JP2005093697A - 面位置検出装置及び方法、露光装置並びに収差補正方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ペリクルPを隔てて存在するレチクルRのパターン面に光束を斜入射して、その反射光を検出することで該パターン面の露光光の光軸方向の位置が計測される(3A、3B)。このペリクルに対して所定角度で斜入射する検出光を出力し、検出光がペリクル内へ侵入する際に生じる第1反射光と、該ペリクル内へ侵入した該検出光が該ペリクルから外部へ出る際に生じる第2反射光とのずれ量を検出し(3C)、検出したずれ量に基づいて上記光軸方向位置の計測値を補正する。
【選択図】 図2
Description
また、本発明の他の目的は、ペリクルによるパターン面計測に対する悪影響を排除し、基板上に回路パターンを正確に投影可能とすることにある。
また、本発明の他の目的は、ペリクルによる収差補正への悪影響を排除可能とすることにある。
ペリクルを隔てて存在するパターン面に光束を斜入射して、その反射光を検出することで該パターン面の垂直方向の位置を計測する計測手段と、
ペリクルに対して所定角度で斜入射する検出光を出力する投光手段と、
前記検出光が前記ペリクル内へ侵入する際に生じる第1反射光と、該ペリクル内へ侵入した該検出光が該ペリクルから外部へ出る際に生じる第2反射光とのずれ量を検出する検出手段と、
前記検出手段で検出したずれ量に基づいて前記計測手段による計測値を補正する補正手段とを備える。
パターン面側にペリクルが設けられたレチクルに露光光を照射し、該露光光を投影光学系を介して基板上に照射することでパターンを形成する露光装置であって、
前記ペリクルに対して所定角度で斜入射する検出光を出力する投光手段と、
前記検出光が前記ペリクル内へ侵入する際に生じる第1反射光と、該ペリクル内へ侵入した該検出光が該ペリクルから外部へ出る際に生じる第2反射光とのずれ量を検出する検出手段と、
前記検出手段で検出したずれ量に基づいて前記投影光学系による収差補正を制御する補正制御手段とを備える。
また、本発明によれば、レチクルたわみ検出系により求めたペリクルの厚みに基づいてペリクルにより生じる投影光学系の収差が補正される。このため、基板上に回路パターン像を正確に投影できる露光装置が実現する。
図1は、本実施形態で使用される投影露光装置の概略を示す図である。図1において、光源1と、照明光整形光学系2〜リレーレンズ8よりなる照明光学系とにより、長方形のスリット状を有し、全体に均一な照度の照明領域21がレチクルR上に形成される。そして、照明領域21内のレチクルRの回路パターン像が投影光学系13を介してウエハW上に転写される。なお、光源1としては、F2エキシマレーザー、ArFエキシマレーザあるいはKrFエキシマレーザ等のエキシマレーザ光源、金属蒸気レーザ光源、又はYAGレーザの高調波発生装置等のパルス光源、又は水銀ランプと楕円反射鏡とを組み合わせた構成等を有する連続光源が使用できる。
Claims (11)
- ペリクルを隔てて存在するパターン面に光束を斜入射して、その反射光を検出することで該パターン面の垂直方向の位置を計測する計測手段と、
ペリクルに対して所定角度で斜入射する検出光を出力する投光手段と、
前記検出光が前記ペリクル内へ侵入する際に生じる第1反射光と、該ペリクル内へ侵入した該検出光が該ペリクルから外部へ出る際に生じる第2反射光とのずれ量を検出する検出手段と、
前記検出手段で検出したずれ量に基づいて前記計測手段による計測値を補正する補正手段とを備えることを特徴とする面位置検出装置。 - 前記計測手段は、前記投光手段よりの前記検出光を前記光束として用いることを特徴とする請求項1に記載の面位置検出装置。
- 前記補正手段は、前記検出手段で検出したずれ量に基づいて、前記光束が前記ペリクルを通過する際の光軸のシフト量を算出し、該シフト量により前記計測手段による計測値を補正することを特徴とする請求項1に記載の面位置検出装置。
- 前記検出手段により検出されたずれ量に基づいて前記ペリクルの各位置における厚みを示す厚み情報を保持する保持手段を更に備え、
前記補正手段は、前記計測手段の入射光束と反射光束のそれぞれの前記ペリクルの通過位置におけるペリクルの厚みを前記厚み情報より取得して前記計測値を補正することを特徴とする請求項1に記載の面位置検出装置。 - パターン面側にペリクルが設けられたレチクルに露光光を照射し、該露光光を投影光学系を介して基板上に照射することでパターンを形成する露光装置であって、
前記ペリクルに対して所定角度で斜入射する検出光を出力する投光手段と、
前記検出光が前記ペリクル内へ侵入する際に生じる第1反射光と、該ペリクル内へ侵入した該検出光が該ペリクルから外部へ出る際に生じる第2反射光とのずれ量を検出する検出手段と、
前記検出手段で検出したずれ量に基づいて前記投影光学系による収差補正を制御する補正制御手段とを備えることを特徴とする露光装置。 - 前記補正手段は、前記検出手段で検出したずれ量に基づいて前記ペリクルの厚みを算出し、該厚みに基づいて前記投影光学系による収差補正を制御することを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
- 前記第1反射光に基づいて前記ペリクルの面形状を計測する面形状計測手段を更に備え、
前記補正制御手段は、更に前記面形状計測手段により計測されたペリクルの面形状に基づいて前記投影光学系による収差補正を制御することを特徴とする請求項5に記載の露光装置。 - パターン面側にペリクルが設けられたレチクルに露光光を照射し、該露光光を投影光学系を介して基板上に照射することでパターンを形成する露光装置であって、
前記ペリクルを隔てて存在するパターン面に光束を斜入射して、その反射光を検出することで該パターン面の垂直方向の位置を計測する計測手段と、
ペリクルに対して所定角度で斜入射する検出光を出力する投光手段と、
前記検出光が前記ペリクル内へ侵入する際に生じる第1反射光と、該ペリクル内へ侵入した該検出光が該ペリクルから外部へ出る際に生じる第2反射光とのずれ量を検出する検出手段と、
前記検出手段で検出したずれ量に基づいて前記計測手段による計測値を補正し、補正された前記パターン面の位置に基づいて露光処理における補正駆動をする補正制御手段とを備えることを特徴とする露光装置。 - 前記補正制御手段は、更に、前記検出手段で検出したずれ量に基づいて前記ペリクルの厚みを算出し、該厚みに基づいて前記投影光学系による収差補正を制御することを特徴とする請求項8に記載の露光装置。
- ペリクルを隔てて存在するパターン面に光束を斜入射して、その反射光を検出することで該パターン面の垂直方向の位置を計測する計測工程と、
ペリクルに対して所定角度で斜入射する検出光を出力する投光工程と、
前記検出光が前記ペリクル内へ侵入する際に生じる第1反射光と、該ペリクル内へ侵入した該検出光が該ペリクルから外部へ出る際に生じる第2反射光とのずれ量を検出する検出工程と、
前記検出工程で検出したずれ量に基づいて前記計測工程による計測値を補正する補正工程とを備えることを特徴とする面位置検出方法。 - パターン面側にペリクルが設けられたレチクルに露光光を照射し、該露光光を投影光学系を介して基板上に照射することでパターンを形成する露光装置における収差補正方法であって、
前記ペリクルに対して所定角度で斜入射する検出光を出力する投光工程と、
前記検出光が前記ペリクル内へ侵入する際に生じる第1反射光と、該ペリクル内へ侵入した該検出光が該ペリクルから外部へ出る際に生じる第2反射光とのずれ量を検出する検出工程と、
前記検出工程で検出したずれ量に基づいて前記投影光学系による収差補正を制御する補正制御工程とを備えることを特徴とする収差補正方法。
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JP2003324689A JP2005093697A (ja) | 2003-09-17 | 2003-09-17 | 面位置検出装置及び方法、露光装置並びに収差補正方法 |
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