴付けることができる、請求項9に記載の磁気メモリ。
- 前記データ層(304)の前記第1の端部(314)は前記基準層(308)の前記第1の端部(350)と概ね垂直に位置合わせされる、請求項12に記載の磁気メモリ。
- 磁気メモリ(300)であって、
複数の平行な導電性の行(310)と、
該行(310)を横切る複数の平行な導電性の列(312)であって、それにより前記列(312)および前記行(310)は複数の交差部を有するクロスポイントアレイを形成することからなる、複数の平行な導電性の列
とをさらに備え、
前記メモリセル(302)はそれぞれ1つの行(310)と1つの列(312)との交差部に配置される、請求項9に記載の磁気メモリ。 - 前記中間層(306)はトンネル層である、請求項9に記載の磁気メモリ。
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