【０００１】
【発明の所属する技術分野】
本発明はディスプレイ装置等から発生する電磁波を遮蔽する透明電磁波シールドに関する。また、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）等の表示装置から発生する電磁波を効率良く低減させることのできるディスプレイ用フィルタに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年の社会情勢にみられる高度情報化に伴い、マン−マシンインタフェイスの役割を担う表示装置の重要性が高まっている。その中でテレビジョン用、パーソナルコンピュータ用、駅や空港などの案内表示用その他各種の情報提供用に用いられる大画面表示装置には高画質化、高効率化、薄型化が要求される。
【０００３】
しかしながら、表示装置にはその原理上、強度の漏洩電磁界を発生するという問題点を有している。漏洩電磁界は他の電気電子機器等の誤作動、通信障害などを引き起こし、最近では人体に対する影響も懸念されている。ＰＤＰ装置には、更にそのプラズマ中の励起原子から発生する近赤外線光がコードレスフォン、リモコン等の電子機器の誤作動を招く問題を指摘する声がある。
【０００４】
そのため、一般的に表示装置の光源または表示面前面、とくにＰＤＰには、漏洩電磁界および近赤外光をシールドするためのフィルタが用いられている。一般的なディスプレイ用電磁波シールドフィルタの構成は、支持板であるガラス板の片面に電磁波シールド層を形成し、支持板の他の片面および電磁波シールド層に反射防止フィルムを貼合したものや、電磁場シールド層を形成した透明フィルムをガラス板に貼り合わせ、さらにフィルムを反射防止フィルムをガラス板と電磁波シールド層に貼合したものが挙げられる。
【０００５】
表示装置用電磁波フィルタの近赤外線および電磁界のシールド材料としては現在のところ大きく分けて▲１▼導電性物質の蒸着等によって得られる透明導電性薄膜と必要に応じて近赤外線を吸収する色素とを組み合わせたもの、▲２▼金属メッシュまたは、合成樹脂または金属繊維のメッシュに金属を被覆したものと近赤外線を吸収する色素とを組み合わせたものがある。
【０００６】
▲１▼の透明導電性薄膜を基体上に形成した例としては特開平１０−７３７１９号公報（特許文献１）などに記載された、透明高分子フィルムの一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層（ａ）、金属薄膜層（ｂ）が順次、（ａ）／（ｂ）を繰り返し単位として４回以上繰り返し積層され、さらにその上に高屈折率透明薄膜層（Ｂ）、透明樹脂層が形成された調光フィルムが貼り合わされた電磁波遮蔽フィルタが挙げられる。▲２▼の例としては特開平９−３３０６６７号公報（特許文献２）に開示のある透明樹脂板上に導電性ペーストをメッシュ状に塗布乾燥させて作成した電磁波遮蔽フィルタがある。
【０００７】
これらの表示装置用電磁波遮蔽フィルタを用いると効率良く表示装置から発生する電磁波、および近赤外線をシールドすることが可能となる。ただし、前記▲１▼および▲２▼のシールド材料を表示装置本体の金属性フレームや筐体、筐体内面の金属、樹脂めっき面などの表示装置自体のグラウンド電位またはアースに電気的に接地する必要がある。接地の方法は、前記▲１▼および▲２▼のシールド材料の導電面、端面および周縁部に金属等の良導電物質で被覆した電極を隙間無く形成することが一般的であった。つまり、電極は表示装置の周縁部に一様な額縁状に形成され、電極からアースを取ることが最も効率良く電磁波遮蔽されると考えられ、すでに市場に出ている製品もそのような形態をとっている。
【０００８】
一方、ＰＤＰ等の表示装置の高性能化に伴う漏洩電磁波量の増加や、電磁波漏洩の許容基準が今後厳しくなる方向にあるとされることから、ディスプレイ用フィルタにはより高い性能が求められている。しかし、透明導電層の低抵抗化による電磁波遮断性能の向上を図ると、フィルタの光線透過率が低下するという問題があり、透明導電層の改良による電磁波遮断性能の向上には制限があるのが現状である。
【０００９】
【特許文献１】特開平１０−７３７１９号公報
【特許文献２】特開平９−３３０６６７号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
従って本発明の課題は、より高い電磁波遮断性能をを有する透明電磁波シールドおよびディスプレイ用フィルタを提供することにある。特に、透明導電層の性能向上とは異なる手法で電磁波遮断性能を向上させ、ディスプレイ装置等からの電磁波漏洩をより一層低減させることの出来る電磁波シールドおよびディスプレイ用フィルタを提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために本発明者等は鋭意検討を重ねた結果、電極に周囲に比して幅の狭い部分を設けること、極端には電極が形成されない部分を設けることにより、驚くべきことに電磁波遮断性能が向上することを見出し本発明を完成するに至った。すなわち本発明は、
（１） 少なくとも
透明基体（Ａ）と透明導電層（Ｂ）とからなる積層構造（Ｉ）と、
透明基体（Ａ）と透明導電層（Ｂ）と電極（Ｃ）とがＡ／Ｂ／Ｃの順に積層された構造（ＩＩ）とからなり、構造（ＩＩ）が周縁部に形成され、且つ、
構造（ＩＩ）の幅の最小値が、その最大値の１０％以下であることを特徴とする透明電磁波シールドであり、
（２）構造（ＩＩ）が、不連続に形成された事を特徴とする透明電磁波シールドであり、
（３）構造（ＩＩ）の輪郭が凹凸形状であることを特徴とする透明電磁波シールドであり、
（４）構造（ＩＩ）の輪郭が格子形状であることを特徴とする透明電磁波シールドであり、
（５）透明導電層（Ｂ）が、金属酸化物または金属硫化物からなる高屈折率透明薄膜層（ａ）と少なくとも銀を含む金属薄膜層（ｂ）とからなる３〜１１層の積層構造を有し、両最外層が高屈折率透明薄膜層（ａ）であることを特徴とする透明電磁波シールドであり、
（６）透明導電層（Ｂ）が、導電メッシュ層であることを特徴とする透明電磁波シールドであり、
（７）上記の透明電磁波シールドを用いたディスプレイ用フィルタ
である。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明の透明電磁波シールドは、透明基体（Ａ）と、透明導電層（Ｂ）とからなる積層構造（Ｉ）と、透明基体（Ａ）と透明導電層（Ｂ）と電極（Ｃ）とがＡ／Ｂ／Ｃの順に積層された構造（ＩＩ）とからなり、構造（ＩＩ）が周縁部に形成され且つ構造（ＩＩ）が特殊な形状を有している事を特徴とする。
【００１３】
本発明に用いる透明基体（Ａ）としては透明プラスチックフィルムやガラス、透明プラスチック板を挙げることが出来る。透明プラスチックフィルムとしては透明であれば特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリアリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレン、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリイミド等の樹脂からなるプラスチックフィルムが挙げられる。上記の樹脂は、透明であれば、他のコモノマーを用いた共重合体であっても勿論構わない。
【００１４】
また、透明プラスチックフィルムの厚みには特に規定を設けないが、ハンドリング性の観点から２５〜２５０μｍが好ましく、更に好ましくは３０〜２００μｍである。
【００１５】
透明基体（Ａ）として使用されるガラス板は、熱による変形等の少ない熱的安定性等の特性を有することが使用される理由である。一方、衝撃に弱いと言う欠点を有するので、化学強化加工または風冷強化加工を行った半強化ガラス板または強化ガラス板を用いることが好ましい。重量を考慮すると、その厚みは１〜４ｍｍ程度である事が好ましいが、特に限定されない。
【００１６】
透明基体（Ａ）として使用される透明プラスチック板は、機械的強度や、軽さ、割れにくさから好ましく使用される。プラスチック板の具体例を挙げると、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）をはじめとするアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、透明ＡＢＳ樹脂等が使用できるが、これらの樹脂に限定されるものではない。特にＰＭＭＡはその広い波長領域での高透明性と機械的強度の高さから好適に使用できる。プラスチック板の厚みは十分な機械的強度と、たわまずに平面性を維持する剛性が得られればよく、特に限定されるものではないが、通常１ｍｍ〜１０ｍｍ程度である。また透明プラスチックフィルムと同様、透明性を損なわない範囲で色素などによる着色を行っても良い。
【００１７】
本発明の透明基体（Ａ）は、上記の材料を組み合わせて用いることもできる。例えば、後述する透明導電層を形成した透明プラスチックフィルムをガラスやプラスチック板に貼合する形態が挙げられる。この場合、透明基体（Ａ）は、ガラス板と透明プラスチックフィルムの積層体と言うことになる。
【００１８】
本発明の透明基体（Ａ）は必要な各種公知の前処理を行うことが出来る。例えば、後述する透明導電層（Ｂ）との密着性を向上させることを目的とした水性ポリウレタン系、シリコン系コート剤等の下地層を形成やコロナ処理、周縁部となる部分に黒色等の有色の額縁印刷を施すこと等が挙げられる。
【００１９】
透明基体（Ａ）の全光線透過率は、７０％以上であることが好ましく、７５％以上であることが更に好ましく、特に８０％以上であることが好ましい。全光線透過率の上限値は当然１００％である。しかし、一般的にはフィルム表面での反射等により光線透過率が低下することが多いので、全光線透過率は９２％以下でも実質上充分な透明性を有している。
【００２０】
本発明の透明導電層（Ｂ）は公知の透明導電層を制限無く用いることが出来る。好ましい面抵抗値は、０．５〜８Ω／□であり、更には０．７〜４Ω／□であることが好ましい。このような透明導電層（Ｂ）としては高屈折率透明薄膜層（ａ）と少なくとも銀を含む金属薄膜層（ｂ）とからなる３〜１１層の積層構造を有し、両最外層が高屈折率透明薄膜層（ａ）である透明導電性薄膜層が挙げられる。具体的には、特開平９−１３２３４３号公報や特開平１１−１０７５９３号公報等に記載のものを用いることが出来る。その他の透明導電層（Ｂ）としては、導電メッシュ層を例示することが出来、具体的には特開２００２−３２３８６１号公報等に記載の物を用いることが出来る。上記の透明導電層（Ｂ）は、透明基体（Ａ）上に形成されることが望ましい。特に透明プラスチックフィルムを用いると、ロールトゥーロールプロセスを採用できるので、透明導電層（Ｂ）を高い生産性で形成することが出来る。また、透明導電層（Ｂ）を形成したプラスチックフィルムを前述のガラスやプラスチック板に貼合しても良い。
【００２１】
本発明の電極（Ｃ）は、電磁波を吸収した上記の透明導電層（Ｂ）が誘起する電荷をアースして効率よく逃がすのに必要な構成要素である。このため電極を構成する成分としては、導電性が高いものが好ましい。具体的には、透明導電層（Ｂ）との密着性等の点から、銀、金、銅、白金、ニッケル、アルミニウム、クロム、鉄、亜鉛、カーボン等の単体もしくは２種以上からなる合金や、これら単体または合金の混合物と合成樹脂とからなるペーストや、これら単体または合金の混合物とホウケイ酸ガラスからなるペースト等が好ましく使用できる。特に好ましいのは銀を用いたペーストである。この際、電極の作成には、例えば印刷等の公知の技術を利用して様々な形状の物を作成することが出来る。
【００２２】
その他には導電性を有する粘着材を付した導電性テープ、具体的には銅テープ等も好ましく用いることが出来る。また、上記の導電性材料をめっき法、真空蒸着法、スパッタ法などで形成した電極も好適である。金属を含む電極の厚さは特に限定されるものではないが、一般的には数μ〜数ｍｍ程度である。また、当然ながら、上記の導電性ペーストや導電性テープ等を組み合わせて用いても良い。
【００２３】
本発明の透明電磁波シールドは、透明基体（Ａ）と透明導電層（Ｂ）とからなる積層構造（Ｉ）と、透明基体（Ａ）と透明導電層（Ｂ）と電極（Ｃ）とがＡ／Ｂ／Ｃの順に積層された構造（ＩＩ）とからなる。且つ、構造（ＩＩ）が周縁部に形成され、構造（ＩＩ）の幅の最小値が、その最大値の１０％以下であることを特徴とする。すなわち、電極の幅が一様でない事を特徴としている。
【００２４】
従来の電極（Ｃ）の形状は、例えば図１の様に透明支持板１０の上に透明導電積層膜または金属メッシュなどの透明導電層２０が形成され、その周縁部の透明導電層２０の表面、または端面を覆うように電極３０が連続的に形成されている。
【００２５】
これに対し本発明においては、電極の幅が一様でなく電極幅が細くなった部分を有する。図２がその例であり、透明支持板１０の上に透明導電積層膜または金属メッシュなどの導電膜２０が形成され、かつ導電膜２０の表面、または端面を覆うように電極３０が形成されるが、１個所以上に電極幅が狭くなる部位を有しているこの狭電極幅部位の位置、個数、形状などは特に限定されるものではなく、表示装置の種類、機構、形状によって異なる。
【００２６】
上記の様な条件を満たす他の電極形状としては、電極（Ｃ）の輪郭が、凹凸形状を有するものが挙げられる、例えば図６に示すような、ジグザグ状の凹凸形状を有する電極３１や、図７に示したような凹凸形状を有する電極３２を有する物が挙げられる。上記の様な電極の輪郭における凹凸形状、パターンなどは特に限定されるものではなく、表示装置の種類、機構、形状によって適宜選択することが出来る。また、電極（Ｃ）の輪郭が、格子形状を有するものが挙げられる、例えば図８に示すような形状を有する電極３３を有する物が挙げられる。
【００２７】
上記の狭電極部位を有する最も極端な例が、構造（ＩＩ）が不連続に形成された形状を有するものである。換言すると周縁部に電極が形成されない部位が存在する形状である。従来、電極が形成されない部位が存在すると、この電極非形成部位が電磁波漏洩口になる可能性があり、電極（Ｃ）は周縁部を覆うように連続的に形成するのが常識であった。しかしながら、驚くべきことに電極非形成部位を設ける、すなわち電極に間隙を設けることで電磁波遮断能が向上することを本発明者らは見出した。具体的な形状としては、図３〜図５に示すように周縁部に沿って形成された電極３０の１個所以上に間隙が形成されている形状を例示できる。間隙の位置、個数、長さ、形状などは特に限定されるものではなく、表示装置の種類、機構、形状によって適宜選択することが出来る。
【００２８】
本発明の透明電磁波シールドは、上記の様な特定の構造（ＩＩ）、すなわち特定の形状の電極（Ｃ）を有しているので、電磁波遮断性に優れている。本発明の透明電磁波シールドは優れた電磁波遮断能を有する。その原因としては以下のようなことが推測される。すなわち、従来の周縁部に連続的に形成された電極、つまり、閉じた形状の電極内に電荷が局在し、高周波電流の流れるループアンテナのような働きをする事が考えられる。この場合、透明電磁波シールドが共振する特定の周波数または周波数帯を中心にして電磁波を再放射するため、従来のディスプレイ用フィルタの電磁波遮断能には限界があったと推測される。
【００２９】
本発明の電極形状を有する透明電磁波シールドは、狭幅の電極部位を設けたり、電極が不連続となる形状を有するので、上記の高周波電流の一部を熱変換したり、高周波電流そのものを低減することにより電磁波遮断能を高めることが出来ると考えられる。
【００３０】
本発明の透明電磁波シールドは、その目的の範囲内において、他の層を有していても良い。具体的には、特開平９−１３２３４３号公報、特開平１１−１０７５９３号公報、特開２００２−３２３８６１号公報等に記載されている反射防止層、防眩層、防汚層、紫外線吸収層、ハードコート層、調色層などの機能性透明層を例示することが出来る。
【００３１】
本発明の透明電磁波シールドは、電磁波を遮断する用途に制限なく用いることが出来る。例えば、パチンコなどの遊戯台の表示部などに装着し、外部からの電磁波、近赤外線等による誤作動を防止する用途が挙げられる。特に好適には、前述したディスプレイ装置用のフィルタ用途である。本発明のディスプレイ用フィルタは、高い電磁波遮断能を有しているので、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＬＣＤ等、電磁波の発生を伴う表示装置に好適に用いることが出来る。
【００３２】
【実施例】
以下、実施例により本発明を説明する。
なお、評価項目・評価方法に関しては以下のようにして行なった。
（１）妨害波電界強度測定（ｄＢ）
情報処理装置等電波障害自主規制協議会（ＶＣＣＩ）制定の自主規制措置運用規定にある技術基準に則り、本発明の実施例および比較例の電磁波遮蔽フィルタを適用した場合の妨害波電界強度測定を行った。妨害波電界強度が低いほど電磁波遮蔽能があることになる。
【００３３】
実施例１
厚み７５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（帝人株式会社製、製品名：ＯＧＸ）の一方の主面上にＰＥＴフィルム側から酸化インジウム薄膜／銀薄膜／酸化インジウム薄膜／銀薄膜／酸化インジウム薄膜／銀薄膜／酸化インジウム薄膜の積層構造からなり、それぞれの厚みが４０／１０／８０／１０／８０／１０／４０ｎｍである透明導電フィルムを得た。透明支持体として厚さ３ｍｍ、９００ｍｍ×６００ｍｍのガラスを用意し、粘着材を介し透明導電フィルムをガラス主面に貼り合わせた。アース電極は図３に示すように、透明導電フィルム端部周辺を覆い、１個所のみ１ｃｍの間隙を設け、幅１０ｍｍの範囲に銀ペースト（三井化学株式会社製ＭＳＰ６００Ｆ）を塗布、乾燥させ、本発明の表示装置用フィルタを作成した。図９に実施例１の透明電磁波シールドを用いた場合の妨害波電界強度を示す。
【００３４】
比較例１
実施例１と同様に厚み７５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（帝人株式会社製、製品名：ＯＧＸ）の一方の主面上にＰＥＴフィルム側から酸化インジウム薄膜／銀薄膜／酸化インジウム薄膜／銀薄膜／酸化インジウム薄膜／銀薄膜／酸化インジウム薄膜の積層構造からなり、それぞれの厚みが４０／１０／８０／１０／８０／１０／４０ｎｍである透明導電フィルムを、透明支持体として厚さ３ｍｍ、９００ｍｍ×６００ｍｍのガラスに粘着材を介してガラス主面に貼り合わせた。アース電極は図１に示すように、透明導電フィルム端部周辺を一様に覆い、幅１０ｍｍの範囲に銀ペースト（三井化学株式会社製ＭＳＰ６００Ｆ）を塗布・乾燥させ、本発明の表示装置用電磁波遮蔽フィルタを作製した。図９に比較例１の電磁波遮蔽フィルタを用いた場合の妨害波電界強度を示す。
【００３５】
【図９】
【００３６】
【発明の効果】
本発明のように、電極に狭幅部をを設けたり、不連続すなわち間隙を有するような電極を設けることで、より高い電磁波遮断性能を有する透明電磁波シールドを得ることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の透明電磁波シールドの一例を示す平面図及び断面図。
【図２】本発明の透明電磁波シールドの一例を示す平面図。
【図３】本発明の透明電磁波シールドの一例を示す平面図。
【図４】本発明の透明電磁波シールドの一例を示す平面図。
【図５】本発明の透明電磁波シールドの一例を示す平面図。
【図６】本発明の透明電磁波シールドの一例を示す平面図。
【図７】本発明の透明電磁波シールドの一例を示す平面図。
【図８】本発明の透明電磁波シールドの一例を示す平面図。
【符号の説明】
１０ 透明基体
２０ 透明導電層
３０ 電極
３１ 電極
３２ 電極
３３ 電極[0001]
[Technical field to which the invention belongs]
The present invention relates to a transparent electromagnetic wave shield for shielding electromagnetic waves generated from a display device or the like. The present invention also relates to a display filter that can efficiently reduce electromagnetic waves generated from a display device such as a plasma display (PDP), a cathode ray tube (CRT), or a liquid crystal display (LCD).
[0002]
[Prior art]
With the advancement of information technology in recent social situations, the importance of display devices that play the role of man-machine interfaces is increasing. Among them, large-screen display devices used for televisions, personal computers, guidance displays such as stations and airports, and other various information provisions are required to have high image quality, high efficiency, and thinning.
[0003]
However, the display device has a problem that a strong leakage electromagnetic field is generated in principle. Leaked electromagnetic fields cause malfunctions of other electrical and electronic devices and communication failures, and recently there are concerns about the effects on the human body. In the PDP device, there is a voice pointing out a problem that near infrared light generated from excited atoms in the plasma causes malfunction of electronic devices such as cordless phones and remote controllers.
[0004]
For this reason, a filter for shielding a leakage electromagnetic field and near-infrared light is generally used for the light source of the display device or the front surface of the display surface, particularly the PDP. The general structure of the electromagnetic wave shielding filter for display is such that an electromagnetic wave shielding layer is formed on one side of a glass plate as a support plate, and an antireflection film is bonded to the other side of the supporting plate and the electromagnetic wave shielding layer. A transparent film on which a shield layer is formed is bonded to a glass plate, and an antireflection film is further bonded to the glass plate and the electromagnetic wave shielding layer.
[0005]
Near infrared and electromagnetic shielding materials for electromagnetic wave filters for display devices can be broadly divided into: (1) a transparent conductive thin film obtained by vapor deposition of a conductive substance, and a dye that absorbs near infrared rays as necessary. And (2) a combination of a metal mesh or a synthetic resin or metal fiber mesh coated with a metal and a pigment that absorbs near infrared rays.
[0006]
As an example in which the transparent conductive thin film of (1) is formed on the substrate, a high refractive index is formed on one main surface of the transparent polymer film described in JP-A-10-73719 (Patent Document 1). The transparent thin film layer (a) and the metal thin film layer (b) are sequentially laminated four times or more with (a) / (b) as a repeating unit, and a high refractive index transparent thin film layer (B) and a transparent resin are further formed thereon. Examples thereof include an electromagnetic wave shielding filter in which a light control film having a layer formed thereon is bonded. As an example of {circle around (2)}, there is an electromagnetic wave shielding filter prepared by applying and drying a conductive paste in a mesh shape on a transparent resin plate disclosed in JP-A-9-330667 (Patent Document 2).
[0007]
When these electromagnetic wave shielding filters for display devices are used, electromagnetic waves generated from the display device and near infrared rays can be efficiently shielded. However, the shielding materials (1) and (2) are electrically grounded to the ground potential or ground of the display device itself such as the metal frame and casing of the display device body, the metal on the inner surface of the housing, and the resin plating surface. There is a need. As a method for grounding, it is common to form electrodes covered with a good conductive material such as metal on the conductive surface, end surface and peripheral edge of the shield material of the above (1) and (2) without any gaps. In other words, the electrodes are formed in a uniform frame shape around the periphery of the display device, and it is considered that grounding from the electrodes is the most efficient way to shield electromagnetic waves, and products already on the market have such a form. I'm taking it.
[0008]
On the other hand, since the amount of leaked electromagnetic waves accompanying the improvement in performance of display devices such as PDPs and the permissible standards for electromagnetic wave leakage are likely to become stricter in the future, higher performance is required for display filters. Yes. However, improving the electromagnetic wave shielding performance by lowering the resistance of the transparent conductive layer has a problem that the light transmittance of the filter is lowered, and there is a limit to improving the electromagnetic wave shielding performance by improving the transparent conductive layer. Currently.
[0009]
[Patent Document 1] JP-A-10-73719 [Patent Document 2] JP-A-9-330667 [0010]
[Problems to be solved by the invention]
Accordingly, an object of the present invention is to provide a transparent electromagnetic wave shield and a display filter having higher electromagnetic wave shielding performance. In particular, it is an object of the present invention to provide an electromagnetic wave shield and a display filter that can improve electromagnetic wave shielding performance by a method different from the performance improvement of a transparent conductive layer and can further reduce electromagnetic wave leakage from a display device or the like.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have made extensive studies, and as a result, it is surprising that the electrode is provided with a portion having a narrow width compared to the surroundings, or an extremely non-electrode-formed portion. In particular, the inventors have found that the electromagnetic wave shielding performance is improved and have completed the present invention. That is, the present invention
(1) a laminated structure (I) comprising at least a transparent substrate (A) and a transparent conductive layer (B);
The transparent substrate (A), the transparent conductive layer (B), and the electrode (C) have a structure (II) in which A / B / C are laminated in this order, the structure (II) is formed at the peripheral edge, and
A transparent electromagnetic wave shield characterized in that the minimum value of the width of the structure (II) is 10% or less of the maximum value,
(2) The transparent electromagnetic wave shield is characterized in that the structure (II) is formed discontinuously,
(3) A transparent electromagnetic wave shield characterized in that the contour of the structure (II) is an uneven shape,
(4) A transparent electromagnetic wave shield characterized in that the outline of the structure (II) is a lattice shape,
(5) 3 to 11 layered structure in which the transparent conductive layer (B) is composed of a high refractive index transparent thin film layer (a) made of metal oxide or metal sulfide and a metal thin film layer (b) containing at least silver A transparent electromagnetic wave shield characterized in that both outermost layers are high refractive index transparent thin film layers (a),
(6) The transparent conductive layer (B) is a transparent electromagnetic shield characterized by being a conductive mesh layer,
(7) A display filter using the transparent electromagnetic wave shield.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The transparent electromagnetic wave shield of the present invention comprises a laminated structure (I) comprising a transparent substrate (A) and a transparent conductive layer (B), a transparent substrate (A), a transparent conductive layer (B) and an electrode (C). The structure (II) is laminated in the order of A / B / C. The structure (II) is formed at the peripheral edge and the structure (II) has a special shape.
[0013]
Examples of the transparent substrate (A) used in the present invention include a transparent plastic film, glass, and a transparent plastic plate. The transparent plastic film is not particularly limited as long as it is transparent. For example, from a resin such as polyethylene terephthalate, polyethersulfone, polyarylate, polyacrylate, polycarbonate, polyetheretherketone, polyethylene, polyester, polypropylene, polyamide, polyimide, etc. There is a plastic film. Of course, the resin may be a copolymer using another comonomer as long as it is transparent.
[0014]
The thickness of the transparent plastic film is not particularly specified, but is preferably 25 to 250 μm, more preferably 30 to 200 μm from the viewpoint of handling properties.
[0015]
This is the reason why the glass plate used as the transparent substrate (A) has characteristics such as thermal stability with little deformation due to heat. On the other hand, since it has a drawback of being vulnerable to impact, it is preferable to use a semi-tempered glass plate or a tempered glass plate that has been subjected to a chemical strengthening process or an air cooling strengthening process. Considering the weight, the thickness is preferably about 1 to 4 mm, but is not particularly limited.
[0016]
The transparent plastic plate used as the transparent substrate (A) is preferably used because of mechanical strength, lightness, and resistance to cracking. Specific examples of the plastic plate include acrylic resin such as polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate resin, transparent ABS resin and the like, but are not limited to these resins. In particular, PMMA can be suitably used because of its high transparency in a wide wavelength region and high mechanical strength. The thickness of the plastic plate is not particularly limited as long as sufficient mechanical strength and rigidity to maintain flatness without bending are obtained, but it is usually about 1 mm to 10 mm. Further, similarly to the transparent plastic film, coloring with a pigment or the like may be performed as long as the transparency is not impaired.
[0017]
The transparent substrate (A) of the present invention can be used in combination with the above materials. For example, the form which bonds the transparent plastic film which formed the transparent conductive layer mentioned later to glass or a plastic board is mentioned. In this case, the transparent substrate (A) is a laminate of a glass plate and a transparent plastic film.
[0018]
The transparent substrate (A) of the present invention can be subjected to various necessary known pretreatments. For example, a base layer such as a water-based polyurethane-based or silicon-based coating agent for the purpose of improving the adhesion to the transparent conductive layer (B) described later is formed, corona treatment, or a colored portion such as black at the peripheral portion. For example, the frame printing may be performed.
[0019]
The total light transmittance of the transparent substrate (A) is preferably 70% or more, more preferably 75% or more, and particularly preferably 80% or more. The upper limit of the total light transmittance is naturally 100%. However, in general, the light transmittance often decreases due to reflection on the film surface, etc., so that even if the total light transmittance is 92% or less, it has substantially sufficient transparency.
[0020]
As the transparent conductive layer (B) of the present invention, a known transparent conductive layer can be used without limitation. A preferable sheet resistance value is 0.5 to 8Ω / □, and more preferably 0.7 to 4Ω / □. Such a transparent conductive layer (B) has a laminated structure of 3 to 11 layers comprising a high refractive index transparent thin film layer (a) and a metal thin film layer (b) containing at least silver, and both outermost layers are high. The transparent conductive thin film layer which is a refractive index transparent thin film layer (a) is mentioned. Specifically, those described in JP-A-9-132343 and JP-A-11-107593 can be used. As the other transparent conductive layer (B), a conductive mesh layer can be exemplified, and specifically those described in JP-A-2002-323861 and the like can be used. The transparent conductive layer (B) is preferably formed on the transparent substrate (A). In particular, when a transparent plastic film is used, a roll-to-roll process can be adopted, so that the transparent conductive layer (B) can be formed with high productivity. Moreover, you may bond the plastic film which formed the transparent conductive layer (B) to the above-mentioned glass or a plastic plate.
[0021]
The electrode (C) of the present invention is a constituent element required for grounding and efficiently releasing charges induced by the transparent conductive layer (B) that has absorbed electromagnetic waves. For this reason, as a component which comprises an electrode, a thing with high electroconductivity is preferable. Specifically, from the standpoint of adhesion to the transparent conductive layer (B), an alloy composed of a single substance or two or more of silver, gold, copper, platinum, nickel, aluminum, chromium, iron, zinc, carbon, etc. A paste made of a mixture of these simple substances or alloys and a synthetic resin, a paste made of a mixture of these simple substances or alloys and borosilicate glass, or the like can be preferably used. Particularly preferred is a paste using silver. At this time, the electrodes can be formed using various known techniques such as printing.
[0022]
In addition, a conductive tape provided with an adhesive material having conductivity, specifically, a copper tape can be preferably used. An electrode in which the above-described conductive material is formed by a plating method, a vacuum evaporation method, a sputtering method, or the like is also suitable. Although the thickness of the electrode containing a metal is not specifically limited, Generally, it is about several micrometers-about several mm. Of course, the above-mentioned conductive paste, conductive tape, and the like may be used in combination.
[0023]
In the transparent electromagnetic wave shield of the present invention, a laminated structure (I) composed of a transparent substrate (A) and a transparent conductive layer (B), a transparent substrate (A), a transparent conductive layer (B), and an electrode (C) are A. The structure (II) is laminated in the order of / B / C. And structure (II) is formed in a peripheral part, The minimum value of the width | variety of structure (II) is 10% or less of the maximum value, It is characterized by the above-mentioned. That is, the electrode is not uniform in width.
[0024]
The shape of the conventional electrode (C) is, for example, that a transparent conductive layer 20 such as a transparent conductive laminated film or a metal mesh is formed on a transparent support plate 10 as shown in FIG. Alternatively, the electrode 30 is continuously formed so as to cover the end face.
[0025]
On the other hand, the present invention has a portion where the electrode width is not uniform and the electrode width is narrow. FIG. 2 shows an example. A conductive film 20 such as a transparent conductive laminated film or a metal mesh is formed on the transparent support plate 10, and an electrode 30 is formed so as to cover the surface or end face of the conductive film 20. However, the position, number, shape and the like of the narrow electrode width part having the part where the electrode width is narrowed at one or more places are not particularly limited, and differ depending on the type, mechanism, and shape of the display device.
[0026]
Examples of other electrode shapes that satisfy the above conditions include those in which the contour of the electrode (C) has a concavo-convex shape, for example, an electrode 31 having a zigzag concavo-convex shape as shown in FIG. The thing which has the electrode 32 which has an uneven | corrugated shape as shown in FIG. 7 is mentioned. The uneven shape, pattern, and the like in the outline of the electrode as described above are not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the type, mechanism, and shape of the display device. Moreover, the thing which has the electrode 33 which has the shape as shown in FIG.
[0027]
The most extreme example having the above-mentioned narrow electrode part has a shape in which the structure (II) is formed discontinuously. In other words, it is a shape in which there is a portion where no electrode is formed at the peripheral edge. Conventionally, if there is a site where no electrode is formed, this non-electrode-formed site may become an electromagnetic wave leakage port, and it has been common knowledge that the electrode (C) is continuously formed so as to cover the periphery. However, the present inventors have surprisingly found that the ability to block electromagnetic waves is improved by providing an electrode non-formation site, that is, by providing a gap in the electrode. As a specific shape, as shown in FIGS. 3 to 5, a shape in which a gap is formed at one or more positions of the electrode 30 formed along the peripheral edge can be exemplified. The position, number, length, shape, and the like of the gap are not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the type, mechanism, and shape of the display device.
[0028]
Since the transparent electromagnetic wave shield of the present invention has the specific structure (II) as described above, that is, the electrode (C) having a specific shape, it is excellent in electromagnetic wave shielding properties. The transparent electromagnetic wave shield of the present invention has an excellent electromagnetic wave shielding ability. The reason is presumed as follows. That is, it is conceivable that electric charges are localized in a conventional electrode continuously formed on the peripheral edge, that is, a closed electrode, and functions as a loop antenna through which a high-frequency current flows. In this case, since the electromagnetic wave is re-radiated around a specific frequency or frequency band at which the transparent electromagnetic wave shield resonates, it is estimated that the electromagnetic wave shielding ability of the conventional display filter has a limit.
[0029]
The transparent electromagnetic wave shield having the electrode shape of the present invention has a narrow electrode part or a shape in which the electrode is discontinuous, so that a part of the high-frequency current is thermally converted or the high-frequency current itself is reduced. By doing so, it is considered that the electromagnetic wave shielding ability can be enhanced.
[0030]
The transparent electromagnetic wave shield of the present invention may have other layers within the range of its purpose. Specifically, the antireflection layer, the antiglare layer, the antifouling layer, the ultraviolet absorbing layer described in JP-A-9-132343, JP-A-11-107593, JP-A-2002-323861, etc. Functional transparent layers such as a hard coat layer and a toning layer can be exemplified.
[0031]
The transparent electromagnetic wave shield of the present invention can be used without limitation for applications that block electromagnetic waves. For example, it is mounted on a display unit of an amusement stand such as a pachinko to prevent malfunction due to external electromagnetic waves, near infrared rays, and the like. Particularly preferred is a filter application for the display device described above. Since the display filter of the present invention has high electromagnetic wave shielding ability, it can be suitably used for display devices that generate electromagnetic waves, such as PDP, CRT, and LCD.
[0032]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described by way of examples.
The evaluation items and evaluation methods were performed as follows.
(1) Interference wave field strength measurement (dB)
In accordance with the technical standards in the self-regulatory measures operation regulations established by the Radio Interference Voluntary Regulations Council (VCCI) for information processing devices, etc., measurement of the interference wave electric field intensity when applying the electromagnetic wave shielding filters of the examples and comparative examples of the present invention went. The lower the interference wave electric field strength, the more the electromagnetic wave shielding ability.
[0033]
Example 1
A 75 μm thick polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Teijin Limited, product name: OGX) on one main surface, from the PET film side, indium oxide thin film / silver thin film / indium oxide thin film / silver thin film / indium oxide thin film / silver A transparent conductive film having a laminated structure of a thin film / indium oxide thin film and having a thickness of 40/10/80/10/80/10/40 nm was obtained. A glass having a thickness of 3 mm and 900 mm × 600 mm was prepared as a transparent support, and a transparent conductive film was bonded to the glass main surface via an adhesive material. As shown in FIG. 3, the ground electrode covers the periphery of the transparent conductive film edge, provides a gap of 1 cm only at one location, applies a silver paste (MSP600F manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) to a width of 10 mm, and dries. A filter for a display device of the invention was created. FIG. 9 shows the interference wave electric field strength when the transparent electromagnetic wave shield of Example 1 is used.
[0034]
Comparative Example 1
As in Example 1, an indium oxide thin film / silver thin film / indium oxide thin film / silver thin film on one main surface of a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 75 μm (product name: OGX manufactured by Teijin Ltd.) from the PET film side. A transparent conductive film having a laminated structure of / indium oxide thin film / silver thin film / indium oxide thin film, each having a thickness of 40/10/80/10/80/10/40 nm, having a thickness of 3 mm and 900 mm as a transparent support. The glass main surface was bonded to a glass of × 600 mm via an adhesive material. As shown in FIG. 1, the ground electrode uniformly covers the periphery of the transparent conductive film end, and a silver paste (MSP600F manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) is applied and dried in a range of 10 mm in width. A shielding filter was produced. FIG. 9 shows the interference wave electric field intensity when the electromagnetic wave shielding filter of Comparative Example 1 is used.
[0035]
FIG. 9
[0036]
【The invention's effect】
As in the present invention, a transparent electromagnetic wave shield having higher electromagnetic wave shielding performance can be obtained by providing an electrode with a narrow width part or an electrode having a discontinuity, that is, a gap.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view and a cross-sectional view showing an example of a conventional transparent electromagnetic wave shield.
FIG. 2 is a plan view showing an example of the transparent electromagnetic wave shield of the present invention.
FIG. 3 is a plan view showing an example of the transparent electromagnetic wave shield of the present invention.
FIG. 4 is a plan view showing an example of the transparent electromagnetic wave shield of the present invention.
FIG. 5 is a plan view showing an example of the transparent electromagnetic wave shield of the present invention.
FIG. 6 is a plan view showing an example of the transparent electromagnetic wave shield of the present invention.
FIG. 7 is a plan view showing an example of the transparent electromagnetic wave shield of the present invention.
FIG. 8 is a plan view showing an example of the transparent electromagnetic wave shield of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Transparent base | substrate 20 Transparent conductive layer 30 Electrode 31 Electrode 32 Electrode 33 Electrode
