JP2005107345A - 光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネル - Google Patents
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Abstract
【課題】 プラズマディスプレイパネルに直接貼付することができ、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができ、しかも透明性に優れた光学フィルタを提供する。
【解決手段】 光学フィルタは、(1)プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、(2)該光学フィルタにおいて、密度0.925〜0.950の樹脂を用いて作製した耐衝撃層を有し、密度0.925〜0.950の樹脂を用いて作製した耐衝撃層を有し、(3)該耐衝撃層は内部ヘーズが0.1〜3.0であり、厚みが0.2mm〜1.0mmであり、(4)該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが0.5J以上である。前記樹脂が、5〜30重量%のビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテートが好ましい。
【選択図】 なし
【解決手段】 光学フィルタは、(1)プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、(2)該光学フィルタにおいて、密度0.925〜0.950の樹脂を用いて作製した耐衝撃層を有し、密度0.925〜0.950の樹脂を用いて作製した耐衝撃層を有し、(3)該耐衝撃層は内部ヘーズが0.1〜3.0であり、厚みが0.2mm〜1.0mmであり、(4)該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが0.5J以上である。前記樹脂が、5〜30重量%のビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテートが好ましい。
【選択図】 なし
Description
本発明は、プラズマディスプレイパネルに直接貼付することができ、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができる光学フィルタ、該光学フィルタを貼付したプラズマディスプレイパネルに関する。
近年、大型の薄型テレビ、薄型ディスプレイ用途等にプラズマディスプレイ装置の開発、製品化が行われている。このプラズマディスプレイ装置はその構造上、他の機器に誤動作を与えたり、リモートコントロールの操作に影響を与える近赤外線や、色調に影響を与えるネオン光がディスプレイ内部から放出されるため、これらを遮断する必要がある。また、プラズマディスプレイ装置から電磁波が発生するため、人体への影響を考慮して、電磁波の放出の強さを規格内に低減化することが要求されている。
これらの要求に鑑みて、既にプラズマディスプレイパネルに貼付するための各種フィルタが開発されており、例えば、特開2000−59083号公報(特許文献1)には電磁波遮蔽効果と近赤外線カット、色補正、反射防止の各層を蓄積した光学フィルタが開示されている。このような光学フィルタは、透明性に優れていることが基本的要件である。
一方、プラズマディスプレイ装置は、大型化が進む中、軽量化・薄肉化が求められ、光学フィルタを設けた状態でのプラズマディスプレイパネルの耐衝撃性の向上がますます必要となっている。
しかしながら、前記各機能を有した光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに組合せた状態で、いかにしてプラズマディスプレイの十分な耐衝撃性を高めるか、どの程度の耐衝撃性が必要かが解決すべき課題となった。また、耐衝撃層を形成するのに、溶剤乾燥型樹脂を塗布して形成した場合には、乾燥時にどうしても微細な気泡が塗膜から抜けきらないため、透明性が要求されるプラズマディスプレイパネル用の光学フィルタにはヘーズが高すぎて用いることができない。また、加熱硬化型の樹脂の場合には、加熱時にフィルタ中に含まれる、近赤外線吸収色素やネオン光吸収色素などの色素に変質をもたらすという問題がある。また、プラズマディスプレイの薄肉化の要求に従い、耐衝撃層の厚みも薄くしなければならないが、必要な耐衝撃性を確保する必要がある。
特開2002−260539号公報(特許文献2)には、プラズマディスプレイ前面に反射防止膜を有する光学フィルタを粘着剤層を介して貼付したディスプレイパネルが示されている。特許文献2のディスプレイパネルに貼着されている光学フィルタは、粘着剤層に耐衝撃性の改善を与えているため、耐衝撃性と接着性が必要となっている。特許文献2の実施例1では、アクリル酸共重合体を溶融してシート状に成形した粘着シートを光学フィルタに貼りつけ、次にプラズマディスプレイに貼りつけている。また、特許文献2の実施例2では、プラズマディスプレイの前面にフィルタを貼り付けるため、ディスプレイとフィルタの間隔を1mmに保って透明熱硬化性シリコーンを用いて、熱処理を行って貼り合わせている。しかしながら、該実施例2のような光学フィルタとプラズマディスプレイとの貼着方法は、シリコーンの流し込み、及び加熱処理を必要とするため生産性が悪く、歩留りも悪いという問題がある。さらに、特許文献2の粘着剤層を含めた光学フィルタは、光学フィルタ自体の基本的要件である透明性の程度については一切示されていない。
特開2002−23649号公報(特許文献3)には、衝撃緩和積層体を構成するために、飛散防止層と2種類の割れ防止層と、透明粘着層とからなる複雑な多層構造を必要としている。
特開2000−59083号公報
特開2002−260539号公報
特開2002−23649号公報
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、特定の粘着剤を耐衝撃層として組み込んだ光学フィルタを構成し、該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼着した場合に、十分な耐衝撃性を有し、しかも、耐衝撃層に気泡を含まないようにすることにより透明性に優れ、薄肉の光学フィルタを提供すること、該光学フィルタを貼着したプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、反射防止性を付与した光学フィルタを提供することを目的とする。
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、近赤外線吸収性の樹脂層を備えた光学フィルタを提供することを目的とする。
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、ネオン光吸収性の樹脂層を備えた光学フィルタを提供することを目的とする。
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、透明性の高い光学フィルタを提供することを目的とする。
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、静電気及び/又は電磁波ノイズが抑制された光学フィルタを提供することを目的とする。
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタが表示面に貼着されたプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
本発明の光学フィルタは、(1)プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、(2)該光学フィルタにおいて、密度0.925〜0.950の樹脂を用いて作製した耐衝撃層を有し、(3)該耐衝撃層は内部ヘーズが0.1〜3.0であり、厚みが0.2mm〜1.0mmであり、(4)該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが0.5J以上であることを特徴とする。
本発明のプラズマディスプレイパネルは、光学フィルタにおける耐衝撃層として密度0.925〜0.950の樹脂を含有することで、内部ヘーズが0.1〜3.0と透明性が優れた光学フィルタを貼付したものである。耐衝撃層に用いる樹脂には、5〜30重量%のビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテートが好ましい。
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層は厚みは0.2mm〜1.0mmであることが必要であり、0.2mm未満だと、耐衝撃試験において破壊エネルギーが0.5J以上であることを達成することができず、1.0mmを超えるとヘーズが大きくなり、透明性が失われる。
衝撃試験は、図5に示す衝撃試験装置を用いて行い、高さ9.6cmから直径50.8mmの鋼球12(質量534g)(JIS B1501 玉軸受用鋼球に規定されたもの)を落下させたときの、破壊エネルギーを測定して行った。試験台8としてSUS製土台9と、厚さ10mmのガラス板10を貼り合わせたものを用いた。該試験台8上に、プラズマディスプレイ用の前面ガラス板11として旭硝子社製の高歪点ガラス板(PD−200:商品名、厚み2.8mm)を載置した。なお、PD−200は、プラズマディスプレイメーカー各社が共通に使用しているプラズマディスプレイ用の前面ガラス板11である。試験台8上に前面ガラス板11を直接載置した理由は、プラズマディスプレイの筐体によるクッション性を排除するためである。
前記したように、本発明の光学フィルタは層構成中において反射防止膜を設けることが好ましく、最外層に反射防止膜を設けることが好ましい。
本発明の光学フィルタは、層構成中において、800〜1000nmの波長範囲の透過率が20%以下となるような、近赤外線吸収化合物を含む樹脂層を有することが好ましい。
本発明の光学フィルタは、層構成中において、ネオン光560〜630nmの波長範囲に最大吸収波長を持つネオン光吸収化合物を含む樹脂層を有し、該波長範囲における最大吸収波長の透過率が40%以下となることが望ましい。
本発明の光学フィルタは、層構成中において、プラズマディスプレイ装置から発生する静電気及び/又は電磁波ノイズをシールドするための電磁波遮蔽層を有することが望ましい。
本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイに貼着するための粘着剤層を設けることができる。
本発明のプラズマディスプレイパネルは、前記した形態の光学フィルタを粘着剤層を介して表示面に貼付して構成することができる。
本発明の耐衝撃層を有する光学フィルタは、耐衝撃性と共に透明性に優れるため、本発明の光学フィルタを組み込んだプラズマディスプレイパネルは耐衝撃性に優れると共に透明性にも優れる。
図1は本発明の耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。5は電磁波遮蔽層であり、透明基材上に接着剤により接着された金属箔をエッチングによりメッシュ状に加工したものであり、電磁波遮蔽能を有する。4は色素含有粘着剤層であり、電磁波遮蔽層5におけるメッシュ状の金属(金属メッシュ)の凹凸を平坦化すると同時に、エッチングによる凹部に残る接着剤の微細凹凸の段差を埋める作用もある。3は耐衝撃層であり、さらに耐衝撃層3上に反射防止層1が形成されている。本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層に使用されるエチレンビニルアセテートは、加熱すると接着性を有するため、耐衝撃層3と反射防止層1を粘着剤層を介さずに直接接着させることができる。反射防止層1の形成は、耐衝撃層3上に粘着剤層(図示していない)を介して設けてもよい。これらの層からなる光学フィルタは粘着剤層6を介して、プラズマディスプレイパネル7の表面に貼付される。
図2は本発明の耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の積層構造の別の一例を示す図である。図2の態様は、耐衝撃層3上に電磁波遮蔽層5を設け、さらに該電磁波遮蔽層5上に色素含有粘着剤層4を設け、さらに色素含有粘着剤層4上に反射防止層1を設けたものである。これらの層からなる光学フィルタは粘着剤層6を介して、プラズマディスプレイパネル7の表面に貼付される。
図3は本発明の耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の積層構造のさらに別の一例を示す図である。図3の態様は、反射防止層1と電磁波遮蔽層5との間に、耐衝撃層3を挟んで合体させ、さらに電磁波遮蔽層5の金属メッシュの凹凸上に色素含有着色剤層4を設けたものである。これらの層からなる光学フィルタを、色素含有粘着剤層4側をプラズマディスプレイパネル7の表面に向けて貼付して、図3のプラズマディスプレイパネルを得る。
図4は本発明の耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の積層構造のさらに別の一例を示す図である。図4の態様の光学フィルタは、電磁波遮蔽層5における金属メッシュの凹凸を平坦化するために、電磁波遮蔽層5上に色素含有粘着剤層4を設け、さらに反射防止層1を設けてなる積層体と、PETフィルム製セパレータ15/粘着剤層6/PETフィルム製セパレータ15からなる積層体との間に、耐衝撃層3を挟んで合体させたものである。これらの層からなる光学フィルタにおけるPET15を剥離して粘着剤6側をプラズマディスプレイパネル7の表面に向けて貼付して、図4のプラズマディスプレイを得る。
図1〜図4において、近赤外線吸収色素、および/又は、ネオン光吸収色素等の色素を色素含有粘着剤層4中に含有しているが、光学フィルタを構成するいかなる層にも含有させることが可能である。
以下、本発明の光学フィルタをプラズマディスプレイに適用する場合の光学フィルタの層構成に用いられる各層を例示して説明する。
耐衝撃層:
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層に使用される樹脂には、ビニルアセテートが5〜30重量%のエチレンビニルアセテートを含有している樹脂を用いることが好ましい。ビニルアセテートが5重量%未満だと、白濁し、透明性が損なわれる。逆に、30重量%を超えると再び白濁し始め透明性が損なわれると共に、樹脂粘度が高く(MFRが50〜1000程度)となり、押出し時のスクリュートルクが高くなり、押出せなかったり、膜厚がばらついたりする。膜厚のばらつきは、耐衝撃性のばらつきに直結する。また、該樹脂は、加熱時密着性があるので、加熱加圧して他の層と積層するのに適している。
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層に使用される樹脂には、ビニルアセテートが5〜30重量%のエチレンビニルアセテートを含有している樹脂を用いることが好ましい。ビニルアセテートが5重量%未満だと、白濁し、透明性が損なわれる。逆に、30重量%を超えると再び白濁し始め透明性が損なわれると共に、樹脂粘度が高く(MFRが50〜1000程度)となり、押出し時のスクリュートルクが高くなり、押出せなかったり、膜厚がばらついたりする。膜厚のばらつきは、耐衝撃性のばらつきに直結する。また、該樹脂は、加熱時密着性があるので、加熱加圧して他の層と積層するのに適している。
(耐衝撃層の形成)
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層の形成は、どのような方法でもよいが、好ましくは、次に説明する、押出ラミネート法、加熱プレス法、及び厚塗りコート法が挙げられる。
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層の形成は、どのような方法でもよいが、好ましくは、次に説明する、押出ラミネート法、加熱プレス法、及び厚塗りコート法が挙げられる。
i)押出ラミネート法
図6は、本発明の光学フィルタにおける好ましい耐衝撃層を形成するための押出ラミネート機の1例を示す図である。本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層を形成するには、図6の押出ラミネート機を用いて耐衝撃層となる溶融樹脂を押出し、フィルムとフィルム間に流し込んで挟んで耐衝撃層を成形する。
図6は、本発明の光学フィルタにおける好ましい耐衝撃層を形成するための押出ラミネート機の1例を示す図である。本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層を形成するには、図6の押出ラミネート機を用いて耐衝撃層となる溶融樹脂を押出し、フィルムとフィルム間に流し込んで挟んで耐衝撃層を成形する。
具体的には、図1に示す光学フィルタを例にして製造方法を以下に説明する。一方のフィルムとして、反射防止層1を巻取り状態で第1フィルム供給部35に配置しておき、他方のフィルムとして、電磁波遮蔽層5を巻取状態で第2フィルム供給部39に配置しておく。この状態で、押出ラミネート機のダイス42より、前記した特定の組成からなるエチレンビニルアセテートをフィルム状に押し出して耐衝撃層とする。このとき、同時に、第1フィルム供給部35から巻き出された反射防止層1と、第2フィルム供給部39から電磁波遮蔽層5を巻き出しながら、粘着剤コート部40で色素含有粘着剤を塗布して色素含有粘着剤層4を設けてなる積層フィルムとの間に、前記押出ラミネート機のダイス42より押し出されてくるフィルム状のエチレンビニルアセテートを色素含有粘着剤層4を内側にして鋏み込み、冷却ロール37とニップロール38との間を通すことによりラミネート成形して積層体を得る。次いで、セパレータ/粘着剤層6/セパレータからなる粘着シートを用意し、該粘着シートの片側のセパレータを剥がした粘着シートの粘着剤層6側を、前記工程で得られた積層体の電磁波遮蔽層5の透明基材側に貼りつけて、図1に示す光学フィルタを得る。
上記工程で得られた光学フィルタの残りのもう一方のセパレターを剥がし、露出した粘着剤層6側をプラズマディスプレイパネル7の表面に貼付する。
図2に示す光学フィルタは、図7に示す押出ラミネート機を用いて次のようにして製造することができる。まず、一方のフィルムとして、予め電磁波遮蔽層5の金属メッシュの凹凸形状側に色素含有粘着剤層4を塗布し、さらに該色素含有粘着剤層4上に反射防止層1を積層したものを用意し、これを第1フィルム供給部35に配置しておく。他方のフィルムとして、第2フィルム供給部39に、セパレータ/粘着剤層6/セパレータからなる粘着シートの片側のセパレータを剥がしたものを配置しておく。これらの2枚のフィルムの間に、前記図1の光学フィルタの製造で説明した場合と同様にして、押出ラミネート機のダイス42より押し出されてくるフィルム状のエチレンビニルアセテートを鋏こんで、図2に示す光学フィルタを得る。
上記工程で得られた光学フィルタの残りのもう一方のセパレータを剥がし、露出した粘着剤層6側をプラズマディスプレイパネル7の表面に貼付する。
ii)加熱プレス法
図8は、本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層として、エチレンビニルアセテートを含有する耐衝撃層を形成するのに適した、シート成形機の例を示す概略図である。図8のシート成形機のマニホールド24−1、24−2、24−3から吐出される各樹脂は、全て同一の、前記した特定の組成からなるエチレンビニルアセテートが使用され、同一樹脂の3層で構成された積層シートが吐出される。
図8は、本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層として、エチレンビニルアセテートを含有する耐衝撃層を形成するのに適した、シート成形機の例を示す概略図である。図8のシート成形機のマニホールド24−1、24−2、24−3から吐出される各樹脂は、全て同一の、前記した特定の組成からなるエチレンビニルアセテートが使用され、同一樹脂の3層で構成された積層シートが吐出される。
図3に示す光学フィルタを製造するには、図8に示すシート成形機により製造された耐衝撃層となる積層シートを適宜の大きさにカットしておく。一方、反射防止層1と電磁波遮蔽層5を同様な大きさにカットし、これらの各層の間に前記積層シートを挟み、50℃〜200℃で、1秒〜10分、1〜30kg/cm2 好ましくは、100℃〜200℃、1秒〜3分程度、10〜20kg/cm2 で加熱プレスすることにより光学フィルタを得ることができる。
図4に示す光学フィルタを製造するには、電磁波遮蔽フィルムと、PETフィルム製セパレータ15/粘着剤層6/PETフィルム製セパレータ15からなる粘着シートを各々、適宜同じ大きさにカットし、これらの各層の間に、図8に示すシート成形機により製造された積層シートを適宜の大きさにカットしたものを挟み、50℃〜200℃で、1秒〜10分、1〜30kg/cm2 好ましくは、100℃〜200℃、1秒〜3分程度、10〜20kg/cm2 、最も好ましくは、150℃30秒、15kg/cm2 で加熱プレスすることにより光学フィルタを得ることができる。
上記工程で得られた光学フィルタをプラズマディスプレイパネル7の表面に積層するには、露出している側の一方のセパレータ15を取り除き、色素含有粘着剤層4側をプラズマディスプレイパネル7の表面に貼付する。
iii)厚塗りコート法
図3に示す光学フィルタの耐衝撃層を形成するには、反射防止層1の裏面に、上記した特定の組成からなるエチレンビニルアセテートの希釈溶液を750g/m2 〜1500g/m2 塗布する。塗工方法は、例えば、リップコート、ダイコートなど、一般的な厚塗りコート法が好ましい。反射防止層1上に形成された塗膜を乾燥させた(溶剤を飛ばした)後、電磁波遮蔽層5と貼り合わせたのち、色素含有粘着剤層4を塗布することにより光学フィルタを得る。
図3に示す光学フィルタの耐衝撃層を形成するには、反射防止層1の裏面に、上記した特定の組成からなるエチレンビニルアセテートの希釈溶液を750g/m2 〜1500g/m2 塗布する。塗工方法は、例えば、リップコート、ダイコートなど、一般的な厚塗りコート法が好ましい。反射防止層1上に形成された塗膜を乾燥させた(溶剤を飛ばした)後、電磁波遮蔽層5と貼り合わせたのち、色素含有粘着剤層4を塗布することにより光学フィルタを得る。
上記工程で得られた光学フィルタをプラズマディスプレイパネル7の表面に積層するには、色素含有粘着剤層4側をプラズマディスプレイパネル7の表面に貼付する。
図4に示す光学フィルタを製造するには、PETフィルム製セパレータ/粘着剤層6/PETフィルム製セパレータからなる粘着シートを用意し、該粘着シートの片面に上記した特定の組成のからなるエチレンビニルアセテートの希釈溶液を750g/m2 〜1500g/m2 塗布する。塗工方法は、例えば、リップコート、ダイコートなど、一般的な厚塗りコート法が好ましい。上記粘着剤シート上に形成された塗膜を乾燥させる(溶剤を飛ばした)。一方、反射防止層1と色素含有粘着剤層4を介して貼り合わせてある電磁波遮蔽層を用意し、該電磁遮蔽層の透明基板側と、前記工程で得られた粘着剤シート上に形成した耐衝撃層側とを貼り合わせることにより光学フィルタを得る。
上記工程で得られた光学フィルタをプラズマディスプレイパネル7の表面に積層するには、セパレータを剥離して、露出した粘着剤層6側をプラズマディスプレイパネル7の表面に貼付する。
電磁波遮蔽層:
電磁波遮蔽層5は、透明基材、接着剤層(図示していない)、金属メッシュ層がこの順に積層された積層構造を有するものである。
電磁波遮蔽層5は、透明基材、接着剤層(図示していない)、金属メッシュ層がこの順に積層された積層構造を有するものである。
(金属メッシュ層)
金属メッシュ層は、積層構造の電磁波遮蔽層5を構成する一部の層である。本発明に用いられる金属メッシュ層は、プラズマディスプレイ等から発生した電磁波を遮蔽する機能を有するものである。このような金属メッシュ層は、後述する透明基材上に、接着剤層により金属箔が貼り合わせられ、その金属箔がメッシュ状にエッチングされることにより形成される。本発明においては、この金属メッシュ層は、電磁波遮蔽性を有するものであれば、その金属の種類等は特に限定されるものではなく、例えば銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀、ステンレス、タングステン、チタン等を用いることができる。本発明においては、上記の中でも銅が、電磁波のシールド性、エッチング処理適性や取扱い性の面から好ましい。また用いられる銅箔の種類としては、圧延銅箔、電解銅箔等が挙げられるが、特に、電解銅箔であることが好ましい。これにより、厚さが10μm以下の均一性のよい金属メッシュ層とすることができ、また、金属メッシュ層の表面に黒化処理が施された際に、酸化クロム等との密着性を良好なものとすることができるからである。
金属メッシュ層は、積層構造の電磁波遮蔽層5を構成する一部の層である。本発明に用いられる金属メッシュ層は、プラズマディスプレイ等から発生した電磁波を遮蔽する機能を有するものである。このような金属メッシュ層は、後述する透明基材上に、接着剤層により金属箔が貼り合わせられ、その金属箔がメッシュ状にエッチングされることにより形成される。本発明においては、この金属メッシュ層は、電磁波遮蔽性を有するものであれば、その金属の種類等は特に限定されるものではなく、例えば銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀、ステンレス、タングステン、チタン等を用いることができる。本発明においては、上記の中でも銅が、電磁波のシールド性、エッチング処理適性や取扱い性の面から好ましい。また用いられる銅箔の種類としては、圧延銅箔、電解銅箔等が挙げられるが、特に、電解銅箔であることが好ましい。これにより、厚さが10μm以下の均一性のよい金属メッシュ層とすることができ、また、金属メッシュ層の表面に黒化処理が施された際に、酸化クロム等との密着性を良好なものとすることができるからである。
ここで、本発明においては、上記金属箔の一方の面または両面に黒化処理されていることが好ましい。黒化処理とは、酸化クロム等により金属メッシュ層の表面を黒化する処理であり、光学フィルタにおいて、この酸化処理面は、観察者側の面となるように配置される。この黒化処理により金属メッシュ層表面に形成された酸化クロム等により、光学フィルタ表面の外光が吸収されることから、光学フィルタ表面で光が散乱することを防止することができ、良好な透過性を得ることが可能な光学フィルタとすることができるのである。このような黒化処理は、上記金属箔に黒化処理液を塗布することにより行なうことができる。
黒化処理の方法としては、CrO2 水溶液や、無水クロム酸水溶液に酒石酸、マロン酸、クエン酸、乳酸等の異なるオキシカルボン酸化合物を添加して、6価クロムの一部を3価クロムに還元した溶液等を、ロールコート法、エアーカーテン法、静電霧化法、スクイズロールコート法、浸漬法等により塗布し、乾燥させることにより行なうことができる。なお、この黒化処理は、透明基材上に、接着剤層または粘着剤層により金属箔が貼り合わせられ、メッシュ状にエッチングされた後に行なわれるものであってもよい。
この黒化処理された金属箔の表面の黒濃度が0.6以上であることが好ましい。これにより、より非視認性を良好なものとすることができるからである。ここで、黒濃度は、COLOR CONTROL SYSTEMのGRETAG SPM100−11((株)KIMOTO製)を用いて、観測視野角10°、観測光源D50、照明タイプとして濃度標準ANSI Tに設定し、白色キャリブレイション後に測定した値である。
また、上記金属箔の膜厚は、1μm〜100μmの範囲内、中でも5μm〜20μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲より膜厚が厚いと、エッチングによりパターン線幅を細かく高精細化することが困難となり、また上記範囲より膜厚が薄い場合には、十分な電磁波シールド性が得られないからである。
さらに、上記金属箔は、JIS B0601に準拠する十点平均粗さが0.5μm〜10μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲より小さい場合には、上記黒化処理をした場合であっても、光学フィルタ表面の外光が鏡面反射することから、視認性が劣化し、また上記範囲より大きい場合には、接着剤やレジスト等を塗布することが困難となるからである。
ここで、金属箔のエッチングは、後述する透明基材上に、接着剤層または粘着剤層を介して金属箔が貼り合わせられた後に行なわれるものである。このエッチングは、通常のフォトリソグラフィー法により行なうことができ、例えば金属箔の表面にレジストを塗布し、乾燥した後、レジストをパターン版で密着露光し、現像処理を行なうことにより得ることができる。
本発明に用いられる上述したような金属メッシュ層は、表面抵抗が10-6Ω/□〜5Ω/□の範囲内、中でも10-4Ω/□〜3Ω/□の範囲内であることが好ましい。一般的に、電磁波遮蔽性は、表面抵抗により測定することができ、この表面抵抗が低いほど、電磁波遮蔽性が良好なものということができる。ここで、上記表面抵抗の値は、表面抵抗測定装置ロレスターGP、(株)ダイヤインスツルメンツ製にてJIS K7194「導電性プラスチックの4探針法による抵抗率試験法」に記載される方法にて測定された値である。
このエッチング処理された後の金属メッシュ層は、50μm□〜500μm□の範囲内、中でも100μm□〜400μm□の範囲内、特に200μm□〜300μm□の範囲内であることが好ましく、またメッシュ線幅が5μm〜20μmの範囲内であることが好ましい。メッシュ線幅が上記範囲より細かい場合には、断線が起こる場合があり、電磁波遮蔽性の面から好ましくなく、またメッシュ線幅が上記範囲より太い場合には、可視光の透過率が低く、例えばプラズマディスプレイの輝度が低くなる等という面から好ましくないからである。
透明基材:
透明基材は積層構造の電磁波遮蔽層5を構成する一部の層である。本発明に用いられる透明基材は透明性を有し、かつ接着剤層が形成可能であれば、その種類等は特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル類、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトンからなるフィルムで可視領域の光線透過率が80%以上のフィルムが挙げられる。
透明基材は積層構造の電磁波遮蔽層5を構成する一部の層である。本発明に用いられる透明基材は透明性を有し、かつ接着剤層が形成可能であれば、その種類等は特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル類、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトンからなるフィルムで可視領域の光線透過率が80%以上のフィルムが挙げられる。
これらのフィルムは本発明の目的を妨げない程度であれば着色していてもよく、さらに単層で使うこともできるが、2層以上組み合わせた多層フィルムとして使ってもよい。中でも透明性、耐熱性、コストや取扱い性の面等から、PETが最も好ましい。可視領域の光線透過率はできる限り高いことが望ましいが、これは最終製品としては50%以上の光線透過率が必要なことから最低2枚を積層する場合でも透明基材としては80%を有すれば目的に適うからである。透過率が高ければ高いほど透明基材を複数枚積層できるため、光線透過率は好ましくは85%以上、最も好ましくは90%以上であり、このために厚さを薄化するのも有効な手段である。この透明基材の厚さは、透明性さえ満足すれば特に制限されるものではないが、加工性上からは12μm〜300μmの範囲内であることが好ましい。厚さ12μm未満の場合はフィルムが柔軟過ぎ、導電層である金属メッシュ層の成膜や加工する際の張力により伸張やシワが発生しやすく、そのため金属メッシュ層の亀裂や剥離が生じやすく適さない。300μmを超えるとフィルムの可撓性が減少し、各工程での連続巻き取りが困難で適さない。さらに複数枚を積層する際は加工性が大幅に劣るといった問題もある。
接着剤層:
接着剤層は図1〜図4において図示していないが、透明基材と金属箔とを接着するのに用いられた層である。接着剤層は、金属メッシュ層および透明基材とを接着することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、本発明においては、上記金属メッシュ層を構成する金属箔および透明基材を接着剤層を介して貼り合わせた後、金属箔をエッチングによりメッシュ状とすることから、接着剤層も耐エッチング性を有することが好ましい。具体的には、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール単独もしくはその部分ケン化品、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタンエステル樹脂等が挙げられる。また、本発明に用いられる接着剤層は、紫外線硬化型であってもよく、また熱硬化型であってもよい。特に、透明基材との密着性や、近赤外線吸収色素、および/または、ネオン光吸収色素との相溶性、分散性などの観点からアクリル樹脂もしくはポリエステル樹脂が好ましい。
接着剤層は図1〜図4において図示していないが、透明基材と金属箔とを接着するのに用いられた層である。接着剤層は、金属メッシュ層および透明基材とを接着することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、本発明においては、上記金属メッシュ層を構成する金属箔および透明基材を接着剤層を介して貼り合わせた後、金属箔をエッチングによりメッシュ状とすることから、接着剤層も耐エッチング性を有することが好ましい。具体的には、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール単独もしくはその部分ケン化品、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタンエステル樹脂等が挙げられる。また、本発明に用いられる接着剤層は、紫外線硬化型であってもよく、また熱硬化型であってもよい。特に、透明基材との密着性や、近赤外線吸収色素、および/または、ネオン光吸収色素との相溶性、分散性などの観点からアクリル樹脂もしくはポリエステル樹脂が好ましい。
また、接着剤層中に、近赤外線吸収色素、および/または、ネオン光吸収色素を1種以上含有させてもよい。その場合、近赤外領域の光線透過率が、20%以下、中でも10%以下、570−600nmにおける光線透過率が30%以下、中でも25%以下、であることが好ましい。さらに樹脂の水酸基価および酸価が各々10以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸により近赤外線吸収色素、および/または、ネオン光吸収色素が樹脂中の反応基と反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収、および/または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとすることができる。
接着剤層を介してドライラミネーション法等により透明基材および金属メッシュ層を形成するための金属箔とを接着することができる。また、この接着剤層の膜厚が0.5μm〜50μmの範囲内、中でも1μm〜20μmであることが好ましい。これにより、透明基材および金属メッシュ層とを強固に接着することができ、また、金属メッシュ層を形成するエッチングの際に透明基材が酸化鉄等のエッチング液の影響を受けること等を防ぐことができるからである。
色素含有粘着剤層:
図1〜図4に示すように、本発明の光学フィルタに用いられる色素含有粘着剤層4は、上記した電磁波遮蔽性を有する金属メッシュ層の凹凸を平坦化するための層であり、金属メッシュ層の凹凸によって光学フィルタの透明性が低下することを防ぐ機能を有するものである。また、金属メッシュ層の形成の際に行なわれるエッチングによって、接着剤層表面が劣化することにより低下する透明性の改良や、金属メッシュ層を斜めから見た際の断面の乱反射を防止することも可能である。本発明において用いられる色素含有粘着剤層4は、金属メッシュ層の凹凸を平坦化することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、本発明では色素含有粘着剤層4に用いる樹脂のガラス転移点温度(Tg)が30℃〜150℃の範囲内、中でも40℃〜120℃の範囲内であることが好ましい。これにより、樹脂を溶剤等に溶解させて、金属メッシュ層上に塗布後、溶剤を揮発させて乾燥する際に、表面に金属メッシュ層の凹凸により形成される凹凸を、透明基材のTg以上の温度で、例えば、ミラーロール等を用いて圧力をかけることにより平坦化することができ、透明性の高い高品質な光学フィルタとすることができるからである。この色素含有粘着剤層4を平坦化する工程における温度および圧力は、その透明樹脂の種類により適宜選択されるものであるが、通常50℃〜170℃の範囲内であり、また圧力は線圧0.1kg/cm2 〜10kg/cm2 の範囲内であることが好ましい。
図1〜図4に示すように、本発明の光学フィルタに用いられる色素含有粘着剤層4は、上記した電磁波遮蔽性を有する金属メッシュ層の凹凸を平坦化するための層であり、金属メッシュ層の凹凸によって光学フィルタの透明性が低下することを防ぐ機能を有するものである。また、金属メッシュ層の形成の際に行なわれるエッチングによって、接着剤層表面が劣化することにより低下する透明性の改良や、金属メッシュ層を斜めから見た際の断面の乱反射を防止することも可能である。本発明において用いられる色素含有粘着剤層4は、金属メッシュ層の凹凸を平坦化することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、本発明では色素含有粘着剤層4に用いる樹脂のガラス転移点温度(Tg)が30℃〜150℃の範囲内、中でも40℃〜120℃の範囲内であることが好ましい。これにより、樹脂を溶剤等に溶解させて、金属メッシュ層上に塗布後、溶剤を揮発させて乾燥する際に、表面に金属メッシュ層の凹凸により形成される凹凸を、透明基材のTg以上の温度で、例えば、ミラーロール等を用いて圧力をかけることにより平坦化することができ、透明性の高い高品質な光学フィルタとすることができるからである。この色素含有粘着剤層4を平坦化する工程における温度および圧力は、その透明樹脂の種類により適宜選択されるものであるが、通常50℃〜170℃の範囲内であり、また圧力は線圧0.1kg/cm2 〜10kg/cm2 の範囲内であることが好ましい。
上述したような性質を有する樹脂としては、具体的には、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリイミド系樹脂、またはポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂(PFA)、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンコポリマー(FEP)、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとヘキサフルオロプロピレンコポリマー(EPE)、テトラフルオロエチレンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマー(ETFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂(PCTFE)、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコポリマー(ECTFE)、フッ化ビニリデン系樹脂(PVDF)、フッ化ビニル系樹脂(PVF)等のフッ素系樹脂を挙げることができ、中でも透明性の観点からアクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂であることが好ましい。また、上記樹脂の平均分子量は、500〜600,000の範囲内、中でも1万〜40万であることが好ましい。これにより、上記のような性質を有する透明樹脂とすることができるからである。
本発明において、このような色素含有粘着剤層4の膜厚は、金属メッシュ層が形成されていない部分の膜厚が、10μm〜50μmの範囲内であることが好ましい。これにより、金属メッシュ層の凹凸を平坦化することが可能となるからである。本発明の光学フィルタの色素含有粘着剤層4における、近赤外線吸収色素、および/または、ネオン光吸収色素を1種以上を含有させてもよい。その場合、近赤外線領域の光線透過率が、20%以下、中でも10%以下、570−600nmにおける光線透過率が30%以下、中でも25%以下、であることが好ましい。さらに樹脂の水酸基価、および/または、酸価が各々10以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸基により近赤外線吸収色素、および/または、ネオン光吸収色素が反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収、および/または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとすることができる。
反射防止層:
反射防止層に関しては、磨りガラスのように、光を散乱もしくは拡散させて像をボカス手法を採用することができる。すなわち、光を散乱もしくは拡散させるためには、光の入射面を粗面化することが基本であり、この粗面化処理には、サンドブラスト法やエンボス法等により基体表面を直接粗面化する方法、基体表面に放射線、熱の何れかもしくは組み合わせにより硬化する樹脂中にシリカなどの無機フィラーや、樹脂粒子などの有機フィラーを含有させた粗面化層を設ける方法、および基体表面に海島構造による多孔質膜を形成する方法を挙げることができる。
反射防止層に関しては、磨りガラスのように、光を散乱もしくは拡散させて像をボカス手法を採用することができる。すなわち、光を散乱もしくは拡散させるためには、光の入射面を粗面化することが基本であり、この粗面化処理には、サンドブラスト法やエンボス法等により基体表面を直接粗面化する方法、基体表面に放射線、熱の何れかもしくは組み合わせにより硬化する樹脂中にシリカなどの無機フィラーや、樹脂粒子などの有機フィラーを含有させた粗面化層を設ける方法、および基体表面に海島構造による多孔質膜を形成する方法を挙げることができる。
また、反射防止層を形成する他の方法としては、屈折率の高い材料と低い材料を交互に積層し、多層化(マルチコート)することで、表面の反射が抑えられ、良好な反射防止効果を得ることができる。通常、この反射防止層は、SiO2 に代表される低屈折率材料と、TiO2 、ZrO2 等の高屈折率材料とを交互に蒸着等により成膜する気相法等によって形成される。
反射防止効果を向上させるためには、低屈折率層の屈折率は、1.45以下であることが好ましい。これらの特徴を有する材料としては、例えばLiF(屈折率n=1.4)、MgF2 (屈折率n=1.4)、3NaF・AlF3 (屈折率n=1.4)、AlF3 (屈折率n=1.4)、Na3 AlF6 (屈折率n=1.33)、SiO2 (屈折率n=1.45)等の無機材料を微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反射材料、フッ素系・シリコーン系の有機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反射材料を挙げることができる。
さらに、5〜30nmのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形成剤を混合した材料を使用することもできる。該5〜30nmのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシランを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル(オルガノシリカゾル)が用いられる。これらのシリカゾルは水系および有機溶剤系のどちらでも使用することができる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはSiO2 として0.5〜50重量%濃度の固形分を含有する。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針状、板状等様々なものが使用可能である。また、皮膜形成剤としては、アルコキシシラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリシロキサンをフッ素変性したものなどを用いることができる。
低屈折率層は、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティングや印刷等によるウェットコーティング法や、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVD、イオンプレーティング等による気相法で、高屈折率層上に設けて乾燥後、熱や放射線(紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する)等により硬化させることによって得ることができる。
高屈折率層の形成は、屈折率を高くするために高屈折率のバインダ樹脂を使用するか、高い屈折率を有する超微粒子をバインダ樹脂に添加することによって行なうか、あるいはこれらを併用することによって行なう。高屈折率層の屈折率は1.55〜2.70の範囲にあることが好ましい。
高屈折率層に用いる樹脂については、透明なものであれば任意の樹脂が使用可能であり、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、放射線(紫外線を含む)硬化型樹脂などを用いることができる。熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができ、これらの樹脂に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えることができる。
高い屈折率を有する超微粒子としては、例えば、紫外線遮蔽の効果をも得ることができる、ZnO(屈折率n=1.9)、TiO2 (屈折率n=2.3〜2.7)、CeO2 (屈折率n=1.95)の微粒子、また、帯電防止効果が付与されて埃の付着を防止することもできる、アンチモンがドープされたSnO2 (屈折率n=1.95)またはITO(屈折率n=1.95)の微粒子が挙げられる。その他の微粒子としては、Al2 O 3(屈折率n=1.63)、La2 O 3(屈折率n=1.95)、ZrO2 (屈折率n=2.05)、Y2 O 3(屈折率n=1.87)等を挙げることができる。これらの微粒子は単独または混合して使用され、有機溶剤または水に分散したコロイド状になったものが分散性の点において良好であり、その粒径としては、1〜100nm、塗膜の透明性から好ましくは、5〜20nmであることが望ましい。
高屈折率層を設けるには、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティング、印刷等の方法で基体上に設けて乾燥後、熱や放射線(紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する)等により硬化させればよい。
また反射防止層中に、近赤外線吸収色素、および/または、ネオン光吸収色素を1種以上含有させてもよい。その場合、近赤外線領域の光線透過率が20%以下、中でも10%以下、570−600nmにおける光線透過率が30%以下、中でも25%以下、であることが好ましい。さらに樹脂が水酸基価および酸価が所定の値以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸価により近赤外線吸収色素、および/または、ネオン光吸収色素が反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収能、および/または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとなる。
粘着剤層:
図1〜図4の粘着剤層6は、光学フィルタを構成する各層を接着するための層であり、例えば、市販の両面接着テープ(例、CS−9611:商品名、日東電工(株)製)が使用できる。
図1〜図4の粘着剤層6は、光学フィルタを構成する各層を接着するための層であり、例えば、市販の両面接着テープ(例、CS−9611:商品名、日東電工(株)製)が使用できる。
反射防止フィルムの調製
反射防止フィルムとしてリアルック8200UV(商品名、日本油脂製、膜厚80μmのトリアセチルセルロースフィルム/厚み5μmのAR層/厚み40μmの保護フィルムからなる積層フィルム)を用意した。図6に示される第1フィルム供給部35に前記反射防止フィルムを巻き出し可能に配置した。
反射防止フィルムとしてリアルック8200UV(商品名、日本油脂製、膜厚80μmのトリアセチルセルロースフィルム/厚み5μmのAR層/厚み40μmの保護フィルムからなる積層フィルム)を用意した。図6に示される第1フィルム供給部35に前記反射防止フィルムを巻き出し可能に配置した。
電磁波遮蔽フィルムの調製
片面がクロメート処理により黒化処理されている、銅箔(古川サーキットフォイール製、EXP−WS:商品名、厚さ9μm)と、ポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡績製 A4300 厚み100μm)とを、ウレタン系接着剤(Tg20℃、平均分子量3万、酸価1、水酸基価9)にてドライラミネーション加工し貼り合わせた後、上記銅箔上にレジストを塗布後、露光、現像、エッチング、レジスト除去を行なうことにより300μm□、線幅10μmの金属メッシュを形成することにより電磁波遮蔽フィルムを得た。なお、この際黒化処理面はプラズマディスプレイパネルが製造された場合、見る側(人間側)になるように設置するため、非貼り合わせ面側とした。このようにして得られた電磁波遮蔽フィルムを第1フィルム供給部35に巻き出し可能に配置した。
片面がクロメート処理により黒化処理されている、銅箔(古川サーキットフォイール製、EXP−WS:商品名、厚さ9μm)と、ポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡績製 A4300 厚み100μm)とを、ウレタン系接着剤(Tg20℃、平均分子量3万、酸価1、水酸基価9)にてドライラミネーション加工し貼り合わせた後、上記銅箔上にレジストを塗布後、露光、現像、エッチング、レジスト除去を行なうことにより300μm□、線幅10μmの金属メッシュを形成することにより電磁波遮蔽フィルムを得た。なお、この際黒化処理面はプラズマディスプレイパネルが製造された場合、見る側(人間側)になるように設置するため、非貼り合わせ面側とした。このようにして得られた電磁波遮蔽フィルムを第1フィルム供給部35に巻き出し可能に配置した。
反射防止膜付光学フィルタの調製
図6の押出ラミネート機において、第1フィルム供給部35から反射防止フィルムを巻き出した。一方、第2フィルム供給部39から電磁波遮蔽フィルムを巻き出しながら、粘着剤コート部40において、色素含有粘着剤を塗布した。色素含有粘着剤には、n−ブチルアクリレート78.4重量%、2エチルヘキシルアクリレート19.6重量%、およびアクリル酸2.0重量%を共重合させて得たアクリル酸エステル共重合体を熔融撹拌した後、近赤外線吸収剤0.03重量%(日本触媒(株)製 商品名”イーエクスカラー”TX−EX−805K)0.015重量%、染料(三井化学(株)製 商品名”PSブルーBN”0.0001重量%、ネオン吸収化合剤(旭電化(株)製 商品名 TY−102)0.0013重量%を加えたものを用いた。
図6の押出ラミネート機において、第1フィルム供給部35から反射防止フィルムを巻き出した。一方、第2フィルム供給部39から電磁波遮蔽フィルムを巻き出しながら、粘着剤コート部40において、色素含有粘着剤を塗布した。色素含有粘着剤には、n−ブチルアクリレート78.4重量%、2エチルヘキシルアクリレート19.6重量%、およびアクリル酸2.0重量%を共重合させて得たアクリル酸エステル共重合体を熔融撹拌した後、近赤外線吸収剤0.03重量%(日本触媒(株)製 商品名”イーエクスカラー”TX−EX−805K)0.015重量%、染料(三井化学(株)製 商品名”PSブルーBN”0.0001重量%、ネオン吸収化合剤(旭電化(株)製 商品名 TY−102)0.0013重量%を加えたものを用いた。
次いで、両フィルムの間に押出ラミネート機のダイス42より吐出された密度0.928のビニルアセテート(VA:略語)含有率が8%のエチレンビニルアセテート(Ultrhene511F:商品名、東ソー(株)製)を耐衝撃層として挟み込んで積層して、耐衝撃層の厚みを300μm、400μm、500μmの3種類とした。次いで、PETフィルム製セパレータ(U426:商品名、東レ(株)製、厚み80μm)/粘着剤層(CS−9611:商品名、日東電工(株)製)/PETフィルム製セパレータ(U426:商品名、東レ(株)製、厚み80μm)からなる粘着シートを用意し、該粘着シートの片側のセパレータを剥がした粘着シートの粘着剤層側を、前記工程で得られた積層体の電磁波遮蔽層の透明基材側に貼りつけて、図1に示す光学フィルタを得た。得られた3種類の反射防止膜付光学フィルタのヘーズ値は、2.8%、4.4%、5.8%であった。
プラズマディスプレイパネルの製造
次に、プラズマディスプレイパネルの前面に上記工程で得られた反射防止膜付光学フィルタを貼付け、3種類のプラズマディスプレイパネルを得た。
次に、プラズマディスプレイパネルの前面に上記工程で得られた反射防止膜付光学フィルタを貼付け、3種類のプラズマディスプレイパネルを得た。
得られたプラズマディスプレイパネルについて、耐衝撃試験として図3に示す衝撃試験装置を用いて行い、高さ9.6cmから直径50.8mmの鋼球12(質量534g)(JIS B1501 玉軸受用鋼球に規定されたもの)を落下させたときの、破壊エネルギーを測定したところ、耐衝撃層の厚みが300μmの場合、0.4Jではプラズマディスプレイパネルが割れず、0.5Jで割れた。耐衝撃層の400μmの場合、0.6Jではプラズマディスプレイパネルが割れず、0.7Jで割れた。耐衝撃層の厚みが500μmの場合、0.8Jではプラズマディスプレイパネルが割れず、0.9Jで割れた。耐衝撃層の厚みが300μm、400μm、500μmの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ2.0、4.4、5.8であった。その結果を下記の表1に示す。
本実施例1で得られた反射防止膜付光学フィルタの反射防止性能は、0.5%であった。また、本実施例1で得られたプラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例1の反射防止膜付光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、800〜1200nmの波長において85%以上であり、また、ネオン光遮断性能は、587nmの波長において40%以下であった。
前記実施例1において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が20%、密度が0.936のエチレンビニルアセテート(Ultrhene633:商品名、東ソー(株)製)を用いた以外は全て前記実施例1と同様にして、光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネルを得た。
得られたプラズマディスプレイパネルについて、耐衝撃試験を前記実施例1と同様にして行い、その結果、耐衝撃層の厚みが300μmの場合、0.6Jではプラズマディスプレイパネルが割れず、0.7Jで割れた。耐衝撃層の厚みが400μmの場合、0.7Jではプラズマディスプレイパネルが割れず、0.8Jで割れた。耐衝撃層の厚みが500μmの場合、0.9Jではプラズマディスプレイパネルが割れず、1.0Jで割れた。耐衝撃層の厚みが300μm、400μm、500μmの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ1.0、1.7、1.9であった。その結果を下記の表1に示す。
本実施例2で得られた反射防止膜付光学フィルタの反射防止性能は、0.5%であった。また、本実施例2で得られたプラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例2の反射防止膜付光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、800〜1200nmの波長において85%以上であり、また、ネオン光遮断性能は、587nmの波長において40%以下であった。
前記実施例1において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が25%、密度が0.948のエチレンビニルアセテート(Ultrhene635:商品名、東ソー(株)製)を用いた以外は全て前記実施例1と同様にして、光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネルを得た。
得られたプラズマディスプレイパネルについて、耐衝撃試験を前記実施例1と同様にして行い、その結果、耐衝撃層の厚みが300μmの場合、0.4Jではプラズマディスプレイパネルが割れず、0.5Jで割れた。耐衝撃層の厚みが400μmの場合、0.5Jではプラズマディスプレイパネルが割れず、0.6Jで割れた。耐衝撃層の厚みが500μmの場合、1.0Jではプラズマディスプレイパネルが割れず、1.1Jで割れた。耐衝撃層の厚みが300μm、400μm、500μmの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ1.0、1.4、1.9であった。その結果を下記の表1に示す。
本実施例3で得られた反射防止膜付光学フィルタの反射防止性能は、0.5%であった。また、本実施例3で得られたプラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例3の反射防止膜付光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、800〜1200nmの波長において85%以上であり、また、ネオン光遮断性能は、587nmの波長において40%以下であった。
前記実施例1において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が28%、密度が0.949のエチレンビニルアセテート(Ultrhene710:商品名、東ソー(株)製)を用いた以外は全て前記実施例1と同様にして、光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネルを得た。
得られたプラズマディスプレイパネルについて、耐衝撃試験を前記実施例1と同様にして行い、その結果、耐衝撃層の厚みが300μmの場合、0.7Jではプラズマディスプレイパネルが割れず、0.8Jで割れた。耐衝撃層の厚みが400μmの場合、0.8Jではプラズマディスプレイパネルが割れず、0.9Jで割れた。耐衝撃層の厚みが500μmの場合、1.0Jではプラズマディスプレイパネルが割れず、1.1Jで割れた。耐衝撃層の厚みが300μm、400μm、500μmの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ1.8、2.4、3.0であった。その結果を下記の表1に示す。
本実施例4で得られた反射防止膜付光学フィルタの反射防止性能は、0.5%であった。また、本実施例4で得られたプラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例4の反射防止膜付光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、800〜1200nmの波長において85%以上であり、また、ネオン光遮断性能は、587nmの波長において40%以下であった。
〔比較例1〕
前記実施例1において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が32%、密度が0.954のエチレンビニルアセテート(Ultrhene750:商品名、東ソー(株)製)を用いた以外は全て前記実施例1と同様にして、光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネルを得た。
〔比較例1〕
前記実施例1において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が32%、密度が0.954のエチレンビニルアセテート(Ultrhene750:商品名、東ソー(株)製)を用いた以外は全て前記実施例1と同様にして、光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネルを得た。
得られたプラズマディスプレイパネルについて、耐衝撃試験を前記実施例1と同様にして行い、その結果、耐衝撃層の厚みが300μmの場合、0.6Jではプラズマディスプレイパネルが割れず、0.7Jで割れた。耐衝撃層の厚みが400μmの場合、0.6Jではプラズマディスプレイパネルが割れず、0.7Jで割れた。耐衝撃層の厚みが500μmの場合、0.7Jではプラズマディスプレイパネルが割れず、0.8Jで割れた。耐衝撃層の厚みが300μm、400μm、500μmの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ4.0、5.4、5.9と各実施例に比べて高い値となった。その結果を下記の表1に示す。
〔比較例2〕
前記実施例1において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が4%、密度が0.924のエチレンビニルアセテート(試作品)を用いた以外は全て実施例1と同様にして、光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネルを得た。
〔比較例2〕
前記実施例1において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が4%、密度が0.924のエチレンビニルアセテート(試作品)を用いた以外は全て実施例1と同様にして、光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネルを得た。
得られたプラズマディスプレイパネルについて、耐衝撃試験を前記実施例1と同様にして行い、その結果、耐衝撃層の厚みが300μmの場合、0.4Jではプラズマディスプレイパネルが割れず、0.5Jで割れた。耐衝撃層の厚みが400μmの場合、0.5Jではプラズマディスプレイパネルが割れず、0.6Jで割れた。耐衝撃層の厚みが500μmの場合、0.6Jではプラズマディスプレイパネルが割れず、0.7Jで割れた。耐衝撃層の厚みが300μm、400μm、500μmの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ4.1、5.2、6.8と各実施例に比べて高い値となった。その結果を下記の表1に示す。
本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイの前面に貼付した場合に、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができる。
1 反射防止層
2 粘着剤層
3 耐衝撃層
4 色素含有粘着剤層
5 電磁波遮蔽層
6 粘着剤層
7 プラズマディスプレイパネル
8 試験台
9 土台
10 ガラス板
11 前面ガラス板
12 鋼球
15 セパレータ
21−1,21−2,21−3 ホッパー
23 ダイス
24−1,24−2,24−3 マニホールド
25 積層シート
26−1,26−2,26−3 冷却ロール
27 排紙装置
35 第1フィルム供給部
37 冷却ロール
38 ニップロール
39 第2フィルム供給部
40 粘着剤コート部
41 排紙部
42 ダイス
2 粘着剤層
3 耐衝撃層
4 色素含有粘着剤層
5 電磁波遮蔽層
6 粘着剤層
7 プラズマディスプレイパネル
8 試験台
9 土台
10 ガラス板
11 前面ガラス板
12 鋼球
15 セパレータ
21−1,21−2,21−3 ホッパー
23 ダイス
24−1,24−2,24−3 マニホールド
25 積層シート
26−1,26−2,26−3 冷却ロール
27 排紙装置
35 第1フィルム供給部
37 冷却ロール
38 ニップロール
39 第2フィルム供給部
40 粘着剤コート部
41 排紙部
42 ダイス
Claims (8)
- (1)プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、
(2)該光学フィルタにおいて、密度0.925〜0.950の樹脂を用いて作製した耐衝撃層を有し、
(3)該耐衝撃層は内部ヘーズが0.1〜3.0であり、厚みが0.2mm〜1.0mmであり、 (4)該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが0.5J以上であることを特徴とする光学フィルタ。 - 前記樹脂が、5〜30重量%のビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテートである請求項1記載の光学フィルタ。
- 近赤外線吸収化合物を含む樹脂層を有し、800〜1000nmの波長範囲の透過率が20%以下となる請求項1または2記載の光学フィルタ。
- ネオン光560〜630nmの波長範囲に最大吸収波長を持つネオン光吸収化合物を含む樹脂層を有し、該波長範囲における最大吸収波長の透過率が40%以下となる請求項1乃至3の何れか1項記載の光学フィルタ。
- 可視光380〜780nmの波長範囲の透過率が40%以上となる請求項1乃至4の何れか1項記載の光学フィルタ。
- プラズマディスプレイ装置から発生する静電気及び/又は電磁波ノイズをシールドする電磁波遮蔽層を有する請求項1乃至5の何れか1項記載の光学フィルタ。
- プラズマディスプレイに貼着するための粘着剤層が設けられた請求項1乃至6の何れか1項記載の光学フィルタ。
- 請求項1乃至7の何れか1項記載の光学フィルタを粘着剤層を介して表示面に貼付されてなるプラズマディスプレイパネル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003342686A JP2005107345A (ja) | 2003-09-30 | 2003-09-30 | 光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003342686A JP2005107345A (ja) | 2003-09-30 | 2003-09-30 | 光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005107345A true JP2005107345A (ja) | 2005-04-21 |
Family
ID=34536881
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2003342686A Pending JP2005107345A (ja) | 2003-09-30 | 2003-09-30 | 光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005107345A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009035615A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Dainippon Printing Co Ltd | 粘着剤組成物、該粘着剤組成物を用いたプラズマディスプレイ用シート状複合フィルタ、及びプラズマディスプレイパネル表示装置 |
-
2003
- 2003-09-30 JP JP2003342686A patent/JP2005107345A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009035615A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Dainippon Printing Co Ltd | 粘着剤組成物、該粘着剤組成物を用いたプラズマディスプレイ用シート状複合フィルタ、及びプラズマディスプレイパネル表示装置 |
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