JP2005069721A - パターン検査方法及びその装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】ガラス基板の両端部のパターン検査の不感帯を無くしてガラス基板のパターン検査を行うこと。
【解決手段】規則的な被検査パターンを撮像して取得された原画像データ(ImgO)を一方向に所定画素数分だけずらした第1の画像データ(右ずらし画像データImgA)を生成する第1の工程と、原画像データImgOを一方向とは反対方向に所定画素数分だけずらした第2の画像データ(左ずらし画像データImgB)を生成する第2の工程と、原画像データ(ImgO)に対して第1の画像データと第2の画像データとの各比較を行い、これら比較結果から被検査パターンの検査結果を求める第3の工程とを有する。
【選択図】図4

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、規則的なパターンを隣接画素比較方式を用いて検査するパターン検査方法及びその装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
例えば液晶ディスプレイ等の規則的なパターンが描かれたガラス基板を検査するパターン検査アルゴリズムの一つとして隣接画素比較方式が特許文献1に記載されている。この隣接画素比較方式は、ガラス基板を撮像して取得した画像データの各画素のうちある画素(以下、中心画素と称する)とこの中心画素の両端に隣接する各画素(左右の各画素)との多数決演算を行ってガラス基板表面上の検査を行う。
【0003】
【特許文献1】
特開平10−253332号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記隣接画素比較方式は、ある中心画素とこの中心画素の両端に隣接する各画素との多数決演算を行うために、画像データ中においてガラス基板の端部を検査するときには、中心画素に対して左右いずれか側に隣接する画素が存在せず、多数決演算が不能になる。このため、ガラス基板の両端部においてパターン検査の不感帯が生じ、ガラス基板の端部に対するパターン検査ができない。
【0005】
そこで本発明は、ガラス基板の両端部のパターン検査の不感帯を無くしてガラス基板のパターン検査ができるパターン検査方法及びその装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明は、被検査パターンを撮像して取得された原画像データを一方向に所定画素数分だけずらした第1の画像データを生成し、原画像データを一方向とは反対方向に所定画素数分だけずらした第2の画像データを生成し、原画像データに対して第1の画像データと第2の画像データとの各比較を行い、これら比較結果から被検査パターンの検査結果を求めるパターン検査方法及びその装置である。
【0007】
本発明は、規則的な被検査パターンを撮像する撮像装置と、撮像装置から出力される画像信号を原画像データとして取り込む画像取込手段と、画像取込手段により取り込んだ原画像データを一方向に所定画素数分だけずらした第1の画像データを生成する第1の画像生成手段と、画像取込手段により取り込んだ原画像データを一方向とは反対方向に所定画素数分だけずらした第2の画像データを生成する第2の画像生成手段と、原画像データに対して第1の画像データと第2の画像データとの各比較を行い、これら比較結果から被検査パターンの検査結果を求めるパターン検査出力手段とを具備したパターン検査装置である。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態について図面を参照して説明する。
【0009】
図1はパターン検査装置の構成図である。ステージ1上には、パターンが規則的に形成された検査対象として例えば液晶ディスプレイのガラス基板2が載置されている。このガラス基板2の表面上には、規則的なパターンが形成されている。ステージ1は、ドライバ3の駆動によってX方向に移動する。
【0010】
ガラス基板2の斜め上方には、ライン照明装置4が設けられている。このライン照明装置4は、y方向に対して平行なライン照明光をガラス基板2に対して所定の入射角αで照射する。
【0011】
又、ライン撮像装置5がガラス基板2上におけるライン照明光の入射点において出射角αの方向に設けられている。このライン撮像装置5は、例えばラインセンサカメラ等である。このライン撮像装置5は、ライン照明光をガラス基板2上に照射したときのガラス基板2からの正反射光又は散乱光を撮像してその画像信号を1ライン毎に出力する。
【0012】
従って、ステージ1がX方向に移動してライン照明光をガラス基板2の全面上にスキャンさせれば、ライン撮像装置5から出力される1ライン毎の画像信号を合わせることによりガラス基板2全面の原画像データが取得される。なお、ステージ1とライン撮像装置5とは、相対的に移動し、ガラス基板2の検査領域全面をスキャンできる構成であれば良く、例えばステージ1を固定してライン撮像装置5をX方向に移動させること可能である。
【0013】
図2はガラス基板2の全面の摸式図で、ガラス基板2の面上に規則的なパターンが形成された2つのパターン検査領域Q、Qを有する。
【0014】
これらパターン検査領域Q、Qの各E、Eは、ライン撮像装置5から出力される原画像データImgOの両端部の画像領域である。なお、これらパターン検査領域Q、Qの座標は、ガラス基板2に形成されたオリエンテーションフラットWの座標を基準にして求められる。
【0015】
ガラス基板2の全面に対する原画像データImgOを取得する場合、ライン照明装置4及びライン撮像装置5のy方向の各ライン幅がガラス基板2上のパターン検査領域幅よりも広ければ、ライン照明装置4及びライン撮像装置5を1組設ければよい。
【0016】
これに対してライン照明装置4のライン照明幅(Y方向)及びライン撮像装置5のライン撮像幅(Y方向)がガラス基板2のパターン検査領域幅よりも狭ければ、ライン照明装置4及びライン撮像装置5を複数組み並設したり、又は1組のライン照明装置4及びライン撮像装置5を用いて例えばステージ1をX方向に移動させ、ライン照明装置4及びライン撮像装置5をライン幅だけY方向移動させることによりガラス基板2全面をスキャンするようにしてもよい。
【0017】
画像処理ユニット6は、ライン撮像装置5から出力された画像信号を1ライン毎に取り込んで原画像データImgOとして保存し、この1ラインの原画像データImgOに対して画素の右ずらし処理、左ずらし処理を行ってガラス基板2上のパターン検査を行う。この画像処理ユニット6は、以下の機能を有する。
【0018】
画像取込部7は、ライン撮像装置5から出力される画像信号を1ライン毎に取り込んで原画像データImgOとして画像取込部7内の画像メモリに保存する。
【0019】
第1の画像生成部8は、ライン撮像装置5で取得された1ラインの原画像データImgOをライン方向(Y方向)に沿って右方向に所定画素数、例えば1画素分ずらした図3に示すような第1の画像データ(以下、右ずらし画像データと称する)ImgAを生成する。
【0020】
第2の画像生成部9は、原画像データImgOをライン方向(Y方向)に沿って左方向に所定画素数、例えば1画素分ずらした図3に示すような第2の画像データ(以下、左ずらし画像データと称する)ImgBを生成する。
【0021】
これら第1及び第2の画像生成部8、9は、原画像データImgOが各パターン検査領域Q、Qの一方の端部E又はEだけを含んで撮像したものであれば、当該一方の端部E又はEに対して画素ずらし処理を行い、原画像データImgOが各パターン検査領域Q、Qの両端部E、Eを含んで撮像したものであれば、当該両端部E、Eに対して画素ずらし処理を行う。
【0022】
第1及び第2の差画像生成部10、11と検査結果出力部12とは、パターン検査出力手段を構成する。第1の差画像生成部10は、画像メモリに保存されている原画像データImgOと第1の画像生成部8により生成された右ずらし画像データImgAとの差である第1の差画像データAを求める。
【0023】
第2の差画像生成部11は、画像メモリに保存されている原画像データImgOと第2の画像生成部9により生成された左ずらし画像データImgBとの差である第2の差画像データBを求める。
【0024】
検査結果出力部12は、第1の差画像生成部10により求められた第1の差画像データAと第2の差画像生成部11により求められた第2の差画像データBとの多数列演算、すなわち論理積A・Bを行ってガラス基板2表面上のパターンの検査結果を求める。
【0025】
中間部パターン検査部13は、各パターン検査領域Q、Qの両端部E、Eの1画素以外のパターン検査領域Q、Q内において周知の隣接画素比較方式である原画像データImgOのある中心画素とこの中心画素の左右に隣接する各画素との多数決演算を行ってガラス基板2の表面上のパターン検査を行う。
【0026】
主制御部14は、ドライバ3に対して駆動制御指令を送出してステージ1をX方向に移動制御し、かつ画像処理ユニット6に対して画像処理指令を送出してガラス基板2上のパターン検査を実行させる。
【0027】
次に、上記の如く構成された装置の動作について図4に示すパターン検査フローチャートに従って説明する。
【0028】
ガラス基板2がステージ1上に載置されると、このステージ1は、ドライバ3の駆動によってX方向に移動する。この状態でライン照明装置4からライン照明光が出射されると、このライン照明光は、X方向に移動中のガラス基板2に対して所定の入射角αで照射する。これと共にライン撮像装置5は、ライン照明光を照射されたときのガラス基板2からの正反射光又は散乱光を撮像してその画像信号を1ライン毎に出力する。
【0029】
画像処理ユニット6の画像取込部7は、ステップ#1において、ライン撮像装置5から出力された画像信号を1ライン毎に取り込んで原画像データImgOとして画像メモリに保存する。
【0030】
第1の画像生成部8は、ステップ#2において、画像メモリから原画像データImgOを読み出し、この原画像データImgOをライン撮像装置5のライン方向(y方向)に沿って右方向に例えば1画素分ずらして右ずらし画像データImgAを生成する。
【0031】
具体的に図2に示すパターン検査領域Qの一端部E側のF部分の拡大した図5を参照して説明する。F部分においてPは1画素を示す。第1の画像生成部8は、原画像データImgOに対してy方向に1ライン毎にスキャンすると、図3に示すような輝度レベルの原画像データImgOを得る。
【0032】
この原画像データImgOの輝度レベルは、ガラス基板2面上の規則的なパターンにより周期的にハイレベルが現れる。ところが、ガラス基板2面上に図5に示すように欠陥部Gがあると、この欠陥部Gに対応した部分の原画像データImgO上に不規則な信号Hが現れる。この不規則な信号Hは、欠陥部Gの種類の輝度に応じてハイレベル又はローレベルになる。図5に示す欠陥部Gはローレベルである。
【0033】
第1の画像生成部8は、原画像データImgOの各画素を図3に示すようにライン撮像装置5のライン方向に沿って右方向に例えば1画素分ずらし、その右ずらし画像データImgAを生成する。
【0034】
以上のステップ#2と同時に、第2の画像生成部9は、ステップ#3において、原画像データImgOの各画素を図3に示すようにライン撮像装置5のライン方向に沿って左方向に例えば1画素分ずらし、その左ずらし画像データImgBを生成する。
【0035】
なお、図6に示すように原画像データImgOを論理記号により表わせば、「0,1,0,0,0,…」になり、右ずらし画像データImgAを論理記号により表わせば、「0,0,1,0,0,…」になり、左ずらし画像データImgBを論理記号により表わせば、「1,0,0,0,0,…」になる。
【0036】
ところで、原画像データImgOがパターン検査領域Qの両端部E、Eを含んで撮像したものであれば、第1及び第2の画像生成部8、9は、それぞれ両端部E、Eに対して各画素ずらし処理を行う。
【0037】
従って、画像処理ユニット6は、両端部E、Eを含んだ原画像データImgOを取得した場合、原画像データImgOと、端部Eにおける右ずらし画像データImgA及び左ずらし画像データImgBと、端部Eにおける右ずらし画像データImgA及び左ずらし画像データImgBとの5つの画像データを取得する。
【0038】
これにより、原画像データImgOの両端部E、Eにおいても、これら端部E、Eの各1画素に対して多数決演算可能な各3つの画素が取得される。
【0039】
次に、第1の差画像生成部10は、ステップ#4において、原画像データImgOと右ずらし画像データImgAとを比較し、原画像データImgOと右ずらし画像データImgAとの差ImgO−ImgAである第1の差画像データAを求める。この第1の差画像データAは、論理記号により表わすと、図6に示すように「0,1,−1,0,0,…」になる。
【0040】
以上のステップ#4と同時に、第2の差画像生成部11は、ステップ#5において、原画像データImgOと左ずらし画像データImgBとを比較し、原画像データImgOと左ずらし画像データImgBとの差ImgO−ImgBである第2の差画像データBを求める。この第2の差画像データBは、論理記号により表わすと、「−1,1,0,0,0,…」になる。
【0041】
次に、検査結果出力部12は、ステップ#6において、第1の差画像生成部10により求められた第1の差画像データAと第2の差画像生成部11により求められた第2の差画像データBとの論理積A・Bを求める。この論理積A・Bは、図6に示すように「0,1,0,0,0,…」になる。
【0042】
従って、検査結果出力部12は、ステップ#7において、論理積A・Bの結果から「1」に対応するガラス基板2の表面上の欠陥部Gが存在することを報知出力する。
【0043】
又、中間部パターン検査部13は、各パターン検査領域Q、Qの両端部E、Eの1画素以外のパターン検査領域Q、Q内において、原画像データImgOのある中心画素とこの中心画素の左右に隣接する各画素との多数決演算を行ってガラス基板2の表面上のパターン検査を行う。
【0044】
このように上記一実施の形態によれば、原画像データImgOと、この原画像データImgOの右ずらし画像データImgAと、左ずらし画像データImgBとの3つの画素を取得して多数決演算を行ってガラス基板2面上のパターン検査を行うので、原画像データImgOにおける各パターン検査領域Q、Qの両端部E、Eにおいても、多数決演算に必要な3つの画素を取得することができ、これら両端部E、Eでのパターン検査の不感帯が無くなり、各パターン検査領域Q、Qの全面に亘ってパターン検査ができる。従って、各パターン検査領域Q、Qの両端部E、Eに欠陥部Gが存在しても、この欠陥部Gを確実に検出できる。
【0045】
又、原画像データImgOの右ずらし画像データImgAを生成して第1の差画像データAを取得する処理と、左ずらし画像データImgBを生成して第2の差画像データBを取得する処理とを同時に行うので、各パターン検査領域Q、Qの全面のパターン検査の時間を高速化できる。このパターン検査の高速化により大型化が進んでいるガラス基板2のパターン検査時間を短縮できる。
【0046】
原画像データImgO上に現れる欠陥部Gに対応する不規則な信号Hはローレベルとして説明したが、欠陥部Gの種類に応じてハイレベルであっても、上記同様に多数決演算を行うことにより欠陥部Gを検出できる。
【0047】
パターン検査は、各パターン検査領域Q、Qに限らず、これら各パターン検査領域Q、Q内に任意のサイズの小検査領域を設定すれば、この小検査領域の両端部に不感帯を生ぜずに、小検査領域内全面のパターン検査ができる。
【0048】
原画像データImgOの右ずらし画像データImgAと左ずらし画像データImgBとを取得して多数決演算によりパターン検査を行うのは、各パターン検査領域Q、Qの両端部E、Eの1画素に対してのみでよく、これら両端部E、E以外のパターン検査領域Q、Q内では、周知の隣接画素比較方式である原画像データImgOのある中心画素とこの中心画素の左右に隣接する各画素との多数決演算を行ってガラス基板2の表面上のパターン検査を行えば、パターン検査をさらに高速化できる。
【0049】
本発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。
【0050】
例えば、第1と第2の画像生成手段8、9は、それぞれ原画像データの両端部においてそれぞれ原画像データを1画素分だけずらしているが、画素ずらし数は、1画素以上ずらしてもよい。
【0051】
又、パターン検査する対象は、液晶ディスプレイのガラス基板2に限らず、規則的なパターンの形成された半導体ウエハやプラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイのガラス基板の検査にも適用できる。
【0052】
又、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
【0053】
【発明の効果】
以上詳記したように本発明によれば、ガラス基板の両端部のパターン検査の不感帯を無くしてガラス基板のパターン検査ができるパターン検査方法及びその装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わるパターン検査装置の一実施の形態を示す構成図。
【図2】同装置により取得されるガラス基板全面の原画像データの摸式図。
【図3】同装置による原画像データの右及び左方向へのずらし処理を示す図。
【図4】同装置におけるパターン検査フローチャート。
【図5】同装置により取得されるパターン検査領域の一端部側の拡大図。
【図6】同装置による多数決演算を示す図。
【符号の説明】
1:ステージ、2:ガラス基板、3:ドライバ、4:ライン照明装置、5:ライン撮像装置、6:画像処理ユニット、7:画像取込部、8:第1の画像生成部、9:第2の画像生成部、10:第1の差画像生成部、11:第2の差画像生成部、12:検査結果出力部、13:中間部バターン検査部、14:主制御部。

Claims (12)

  1. 規則的な被検査パターンを撮像して取得された原画像データを一方向に所定画素数分だけずらした第1の画像データを生成する第1の工程と、
    前記原画像データを前記一方向とは反対方向に所定画素数分だけずらした第2の画像データを生成する第2の工程と、
    前記原画像データに対して前記第1の画像データと前記第2の画像データとの各比較を行い、これら比較結果から前記被検査パターンの検査結果を求める第3の工程と、
    を有することを特徴とするパターン検査方法。
  2. 前記原画像データの端部をパターン検査するときに前記第1乃至前記第3の工程を行うことを特徴とする請求項1記載のパターン検査方法。
  3. 前記第1の工程は、前記原画像データの両端部においてそれぞれ原画像データを一方向に所定画素数分だけずらすと同時に、前記第2の工程は、反対方向に所定画素数分だけずらすことを特徴とする請求項1記載のパターン検査方法。
  4. 前記第1と前記第2の工程は、それぞれ前記原画像データを1画素数分だけ画素ずらし処理することを特徴とする請求項1記載のパターン検査方法。
  5. 前記第3の工程は、前記原画像データと前記第1の画像データとの差である第1の差画像データを求める工程と、
    前記原画像データと前記第2の画像データとの差である第2の差画像データを求める工程と、
    前記第1の差画像データと前記第2の差画像データとの論理積から前記被検査パターンの検査結果を求める工程と、
    を有することを特徴とする請求項1記載のパターン検査方法。
  6. 前記原画像データの端部以外をパターン検査するときに、前記原画像データのある中心画素とこの中心画素の左右に隣接する各画素との多数決演算を行うことを特徴とする請求項1記載のパターン検査方法。
  7. 規則的な被検査パターンを撮像する撮像装置と、
    前記撮像装置から出力される画像信号を原画像データとして取り込む画像取込手段と、
    前記画像取込手段により取り込んだ前記原画像データを一方向に所定画素数分だけずらした第1の画像データを生成する第1の画像生成手段と、
    前記画像取込手段により取り込んだ前記原画像データを前記一方向とは反対方向に所定画素数分だけずらした第2の画像データを生成する第2の画像生成手段と、
    前記原画像データに対して前記第1の画像データと前記第2の画像データとの各比較を行い、これら比較結果から前記被検査パターンの検査結果を求めるパターン検査出力手段と、
    を具備したことを特徴とするパターン検査装置。
  8. 前記第1と第2の画像生成手段は、それぞれ前記原画像データの端部をパターン検査するときに前記原画像データの画素ずらし処理を行うことを特徴とする請求項7記載のパターン検査装置。
  9. 前記第1の画像生成手段は、前記原画像データの両端部において原画像データを一方向に所定画素数分だけずらすと同時に、前記第2の画像生成手段は、前記一方向とは反対方向に原画像データを所定画素数分だけずらすことを特徴とする請求項7記載のパターン検査装置。
  10. 前記第1と第2の画像生成手段は、それぞれ1画素数分だけ前記原画像データに対する画素ずらし処理を行うことを特徴とする請求項7記載のパターン検査装置。
  11. 前記パターン検査出力手段は、前記原画像データと前記第1の画像データとの差である第1の差画像データを求める第1の差画像生成手段と、
    前記原画像データと前記第2の画像データとの差である第2の差画像データを求める第2の差画像生成手段と、
    前記第1の差画像データと前記第2の差画像データとの論理積から前記被検査パターンの検査結果を求める検査結果出力手段と、
    を有することを特徴とする請求項7記載のパターン検査装置。
  12. 前記原画像データの端部以外をパターン検査するときに、前記原画像データのある中心画素とこの中心画素の左右に隣接する各画素との多数決演算を行う中間部パターン検査手段、
    を備えたことを特徴とする請求項7記載のパターン検査装置。
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