JP2005098936A - 形状測定機 - Google Patents

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Abstract

【課題】プローブの傾きの回転中心の位置ずれやプローブの横ずれに起因する形状測定誤差が生じない形状測定機を提供する。
【解決手段】形状測定機101は、測定機のフレーム120と、被測定物113の形状に沿って走査されるプローブ102と、プローブ102と一体に構成された先端球103と、プローブ102を支持する静圧空気軸受104と、静圧空気軸受104をZ軸方向に駆動するZステージ107と、Zステージ107をX軸方向に駆動するXステージ110と、フレーム120に固定されたZ基準ミラー109と、フレーム120に固定されたX基準ミラー112と、プローブ102のZ軸方向の位置を測長するZレーザ測長器108と、プローブ102のX軸方向の位置を測長するXレーザ測長器111とを有し、Xレーザ測長器111のプリズム部111bはX軸に平行な線と交わるように配置されている。
【選択図】 図1

Description

本発明は、光学部品や金型等の被測定物の形状を高精度に測定する形状測定機に関する。
形状測定機は、光学部品や金型等の被測定物の形状を、高精度に測定する装置である。この形状測定機は、一般に、接触式または非接触式のプローブを被測定物の形状に沿って走査して、被測定物の形状を測定するものである。そのような形状測定機は、例えば特開平9−311024号公報や特開平10−19504号公報等に開示されている。また、形状測定機に用いられるプローブは、例えば特開平5−60542号公報等に開示されている。図7は、そのような形状測定機の基本構成を概略的に示している。
図7において、形状測定機701は、プローブ702、先端球703、静圧空気軸受704、板ばね714、板ばね保持部715、Zステージ707、Zレーザ測長器708、マイクロリニアスケール705、Xステージ710及びXレーザ測長器711を備えている。
ここで、プローブ702は、被測定物713に沿って走査される。先端球703は、プローブ702と一体に構成され、被測定物713に接触する。静圧空気軸受704は、プローブ702をZ軸方向に移動可能に支持する。板ばね714は、プローブ702をZ軸方向に弾性支持する。板ばね保持部715は、板ばね714を静圧空気軸受704に固定する。Zステージ707は、静圧空気軸受704をZ軸方向に駆動する。Zレーザ測長器708は、Z基準ミラー709に対するZステージの位置を測長する。マイクロリニアスケール705は、プローブ702の静圧空気軸受704に対する変位を検出する。ここで、マイクロリニアスケール705は、プローブ702に固定されたスケール部705aと、Zステージ707に固定された読み取り部705bからなる。Xステージ710は、Zステージ707をX軸方向に駆動する。Xレーザ測長器711は、X基準ミラー712に対するXステージの位置を測長する。
次に、形状測定機701の動作を説明する。
先端球703と被測定物713が接触した状態で、Xステージ710を駆動する。Xステージ710の移動により、Zステージ707と静圧空気軸受704とプローブ702が一体にX軸方向に移動する。プローブ702のX軸方向の移動に伴って、被測定物713の形状に応じて、プローブ702が静圧空気軸受704に対してZ軸方向に変位する。これに伴い、マイクロリニアスケール705のスケール部705aが、読み取り部705bに対して変位する。そこで、この変位、すなわち、静圧空気軸受704に対するプローブ702の変位を、読み取り部705bが測長する。なお、プローブ702の変位に応じて、板ばね714が弾性変形によってたわむ。
Zステージ707の制御部(図示せず)は、プローブ702の静圧空気軸受704に対する位置(すなわち、板ばね714のたわみ)が常に一定になるように、マイクロリニアスケール705の測長値に応じてZステージ707を駆動する。このようにプローブ702の静圧空気軸受704に対する位置を常に一定にしながら、Zレーザ測長器708とXレーザ測長器711でZ軸方向とX軸方向のプローブ702の移動量を測長することにより、被測定物713の形状を測定することができる。
ここで、プローブ702が被測定物713の傾斜面を走査する場合を考える。この場合、このような形状測定機においては、面の傾き角度に応じてプローブ702がX軸方向の力を受ける。その結果、主に静圧空気軸受704の軸受剛性の不足により、プローブ702に傾きが生じる。そのため、プローブ702の傾きに伴って先端球703が変位することにより、形状測定誤差が生じる。
特開2000−304529号公報は、このような形状測定誤差を考慮した形状測定機を開示している。図8は、その形状測定機の基本構成を概略的に示している。
図8において、形状測定機701Aは、プローブ702に固定されたミラー725と、ミラー725の傾き角を測定するオートコリメータ726を有する。オートコリメータ726はZステージ707に固定されている。他の構成は図7と同じである。
プローブ702が傾くと、オートコリメータ726がミラー725の傾き角(すなわち、プローブの傾き角)を測定する。図9に示すように、オートコリメータ726が測定した傾き角をθ、静圧空気軸受704の中心Cから先端球703の中心までの距離をdとすると、先端球の変位量△xは△x=dtanθで推定される。この推定値を用いて補正することにより、高精度な形状測定結果が得られる。
特開平9−311024号公報 特開平10−19504号公報 特開平5−60542号公報 特開2000−304529号公報
この形状測定機の課題を図10と図11を用いて以下に説明する。
図10に示すように、プローブと静圧空気軸受の加工誤差等により、静圧空気軸受の中心Cと実際のプローブの傾きの回転中心C1が一致しない可能性がある。さらに、プローブの傾きの回転中心は、環境による変動や経時変化などで、常に一定の位置ではない可能性がある。このような場合、上述の計算式で推定した△xは実際の変位量△x1と異なるため、形状測定誤差が生じる。
また、図11に示すように、プローブが傾かずに(θ=0)横ずれが生じる可能性がある。この場合、上述の計算式で推定した△xは0となり、実際の変位量△x2と異なるため、形状測定誤差が生じる。
本発明は、この様な実状を考慮して成されたものであり、その目的は、プローブの傾きの回転中心の位置ずれやプローブの横ずれに起因する形状測定誤差が生じない形状測定機を提供することである。
本発明は、以下の各項に列記する形状測定機を含んでいる。
1. 本発明の形状測定機は、プローブと、該プローブを第一の方向に移動させる第一の移動機構と、前記第一の方向と所定の角度をもつ方向に移動させる第二の移動機構と、前記プローブの前記第一の方向への移動量を測長する第一の測長器と、前記プローブの前記第二の方向への移動量を測長する第二の測長器とを備えた形状測定機であって、前記プローブの先端部近傍に設けられた保持部材をさらに有し、該保持部材は前記第二の測長器の構成部材を保持し、前記構成部材は所定の基準軸と交わるように配置されていることを特徴とする。
この形状測定機は、第一実施形態と第二実施形態が対応する。
所定の角度は、望ましくは90度であるが、90度に限定されるものではなく、180度の整数倍を除く一定の角度でありさえすればよい。所定の角度が90度の場合は、所定の基準軸は第一の方向に直交し、プローブによる被測定物の測定位置を含む平面上に存在する。所定の角度が90度以外の場合は、所定の基準軸は、第二の方向に平行でプローブによる被測定物の測定位置を通過する直線Aと、直線Aとも第一の方向とも直交しプローブによる被測定物の測定位置を通る直線Bの二直線で構成される面上に存在する。
この形状測定機においては、第二の測長器は、プローブによる被測定物の測定位置を含む平面における、プローブの移動量を測長する。つまり、プローブが傾いたり、横ずれが生じたりした場合でも、その傾きや横ずれを含めたプローブの移動量を測長する。これにより、高精度な形状測定に適する。
2. 本発明の別の形状測定機は、第1項の形状測定機において、前記所定の基準軸は、前記第二の方向に平行で前記プローブによる被測定物の測定位置を通過する延長線であることを特徴とする。
この形状測定機は、第一実施形態と第二実施形態が対応する。
この形状測定機においては、第二の測長器の測長軸が被測定物の測定位置と一致するため、プローブの、第一の移動機構の移動軸を中心とする回転運動によって生じる測定誤差を軽減できる。これにより、より高精度な形状測定に適する。
3. 本発明の別の形状測定機は、第1項または第2項の形状測定機において、前記第二の測長器は干渉計であり、該干渉計は、光源と、基準面と、前記光源と前記基準面との間の光路上に配置された光偏向素子とを含み、該光偏向素子は前記構成部材であり、前記基準面は前記光偏向素子を挟んで前記プローブ先端と反対側に配置され、前記干渉計の測長軸すなわち前記光偏向素子と前記基準面との間の光軸が前記所定の基準軸と略一致することを特徴とする。
この形状測定機は、第一実施形態と第二実施形態が対応する。
この形状測定機においては、第二の測長器が光源と基準面と光偏向素子を含む干渉計で構成され、それらのうち光偏向素子だけがプローブに保持される。これにより、光源や基準面等の比較的重量の重い部材をプローブが保持する必要がないため、比較的プローブに横ずれや傾きが生じにくい。これにより、高精度な形状測定に適する。
4. 本発明の別の形状測定機は、第1項の形状測定機において、前記第二の測長器はリニアスケールであり、該リニアスケールは読み取り部とスケール部を有し、該スケール部は前記構成部材であり、前記読み取り部は前記スケール部を挟んで前記プローブ先端と反対側に配置され、前記リニアスケールの測長軸が前記所定の基準軸と略一致することを特徴とする。
この形状測定機は、第二実施形態の変形例が対応する。
この形状測定機においては、第二の測長器が読み取り部とスケール部からなるリニアスケールで構成される。これにより、より安価に形状測定機を構成できる。また、リニアスケールを用いることによって、レーザ測長器を用いる場合に比較して、比較的空気のゆらぎや振動等の環境変動に強い形状測定が可能になる。これにより、比較的安価で、環境変動に強い、高精度な形状測定に適する。
5. 本発明の別の形状測定機は、第1項〜第4項の形状測定機において、前記プローブが接触式プローブであることを特徴とする。
この形状測定機は、第一実施形態と第二実施形態が対応する。
接触式プローブの場合、被測定物の傾斜のある面を走査する場合に、面の傾き角度に応じてプローブが第一の方向に直交する方向の力を受けて、プローブの傾きや横ずれが比較的生じやすい。しかしながら、この形状測定機においては、このような原因によりプローブの傾きや横ずれが比較的大きくなる場合でも、高精度な形状測定が可能となる。
6. 本発明の別の形状測定機は、第5項の形状測定機において、前記第一の移動機構が静圧空気軸受方式であることを特徴とする。
この形状測定機は、第一実施形態と第二実施形態が対応する。
接触式プローブの場合、被測定物の傾斜のある面を走査する場合に、面の傾き角度に応じてプローブが第一の方向に直交する方向の力を受ける。また、静圧空気軸受の場合、軸と軸受のクリアランスや空気圧等により軸受剛性が決定する。空気静圧軸受が第一の方向に直交する力を受けると、軸受剛性によって決定するプローブの傾きや横ずれが生じる。これにより、特に静圧空気軸受の場合、静圧空気軸受の軸受剛性に起因するプローブの傾きや横ずれが生じやすい。しかしながら、この形状測定機においては、このような原因によりプローブの傾きや横ずれが比較的大きくなる場合でも、高精度な形状測定が可能である。
7. 本発明の別の形状測定機は、第6項の形状測定機において、前記プローブと前記第一の移動機構が自重傾斜方式であることを特徴とする。
この形状測定機は、第二実施形態が対応する。
自重傾斜方式とは、第一の移動機構の移動軸を重力方向に直交する方向から微小角αだけ傾斜させ、第一の移動機構で移動する部材(プローブ、保持部材、第二の測長器の構成部材)の自重の傾斜成分だけが被測定物との接触圧(すなわち、接触圧f=自重m×sinα)になる方式である。
自重傾斜方式の場合、形状測定中のプローブのストローク(すなわち、プローブの静圧空気軸受に対する移動量)が長くなるので、プローブと静圧空気軸受の運動誤差によって、形状測定中に生じるプローブの傾きや横ずれも大きくなる。しかしながら、この形状測定機においては、このような原因によりプローブの傾きや横ずれが比較的大きくなる場合でも、高精度な形状測定が可能である。
本発明によれば、プローブの傾きの回転中心の位置ずれやプローブの横ずれに起因する形状測定誤差が生じない形状測定機が提供される。
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について説明する。
第一実施形態
図1は、本発明の第一実施形態の形状測定機の基本構成を概略的に示している。
[構成]
図1に示されるように、本実施形態の形状測定機101は、測定機のフレーム120、プローブ102、先端球103、静圧空気軸受104、板ばね114、板ばね保持部115、Zステージ107、Xステージ110、マイクロリニアスケール105、Z基準ミラー109、X基準ミラー112、Zレーザ測長器108及びXレーザ測長器111を備える。
ここで、プローブ102は、被測定物113の形状に沿って走査される。先端球103は、プローブ102と一体に構成され被測定物113に接触する。静圧空気軸受104は、プローブ102をZ軸方向に移動可能に支持する。板ばね114は、プローブ102をZ軸方向に弾性支持する。板ばね保持部115は、板ばね114を静圧空気軸受104に固定する。Zステージ107は、静圧空気軸受104をZ軸方向に駆動する。Xステージ110は、Zステージ107をZ軸に略直交するX軸方向に駆動する。マイクロリニアスケール105は、プローブ102の静圧空気軸受104に対するZ軸方向の変位を測長する。Z基準ミラー109及びX基準ミラー112は、フレーム120に固定されている。Zレーザ測長器108は、プローブ102のZ軸方向の位置を測長する。Xレーザ測長器111は、プローブ102のX軸方向の位置を測長する。
マイクロリニアスケール105は、プローブ102に固定されたスケール部105aと、Zステージ107に固定された読み取り部105bとからなる。Zレーザ測長器108は、フレーム120に固定された測長部108aと、プローブ102に固定されたプリズム部108bとからなる。Xレーザ測長器111は、フレーム120に固定された測長部111aと、プローブ102に固定部材116を介して固定されたプリズム部111bとからなる。
Zレーザ測長器108とXレーザ測長器111は、例えば図2に示されるシングルパスの干渉計で構成される。
図2において、レーザ測長器150は、基準ミラー151が測長軸150cに沿って移動する量を測長する。
レーザ測長器150は、測長部150aとプリズム部150bとからなる。
測長部150aは、レーザ光源152、レシーバ153及び偏光板154とを有している。レーザ光源152は、偏光方向が互いに直交するP偏光とS偏光とからなる光束を射出する。レシーバ153は、基準ミラー151とプリズム部150bからの戻り光束を受光する。偏光板154は、一方向の直線偏光のみを透過する。
プリズム部150bは、偏光ビームスプリッタ155、λ/4板156、平面ミラー158、λ/4板157及び直角反射プリズム159を備える。偏光ビームスプリッタ155は、P偏光を透過しS偏光を反射する。λ/4板156は、偏光ビームスプリッタ155と基準ミラー151の間に位置する。平面ミラー158は、偏光ビームスプリッタ155を透過した光束を反射する。λ/4板157は、偏光ビームスプリッタ155と平面ミラー158の間に位置する。直角反射プリズム159は、偏光ビームスプリッタ155からの光束を測長部150aへ戻す。
レーザ光源152からの光束は、P偏光が偏光ビームスプリッタ155を透過し、S偏光が偏光ビームスプリッタ155で反射する。偏光ビームスプリッタ155で反射した光束は測定光束となり、偏光ビームスプリッタ155を透過した光束は参照光束となる。
測定光束は、λ/4板156を透過して円偏光となり、基準ミラー151で反射する。基準ミラー151で反射した円偏光は、再度、λ/4板156を透過してP偏光となり、今度は偏光ビームスプリッタ155を透過する。
参照光束は、λ/4板157を透過して円偏光となり、平面ミラー158で反射され、再度、λ/4板157を透過してS偏光となる。そして、この参照光束は、今度は偏光ビームスプリッタ155で反射され、測定光束と重なり合う。
重なり合った測定光束と参照光束は、直角反射プリズム159で反射され、一方向の直線偏光成分だけが偏光板154を透過して、干渉が生じる。干渉した測定光束と参照光束は、レシーバ153で受光される。レシーバ153では、測定光束と参照光束の位相差の変動が、干渉信号により検出される。
レシーバ153で受光された干渉信号は、図示しない演算部に入力されて測長値に換算され、測長値を出力する。ここで、参照光束の光路長は常に一定である。測定光束の光路長は、基準ミラー151の変位に伴って変化する。これにより、レーザ測長器150は、測長軸150c上の基準ミラー151の移動量を測長する。
Zレーザ測長器108とXレーザ測長器111は、図2に示されるシングルパスの干渉計に限定されるものではない。すなわち、基準ミラーの移動量を測長できさえすれば、どのような構成であってもよく、例えばダブルパスの干渉計であってもよい。
プローブ102と静圧空気軸受104は、例えば、移動軸に直交する断面形状が四角形をしている。これは、プローブ102の移動軸を中心として、プローブ102が回転することを規制するためである。しかし、断面形状は、四角形に限定されるものではなく、三角形であってもよい。プローブ102と静圧空気軸受104の断面の形態は、円形の断面に回転規制部材を付加した形態などでもよい。すなわち、プローブ102の回転を規制できさえすれば、どのような形態であってもよい。
固定部材116は、プローブ102の先端近傍に設けられており、Xレーザ測長器111のプリズム部111bを保持している。プリズム部111bは、先端球103の中心付近を通りX軸に平行な線と交わるように配置されている。これにより、Xレーザ測長器111は、測長軸111cの延長線が先端球103の中心付近を通るように構成されている。
Zレーザ測長器108は、測長軸108cの延長線が先端球103の中心付近を通るように構成されている。
Zステージ107とXステージ110は、駆動手段と、駆動手段の制御手段とから構成されている。駆動手段は、例えば、静圧空気軸受やリニアガイドなどからなるガイドと、ボールねじとステッピングモータやリニアモータなどからなる。
被測定物113は、例えば、球面レンズ、非球面レンズ、自由曲面などの光学部品や、その金型などが適している。
[作用]
次に、この形状測定機101の作用について説明する。
被測定物113をフレーム120に固定し、Zステージ107を駆動して、先端球103を被測定物113に接触させる。Xステージ110を駆動すると、Zステージ107と静圧空気軸受104とプローブ102が一体にX軸方向に移動する。プローブ102のX軸方向の移動に伴って、被測定物113の形状に応じて、プローブ102が静圧空気軸受104に対してZ軸方向に移動する。これに伴い、マイクロリニアスケール105のスケール部105aが、読み取り部105bに対して変位する。そして、読み取り部105bが変位を測長する。Zステージ107の制御部(図示せず)は、マイクロリニアスケール105の測長値に応じて、Zステージ107を駆動する。具体的には、プローブ102の静圧空気軸受104に対する位置(すなわち、板ばね114のたわみ)が常に一定になるように、Zステージ107を駆動する。この動作を行いながら、被測定物113の形状に沿ってプローブ102を走査する。
Xレーザ測長器111の測長部111aからは、光束が射出される。この光束は、Xステージ110に固定された直角反射プリズム119で反射し、プリズム部111bに入射する。プリズム部111bに入射した光束は、プリズム部111bの内部で参照光束と測定光束に分かれる。プリズム部111bから射出した測定光束は、X基準ミラー112で反射し、再度、プリズム部111bに入射する。プリズム部111bの内部で参照光束と測定光束が重ね合わされて、プリズム部111bから射出する。プリズム部111bから射出した光束は、直角反射プリズム119で反射して、測長部111aに入射する。
測長部111aと直角反射プリズム119との間の光路長は、Xステージ110の移動に伴って変化する。ただし、この間は測定光束と参照光束の共通の光路であるので、光路長の変化はXレーザ測長器111では検出されない。直角反射プリズム119とプリズム部111bとの間の光路長はZステージ107の移動とプローブ102の静圧空気軸受104に対する変位に伴って変化するが、測定光束と参照光束の共通の光路であるので、光路長の変化はXレーザ測長器111では検出されない。プリズム部111bとX基準ミラー112との間の光路長は、Xステージ110の移動とプローブ102の静圧空気軸受104に対する傾きや横ずれに伴って変化する。ここで、この間は測定光束だけの光路であるので、光路長の変化がXレーザ測長器111で検出される。さらに、プリズム部111bはプローブ102に固定されており、かつ測長軸111cの延長線が先端球103の中心付近を通るように構成されている。このように、Xレーザ測長器111は、実質的に、X基準ミラー112に対する先端球103の中心のX軸方向の移動量を測長する。
Zレーザ測長器108の測長部108aから射出した光束は、Xステージ110に固定された直角反射プリズム117で反射する。続いて、この光束は、プローブ102に固定された直角反射プリズム118で反射し、プリズム部108bに入射する。プリズム部108bに入射した光束は、プリズム部108bの内部で参照光束と測定光束に分かれる。プリズム部108bから射出した測定光束は、Z基準ミラー109で反射し、再度、プリズム部108bに入射する。プリズム部108bの内部で参照光束と測定光束が重ね合わされて、プリズム部108bから射出する。プリズム部108bから射出した光束は、直角反射プリズム118で反射し、直角反射プリズム117で反射して、測長部108aに入射する。
測長部108aと直角反射プリズム117間の光路長はXステージ110の移動に伴って変化する。ただし、この間は測定光束と参照光束の共通の光路であるので、光路長の変化はZレーザ測長器108では検出されない。直角反射プリズム117と直角反射プリズム118間の光路長は、Zステージ107の移動とプローブ102の静圧空気軸受104に対する変位に伴って変化する。ただし、この間は測定光束と参照光束の共通の光路であるので、光路長の変化はZレーザ測長器108では検出されない。直角反射プリズム118とプリズム部108b間の光路長は常に一定である。プリズム部108bとZ基準ミラー109間の光路長は、Zステージ107の移動とプローブ102の静圧空気軸受104に対する変位に伴って変化する。そして、この間は測定光束だけの光路であるので、光路長の変化がZレーザ測長器108で検出される。さらに、プリズム部108bはプローブ102に固定されており、かつ測長軸108cの延長線が先端球103の中心付近を通るように構成されている。このように、Zレーザ測長器108は、実質的に、Z基準ミラー109に対する先端球103の中心のZ軸方向の移動量を測長する。
測定では、プローブ102を、被測定物113の形状に沿って走査しながら、Zレーザ測長器108とXレーザ測長器111で、先端球103の中心の移動量を測長する。測長して得たデータ(Zレーザ測長器108とXレーザ測長器111の測長値)を、パーソナルコンピュータ(図示せず)に取り込む。このとき、各測長データ130a、130b、130c…から、軌跡130が求まる。この軌跡130は、先端球103が移動した時の、その中心位置の軌跡になる。この軌跡130と被測定物113の形状の関係は、図12に示すようになる。
図12では省略しているが、実際には、各測長データ130a、130b、130c…は、十分に細かいサンプリング間隔で取り込まれている。そこで、各測長データ130a、130b、130c…を用いて、パーソナルコンピュータで、接触角度を求める演算を行う。このようにすることで、各測長データ130a、130b、130c…の位置における、先端球103と被測定物113の接触角度を求めることができる。そして、測長データと接触角度と先端球103の半径から、被測定物113の形状を演算する。
この場合、測長データは、先端球103の中心の位置の軌跡を示している。そして、測長データと先端球103の半径から、被測定物113の形状を演算する。よって、実質的に、プローブ102による被測定物113の測定位置は、先端球113の中心の位置となる。
[効果]
本実施形態によれば、Xレーザ測長器111のプリズム部111bがプローブ102に固定されており、かつXレーザ測長器111の測長軸111cの延長線が先端球103の中心付近を通るように構成されている。これにより、プローブ102が静圧空気軸受104に対して傾いたり、横ずれが生じたりした場合でも、先端球103の中心(すなわち、プローブ102による被測定物113の測定位置)の移動量を測長できるので、より高精度な形状測定が行える。
さらに、プローブ102に傾きや横ずれが生じてもよいため、プローブ102と静圧空気軸受104は運動精度が低くてもよい。これにより、測定機のコストを低減できる。
また、例えば、Zステージ107とXステージ110の移動に伴って真直度誤差やピッチング、ヨーイング等の運動誤差が生じたとする。このような場合ても、この構成であれば、Zステージ107とXステージ110の運動誤差を含めた先端球103の中心の移動量を測長できる。これにより、高精度な形状測定が行える。
Zレーザ測長器108も同様に、プリズム部108bがプローブ102に固定されており、かつ測長軸108cの延長線が先端球103の中心付近を通るように構成されているため、Z基準ミラー109に対する先端球103の中心の移動量を測長する。これにより、同様に、Zステージ107とXステージ110の運動誤差を含めた先端球103の中心の移動量を測長できるので、高精度な形状測定が行える。
Xレーザ測長器111は1つの測長器で、Xステージ110の移動量とプローブ102の傾きや横ずれを合わせて測長するため、プローブ102の傾きを測定する手段や、プローブ102の傾きに起因する誤差のソフトウエアによる補正が不要である。これにより、簡易な構成での高精度な形状測定が行える。
直角反射プリズム117,118,119により、Zレーザ測長器108とXレーザ測長器111の光路を偏向しているため、Zステージ107とXステージ110の長ストローク化が比較的容易である。これにより、比較的大きい被測定物の高精度な形状測定が行える。
[変形例]
本実施形態の各構成は、当然、種々の変形や変更が施されてもよい。
Xレーザ測長器111の測長部111aとプリズム部111bを、両方ともプローブ102に固定してもよく、その場合も同様の効果が得られる。
同様に、Zレーザ測長器108の測長部108aとプリズム部108bを、両方ともプローブ102に固定してもよく、その場合も同様の効果が得られる。
Xレーザ測長器111の測長軸111cは、先端球103の中心を通らなくとも、Z軸に直交し先端球103の中心を通る平面上を通ればよい。この場合、次のような誤差が増えるものの、上述の実施形態とほぼ同様の効果が得られる。ここでの誤差は、プローブ102の移動軸を中心として、プローブ102が静圧空気軸受104に対して回転することで生じる形状測定誤差である。
静圧空気軸受104は、プローブ102をZ軸方向に、移動可能に保持できればよい。よって、例えば、磁気軸受、すべり軸受等の各種ガイドに置き換えられてもよい。
マイクロリニアスケール105は、プローブ102の静圧空気軸受104に対する変位を検出できればよい。よって、レーザ測長器等の光学式変位センサや静電容量センサ等の各種変位計に置き換えられてもよい。
プローブ102が静圧空気軸受104に対して傾いた場合、Zレーザ測長器108の測長軸108cとXレーザ測長器111の測長軸111cは、理想的なZ軸とX軸に対して傾きが生じる。これにより、測長軸が理想的な軸からずれることになる。そのため、cosエラー(理想的な軸と測長軸が角度をもつことにより生じる測長誤差)等に起因する測定誤差が生じる。
そこで、Zステージ107にオートコリメータ(図示せず)を固定し、プローブに平面ミラー(図示せず)を固定する。そして、オートコリメータでプローブの傾きを測定し、その傾きの測定値から、理想的な軸からのずれを演算し、形状測定値を補正する。このような構成とすれば、さらに高精度な形状測定が行える。
本実施形態では、二軸の直動ステージと二軸の測長器によって、二次元の形状測定を行う場合について述べたが、このような構成に限定されない。例えば、被測定物を回転させる回転ステージと角度検出器、もしくは、もう一軸の直動ステージと測長器を付加することによって、容易に三次元の形状測定に拡張可能である。
また、本実施形態では、プローブ102をZ軸とX軸の直交する二軸の方向に移動可能な構成であるが、プローブ102が移動可能な二軸は必ずしも直交している必要はない。例えば、二軸が90度以外の角度で交わっている構成においても、同様の効果が得られる。
第二実施形態
図3は、本発明の第二実施形態の形状測定機の基本構成を概略的に示している。図3において、図1に示された部材と同一の参照符号で指示された部材は同様の部材である。
[構成]
図3に示されるように、本実施形態の形状測定機101Aは、測定機のフレーム120、プローブ102、先端球103、静圧空気軸受104、Xステージ110、Zリニアスケール121及びXレーザ測長器111を備えている。
ここで、プローブ102は、被測定物113の形状に沿って走査される。先端球103は、プローブ102と一体に構成され被測定物113に接触する。静圧空気軸受104は、プローブ102のZ軸方向のガイドである。Xステージ110は、静圧空気軸受104をX軸方向に駆動する。Zリニアスケール121は、プローブ102のXステージ110に対するZ軸方向の変位を測長する。Xレーザ測長器111は、プローブ102のX軸方向の位置を測長する。
Zリニアスケール121は、スケール部121aと読み取り部121bとからなる。ここで、スケール部121aはプローブ102に固定され、読み取り部121bはXステージ110に固定されている。Xレーザ測長器111は、測長部111aとプリズム部111bとからなる。ここで、測長部111aは、フレーム120に固定されている。また、プリズム部111bは、固定部材116を介してプローブ102に固定されている。
Xレーザ測長器111のプリズム部111bは、プローブ102の先端近傍に設けられている。このプリズム部111bは固定部材116に保持され、先端球103の中心付近を通りX軸に平行な線と交わるように配置されている。Xレーザ測長器111は、測長軸111cの延長線が、先端球103の中心付近を通るように構成されている。
Zリニアスケール121は、測長軸の延長線が先端球103の中心付近を通るように構成されている。
プローブ102と静圧空気軸受104は、第一実施形態と同様に、プローブ102の移動軸を中心とするプローブ102の回転を規制する構成となっている。
プローブ102と静圧空気軸受104は、特願2001−271500号公報に記載されているような自重傾斜方式である。
具体的には、図4に示されるように、プローブ102の移動軸が重力に直交する方向に対して微小角αだけ傾斜しており、プローブ102の自重の傾斜成分だけが被測定物113との接触圧(すなわち、接触圧f=自重m×sinα)になる構成である。
本実施形態では、総重量m’=プローブ102の自重m+固定部材116の重量+プリズム部111bの重量+スケール部121aの重量であるので、接触圧f=総重量m’×sinαとなる。これを加味して、所望の接触圧となる微小角αとする。
[作用]
次に、この形状測定機101Aの作用について説明する。
被測定物113をフレーム120に固定し、先端球103を被測定物113に接触させる。Xステージ110を駆動すると、被測定物113の形状に沿って、プローブ102がZ軸方向に移動する。この動作により、被測定物113の形状に沿ってプローブ102を走査する。
Xレーザ測長器111は、第一実施形態と同様に、実質的に、X基準ミラー112に対する先端球103の中心のX軸方向の移動量を測長する。
Zリニアスケール121は、プローブ102に固定されたスケール部121aの移動量を、Xステージ110に固定された読み取り部121bが検出する。これにより、Zリニアスケール121は、実質的に、Xステージ110に対する先端球103の中心のZ軸方向の移動量を測長する。
測定では、プローブ102で被測定物113を走査しながら、Zリニアスケール121とXレーザ測長器111で先端球103の中心の移動量を測長する。これにより、被測定物113の形状を測定できる。
[効果]
本実施形態によれば、第一実施形態の効果に加えて、以下の効果を有している。
本実施形態の形状測定機では、第一実施形態と異なり、プローブ102の静圧空気軸受104に対する位置を一定にするようにZステージを制御する動作を行う必要がない。これにより、Zステージや板ばねやマイクロリニアスケール等が不要になり、より簡易な構成で形状測定機を構成できる。
しかし、第一実施形態よりも形状測定中のプローブ102のストローク(すなわち、プローブ102の静圧空気軸受104に対する移動量)が長くなる。そのため、プローブ102と静圧空気軸受104で構成される移動機構の運動誤差によって、形状測定中に生じるプローブ102の傾きや横ずれも大きくなる。
本実施形態によれば、第一実施形態と同様に、先端球103の中心の移動量を測長するので、プローブ102の傾きや横ずれが大きくなっても形状測定値への影響は少ない。これにより、簡易な構成での高精度な形状測定が行える。
また、プローブ102の傾きや横ずれが比較的大きくてもよいので、プローブ102と静圧空気軸受104の運動精度が低くてもよい。これにより、測定機のコストを低減できる。
[変形例]
本実施形態の各構成は、当然、種々の変形や変更が施されてもよい。
図5は、第二実施形態の変形例の形状測定機の正面図であり、図6は、第二実施形態の変形例の形状測定機の側面図である。
図5と図6に示されるように、本変形例の形状測定機101Bは、形状測定機101AのXレーザ測長器111と直角プリズム117とX基準ミラー112に代えて、プローブ102のX軸方向の位置を測長するXリニアスケール122を備えている。Xリニアスケール122は、スケール部122aと読み取り部122bとからなる。スケール部122aは、固定部材116を介して、プローブ102に固定されている。また、読み取り部122bは、フレーム120に固定されている。
Xリニアスケール122は、その測長軸が、先端球103の中心付近を通りZ軸に直交する平面上に位置するように構成されている。これにより、プローブ102のZ軸方向の移動量が比較的小さい範囲内においては、Xリニアスケール122は、おおよそ先端球の中心のX軸方向の移動量を測長する。
測定では、プローブ102で被測定物113を走査しながら、Zリニアスケール121とXリニアスケール122で、先端球103の中心の移動量を測長する。これにより、被測定物113の形状を測定できる。
この構成によれば、Xリニアスケール122の測長軸が先端球103の中心を通らないことにより、プローブ102の移動軸を中心とするプローブ102の静圧空気軸受104に対する回転が生じた際の形状測定誤差が増えるものの、プローブ102の傾きや横ずれを含めた先端球103の中心の移動量が測長できるのは同様なので、高精度な形状測定が行える。
これまで、図面を参照しながら本発明の実施形態とその変形例を述べたが、本発明は、これらの実施形態やその変形例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において様々な変形や変更が施されてもよい。
本発明の第一実施形態の形状測定機の基本構成を概略的に示している。 図1に示されたZレーザ測長器とXレーザ測長器に適用可能なシングルパスの干渉計の構成を示している。 本発明の第二実施形態の形状測定機の基本構成を概略的に示している。 自重傾斜方式のプローブと静圧空気軸受の構成を示している。 第二実施形態の変形例の形状測定機の正面図である。 第二実施形態の変形例の形状測定機の側面図である。 従来例の形状測定機の基本構成を概略的に示している。 特開2000−304529号公報に開示されている形状測定機の基本構成を概略的に示している。 図8の形状測定機においてプローブが傾いた状態を示している。 図8の形状測定機においてプローブが傾いた際に静圧空気軸受の中心とプローブの傾きの回転中心とが一致していない状態を示している。 図8の形状測定機においてプローブが傾いた際に横ずれが生じた状態を示している。 図1に示された形状測定機による測定におけるプローブの軌跡と被測定物の形状の関係を示している。
符号の説明
101…形状測定機、101A…形状測定機、101B…形状測定機、102…プローブ、103…先端球、104…静圧空気軸受、105…マイクロリニアスケール、105a…スケール部、105b…読み取り部、107…Zステージ、108…Zレーザ測長器、108a…測長部、108b…プリズム部、108c…測長軸、109…Z基準ミラー、110…Xステージ、111…Xレーザ測長器、111a…測長部、111b…プリズム部、111c…測長軸、112…X基準ミラー、114…板ばね、115…保持部、116…固定部材、117…直角反射プリズム、118…直角反射プリズム、119…直角反射プリズム、120…フレーム、121…Zリニアスケール、121a…スケール部、121b…読み取り部、122…Xリニアスケール、122a…スケール部、122b…読み取り部、150…レーザ測長器、150a…測長部、150b…プリズム部、150c…測長軸、151…基準ミラー、152…レーザ光源、153…レシーバ、154…偏光板、155…偏光ビームスプリッタ、156…λ/4板、157…λ/4板、158…平面ミラー、159…直角反射プリズム。

Claims (7)

  1. プローブと、
    該プローブを第一の方向に移動させる第一の移動機構と、
    前記第一の方向と所定の角度をもつ方向に移動させる第二の移動機構と、
    前記プローブの前記第一の方向への移動量を測長する第一の測長器と、
    前記プローブの前記第二の方向への移動量を測長する第二の測長器とを備えた形状測定機であって、
    前記プローブの先端部近傍に設けられた保持部材をさらに有し、該保持部材は前記第二の測長器の構成部材を保持し、前記構成部材は所定の基準軸と交わるように配置されていることを特徴とする形状測定機。
  2. 前記所定の基準軸は、前記第二の方向に平行で前記プローブによる被測定物の測定位置を通過する延長線であることを特徴とする請求項1記載の形状測定機。
  3. 前記第二の測長器は干渉計であり、該干渉計は、光源と、基準面と、前記光源と前記基準面との間の光路上に配置された光偏向素子とを含み、該光偏向素子は前記構成部材であり、前記基準面は前記光偏向素子を挟んで前記プローブ先端と反対側に配置され、前記干渉計の測長軸すなわち前記光偏向素子と前記基準面との間の光軸が前記所定の基準軸と略一致することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の形状測定機。
  4. 前記第二の測長器はリニアスケールであり、該リニアスケールは読み取り部とスケール部を有し、該スケール部は前記構成部材であり、前記読み取り部は前記スケール部を挟んで前記プローブ先端と反対側に配置され、前記リニアスケールの測長軸が前記所定の基準軸と略一致することを特徴とする請求項1に記載の形状測定機。
  5. 前記プローブが接触式プローブであることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかひとつに記載の形状測定機。
  6. 前記第一の移動機構が静圧空気軸受方式であることを特徴とする請求項5記載の形状測定機。
  7. 前記プローブと前記第一の移動機構が自重傾斜方式であることを特徴とする請求項6記載の形状測定機
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