JP2005081525A - サンドブラスト装置、研磨材の噴射量測定方法及びプラズマディスプレイパネル製造方法 - Google Patents

サンドブラスト装置、研磨材の噴射量測定方法及びプラズマディスプレイパネル製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 研磨材の噴射量を測定する際に、サンドブラスト処理を中断し、装置稼働率が低下して生産性の低下を招く虞を解消する。
【解決手段】 先端に噴射ノズル23が装備されて高圧エアが供給されるメイン管路25と、メイン管路25の途中に分岐接続された誘導管路27を介してメイン管路25内に研磨材29を供給する研磨材供給装置31と、誘導管路27上の測定用管路接続部33に分岐接続される研磨材回収管路37と、測定用管路接続部33において誘導管路27の連通先をメイン管路25又は研磨材回収管路37のいずれかに切り替える切替弁35と、研磨材回収管路37に流入する研磨材29を回収する研磨材回収部39aと回収した研磨材の重量を測定する重量計39bとを備える研磨材噴射量測定装置39と、を有する。
【選択図】 図6

Description

本発明は、サンドブラスト装置、そのサンドブラスト装置における研磨材の噴射量測定方法及びプラズマディスプレイパネル製造方法。
近年、平面型表示装置に用いられるディスプレイパネルとして、放電空間を介して対向配置された一対の基板の内面に、それぞれ行電極対と列電極対とが配置され、これらの両電極同士の交点において放電セルが構成されて、各放電セルにおいて放電させることにより表示を行うプラズマディスプレイパネル(以下、PDPと称す)の開発が活発化している。
そして、このようなPDPにおいては、例えば、陰極線群が形成される前面基板や陽極母線等が形成される背面基板などの基板相互間の対向距離を高精度に維持するために、基板表面に突設される隔壁等の形成に、サンドブラストによる超微細の研磨加工が用いられている。
図1及び図2を用いて、PDPに対するサンドブラストによる研磨加工方法について説明する。
図1及び図2に示すPDPに対するサンドブラストによる研磨加工方法は、PDPを構成する基板の一つである背面基板3の表面の不要部位を、サンドブラスト処理によって研磨・除去して、背面基板3の表面に突出した隔壁5を形成するものである。
まず、図1(a)に示すように、電極4が設けられた背面基板3となるガラス基板上に、隔壁形成用材料層12を形成する。
次に、図1(b)に示すように、乾燥固化した後、感光性フィルム13をその上に展着する。
次に、図1(c)に示すように、この感光性フィルム13に隔壁パターンが形成されている露光マスクを介して紫外線を照射し、感光した部分を現像除去してサンドブラスト用マスクパターン14を形成する。
次に、図1(d)に示すように、サンドブラスト装置の噴射ノズル15によりガラスビーズ等よりなる研磨材16を隔壁形成用材料層12上に吹き付けて、サンドブラスト用マスクパターン14が設けられている部分を除いて切削して行くことにより、図1(e)に示すように、背面基板3上に隔壁5が形成される。
上記の図1(d)の工程中、サンドブラスト装置は、図2に示すように一方向に移動する背面基板3上に設けられた隔壁形成用材料層12の上部を背面基板3の移動方向に対して直角方向に往復運動をしながら噴射ノズル23からガラスビーズ等の研磨材29を噴射してサンドブラスト用マスクパターン14が設けられていない部分の隔壁形成用材料層12を切削除去して行く(例えば、特許文献1参照)。
図3は、上述のような基板表面の微細又は超微細の研磨加工に使用される従来のサンドブラスト装置を示したものである。
図3に示すように、従来のサンドブラスト装置61は、先端に噴射ノズル63が装備されて高圧エアが供給されるメイン管路65と、このメイン管路65の途中に分岐接続された誘導管路67を介してメイン管路65内に研磨材を供給する研磨材供給装置69とを備えて、噴射ノズル63からの高圧エアによる研磨材71の吹き付けによって基板73上の表面物質を選択的に除去する構成となっている。
通常、噴射ノズル63は、ローラコンベヤ等の搬送手段75による基板73の搬送経路の途中で、搬送方向に対して直交する方向に往復動する。なお、噴射ノズル63から基板73の表面までの研磨材71の噴射距離は一定に保たれている。
研磨材供給装置69は、研磨材71としてガラスビーズ等の研磨砂の粉末を噴射供給するもので、研磨材71の噴射量が基準量に安定維持されるように、予め装置のメンテナンス時等に運転速度を調整して、定常運転させる。
そして、噴射ノズル63からの噴射距離が一定、噴射ノズル63からの噴射量が一定の前提で、研磨処理を行う。処理中は、基板73の表面の加工速度や所要時間(噴射時間)を監視され、加工速度のバラツキ等が検出された場合には、例えば、メイン管路65に供給する高圧エア圧や搬送手段75による搬送速度を制御することで調整する。
特許2953985号(図5、図6)
ところが、従来のサンドブラスト装置61において、メイン管路65に供給する高圧エア圧や搬送手段75による搬送速度を制御するだけでは、研磨加工の加工速度や所要時間等の加工能力を高精度に安定維持させることが、難しい。
研磨加工の加工速度や所要時間等の加工能力は、研磨材の噴射量も重要な因子となっていて、研磨材供給装置69による研磨材71の噴射量にバラツキが生じた場合には、その噴射量の変動分を加味して、メイン管路65に供給する高圧エア圧や搬送手段75による搬送速度の補償を行わないと、十分な成果を期待できず、研磨精度の低下等の不都合を招く虞があった。
このような背景から、研磨材供給装置69による研磨材71の噴射量の測定・調整等を、装置のメンテナンス時だけでなく、定期的に頻繁に実施することが提案された。
しかし、従来のサンドブラスト装置61自体には、研磨材供給装置69による研磨材71の噴射量を検出する機能が装備されていない。
そこで、研磨材71の噴射量の測定方法としては、図4に示すように、噴射ノズル63の先端部に、噴射ノズル63から噴射された研磨材71を回収して噴射量を測定する研磨材噴射量測定装置77を接続する方法、或いは、図5に示すように、研磨材供給装置69を、一旦、切り離して、研磨材供給装置69の吐出口に、噴射された研磨材71を回収して噴射量を測定する研磨材噴射量測定装置77を接続する方法が検討された。
ところが、図4または図5に示した対策では、いずれも、研磨材71の噴射量を測定する際には、サンドブラスト処理を中断しなければならないだけでなく、大型の研磨材噴射量測定装置77の組み付け、或いは研磨材供給装置69の切り離しなど、設備の大規模な解体・組み立て作業が必要となり、サンドブラスト処理の中断が長時間に及ぶことから、装置稼働率が低下して生産性の低下を招く虞がある。
本発明が解決しようとする課題には、例えば、研磨材の噴射量を測定する際に、サンドブラスト処理を中断し、装置稼働率が低下して生産性の低下を招く虞を解消することが一例として挙げられる。
請求項1に記載の発明は、噴射ノズルからの高圧エアによる研磨材の吹き付けによって基板上の表面物質を選択的に除去するサンドブラスト装置であって、前記噴射ノズルから吹き出される研磨材量を自動測定する研磨材噴射量測定装置を有することを特徴とする。
請求項5に記載の発明は、請求項1〜4のいずれかに記載のサンドブラスト装置における研磨材の噴射量測定方法であって、予め設定した単位時間の間、前記誘導管路の連通先が前記研磨材回収管路となるように前記切替弁を切り替えて、前記研磨材供給装置から吐出された研磨材を前記研磨材回収管路に流入させて前記研磨材回収部に回収し、前記重量計により前記研磨材回収部に回収された研磨材の重量を測定して、前記研磨材供給装置からの単位時間あたりの研磨材の供給量を検出することを特徴とする。
請求項6に記載の発明は、プラズマディスプレイパネルを構成する基板の表面の不要部位を、請求項1〜4のいずれかに記載のサンドブラスト装置によるサンドブラスト処理によって研磨・除去して、前記基板の表面に隔壁を形成することを特徴とする。
以下、本発明の実施の形態に係るサンドブラスト装置及び研磨材の噴射量測定方法について図面を参照して詳細に説明する。
図6は、本発明に係る実施の形態のサンドブラスト装置の概略構成を示したものである。
図6に示すように、サンドブラスト装置21は、先端に噴射ノズル23が装備されて基端に接続される図示せぬコンプレッサ等から高圧エアが供給されるメイン管路25と、このメイン管路25の途中に分岐接続された誘導管路27を介してメイン管路25内に研磨材29を供給する研磨材供給装置31とを備えて、噴射ノズル23からの高圧エアによる研磨材29の吹き付けによって、噴射ノズル23から一定距離だけ離れた位置を搬送される背面基板3(図1参照)上の表面物質を選択的に除去する。
本実施の形態の場合、誘導管路27上には測定用管路接続部33が設定され、この測定用管路接続部33には、切替弁35を介して研磨材回収管路37が分岐接続されている。
切替弁35は、測定用管路接続部33において、誘導管路27の連通先を上記のメイン管路25又は研磨材回収管路37のいずれかに選択切り替えする三方切替弁である。
また、切替弁35に接続された研磨材回収管路37の先端には、研磨材噴射量測定装置39が装備されている。
研磨材噴射量測定装置39は、研磨材回収管路37に流入してきた研磨材29を回収して研磨材回収部39aに収容し、この研磨材回収部39aに収容した研磨材29の重量を重量計39bによって測定することにより、研磨材供給装置31が単位時間に供給した研磨材量を検出する。
研磨材噴射量測定装置39には、研磨材回収管路37から研磨材29を回収する際に、研磨材29と一緒に流入してくるエアをメイン管路25に排出する排出管41が装備されている。
さらに、本実施の形態のサンドブラスト装置21には、研磨材噴射量測定装置39に回収された研磨材29をメイン管路25に排出して、研磨材噴射量測定装置39内の研磨材回収部39aを初期の空状態に戻す研磨材戻し機構43が備えられている。
研磨材戻し機構43は、誘導管路27とメイン管路25との分岐接続部45より上流側となるメイン管路25上に装備された流路切替弁47と、一端が流路切替弁47に接続されると共に他端が研磨材噴射量測定装置39に接続されて、研磨材噴射量測定装置39内に高圧エアを誘導する清掃用高圧エア管49と、清掃用高圧エア管49から供給された高圧エアによって研磨材噴射量測定装置39内を逆流する研磨材及び高圧エアをメイン管路25に排出する排出管41とで構成されている。
流路切替弁47は、誘導管路27上の測定用管路接続部33に装備した切替弁35と同様の三方切替弁で、メイン管路25に供給された高圧エアの流れを、清掃用高圧エア管49側に切り替える。
次に、上記サンドブラスト装置21において、研磨材供給装置31からメイン管路25に供給されて噴射ノズル23から噴射される研磨材29の噴射量を測定する方法を図7〜図10を用いて説明する。
図7は、サンドブラスト装置21における通常加工時の動作状態を説明する図、図8は研磨材の噴射量測定時の動作状態を説明する図、図9は研磨材の噴射量測定終了後の動作状態を説明する図、図10は研磨材の噴射量測定終了後に、研磨材噴射量測定装置内に残留する研磨材を排出・清掃する動作状態を説明する図である。
サンドブラスト処理を実施する通常加工時は、図7に示すように、切替弁35が研磨材回収管路37を閉じた状態に維持し、また、流路切替弁47は清掃用高圧エア管49を閉じた状態にしている。
この状態では、研磨材供給装置31が吐出した研磨材は、誘導管路27を介してメイン管路25に供給され、メイン管路25に供給されている高圧エア圧に応じた噴射力で、噴射ノズル23から噴射される。
研磨材の噴射量を測定する場合は、図8に示すように、切替弁35の動作切り替えによって、研磨材供給装置31の吐出した研磨材を研磨材回収管路37に流入させる。
切替弁35の動作切り替えは、予め設定した単位時間で、その単位時間が過ぎたら、図9に示すように、切替弁35の動作を元の状態に戻し、研磨材供給装置31から誘導管路27に供給される研磨材が研磨材回収管路37に流入しないようにする。
これによって、単位時間の間に研磨材供給装置31から供給される研磨材が研磨材噴射量測定装置39内の研磨材回収部39aに回収される。この研磨材回収部39aに回収された研磨材の重量を重量計39bによって測定することによって、単位時間あたりの研磨材の供給量が検出される。これにより、噴射ノズル23から噴射される研磨材噴射量を測定することができる。
研磨材の単位時間あたりの供給量の測定が終了したら、図10に示すように、清掃用高圧エア管49の一端を閉じている流路切替弁47を開いて、研磨材噴射量測定装置39内に高圧エアを流入させて、研磨材噴射量測定装置39内に回収されていた研磨材をエア圧によって排出管41を介してメイン管路25に排出する。これによって、研磨材噴射量測定装置39内の研磨材回収部39aが初期の空の状態に戻り、次の噴射量測定が可能になる。研磨材噴射量測定装置39内の研磨材回収部39aが初期状態に戻ったら、流路切替弁47は清掃用高圧エア管49を閉じた図7の状態に戻して、通常の処理状態に復帰する。
以上のように、本実施の形態のサンドブラスト装置21では、研磨材噴射量測定装置39が、切替弁35を介してメイン管路25又は誘導管路27に接続されているので、研磨材供給装置31の供給した研磨材量を測定する場合には、サンドブラスト処理を行っているときでも、前記切替弁35の動作切り替えだけで、速やかに、研磨材供給装置31から吐出された研磨材を研磨材噴射量測定装置39に回収して、研磨材29の供給量を検知することができる。そして、測定後は、切替弁35の動作を戻すだけで、速やかに、通常のサンドブラスト処理に復帰できる。
従って、サンドブラスト処理を長時間中断せずに、適時、研磨材29の噴射量を測定することができ、装置稼働率の向上によって生産性の向上を図ることができる。
そして、研磨材29噴射量の測定結果に基づき、研磨材29の噴射量の変動を加味して高圧エア圧や基板搬送速度等の他の稼働条件を制御することで、研磨材29の噴射量のバラツキ等に起因した研磨精度の低下を防止して、研磨精度を向上させることもできる。
さらに、上記のサンドブラスト装置21では、研磨材29の噴射量測定のために研磨材噴射量測定装置39に回収された研磨材29は、研磨材戻し機構43によって速やかにメイン管路25に排出することができ、作業者の手を煩わせずに、研磨材噴射量測定装置39を次の測定が可能な初期状態に戻すことができる。従って、研磨材29噴射量の測定頻度を増大させて、加工精度や加工品質の向上を図ることができる。
このように、プラズマディスプレイパネルを構成する背面基板3の表面の隔壁5の形成等(図1参照)に、本実施の形態のサンドブラスト装置21を使用することで、サンドブラスト処理時の高圧エアや基板搬送速度等の装置稼働条件を、研磨材29の噴射量の変動を加味した、より適正な制御が可能になり、高精度、高品位なプラズマディスプレイパネルを製造することが可能になる。
以上、詳述したように、本発明の実施の形態に係るサンドブラスト装置21は、噴射ノズル23からの高圧エアによる研磨材の吹き付けによって基板上の表面物質を選択的に除去するサンドブラスト装置21であり、噴射ノズル23から吹き出される研磨材量を自動測定する研磨材噴射量測定装置39を有するので、サンドブラスト処理を中断せずに、研磨材の噴射量を測定することができるので、装置稼働率の向上によって生産性の向上を図ることができる。
プラズマディスプレイパネルの製造工程におけるサンドブラスト処理を説明する工程図である。 図1のサンドブラスト処理時の噴射ノズルの走査方向を説明する斜視図である。 従来のサンドブラスト装置の概略構成図である。 従来のサンドブラスト装置における研磨材の噴射量を測定する第1の方法の説明図である。 従来のサンドブラスト装置における研磨材の噴射量を測定する第2の方法の説明図である。 本発明に係る実施の形態おけるサンドブラスト装置の概略構成図である。 図6のサンドブラスト装置における通常加工時の動作状態を説明する図である。 図6のサンドブラスト装置における研磨材の噴射量測定時の動作状態を説明する図である。 図6のサンドブラスト装置における研磨材の噴射量測定終了後の動作状態を説明する図である。 図6のサンドブラスト装置における研磨材の噴射量測定終了後に、研磨材噴射量測定装置内に残留する研磨材を排出・清掃する動作状態を説明する図である。
符号の説明
21 サンドブラスト装置
23 噴射ノズル
25 メイン管路
27 誘導管路
29 研磨材
31 研磨材供給装置
33 測定用管路接続部
35 切替弁(三方切替弁)
37 研磨材回収管路
39 研磨材噴射量測定装置
41 排出管
43 研磨材戻し機構
45 分岐接続部
47 流路切替弁(三方切替弁)
49 清掃用高圧エア管

Claims (6)

  1. 噴射ノズルからの高圧エアによる研磨材の吹き付けによって基板上の表面物質を選択的に除去するサンドブラスト装置であって、
    前記噴射ノズルから吹き出される研磨材量を自動測定する研磨材噴射量測定装置を有することを特徴とするサンドブラスト装置。
  2. 前記研磨材噴射量測定装置は、前記高圧エアの供給を停止することなく、前記噴射ノズルから噴射される研磨材噴射量を測定可能であることを特徴とするサンドブラスト装置。
  3. 先端に噴射ノズルが装備されて高圧エアが供給されるメイン管路と、前記メイン管路の途中に分岐接続された誘導管路を介して前記メイン管路内に研磨材を供給する研磨材供給装置と、
    前記誘導管路上の測定用管路接続部に分岐接続される研磨材回収管路と、
    前記測定用管路接続部において前記誘導管路の連通先を前記のメイン管路又は前記研磨材回収管路のいずれかに切り替える切替弁と、を有し、
    前記研磨材噴射量測定装置は、前記研磨材回収管路に流入する研磨材を回収する研磨材回収部と回収した研磨材の重量を測定する重量計とを備えることを特徴とする請求項1又は2に記載のサンドブラスト装置。
  4. 前記研磨材回収部に回収された研磨材を前記メイン管路に排出して、前記研磨材回収部を初期の空状態に戻す研磨材戻し機構を有することを特徴とする請求項3に記載のサンドブラスト装置。
  5. 請求項1〜4のいずれかに記載のサンドブラスト装置における研磨材の噴射量測定方法であって、
    予め設定した単位時間の間、前記誘導管路の連通先が前記研磨材回収管路となるように前記切替弁を切り替えて、前記研磨材供給装置から吐出された研磨材を前記研磨材回収管路に流入させて前記研磨材回収部に回収し、
    前記重量計により前記研磨材回収部に回収された研磨材の重量を測定して、前記研磨材供給装置からの単位時間あたりの研磨材の供給量を検出することを特徴とする研磨材の噴射量測定方法。
  6. プラズマディスプレイパネルを構成する基板の表面の不要部位を、請求項1〜4のいずれかに記載のサンドブラスト装置によるサンドブラスト処理によって研磨・除去して、前記基板の表面に隔壁を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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