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電気光学物質を保持するための基板上には、マトリクス状に配置された複数の画素の各々に対応する画素スイッチング用の電界効果型トランジスタと、前記複数の画素を駆動するための駆動回路を構成する駆動回路用の電界効果型トランジスタとが形成され、前記複数の電界効果型トランジスタには、入力される信号並びに電源の最大電圧差で定義される駆動電圧が異なる第1の相補回路、および第2の相補回路を構成するNチャネル型電界効果型トランジスタおよびPチャネル型電界効果型トランジスタが含まれ、前記第1の相補回路の駆動電圧が前記第2の相補回路の駆動電圧よりも小さい電気光学装置において、
Nチャネル型電界効果型トランジスタのチャネルに反転層が形成されるしきい値電圧、およびPチャネル型電界効果型トランジスタのチャネルに反転層が形成されるしきい値電圧をそれぞれVth-NchおよびVth-Pchとし、前記しきい値電圧の差の絶対値Vth-dが以下の式
Vth-d = |(Vth-Nch)−(Vth-Pch)|
で表されるとき、
前記第1の相補回路の前記しきい値電圧の差Vth-d1が前記第2の相補回路の前記しきい値電圧の差Vth-d2よりも小さいことを特徴とする電気光学装置。
A field effect transistor for switching pixels corresponding to each of a plurality of pixels arranged in a matrix and a drive circuit for driving the plurality of pixels are formed on a substrate for holding an electro-optical material. A plurality of field effect transistors for the drive circuit, wherein the plurality of field effect transistors include a first complementary circuit having a drive voltage defined by a maximum voltage difference between an input signal and a power supply, and a first complementary circuit; 2 includes an N-channel field effect transistor and a P-channel field effect transistor that constitute two complementary circuits, and the drive voltage of the first complementary circuit is smaller than the drive voltage of the second complementary circuit. In the device
The threshold voltage at which the inversion layer is formed in the channel of the N-channel field effect transistor and the threshold voltage at which the inversion layer is formed in the channel of the P-channel field effect transistor are Vth−Nch and Vth−, respectively. Pch, and the absolute value Vth-d of the threshold voltage difference is
Vth-d = | (Vth-Nch)-(Vth-Pch) |
When represented by
The electro-optical device , wherein the threshold voltage difference Vth-d1 of the first complementary circuit is smaller than the threshold voltage difference Vth-d2 of the second complementary circuit .
請求項1において、前記Nチャネル型電界効果型トランジスタのしきい値電圧の最小値、および前記Pチャネル型電界効果型トランジスタのしきい値電圧の最大値をそれぞれVth-NchおよびVth-Pchとすることを特徴とする電気光学装置。   2. The minimum value of the threshold voltage of the N-channel field effect transistor and the maximum value of the threshold voltage of the P-channel field effect transistor are defined as Vth-Nch and Vth-Pch, respectively. An electro-optical device. 請求項1または2において、前記第1の相補回路および前記第2の相補回路のうちの少なくとも一方の相補回路では、しきい値電圧の差の絶対値Vth-dが当該相補回路の駆動電圧に対して0.25倍から1倍、好ましくは0.5倍から1倍の範囲であることを特徴とする電気光学装置。   3. The absolute value Vth-d of the threshold voltage difference is the driving voltage of the complementary circuit in at least one of the first complementary circuit and the second complementary circuit. On the other hand, an electro-optical device having a range of 0.25 times to 1 time, preferably 0.5 times to 1 time. 請求項1ないし3のいずれかにおいて、前記第1の相補回路および前記第2の相補回路のうちの少なくとも一方の相補回路は、|(Vth-Nch)+(Vth-Pch)|の最大値が当該相補回路の駆動電圧の1/4倍以下であることを特徴とする電気光学装置。   4. The maximum value of | (Vth−Nch) + (Vth−Pch) | is at least one of the first complementary circuit and the second complementary circuit according to claim 1. An electro-optical device characterized in that it is ¼ or less of the driving voltage of the complementary circuit. 請求項1ないし4のいずれかにおいて、前記第1の相補回路および前記第2の相補回路のうちの少なくとも一方の相補回路では、Vth-Nchが正の値であり、Vth-Pchが負の値であることを特徴とする電気光学装置。   5. The Vth−Nch is a positive value and the Vth−Pch is a negative value in at least one of the first complementary circuit and the second complementary circuit according to claim 1. An electro-optical device characterized by the above. 請求項1ないし5のいずれかにおいて、前記第1の相補回路および前記第2の相補回路のうちの少なくとも一方の相補回路では、しきい値電圧の差の絶対値Vth-dが前記第1の相補回路および前記第2の相補回路の駆動電圧の最大値の半分以下であることを特徴とする電気光学装置。   6. The absolute value Vth-d of a threshold voltage difference is at least one of the first complementary circuit and the second complementary circuit according to any one of the first complementary circuit and the second complementary circuit. An electro-optical device characterized in that it is less than or equal to half of the maximum value of the drive voltage of the complementary circuit and the second complementary circuit. 電気光学物質を保持するための基板上には、マトリクス状に配置された複数の画素の各々に対応する画素スイッチング用の電界効果型トランジスタと、前記複数の画素を駆動するための駆動回路を構成する駆動回路用の電界効果型トランジスタとが形成され、前記複数の電界効果型トランジスタには、入力される信号並びに電源の最大電圧差で定義される駆動電圧が異なる第1の相補回路、および第2の相補回路を構成するNチャネル型電界効果型トランジスタおよびPチャネル型電界効果型トランジスタが含まれ、前記第1の相補回路の駆動電圧が前記第2の相補回路の駆動電圧よりも小さい電気光学装置において、
Nチャネル型電界効果型トランジスタでドレイン・ソース間に所定の一定電圧Vds-Nchを印加したときのドレイン・ソース間抵抗をチャネル幅で割った値が所定の値Ron-offとなるときのゲート電圧をVon-off-Nchとし、Pチャネル型電界効果型トランジスタでドレイン・ソース間に所定の一定電圧Vds-Pchを印加したときのドレイン・ソース間抵抗をチャネル幅で割った値が所定の値Ron-offとなるときのゲート電圧をVon-off-Pchとしたとき、回路動作面でのしきい値電圧の差の絶対値Von-off-dが以下の式
Von-off-d = |(Von-off-Nch)−(Von-off-Pch)|
で表されるとき、
前記第1の相補回路の前記回路動作面でのしきい値電圧の差の絶対値Von-off-d1が前記第2の相補回路の前記回路動作面でのしきい値電圧の差の絶対値Von-off-d2よりも小さいことを特徴とする電気光学装置。
A field effect transistor for switching pixels corresponding to each of a plurality of pixels arranged in a matrix and a drive circuit for driving the plurality of pixels are formed on a substrate for holding an electro-optical material. A plurality of field effect transistors for the drive circuit, wherein the plurality of field effect transistors include a first complementary circuit having a drive voltage defined by a maximum voltage difference between an input signal and a power supply, and a first complementary circuit; 2 includes an N-channel field effect transistor and a P-channel field effect transistor that constitute two complementary circuits, and the drive voltage of the first complementary circuit is smaller than the drive voltage of the second complementary circuit. In the device
Gate voltage when the value obtained by dividing the drain-source resistance by the channel width when a predetermined constant voltage Vds-Nch is applied between the drain and source in the N-channel field effect transistor becomes a predetermined value Ron-off Von-off-Nch, and a value obtained by dividing the drain-source resistance by the channel width when a predetermined constant voltage Vds-Pch is applied between the drain and the source in the P-channel field effect transistor is a predetermined value Ron when the gate voltage when the -off was Von-off-Pch, the absolute value Von-off-d the following equation of the difference between the threshold voltage of the circuit operation surface
Von-off-d = | (Von-off-Nch) − (Von-off-Pch) |
When represented by
The absolute value Von-off-d1 of the threshold voltage difference in the circuit operation plane of the first complementary circuit is the absolute value of the threshold voltage difference in the circuit operation plane of the second complementary circuit. An electro-optical device that is smaller than Von-off-d2 .
請求項7において、前記Nチャネル型電界効果型トランジスタでドレイン・ソース間に所定の一定電圧Vds-Nchを印加したときのドレイン・ソース間抵抗をチャネル幅で割った値が所定の値Ron-offとなるときのゲート電圧の最小値をVon-off-Nchとし、Pチャネル型電界効果型トランジスタでドレイン・ソース間に所定の一定電圧Vds-Pchを印加したときのドレイン・ソース間抵抗をチャネル幅で割った値が所定の値Ron-offとなるときのゲート電圧の最大値をVon-off-Pchとすることを特徴とする電気光学装置。   8. A value obtained by dividing a drain-source resistance by a channel width when a predetermined constant voltage Vds-Nch is applied between the drain and source in the N-channel field effect transistor according to claim 7 is a predetermined value Ron-off. The minimum value of the gate voltage is Von-off-Nch, and the drain-source resistance when the predetermined voltage Vds-Pch is applied between the drain and the source in the P-channel field effect transistor is the channel width. An electro-optical device, wherein a maximum value of a gate voltage when a value divided by a predetermined value Ron-off is Von-off-Pch. 請求項7または8において、前記第1の相補回路および前記第2の相補回路のうちの少なくとも一方の相補回路では、回路動作面でのしきい値電圧の差の絶対値Von-off-dが駆動電圧に対して0.25倍から1倍の範囲であることを特徴とする電気光学装置。   9. The absolute value Von-off-d of a difference in threshold voltage in terms of circuit operation is obtained in at least one complementary circuit of the first complementary circuit and the second complementary circuit according to claim 7 or 8. An electro-optical device having a range of 0.25 to 1 times the driving voltage. 請求項7または8において、前記第1の相補回路および前記第2の相補回路のうちの少なくとも一方の相補回路では、回路動作面でのしきい値電圧の差の絶対値Von-off-dが駆動電圧に対して0.5倍から1倍の範囲であることを特徴とする電気光学装置。   9. The absolute value Von-off-d of a difference in threshold voltage in terms of circuit operation is obtained in at least one complementary circuit of the first complementary circuit and the second complementary circuit according to claim 7 or 8. An electro-optical device having a range of 0.5 to 1 times the driving voltage. 請求項7ないし10のいずれかにおいて、前記第1の相補回路および前記第2の相補回路のうちの少なくとも一方の相補回路では、回路動作面でのしきい値電圧の差の絶対値Von-off-dが前記第1の相補回路および前記第2の相補回路の駆動電圧の最大値の半分以下であることを特徴とする電気光学装置。   11. The absolute value Von-off of a difference in threshold voltage in terms of circuit operation in at least one complementary circuit of the first complementary circuit and the second complementary circuit according to claim 7. An electro-optical device, wherein -d is equal to or less than half of the maximum value of the driving voltage of the first complementary circuit and the second complementary circuit. 請求項7ないし11のいずれかにおいて、前記所定の一定電圧Vds-Nchが1Vから20Vであり、かつ前記所定の一定電圧Vds-Pchが−1Vから−20Vであり、かつ前記所定の値Ron-offが1MΩ/μmから1GΩ/μmであることを特徴とする電気光学装置。   12. The predetermined constant voltage Vds-Nch is 1V to 20V, the predetermined constant voltage Vds-Pch is -1V to -20V, and the predetermined value Ron- An electro-optical device, wherein off is 1 MΩ / μm to 1 GΩ / μm. 請求項1ないし12のいずれかにおいて、前記第1の相補回路および前記第2の相補回路は、いずれも前記駆動回路に構成されていることを特徴とする電気光学装置。   13. The electro-optical device according to claim 1, wherein each of the first complementary circuit and the second complementary circuit is configured in the driving circuit. 請求項1ないし13のいずれかにおいて、前記第1の相補回路および前記第2の相補回路のうちの少なくとも一方の相補回路では、駆動電圧が他方の相補回路の駆動電圧の半分以下であることを特徴とする電気光学装置。   14. The drive voltage of at least one of the first complementary circuit and the second complementary circuit according to claim 1, wherein the drive voltage is not more than half of the drive voltage of the other complementary circuit. Electro-optical device characterized. 請求項1ないし14のいずれかにおいて、前記電界効果型トランジスタは、能動層が多結晶シリコンからなる薄膜トランジスタであることを特徴とする電気光学装置。   15. The electro-optical device according to claim 1, wherein the field effect transistor is a thin film transistor whose active layer is made of polycrystalline silicon. 請求項1ないし15のいずれかにおいて、前記第1の相補回路を構成する電界効果型トランジスタと、前記第2の相補回路を構成する電界効果型トランジスタとでは、ゲート絶縁膜の厚さが相違することを特徴とする電気光学装置。   16. The thickness of the gate insulating film is different between the field effect transistor constituting the first complementary circuit and the field effect transistor constituting the second complementary circuit according to claim 1. An electro-optical device. 請求項1ないし16のいずれかにおいて、前記第1の相補回路を構成する電界効果型トランジスタと、前記第2の相補回路を構成する電界効果型トランジスタとでは、ゲート絶縁膜の誘電率が相違することを特徴とする電気光学装置。   17. The dielectric constant of the gate insulating film according to claim 1, wherein the field effect transistor constituting the first complementary circuit and the field effect transistor constituting the second complementary circuit are different. An electro-optical device. 請求項1ないし17のいずれかにおいて、前記第1の相補回路を構成する電界効果型トランジスタと、前記第2の相補回路を構成する電界効果型トランジスタとでは、チャネル領域を形成する半導体層の膜厚が相違することを特徴とする電気光学装置。   18. The film of a semiconductor layer forming a channel region according to claim 1, wherein the field effect transistor that constitutes the first complementary circuit and the field effect transistor that constitutes the second complementary circuit. An electro-optical device having different thicknesses. 請求項1ないし18のいずれかにおいて、前記第1の相補回路を構成する電界効果型トランジスタと、前記第2の相補回路を構成する電界効果型トランジスタとでは、チャネル領域を形成する半導体層の欠陥準位平均密度が相違することを特徴とする電気光学装置。   19. The defect in a semiconductor layer that forms a channel region according to claim 1, wherein the field effect transistor that constitutes the first complementary circuit and the field effect transistor that constitutes the second complementary circuit. An electro-optical device having different level average densities. 請求項1ないし19のいずれかにおいて、前記第1の相補回路を構成する電界効果型トランジスタと、前記第2の相補回路を構成する電界効果型トランジスタとでは、チャネル領域を形成する半導体層の不純物濃度が相違することを特徴とする電気光学装置。   20. The impurity of a semiconductor layer forming a channel region according to claim 1, wherein the field effect transistor that constitutes the first complementary circuit and the field effect transistor that constitutes the second complementary circuit. An electro-optical device having different densities. 請求項1ないし20のいずれかにおいて、前記第1の相補回路を構成する電界効果型トランジスタと、前記第2の相補回路を構成する電界効果型トランジスタとでは、チャネル領域を形成する半導体層のダングリング・ボンド(dangling bond)終端水素濃度が相違することを特徴とする電気光学装置。   21. The dangling of a semiconductor layer forming a channel region according to claim 1, wherein the field effect transistor that constitutes the first complementary circuit and the field effect transistor that constitutes the second complementary circuit. Electro-optical device characterized in that the hydrogen concentration at the end of a dangling bond is different. 請求項15において、前記第1の相補回路を構成する電界効果型トランジスタと、前記第2の相補回路を構成する電界効果型トランジスタとでは、前記能動層を構成する多結晶シリコンのグレイン平均サイズが相違することを特徴とする電気光学装置。   16. The grain average size of polycrystalline silicon constituting the active layer of the field effect transistor constituting the first complementary circuit and the field effect transistor constituting the second complementary circuit according to claim 15. 1. An electro-optical device characterized by being different. 請求項1ないし22のいずれかにおいて、前記第1の相補回路を構成する電界効果型トランジスタと、前記第2の相補回路を構成する電界効果型トランジスタとでは、チャネル長が相違することを特徴とする電気光学装置。   23. The channel length according to claim 1, wherein the field effect transistor that constitutes the first complementary circuit and the field effect transistor that constitutes the second complementary circuit have different channel lengths. An electro-optical device. 請求項1ないし23のいずれかにおいて、前記電気光学物質は、前記電気光学装置用基板と対向基板との間に保持された液晶であることを特徴とする電気光学装置。   24. The electro-optical device according to claim 1, wherein the electro-optical material is a liquid crystal held between the electro-optical device substrate and a counter substrate. 請求項1ないし23のいずれかにおいて、前記電気光学物質は、前記電気光学装置用基板上で発光素子を構成する有機エレクトロルミネッセンス材料であることを特徴とする電気光学装置。   24. The electro-optical device according to claim 1, wherein the electro-optical material is an organic electroluminescent material that constitutes a light emitting element on the electro-optical device substrate. 請求項1ないし25のいずれかに規定する電気光学装置を用いたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus using the electro-optical device defined in any one of claims 1 to 25.
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