JP2005068352A - ナノ薄膜蛍光体及びその合成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】酸化イットリウムにランタノイド元素が付活された蛍光体からなり、その膜厚が1μm以下である。この蛍光体は、3kV以下の低加速電圧で発光することができ、導電性を持たないものであっても良い。RFスパッタリング法又はEB蒸着法により得られたランタノイド元素付活酸化イットリウム前駆体を500〜1000℃の温度で大気焼成して得ることができる。
【選択図】 図2
Description
上記前駆体は、母材としての酸化イットリウムを含む酸化物と付活剤としてのランタノイド酸化物とを用い、RFスパッタリング法又はEB蒸着法により合成されることを特徴とする。
本発明のナノ薄膜蛍光体は、母材としての酸化イットリウムにユウロピウム等のランタノイド元素が付活されたものであり、この添加量は、一般に約1wt%〜約12wt%程度、好ましくは7.5wt%である。この範囲内の添加量を有する蛍光体であれば電子線による所望の発光を示し、特に添加量7.5wt%の蛍光体が高い発光輝度を示す。
以下にY2O3:Euナノ薄膜蛍光体の合成工程を示す。まず、酸化イットリウムのスパッタターゲット(φ100mm)上に酸化ユウロピウムターゲット(φ10mm)を乗せ、同時にRFスパッタ成膜を行って、前駆体を得た。その時の各ターゲットの配置状態の一例を模式的に図1に示す。本実施例では、ユウロピウムは7.5wt%付活されている。次いで、この前駆体を電気炉に入れ、大気中500℃で焼成した。500℃まで30分で上昇させ、そのまま60分間保持した。その後、自然放冷で室温まで下げ、焼成された前駆体を取り出した。上記の方法で得られたY2O3:Euナノ薄膜蛍光体(膜厚約100nm)に3kVまでの電子線を照射した時に得られる加速電圧(kV)と輝度(cd/m2)との関係を図2に示す。図2から、加速電圧3kVでは20cd/m2を上回った輝度を得ることができ、さらに低い加速電圧でも所望の輝度を得ることができることが分かる。また、その時の発光スペクトルを図3に示す。図3から、611nmに赤色発光を示すピークが観察できる。
以下にY2O3:Euナノ薄膜蛍光体の合成工程を示す。まず、酸化イットリウムのEBターゲットを第1の坩堝に入れ、第1のEB電源を用いて、また、酸化ユウロピウムターゲットを第2の坩堝に入れ、第2のEB電源を用いて、同時に蒸着操作を行って、前駆体を得た。次いで、この前駆体を電気炉に入れ、大気中500℃で焼成した。500℃まで30分で上昇させ、そのまま60分間保持した。その後、自然放冷で室温まで下げ、焼成された前駆体を取り出した。上記の方法で得られたY2O3:Euナノ薄膜蛍光体(膜厚約100nm)に3kVまでの電子線を照射した時、実施例1のRFスパッタリング法で得られたナノ薄膜蛍光体と同等の発光スペクトルを示した。
Claims (9)
- 母材としての酸化イットリウムにランタノイド元素が付活された蛍光体からなり、その膜厚が1μm以下であることを特徴とするナノ薄膜蛍光体。
- 上記ランタノイド元素が、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、及びルテチウムから選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする請求項1記載のナノ薄膜蛍光体。
- 上記ナノ薄膜蛍光体が、3kV以下の低加速電圧で発光することができるものであることを特徴とする請求項1又は2記載のナノ薄膜蛍光体。
- 上記ナノ薄膜蛍光体が、導電性を持たないものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のナノ薄膜蛍光体。
- 母材としての酸化イットリウムにランタノイド元素が付活された前駆体を500〜1000℃の温度で大気焼成してナノ薄膜蛍光体を得ることを特徴とするナノ薄膜蛍光体の合成方法。
- 上記前駆体を、母材としての酸化イットリウムを含む酸化物と付活剤としてのランタノイド酸化物とを用い、RFスパッタリング法又はEB蒸着法により合成することを特徴とする請求項5記載のナノ薄膜蛍光体の合成方法。
- 上記ランタノイド元素が、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、及びルテチウムから選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする請求項5又は6記載のナノ薄膜蛍光体の合成方法。
- 上記合成方法で得られたナノ薄膜蛍光体が、3kV以下の低加速電圧で発光することができるものであることを特徴とする請求項5〜7のいずれかに記載のナノ薄膜蛍光体の合成方法。
- 上記合成方法で得られたナノ薄膜蛍光体が、導電性を持たないものであることを特徴とする請求項5〜8のいずれかに記載のナノ薄膜蛍光体の合成方法。
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JP2003302962A JP2005068352A (ja) | 2003-08-27 | 2003-08-27 | ナノ薄膜蛍光体及びその合成方法 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006348100A (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Ulvac Japan Ltd | 導電性蛍光体薄膜及びその形成方法、並びに薄膜蛍光体基板及びその作製方法 |
JP2009132932A (ja) * | 2008-12-24 | 2009-06-18 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 結晶化金属酸化物薄膜を備えた蛍光体 |
US7771531B2 (en) | 2006-08-11 | 2010-08-10 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Manufacturing method and usage of crystallized metal oxide thin film |
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2003
- 2003-08-27 JP JP2003302962A patent/JP2005068352A/ja active Pending
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