JPH1073721A - Optical filter for display - Google Patents
Optical filter for displayInfo
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- JPH1073721A JPH1073721A JP8230122A JP23012296A JPH1073721A JP H1073721 A JPH1073721 A JP H1073721A JP 8230122 A JP8230122 A JP 8230122A JP 23012296 A JP23012296 A JP 23012296A JP H1073721 A JPH1073721 A JP H1073721A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイ用光
学フィルターに関し、さらに詳しくはプラズマディスプ
レイから発生する、周辺電子機器の誤操作をまねく近赤
外線を遮断する赤外線漏洩防止性に優れ、さらに、耐候
性・耐環境性に優れた光学フィルターに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical filter for a display, and more particularly to an optical filter for a display. The present invention relates to an optical filter having excellent environmental resistance.
【0002】[0002]
【従来の技術】社会が高度に情報化されてくるにしたが
って、光エレクトロニクス関連部品、機器は著しく進
歩、普及している。そのなかでディスプレイはテレビジ
ョン用、パーソナルコンピューター用等として著しく普
及し、また、その薄型化、大型薄型化が進んでいる。2. Description of the Related Art Optoelectronics-related components and equipment have been remarkably advanced and spread as society has become highly information-oriented. Among them, displays have become extremely popular for televisions, personal computers, etc., and their thickness and size have been reduced.
【0003】近年、大型の薄型テレビ、薄型ディスプレ
イ用途等に、プラズマディスプレイが注目され、すでに
市場に出始めている。しかしながら、プラズマディスプ
レイは、その構造原理上、強度の漏洩電磁界が発生する
ため、近年の漏洩電磁界の人体や他の機器に与える影響
が取り沙汰されるようになった中で、そのVCCI、F
CCといった安全基準をクリアする必要がある。さら
に、また、プラズマディスプレイにおいては、そのプラ
ズマ中の励起原子から放出される近赤外線光が、コード
レスフォン等の周辺電子機器に作用して誤動作を引き起
こすという問題が生じている。特に問題になる波長とし
てリモコンや伝送系光通信に使用されている820nm
と880nm、980nmが挙げられる。そのため、近
赤外領域である820〜1000nmの波長領域の光を
カットする必要がある。[0003] In recent years, plasma displays have attracted attention for applications such as large-sized thin TVs and thin displays, and have already begun to appear on the market. However, a plasma display generates a strong leakage electromagnetic field due to its structural principle, and the effects of the leakage electromagnetic field on the human body and other devices in recent years have been investigated.
It is necessary to clear safety standards such as CC. Furthermore, in the plasma display, there is a problem that near-infrared light emitted from excited atoms in the plasma acts on peripheral electronic devices such as a cordless phone to cause a malfunction. 820 nm, which is used in remote control and transmission optical communication, is a particularly problematic wavelength.
And 880 nm and 980 nm. Therefore, it is necessary to cut light in the near-infrared wavelength range of 820 to 1000 nm.
【0004】一方、可視光線の透過率が低いと、画像の
鮮明さが低下するため、フィルターの可視光線透過率は
高い程良く、少なくとも40%以上、好ましくは50%
以上必要である。On the other hand, if the transmittance of visible light is low, the sharpness of the image is reduced. Therefore, the visible light transmittance of the filter is preferably as high as possible, at least 40% or more, preferably 50%.
It is necessary.
【0005】静電防止能については、ディスプレイ表面
に導電膜を直接形成するか、導電膜を有する部材をディ
スプレイ表面に張り付け、導電膜をアースすることによ
り解決できる。この場合に、導電膜は、面抵抗で108
Ω/□程度以下であれば良い。ただし、ディスプレイ画
面の透明性や解像度を損なうものであってはならない。The antistatic ability can be solved by directly forming a conductive film on the display surface or by attaching a member having the conductive film to the display surface and grounding the conductive film. In this case, the conductive film has a sheet resistance of 10 8.
What is necessary is just about Ω / □ or less. However, the transparency and resolution of the display screen must not be impaired.
【0006】これに対し、漏洩電磁界(電磁波)を遮蔽
するには、ディスプレイ表面を導電性のさらに高い導電
物でおおう必要がある。一般にアースした金属メッシュ
または、合成樹脂または金属繊維のメッシュに金属被覆
したもの用いるが、これらの方法は、ディスプレイから
発する光を透過しない部分が生じたり、モワレ発生、歩
留りの悪さによるコスト高などが問題となる。On the other hand, in order to shield a leakage electromagnetic field (electromagnetic wave), it is necessary to cover the display surface with a conductive material having higher conductivity. Generally, a grounded metal mesh or a mesh of a synthetic resin or metal fiber coated with a metal is used.However, these methods may cause a portion that does not transmit light emitted from the display, generate moire, and increase costs due to poor yield. It becomes a problem.
【0007】そこでITO(Indium Tin O
xide)に代表される透明導電膜を電磁波シールド層
に用いるのである。その場合、通常要求されるその導電
性は面抵抗105 Ω/□以下、好ましくは103 Ω/□
以下である。透明導電膜としては、金、銀、銅、白金、
パラジウムなどの金属薄膜、酸化インジウム、酸化第2
スズ、酸化亜鉛等の酸化物半導体薄膜または金属薄膜と
高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜がある。この中
で、金属薄膜は、導電性は得られるが、広い波長領域に
わたる金属の反射及び吸収により可視光線透過率の高い
ものは得られない。また、酸化物半導体薄膜は金属薄膜
に比べ透明性に優れるが導電性に劣り、また近赤外線の
反射能はない。これらに対し、金属薄膜と高屈折率透明
薄膜を積層した多層薄膜は、銀などの金属の持つ導電性
及び光学的特性と、高屈折率透明薄膜の、ある波長領域
における金属による反射の防止により、導電性、近赤外
線カット能、可視光線透過率のいずれにおいても好まし
い特性を有している。Therefore, ITO (Indium Tin O)
xide) is used for the electromagnetic wave shielding layer. In that case, the conductivity usually required is a sheet resistance of 10 5 Ω / □ or less, preferably 10 3 Ω / □.
It is as follows. As the transparent conductive film, gold, silver, copper, platinum,
Metal thin film such as palladium, indium oxide, second oxide
There is a multilayer thin film in which an oxide semiconductor thin film such as tin or zinc oxide or a metal thin film and a high refractive index transparent thin film are laminated. Among them, a metal thin film can have conductivity, but cannot have a high visible light transmittance due to reflection and absorption of metal over a wide wavelength range. Further, the oxide semiconductor thin film is superior in transparency to the metal thin film, but inferior in conductivity, and has no near-infrared reflectivity. In contrast, a multilayer thin film composed of a metal thin film and a high-refractive-index transparent thin film is formed by the conductivity and optical properties of a metal such as silver and by preventing the high-refractive-index transparent thin film from being reflected by the metal in a certain wavelength region. It has favorable characteristics in all of electrical conductivity, near-infrared cut ability, and visible light transmittance.
【0008】すなわち、我々は銀を主体として金属層
と、透明高屈折率層、例えば、酸化インジウムや酸化チ
タン、酸化亜鉛、酸化錫とを交互に重ねることにより、
透明性と上記調光性を兼ね備えたフィルムを得ることが
できることを見いだしたのである。しかしながら、銀層
は湿環境において不安定であるという欠点を持ってお
り、我々の検討によると実際に銀層と高屈折率層を交互
に重ねた光学フィルターを60℃、相対湿度90%の環
境において500時間程度保持すると光線透過率等の性
能が著しく損なわれることが判明した。That is, by alternately stacking a metal layer mainly composed of silver and a transparent high refractive index layer, for example, indium oxide, titanium oxide, zinc oxide and tin oxide,
They have found that a film having both transparency and the above-mentioned light control properties can be obtained. However, the silver layer has a disadvantage that it is unstable in a humid environment. According to our study, an optical filter in which a silver layer and a high refractive index layer are alternately stacked is actually used in an environment at 60 ° C. and a relative humidity of 90%. , It was found that holding for about 500 hours significantly impaired performance such as light transmittance.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
従来技術に鑑み、プラズマディスプレイから発生する、
周辺電子機器の誤操作をまねく近赤外線を遮断する近赤
外線防止性に優れ、アンチニュートンリング性を兼ね備
え、かつ耐環境性に優れたディスプレイ用フィルターを
提供することである。すなわち、銀を主体とした金属層
と、透明高屈折率層、例えば、酸化インジウムや酸化チ
タン、酸化亜鉛、酸化錫とを交互に重ねることにより、
透明性と上記調光性を兼ね備えたフィルムを用いた、光
学フィルターにおいて、上記薄膜を多層積層したフィル
ムの多層積層膜を形成した表面を、トリアジンアミン系
化合物、メルカプトベンゾイミダゾール系化合物、チオ
ジプロピオン酸エステル系化合物、ベンゾイミダゾール
系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物およびチオカル
バミン酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化
合物で処理したのち、透明樹脂層を形成することによ
り、耐環境性を改善されることを見いだし本発明に到達
した。SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned prior art, an object of the present invention is to generate a plasma display,
An object of the present invention is to provide a filter for a display that has excellent near-infrared ray blocking properties that block near-infrared rays that may cause erroneous operation of peripheral electronic devices, has anti-Newton ring properties, and is excellent in environmental resistance. That is, a metal layer mainly composed of silver and a transparent high-refractive index layer, for example, indium oxide, titanium oxide, zinc oxide, and tin oxide are alternately stacked,
In an optical filter using a film having both transparency and the above-mentioned dimming property, the surface on which a multilayer laminated film of the above-mentioned thin film is laminated is formed by triazineamine-based compound, mercaptobenzimidazole-based compound, thiodipropion. After treatment with at least one compound selected from the group consisting of an acid ester compound, a benzimidazole compound, a benzotriazole compound and a thiocarbamate, the environmental resistance is improved by forming a transparent resin layer. And reached the present invention.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、 透明基体(A)の一方の主面上に、少なくとも、調
光フィルム(B)が貼り合わされたディスプレー用フィ
ルターにして、該調光フィルム(B)が、透明高分子フ
ィルム(C)の一方の主面上に、少なくとも高屈折率透
明薄膜層(D)、金属薄膜層(E)が順次、(D)/
(E)を繰り返し単位として4回以上繰り返し積層さ
れ、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜層
(D)が積層され、さらに、その上に透明樹脂層(F)
が形成されてなる、可視光線透過率50%以上であり、
波長820nm〜1000nmの光に対する光線透過率
が10%以下であることを特徴とするフィルムであっ
て、該透明樹脂層(F)を形成する前に積層膜表面が、
トリアジンアミン系化合物、メルカプトベンゾイミダゾ
ール系化合物、チオジプロピオン酸エステル系化合物、
ベンゾイミダゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化
合物およびチオカルバミン酸塩よりなる群から選ばれる
少なくとも1種の化合物で処理されているディスプレイ
用光学フィルター、 高屈折率透明薄膜層(D)が、主として酸化インジ
ウムで構成されることを特徴とする記載のディスプレ
イ用光学フィルター、 金属薄膜層(E)が、銀または銀を主体とする合金
であることを特徴とする又は記載のディスプレイ用
光学フィルター、 記載の光学フィルターの少なくとも1つの主面に
アンチニュートンリングフィルムをさらに張り合わせる
か、もしくは、アンチニュートン層を形成した構成のデ
ィスプレイ用光学フィルター、 プラズマディスプレイに好適に使用しうる〜の
いずれかに記載のディスプレイ用光学フィルターであ
る。That is, the present invention provides a display filter in which at least one light control film (B) is bonded to one main surface of a transparent substrate (A). (B) is that at least one high refractive index transparent thin film layer (D) and a metal thin film layer (E) are sequentially formed on one main surface of the transparent polymer film (C) by (D) /
(E) is repeated four or more times as a repeating unit, and at least a high-refractive-index transparent thin film layer (D) is further laminated thereon, and a transparent resin layer (F) is further laminated thereon.
Having a visible light transmittance of 50% or more,
A film having a light transmittance of 10% or less for light having a wavelength of 820 nm to 1000 nm, wherein the surface of the laminated film is formed before forming the transparent resin layer (F).
Triazineamine compound, mercaptobenzimidazole compound, thiodipropionate compound,
An optical filter for a display treated with at least one compound selected from the group consisting of a benzimidazole compound, a benzotriazole compound and a thiocarbamate; The optical filter for a display described above, wherein the metal thin film layer (E) is silver or an alloy mainly containing silver, or the optical filter for a display described above. An optical filter for display having a structure in which an anti-Newton ring film is further attached to at least one main surface of the above, or an anti-Newton layer is formed, and the optical filter for display according to any one of-, which can be suitably used for a plasma display. Filter.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】本発明は、〔図1〕、〔図2〕に
示すように、透明基体20の一方の主面上に、粘着剤層
または接着剤層70により、調光フィルム10が貼り合
わされたディスプレー用フィルターであり、調光フィル
ム10は透明高分子フィルム30の一方の主面上に、高
屈折率透明薄膜層50、金属薄膜層40が繰り返し積層
され、透明樹脂層60が形成される前に、積層膜表面が
特定化合物で処理90されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the present invention provides a light control film 10 on one main surface of a transparent substrate 20 by using an adhesive layer or an adhesive layer 70. Is a display filter on which the high-refractive-index transparent thin film layer 50 and the metal thin film layer 40 are repeatedly laminated on one main surface of the transparent polymer film 30 to form a transparent resin layer 60. Before formation, the surface of the laminated film is treated 90 with a specific compound.
【0012】本発明における透明基体(A)としては、
ガラス、石英等の無機化合物成形物と透明な有機高分子
成形物があげられるが、高分子成形物は軽く割れにくい
ため、より好適に使用できる。高分子成形物は可視波長
領域において透明であればよく、その種類を具体的に挙
げれば、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)をはじめ
とするアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、透明AB
S樹脂等が使用できるが、これらの樹脂に限定されるも
のではない。特にPMMAはその広い波長領域での高透
明性と機械的強度の高さから好適に使用できる。プラス
チック板の厚みは十分な機械的強度と、たわまずに平面
性を維持する剛性が得られればよく、特に限定されるも
のではないが、通常1mm〜10mm程度である。As the transparent substrate (A) in the present invention,
An inorganic compound molded product such as glass and quartz and a transparent organic polymer molded product can be used, but the polymer molded product is light and hard to be broken, so that it can be more suitably used. The polymer molded product only needs to be transparent in the visible wavelength region, and specific examples thereof include an acrylic resin such as polymethyl methacrylate (PMMA), a polycarbonate resin, and a transparent AB.
S resins and the like can be used, but are not limited to these resins. In particular, PMMA can be suitably used because of its high transparency in a wide wavelength region and high mechanical strength. The thickness of the plastic plate is not particularly limited as long as sufficient mechanical strength and rigidity for maintaining flatness without sagging are obtained, and are not particularly limited, but are usually about 1 mm to 10 mm.
【0013】本発明でいうところの調光フィルム(B)
とは、光の透過や反射を制御するフィルムの総称であ
り、例えば、本発明においては、可視光が透過し易く、
赤外線を反射するフィルムのことを言う。本発明におけ
る調光フィルムは、本質的に透明な高分子フィルム
(C)の少なくとも一方の主面に薄膜の多層膜を形成し
て得る。調光フィルムの基材としての透明高分子フィル
ム(C)は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテ
ルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポ
リカーボネート、ポリプロピレン、ポリイミド、ポリメ
チルメタクリレート等があげられるが、適当な耐熱性を
もつことから、ポリエチレンテレフタレートが好適に用
いられる。基材がフィルムであるから高屈折率透明薄膜
層及び金属薄膜層をロール・ツー・ロール法で連続的に
形成することができるため、これを使用した場合には効
率よく生産できることや、基材がフィルムであるから、
調光フィルムをディスプレイのガラスに貼り付けること
によりガラス破損時の飛散防止になることから、これも
また好適に使用できる。この場合フィルムの厚さは通常
10〜250μmのものが用いられる。フィルムの厚さ
があまりに薄いと基材としての機械的強度に不足し、あ
まり厚いと可撓性が不足するためフィルムをロールで巻
きとって利用するのに適さないのである。Light control film (B) in the present invention
Is a general term for a film that controls transmission and reflection of light.For example, in the present invention, visible light is easily transmitted,
A film that reflects infrared light. The light control film in the present invention is obtained by forming a thin multilayer film on at least one principal surface of the essentially transparent polymer film (C). The transparent polymer film (C) as a base material of the light control film is made of polyethylene terephthalate, polyether sulfone, polystyrene, polyethylene naphthalate, polyarylate, polyether ether ketone, polycarbonate, polypropylene, polyimide, polymethyl methacrylate, or the like. However, polyethylene terephthalate is preferably used because it has appropriate heat resistance. Since the base material is a film, the high-refractive-index transparent thin film layer and the metal thin film layer can be formed continuously by a roll-to-roll method. Is a film,
By sticking the light control film to the glass of the display, it is possible to prevent scattering when the glass is broken. In this case, a film having a thickness of usually 10 to 250 μm is used. If the thickness of the film is too small, the mechanical strength of the base material is insufficient. If the thickness is too large, the flexibility is insufficient, so that the film is not suitable for being wound on a roll and used.
【0014】これらの基材としての透明高分子フィルム
は、その表面に予めグロー放電処理、コロナ処理、火炎
処理、紫外線照射、電子線照射などのエッチング処理
や、下塗り処理を施してこの上に形成される高屈折率透
明薄膜層の上記基体に対する密着性を向上させる処理を
施してもよい。さらに、電磁波シールド用透明積層体の
耐屈曲性などを向上させ、透明高分子フィルムと高屈折
率透明薄膜層との密着力をより増強させるため、その間
に無機物層を形成してもよい。具体的な材料としては、
ニッケル、クロム、金、銀、白金、亜鉛、ジルコニウ
ム、チタン、タングステン、スズ、パラジウム等、ある
いはこれらの材料の2種類以上からなる合金があげられ
るが、特にこれらに限定されるものではない、その厚さ
は、透明性を損なわない程度の厚さであればよく、好ま
しくは0.02nm〜10nm程度である。厚さがあま
り薄いと密着力向上の十分な効果が得られず、逆に厚す
ぎると透明性が損なわれる。高屈折率透明薄膜層が酸化
物であると、該無機物の金属の一部または全部は、実際
には金属酸化物となっているがその効果に問題はない。
また、高屈折率透明薄膜層を成膜する前に、必要に応じ
て溶剤洗浄や超音波洗浄などの防塵処理を施してもよ
い。The transparent polymer film as a base material is formed on the surface by subjecting the surface thereof to an etching treatment such as a glow discharge treatment, a corona treatment, a flame treatment, an ultraviolet ray irradiation, an electron beam irradiation, etc., or an undercoat treatment. The treatment for improving the adhesion of the high refractive index transparent thin film layer to the substrate may be performed. Further, an inorganic layer may be formed between the transparent laminate for electromagnetic wave shielding in order to improve the bending resistance and the like and further enhance the adhesion between the transparent polymer film and the high refractive index transparent thin film layer. Specific materials include
Nickel, chromium, gold, silver, platinum, zinc, zirconium, titanium, tungsten, tin, palladium and the like, or alloys composed of two or more of these materials, but are not particularly limited thereto. The thickness may be a thickness that does not impair the transparency, and is preferably about 0.02 nm to 10 nm. If the thickness is too small, a sufficient effect of improving the adhesion cannot be obtained, and if it is too large, the transparency is impaired. When the high refractive index transparent thin film layer is an oxide, part or all of the inorganic metal is actually a metal oxide, but there is no problem in its effect.
Before forming the high-refractive-index transparent thin film layer, dust-proofing treatment such as solvent cleaning or ultrasonic cleaning may be performed as necessary.
【0015】本発明においては、かかる透明高分子フィ
ルムの一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層及び金属薄
膜層を形成する。プラズマディスプレイは、強度の近赤
外線を発するため、近赤外領域である800〜1000
nmの波長領域の光をカットする必要がある。例えば、
少なくとも820nmにおける光線透過率を10%以
下、さらに好ましくは5%以下にすることが好ましい。In the present invention, a high refractive index transparent thin film layer and a metal thin film layer are formed on one main surface of such a transparent polymer film. Since a plasma display emits strong near-infrared rays, it is in the near-infrared region of 800 to 1000.
It is necessary to cut off light in the wavelength region of nm. For example,
The light transmittance at least at 820 nm is preferably 10% or less, more preferably 5% or less.
【0016】近赤外線カットには、金属の自由電子によ
る反射を用いることができるが、金属薄膜層を厚くする
と前述したように可視光線透過率も低くなり、あまり薄
くすると近赤外線の反射が弱くなる。そこで、ある厚さ
の金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構
造を1段以上重ねることにより、可視光線透過率を高く
し、かつ全体的な金属薄膜層の厚さを増やすことができ
る。また、それぞれの層の厚さを制御することにより可
視光線透過率、近赤外線の透過率、色目をある範囲で変
化させることができる。可視光線透過率が低いと、ディ
スプレイ設置時に画像の鮮明さが低下するため、フィル
ターの可視光線透過率は高い程良く、少なくとも50%
以上、好ましくは55%以上必要である。The near-infrared ray can be cut off by reflection of free electrons of the metal. However, when the metal thin film layer is thickened, the visible light transmittance is lowered as described above, and when it is too thin, the near-infrared ray reflection is weakened. . Therefore, the visible light transmittance is increased and the overall thickness of the metal thin film layer is increased by stacking one or more layers of a laminated structure in which a metal thin film layer of a certain thickness is sandwiched between high refractive index transparent thin film layers. Can be. Further, by controlling the thickness of each layer, the visible light transmittance, the near-infrared transmittance, and the color tone can be changed within a certain range. If the visible light transmittance is low, the sharpness of the image is reduced when the display is installed. Therefore, the higher the visible light transmittance of the filter, the better, at least 50%.
And more preferably 55% or more.
【0017】光学フィルターの色目は、ディスプレイの
コントラスト等に大きく影響する。本発明の用途の光学
フィルターにおいては、赤紫不透過による緑色は不適で
あり、ニュートラルグレー、または、赤黄不透過による
ブルーであることが要求される。このための色目や、可
視光線透過率、近赤外線の透過率の制御は、一般に多層
積層である方が光学的に設計しやすい。The tint of the optical filter greatly affects the contrast and the like of the display. In the optical filter used in the present invention, green due to violet opacity is unsuitable, and it is required to be neutral gray or blue due to red-yellow opacity. For controlling the color tone, visible light transmittance and near-infrared transmittance for this purpose, it is generally easier to optically design a multilayer laminate.
【0018】すなわち、調光フィルム(B)が、透明高
分子フィルム(C)の一方の主面上に高屈折率透明薄膜
層(D)、金属薄膜層(E)が順次、繰り返し積層さ
れ、上記の効果が得られるのである。繰り返し積層数
は、4回以上、好ましくは4回〜6回である。つまり、
透明高分子フィルム/高屈折率透明薄膜層/金属薄膜層
/高屈折率透明薄膜層/金属薄膜層/高屈折率透明薄膜
層/金属薄膜層/高屈折率透明薄膜層/金属薄膜層/高
屈折率透明薄膜層、または、透明高分子フィルム/高屈
折率透明薄膜層/金属薄膜層/高屈折率透明薄膜層/金
属薄膜層/高屈折率透明薄膜層/金属薄膜層/高屈折率
透明薄膜層/金属薄膜層/高屈折率透明薄膜層/金属薄
膜層/高屈折率透明薄膜層、または、透明高分子フィル
ム/高屈折率透明薄膜層/金属薄膜層/高屈折率透明薄
膜層/金属薄膜層/高屈折率透明薄膜層/金属薄膜層/
高屈折率透明薄膜層/金属薄膜層/高屈折率透明薄膜層
/金属薄膜層/高屈折率透明薄膜層/金属薄膜層/高屈
折率透明薄膜層である。That is, the light control film (B) is repeatedly laminated with a high refractive index transparent thin film layer (D) and a metal thin film layer (E) sequentially on one main surface of the transparent polymer film (C), The above effects can be obtained. The number of repeated laminations is 4 or more, preferably 4 to 6 times. That is,
Transparent polymer film / high refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high Refractive index transparent thin film layer, or transparent polymer film / high refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent Thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer or transparent polymer film / high refractive index transparent thin film layer / metal thin layer / high refractive index transparent thin film layer / Metal thin film layer / High refractive index transparent thin film layer / Metal thin film layer /
High refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer.
【0019】繰り返しが3回以下だと、電磁波の反射界
面が少ないことや、要求される光学特性に達成するに困
難であることが問題となり、多数繰り返すことにより光
学特性はより厳密に設計できる。ただし、7回以上だ
と、安定生産の困難さの問題が大きくなる。If the number of repetitions is three or less, the problem is that the interface for reflecting electromagnetic waves is small and it is difficult to achieve the required optical characteristics. By repeating a large number of times, the optical characteristics can be designed more strictly. However, when the number is seven or more times, the problem of difficulty in stable production increases.
【0020】高屈折率透明薄膜層および金属薄膜層の多
層積層で、可視光線透過率、近赤外線光の透過率、色目
を制御するには、透明高分子フィルムおよび薄膜材料の
屈折率、消衰係数を用いたベクトル法、アドミッタンス
図を用いる方法等を使った光学設計を行い、各層の薄膜
材料及び、層数、膜厚等を決定する。また、光学特性を
観察しながら、層数、膜厚等を制御して成膜を行うこと
もできる。In order to control the visible light transmittance, the transmittance of near-infrared light, and the color tone in a multilayer laminate of a high refractive index transparent thin film layer and a metal thin film layer, the refractive index and extinction of the transparent polymer film and thin film material are controlled. An optical design is performed using a vector method using coefficients, a method using an admittance diagram, and the like, and the thin film material, the number of layers, the film thickness, and the like of each layer are determined. In addition, film formation can be performed by controlling the number of layers, film thickness, and the like while observing optical characteristics.
【0021】金属薄膜層の厚さは導電性、光学特性等か
ら光学設計的かつ実験的に求められ、要求特性を持てば
特に限定されるものではない。ただし、導電性等から薄
膜が島状構造ではなく連続状態であることが好ましいの
で、4nm以上であることが望ましい。金属薄膜層があ
まり厚すぎると透明性が問題になるので、30nm以下
が望ましい。金属薄膜の具体的な材料としては、銀、
金、白金、パラジウム、ニッケル、クロム、亜鉛、ジル
コニウム、チタン、タングステン、スズ等、あるいはこ
れらの材料の2種類以上からなる合金があげられる。な
かでも銀は、導電性、赤外線反射性および多層積層した
ときの可視光線透過性に優れるため好適に使用できる。
しかしながら、銀は化学的、物理的安定性には必ずしも
優れていないので、環境中の汚染物質、熱、光等によっ
て劣化するため、銀に金、白金、パラジウム、インジウ
ム、スズ等の環境に安定な金属を一種以上含んだ銀を主
体とする合金も好適に使用される。しかして、銀に他の
金属を添加すると、その優れた導電性を阻害するので、
可能であれば、少なくとも多層のうち1つの層は銀を合
金にしないで用いることが好ましい。The thickness of the metal thin film layer is determined optically and experimentally from the viewpoint of conductivity, optical characteristics, etc., and is not particularly limited as long as the required characteristics are obtained. However, it is preferable that the thickness be 4 nm or more because it is preferable that the thin film has a continuous state rather than an island structure due to conductivity and the like. If the metal thin film layer is too thick, transparency becomes a problem. Specific materials for the metal thin film include silver,
Examples include gold, platinum, palladium, nickel, chromium, zinc, zirconium, titanium, tungsten, tin, and the like, and alloys composed of two or more of these materials. Among them, silver is preferably used because it has excellent conductivity, infrared reflectivity, and visible light transmittance when laminated in multiple layers.
However, silver is not always excellent in chemical and physical stability, so it is degraded by environmental pollutants, heat, light, etc., so silver is stable in gold, platinum, palladium, indium, tin, etc. An alloy mainly composed of silver containing one or more kinds of metals is also preferably used. However, adding other metals to silver will impair its excellent conductivity,
If possible, it is preferable to use at least one of the layers without alloying silver.
【0022】隣接する高屈折率透明薄膜層が酸化物であ
ると、該金属薄膜層の金属の一部は、実際には金属酸化
物となっていることがあるが、非常に薄い領域であるた
め光学設計及び成膜上、特に問題はない。また、金属薄
膜第1層、第2層、第3層、・・・第n層(n≧4)
は、同じ厚さとは限らず、同じ金属あるいは合金でなく
ともよい。金属薄膜層の形成には、スパッタリング、イ
オンプレーティング、真空蒸着、メッキ等、従来公知の
方法のいずれでも採用できる。When the adjacent high refractive index transparent thin film layer is an oxide, a part of the metal of the metal thin film layer may actually be a metal oxide, but is a very thin region. Therefore, there is no particular problem in optical design and film formation. Further, the first layer, the second layer, the third layer,... The nth layer (n ≧ 4) of the metal thin film
Are not necessarily the same thickness, and may not be the same metal or alloy. For the formation of the metal thin film layer, any of conventionally known methods such as sputtering, ion plating, vacuum deposition, plating and the like can be adopted.
【0023】高屈折率透明薄膜層を形成する透明薄膜と
しては、可視域において透明性を有し、金属薄膜層にお
ける可視域における光線反射を防止する効果を有するも
のであれば、特に材質が限定されるものではない。好ま
しくは、可視光線に対する屈折率が1.6以上、より好
ましくは1.7以上の屈折率の高い材料が用いられる。
このような透明薄膜を形成する具体的な材料としては、
インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、
亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、
ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等の酸化
物、または、これら酸化物の混合物や、硫化亜鉛などが
挙げられる。これら酸化物あるいは硫化物は、金属と酸
素あるいは硫黄と化学量論的な組成にズレがあっても、
光学特性を大きく変えない範囲であるならば差し支えな
い。なかでも、酸化インジウムや酸化インジウムと酸化
スズの混合物(ITO)は、透明性、屈折率に加えて、
成膜速度が速く金属薄膜層との密着性等が良好であるこ
とから好適に使用できる。また、ITOのごとき比較的
高い導電性を持つ酸化物半導体薄膜を用いることによっ
て、電磁波の吸収層を増やし、また電磁波シールド体の
導電性を上げることができる。The material of the transparent thin film forming the high refractive index transparent thin film layer is not particularly limited as long as it has transparency in the visible region and has an effect of preventing light reflection in the visible region of the metal thin film layer. It is not something to be done. Preferably, a material having a high refractive index to visible light of 1.6 or more, more preferably 1.7 or more, is used.
Specific materials for forming such a transparent thin film include:
Indium, titanium, zirconium, bismuth, tin,
Zinc, antimony, tantalum, cerium, neodymium,
Examples thereof include oxides of lanthanum, thorium, magnesium, gallium and the like, a mixture of these oxides, and zinc sulfide. These oxides or sulfides, even if there is a shift in the stoichiometric composition of the metal and oxygen or sulfur,
It does not matter if the optical characteristics are not largely changed. Above all, indium oxide or a mixture of indium oxide and tin oxide (ITO), in addition to transparency and refractive index,
It can be suitably used because it has a high deposition rate and good adhesion to the metal thin film layer. In addition, by using an oxide semiconductor thin film having relatively high conductivity such as ITO, the number of electromagnetic wave absorbing layers can be increased, and the conductivity of the electromagnetic wave shield can be increased.
【0024】高屈折率透明薄膜層の厚さは、透明高分子
フィルムの光学特性、金属薄膜層の厚さ、光学特性、お
よび、透明薄膜層の屈折率等から光学設計的かつ実験的
に求められ、特に限定されるものではないが、5nm以
上200nm以下であることが好ましく、より好ましく
は10nm以上100nm以下である。また、高屈折率
透明薄膜第1層、第2層、第3層、・・・第n層(n≧
5)は、同じ厚さとは限らず、同じ透明薄膜材料でなく
ともよい。高屈折率透明薄膜層の形成には、スパッタリ
ング、イオンプレーティング、イオンビームアシスト、
真空蒸着、湿式塗工等、従来公知の方法のいずれでも採
用できる。The thickness of the high refractive index transparent thin film layer is determined optically and experimentally from the optical characteristics of the transparent polymer film, the thickness and optical characteristics of the metal thin film layer, the refractive index of the transparent thin film layer, and the like. Although not particularly limited, it is preferably from 5 nm to 200 nm, more preferably from 10 nm to 100 nm. Also, the first layer, second layer, third layer,... N-th layer (n ≧ n) of the high refractive index transparent thin film
5) is not limited to the same thickness and may not be the same transparent thin film material. Sputtering, ion plating, ion beam assist,
Any of conventionally known methods such as vacuum deposition and wet coating can be employed.
【0025】なかでもスパッタリングは、膜厚制御、多
層積層には好適であり、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜
層を容易に繰り返し連続的に成膜できる。具体例として
実施例において後述するが、主として酸化インジウムで
構成される高屈折率透明薄膜層と銀または銀を含む合金
からなる金属薄膜層を、スパッタリング法により連続成
膜する。主として酸化インジウムで構成される高屈折率
透明薄膜層の形成には、インジウムを主成分とする金属
ターゲットまたは酸化インジウムを主成分とする焼結体
ターゲットを用いた反応性スパッタリングを行う。反応
性スパッタリング法においては、スパッタガスにはアル
ゴン等の不活性ガス、反応性ガスには酸素を用い、通常
圧力0.1〜20mTorr、直流(DC)あるいは高
周波(RF)マグネトロンスパッタリング法等が利用で
きる。酸素ガス流量は、得られる成膜速度等から実験的
に求められ、所望の透明性を持つ薄膜が得られるように
制御する。Among them, sputtering is suitable for controlling the film thickness and laminating a plurality of layers, and can easily and continuously form a metal thin film layer and a high-refractive-index transparent thin film layer. As will be described later in the examples as specific examples, a high-refractive-index transparent thin film layer mainly composed of indium oxide and a metal thin film layer composed of silver or an alloy containing silver are continuously formed by a sputtering method. The formation of the high-refractive-index transparent thin film layer mainly composed of indium oxide is performed by reactive sputtering using a metal target containing indium as a main component or a sintered body target containing indium oxide as a main component. In the reactive sputtering method, an inert gas such as argon is used as a sputtering gas and oxygen is used as a reactive gas, and a pressure of 0.1 to 20 mTorr and a direct current (DC) or high frequency (RF) magnetron sputtering method are used. it can. The oxygen gas flow rate is experimentally determined from the obtained deposition rate and the like, and is controlled so as to obtain a thin film having desired transparency.
【0026】銀または銀を含む合金からなる金属薄膜層
の形成には、銀または銀を含む合金をターゲットとした
スパッタリングを行う。スパッタガスにはアルゴン等の
不活性ガスを用い、通常圧力0.1〜20mTorr、
直流(DC)あるいは高周波(RF)マグネトロンスパ
ッタリング法等が利用できる。The metal thin film layer made of silver or an alloy containing silver is formed by sputtering using silver or an alloy containing silver as a target. An inert gas such as argon is used as a sputtering gas, and the pressure is usually 0.1 to 20 mTorr,
Direct current (DC) or high frequency (RF) magnetron sputtering can be used.
【0027】上記の方法により形成した高屈折率透明薄
膜層および金属薄膜層の原子組成は、オージェ電子分光
法(AES)、誘導結合プラズマ法(ICP)、ラザフ
ォード後方散乱法(RBS)等により測定できる。ま
た、これらの層構成および膜厚は、オージェ電子分光の
深さ方向観察、透過型電子顕微鏡による断面観察等によ
り測定できる。また膜厚は、成膜条件と成膜速度の関係
をあらかじめ明らかにした上で成膜を行うことや水晶振
動子等を用いた成膜中の膜厚モニタリングにより、制御
される。The atomic composition of the high refractive index transparent thin film layer and the metal thin film layer formed by the above method is measured by Auger electron spectroscopy (AES), inductively coupled plasma method (ICP), Rutherford backscattering method (RBS) or the like. it can. The layer configuration and the film thickness can be measured by Auger electron spectroscopy observation in the depth direction, cross-sectional observation using a transmission electron microscope, or the like. The film thickness is controlled by clarifying the relationship between the film forming conditions and the film forming speed in advance and by monitoring the film thickness during the film formation using a quartz oscillator or the like.
【0028】本発明においては、上記多層膜を形成した
表面を処理するが、処理に使用する化合物としては、ト
リアジンアミン系化合物、チオジプロピオン酸エステル
系化合物、メルカプトベンゾイミダゾール系化合物、ベ
ンゾイミダゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合
物およびチオカルバミン酸塩よりなる群から選ばれる少
なくとも1種類の化合物がある。これらの化合物を、適
当な溶剤、例えば水、トルエン系溶剤、アルコール系溶
剤、もしくは、5%NaOHの水溶液に0.001〜
0.5重量%、好ましくは0.005〜0.1重量%の
割合で溶かし、その溶液を、上記積層膜を形成した表面
に塗布し乾燥させる。乾燥後、端面を水もしくはアルコ
ール系溶剤で洗浄してもよい。塗布方法としてはディッ
プ法やスピンコート法、マイクログラビア法、リバース
ロール法等があり、それぞれ適用できるが、数枚程度の
処理の場合、ディップ法が適している。また、供試体が
小さい場合には、スピンコート法が好適に利用できる。In the present invention, the surface on which the multilayer film is formed is treated, and the compounds used for the treatment include triazineamine compounds, thiodipropionate compounds, mercaptobenzimidazole compounds, and benzimidazole compounds. There is at least one compound selected from the group consisting of compounds, benzotriazole compounds and thiocarbamates. These compounds are added to a suitable solvent, for example, water, a toluene solvent, an alcohol solvent, or an aqueous solution of 5% NaOH in an amount of 0.001 to 0.001
It is dissolved at a rate of 0.5% by weight, preferably 0.005 to 0.1% by weight, and the solution is applied to the surface on which the laminated film is formed and dried. After drying, the end face may be washed with water or an alcohol solvent. As a coating method, there are a dipping method, a spin coating method, a microgravure method, a reverse roll method, and the like, and each of them can be applied. When the specimen is small, the spin coating method can be suitably used.
【0029】さらに、銀薄膜層を含む調光フィルムの多
層膜形成面には、上記処理後に、透明樹脂層を設ける。
透明樹脂層としては、アクリル系樹脂、シリコン系樹
脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、フッ素系樹脂等
が挙げられる。特に好ましくは紫外線硬化型の樹脂が好
ましく用いられる。透明樹脂層の形成には、用いる樹脂
によって、印刷、塗工する方法など従来公知の方法を選
定して用いることができ、その厚さは、これもまた特に
限定されるものではないが、1μm〜50μm程度であ
る。透明樹脂層は、単層であっても複数の樹脂層からな
るものでも良い。さらに、銀薄膜層を含む調光フィルム
の薄膜層の安定性を向上させるために、透明樹脂が、ト
リアジンアミン系化合物、チオジプロピオン酸エステル
系化合物、ペルカプトベンゾイミダゾール系化合物、ベ
ンゾイミダゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合
物およびチオカルバミン酸塩よりなる群から選ばれる少
なくとも1種の化合物を含有する紫外線硬化樹脂であっ
てもよい。なお、金属層が銀合金であっても当該処理が
耐環境性を向上させるのに有効であることは言うまでも
ない。Further, on the surface of the light control film including the silver thin film layer on which the multilayer film is formed, a transparent resin layer is provided after the above treatment.
Examples of the transparent resin layer include an acrylic resin, a silicon resin, a melamine resin, a urethane resin, and a fluorine resin. Particularly preferably, an ultraviolet curable resin is preferably used. For the formation of the transparent resin layer, a conventionally known method such as a printing method or a coating method can be selected and used depending on the resin to be used, and the thickness thereof is not particularly limited. About 50 μm. The transparent resin layer may be a single layer or a plurality of resin layers. Furthermore, in order to improve the stability of the thin film layer of the light control film including the silver thin film layer, the transparent resin is made of a triazineamine compound, a thiodipropionate compound, a percaptobenzimidazole compound, a benzimidazole compound. UV-curable resins containing at least one compound selected from the group consisting of benzotriazole-based compounds and thiocarbamates. Needless to say, even if the metal layer is a silver alloy, the treatment is effective for improving environmental resistance.
【0030】本発明においては、透明基体(A)の一方
の主面上に、上記した調光フィルム(B)を貼り合わせ
るが、この貼り合わせには、任意の粘着材または接着剤
を使用できる。粘着剤または接着剤は、実用上の接着強
度があればシート上のものでも液状のものでもよく、粘
着シート貼り付けた後、または接着材塗布後に、各部材
をラミネートすることによって貼り合わせを行う。液状
のものは塗布、貼り合わせ後に室温放置または加熱によ
り硬化する接着剤であり、塗布方法としては、バーコー
ト法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコー
ト法、ロールコート法等が挙げられる。どれを西洋する
かは、接着剤の種類、粘度、塗布量等を考慮して、選定
される。粘着材もしくは接着剤層の厚みは、特に限定さ
れるものではないが、0.5μm〜50μm、好ましく
は1μm〜30μmである。In the present invention, the above-mentioned light control film (B) is bonded on one main surface of the transparent substrate (A), and any adhesive or adhesive can be used for this bonding. . The pressure-sensitive adhesive or adhesive may be on the sheet or in a liquid state as long as it has a practical adhesive strength. After the pressure-sensitive adhesive sheet is attached, or after the adhesive is applied, the members are laminated by laminating each member. . The liquid material is an adhesive that is cured by being left at room temperature or heated after application and bonding, and examples of application methods include a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, and a roll coating method. Which one to westernize is selected in consideration of the type of adhesive, viscosity, application amount, and the like. The thickness of the pressure-sensitive adhesive or adhesive layer is not particularly limited, but is 0.5 μm to 50 μm, and preferably 1 μm to 30 μm.
【0031】本発明においては、〔図3〕、〔図4〕に
示すように、上記のように製作した光学フィルターの少
なくとも1つの主面にアンチニュートンリングフィルム
をさらに張り合わせるか、もしくは、アンチニュートン
リング層を形成してもよい。本発明でいうところのアン
チニュートンリングフィルムとは、透明高分子フィルム
の表面に0.1〜10μm程度の微小な凹凸を付けるこ
とにより、当該フィルムが剛性の高い基板、例えばガラ
ス板上に接触した場合にフィルムと基板の間でニュート
ンリングの発生を防止することができるフィルムであ
る。上記目的に用いることができる透明高分子フィルム
としてはやはり、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
ーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタ
レート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケト
ン、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリイミド、
トリアセチルセルロース、ポリメチルメタクリレート等
があげられるが、適当な耐熱性をもつことからポリエチ
レンテレフタレートが好適に用いられる。In the present invention, as shown in FIGS. 3 and 4, an anti-Newton ring film is further laminated on at least one principal surface of the optical filter manufactured as described above, or A Newton ring layer may be formed. The anti-Newton ring film referred to in the present invention is a film in which the film is in contact with a highly rigid substrate, for example, a glass plate, by providing fine irregularities of about 0.1 to 10 μm on the surface of the transparent polymer film. In this case, the film can prevent Newton's ring from being generated between the film and the substrate. As the transparent polymer film that can be used for the above purpose, polyethylene terephthalate, polyether sulfone, polystyrene, polyethylene naphthalate, polyarylate, polyether ether ketone, polycarbonate, polypropylene, polyimide,
Triacetyl cellulose, polymethyl methacrylate and the like can be mentioned, but polyethylene terephthalate is preferably used because it has appropriate heat resistance.
【0032】表面に微小な凹凸をつける方法としては、
機械的に表面に凹凸を付ける方法や、適当な粒径をもつ
フィラー(粒子)を樹脂と共に塗布する方法があるが、
要は適当な凹凸をつけることが重要であり、かならずし
も上記方法に限定されるものではない。なお、アンチニ
ュートンリングフィルムの厚みとしては作業上および工
程上の限定があるだけであり、原理的な限定があるわけ
ではない。作業上は、25〜200μmが適当である。
具体的には、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミ
ン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂等の熱硬化
型又は光硬化型樹脂に、シリカ、メラミン、アクリル等
の無機化合物または有機化合物の粒子を分散させたイン
キ化したものを、バーコート法、リバースコート法、グ
ラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等によ
って基体上に塗布、硬化させる。粒子の平均粒径は、1
〜40μmであり、ノングレア層またはアンチニュート
ンリング層のヘイズは0.5%以上5%以下であり、好
ましくは0.5%以上3%以下である。ヘイズが小さす
ぎるとアンチニュートンリング能が不十分であり、ヘイ
ズが大きすぎると、平行光線透過率が低くなり、ディス
プレイの視認性が悪くなる恐れがある。As a method of providing minute irregularities on the surface,
There is a method of mechanically making the surface uneven, and a method of applying a filler (particle) having an appropriate particle size together with the resin.
In short, it is important to provide appropriate unevenness, and it is not always limited to the above method. The thickness of the anti-Newton ring film is limited only in terms of work and process, and is not limited in principle. In operation, 25 to 200 μm is appropriate.
Specifically, particles of a thermosetting or light-curing resin such as an acrylic resin, a silicone resin, a melamine resin, a urethane resin, or an alkyd resin, silica, melamine, particles of an inorganic compound or an organic compound such as acryl, Is dispersed on a substrate and applied and cured by a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, a roll coating method, or the like. The average particle size of the particles is 1
The non-glare layer or the anti-Newton ring layer has a haze of 0.5% to 5%, preferably 0.5% to 3%. When the haze is too small, the anti-Newton ring ability is insufficient, and when the haze is too large, the parallel light transmittance is reduced, and the visibility of the display may be deteriorated.
【0033】さらに、アンチニュートンリングフィルム
はディスプレーの面への外光の写り込みを防止する効果
もあり、アンチニュートンリングの能力と防眩性能の両
方を期待できるのである。Further, the anti-Newton ring film has an effect of preventing external light from being reflected on the surface of the display, and both anti-Newton ring performance and anti-glare performance can be expected.
【0034】かくして、本発明におけるディスプレー用
の光学フィルターの構成としては、〔図2〕に示すよう
な透明基体(A)20/調光フィルム(B)10、アン
チニュートンリングフィルム/透明基体(A)/調光フ
ィルム(B)、透明基体(A)/調光フィルム(B)/
アンチニュートンリングフィルム、〔図3〕に示すよう
なアンチニュートンリングフィルム80/透明基体
(A)20/調光フィルム(B)10/アンチニュート
ンリングフィルム80、等を得ることができる。なお、
透明基体と調光フィルムやアンチニュートンリングフィ
ルムを、粘着剤や接着剤で貼り合わせることで光学フィ
ルターを構成することができるが、アンチニュートンリ
ングフィルムは貼り合わせる代わりに、〔図4〕に示す
ように基体表面や調光フィルム表面に塗布法によりアン
チニュートンリング層80を形成することも可能であ
る。この場合のアンチニュートンリング層とは、上記ア
ンチニュートンリングフィルムと同様の作用効果を奏す
る層である。Thus, the constitution of the optical filter for display in the present invention is as follows: transparent substrate (A) 20 / light control film (B) 10, anti-Newton ring film / transparent substrate (A) as shown in FIG. ) / Light control film (B), transparent substrate (A) / light control film (B) /
An anti-Newton ring film, an anti-Newton ring film 80 / a transparent substrate (A) 20 / a light control film (B) 10 / an anti-Newton ring film 80 as shown in FIG. 3 can be obtained. In addition,
An optical filter can be formed by bonding a transparent substrate and a light control film or an anti-Newton ring film with an adhesive or an adhesive, but instead of bonding an anti-Newton ring film, as shown in FIG. It is also possible to form the anti-Newton ring layer 80 on the substrate surface or the light control film surface by a coating method. The anti-Newton ring layer in this case is a layer having the same function and effect as the above-mentioned anti-Newton ring film.
【0035】なお、本発明において、色目や色度の調整
や近赤外線の吸収のため有機もしくは無機の色素を導入
することが、性能向上に有効であることは当業者には容
易に理解できるであろう。その際、色素を導入する方法
としてはフィルムへの練り込みや塗布樹脂に含有させ透
明基体に塗ることができるのは言うまでもない。In the present invention, it is easily understood by those skilled in the art that the introduction of an organic or inorganic dye for adjusting the tint or chromaticity or for absorbing near-infrared rays is effective for improving the performance. There will be. At this time, as a method for introducing the dye, it goes without saying that the dye can be kneaded into a film or contained in a coating resin and applied to a transparent substrate.
【0036】また、アンチニュートンリング処理や、ア
ンチグレア処理の代わりに、もしくは、併用して反射防
止処理を施すことや、また、表面に疎水性の防汚処理を
施すことができること、さらに、静電気防止のために導
電層を適宜設けることは当業者の設計の範囲内であろ
う。The anti-reflection treatment can be performed instead of or in combination with the anti-Newton ring treatment or the anti-glare treatment, and the surface can be subjected to a hydrophobic anti-fouling treatment. Properly providing a conductive layer for this would be within the purview of those skilled in the art.
【0037】[0037]
【実施例】つぎに、本発明を実施例により具体的に説明
する。本発明はこれらによりなんら制限されるものでは
ない。なお、以下の実施例および比較例で示す薄膜の厚
さは、成膜条件から求めた値であり、実際に測定した膜
厚ではない。Next, the present invention will be described in detail with reference to examples. The present invention is not limited by these. Note that the thicknesses of the thin films shown in the following examples and comparative examples are values obtained from film forming conditions, and are not actually measured film thicknesses.
【0038】[実施例1]透明高分子フィルムとしての
ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ:50μ
m)の一方の主面に、ターゲットにインジウムを、スパ
ッタガスにアルゴン・酸素混合ガス(全圧266mP
a:酸素分圧80mPa)を用いて、酸化インジウム薄
膜を、ターゲットに銀を、スパッタガスにアルゴンガス
(全圧266mPa)を用いて銀薄膜を、マグネトロン
DCスパッタリング法により、酸化インジウム薄膜40
nm、銀薄膜12nm、酸化インジウム薄膜70nm、
銀薄膜10nm、酸化インジウム薄膜70nm、銀薄膜
12nm、酸化インジウム薄膜70nm、銀薄膜10n
m、酸化インジウム薄膜30nmの順に積層した。ここ
で、積層膜表面にベンゾイミダゾールを0.01重量%
溶かしたエタノール液を塗布乾燥させ、さらに、透明樹
脂層として、アクリル系樹脂をスクリーン印刷にて20
μm形成し、上記樹脂を紫外線で硬化させることにより
本発明の調光フィルムを作製した。次に、厚さ2mmの
PMMA板(両面フラット)に、透明樹脂が外側になる
ように上記調光フィルムを貼り合わせ本発明のディスプ
レイ用光学フィルターを作製し、〔図2〕に示す構成の
ディスプレイ用光学フィルターを得た。Example 1 A polyethylene terephthalate film (thickness: 50 μm) as a transparent polymer film
m) on one main surface, indium as a target, and an argon / oxygen mixed gas (total pressure 266 mP) as a sputtering gas.
a: an indium oxide thin film using oxygen partial pressure of 80 mPa), silver as a target, silver thin film using an argon gas (total pressure of 266 mPa) as a sputtering gas, and an indium oxide thin film 40 by a magnetron DC sputtering method.
nm, silver thin film 12 nm, indium oxide thin film 70 nm,
Silver thin film 10 nm, indium oxide thin film 70 nm, silver thin film 12 nm, indium oxide thin film 70 nm, silver thin film 10 n
m, and an indium oxide thin film of 30 nm. Here, 0.01% by weight of benzimidazole was added to the surface of the laminated film.
The dissolved ethanol solution is applied and dried, and an acrylic resin is further formed as a transparent resin layer by screen printing.
The light modulating film of the present invention was formed by forming a film having a thickness of μm and curing the resin with ultraviolet rays. Next, the above-mentioned light control film was bonded to a 2 mm thick PMMA plate (both sides flat) so that the transparent resin was on the outside, to produce an optical filter for a display of the present invention. An optical filter was obtained.
【0039】[実施例2]ポリエチレンテレフタレート
フィルム(厚さ:50μm)の一方の主面に、ターゲッ
トに酸化インジウムを、スパッタガスにアルゴン・酸素
混合ガス(全圧266mPa:酸素分圧3mPa)を用
いて、酸化インジウム薄膜を、ターゲットに銀を、スパ
ッタガスにアルゴンガス(全圧266mPa)を用いて
銀薄膜を、マグネトロンDCスパッタリング法により酸
化インジウム薄膜、銀薄膜をマグネトロンDCスパッタ
リング法により、酸化インジウム薄膜40nm、銀薄膜
10nm、酸化インジウム薄膜70nm、銀薄膜10n
m、酸化インジウム薄膜70nm、銀薄膜10nm、酸
化インジウム薄膜60nm、銀薄膜8nm、酸化インジ
ウム薄膜40nm、銀薄膜12nm、酸化インジウム薄
膜20nmの順に積層し、さらに、上記多層膜積層面に
ベンゾイミダゾールチオールを0.02重量%溶かした
エタノール液を塗布し乾燥させた。次に透明樹脂層とし
て、アクリル系樹脂をスクリーン印刷にて20μm形成
し、紫外線で上記樹脂を硬化させることにより、本発明
の調光フィルムを作製した。次に、厚さ2mmのPMM
A板(両面フラット)に、透明樹脂が外側になるように
上記調光フィルムを貼り合わせ本発明のディスプレイ用
光学フィルターを作製し、〔図2〕に示すディスプレイ
用光学フィルターを得た。Example 2 On one main surface of a polyethylene terephthalate film (thickness: 50 μm), indium oxide was used as a target, and a mixed gas of argon and oxygen (total pressure 266 mPa: oxygen partial pressure 3 mPa) was used as a sputtering gas. Then, an indium oxide thin film, a silver thin film using an argon gas (total pressure: 266 mPa) as a sputtering gas, a silver thin film as a target, an indium oxide thin film by a magnetron DC sputtering method, and an indium oxide thin film by a magnetron DC sputtering method. 40 nm, silver thin film 10 nm, indium oxide thin film 70 nm, silver thin film 10 n
m, an indium oxide thin film 70 nm, a silver thin film 10 nm, an indium oxide thin film 60 nm, a silver thin film 8 nm, an indium oxide thin film 40 nm, a silver thin film 12 nm, and an indium oxide thin film 20 nm, stacked in this order, and further, benzimidazole thiol was added to the multilayer film laminated surface. A 0.02% by weight ethanol solution was applied and dried. Next, as a transparent resin layer, an acrylic resin was formed to a thickness of 20 μm by screen printing, and the resin was cured by ultraviolet rays, thereby producing a light control film of the present invention. Next, a PMM with a thickness of 2 mm
An optical filter for a display of the present invention was prepared by laminating the light control film on an A plate (both flat surfaces) so that the transparent resin was on the outside, and an optical filter for a display as shown in FIG. 2 was obtained.
【0040】[実施例3]ポリエチレンテレフタレート
フィルム(厚さ:50μm)の一方の主面に、ターゲッ
トに酸化インジウム(5重量%酸化錫含有)を、スパッ
タガスにアルゴン・酸素混合ガス(全圧266mPa:
酸素分圧4mPa)を用いて、酸化インジウム薄膜を、
ターゲットに銀を、スパッタガスにアルゴンガス(全圧
266mPa)を用いて銀薄膜を、マグネトロンDCス
パッタリング法により酸化インジウム薄膜、銀薄膜をマ
グネトロンDCスパッタリング法により、酸化インジウ
ム薄膜40nm、銀薄膜10nm、酸化インジウム薄膜
70nm、銀薄膜10nm、酸化インジウム薄膜70n
m、銀薄膜10nm、酸化インジウム薄膜60nm、銀
薄膜6nm、酸化インジウム薄膜40nm、銀薄膜6n
m、酸化インジウム薄膜40nm、銀薄膜6nm、酸化
インジウム薄膜20nmの順に積層し、さらに、多層膜
積層面に、ベンゾトリアゾールを0.05重量%溶かし
たエタノール液をディップ法で塗布し乾燥させた。次
に、透明樹脂層として、アクリル系樹脂をスクリーン印
刷にて20μm形成し、紫外線で上記樹脂を硬化させ
た。次に、厚さ2mmのPMMA板(両面フラット)に
貼り合わせた。Example 3 On one main surface of a polyethylene terephthalate film (thickness: 50 μm), indium oxide (containing 5% by weight of tin oxide) was used as a target, and an argon / oxygen mixed gas (total pressure: 266 mPa) was used as a sputtering gas. :
Using an oxygen partial pressure of 4 mPa), the indium oxide thin film is
A silver thin film was formed by using silver as a target, an argon gas (total pressure of 266 mPa) as a sputtering gas, an indium oxide thin film by a magnetron DC sputtering method, and a silver thin film of 40 nm and a silver thin film of 10 nm by a magnetron DC sputtering method. Indium thin film 70 nm, silver thin film 10 nm, indium oxide thin film 70 n
m, silver thin film 10 nm, indium oxide thin film 60 nm, silver thin film 6 nm, indium oxide thin film 40 nm, silver thin film 6 n
m, an indium oxide thin film of 40 nm, a silver thin film of 6 nm, and an indium oxide thin film of 20 nm in this order, and an ethanol solution in which benzotriazole was dissolved at 0.05% by weight was applied to the multilayer film laminated surface by a dip method and dried. Next, an acrylic resin was formed to a thickness of 20 μm by screen printing as a transparent resin layer, and the resin was cured by ultraviolet rays. Next, it was bonded to a 2 mm thick PMMA plate (both sides flat).
【0041】さらに、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム(厚さ:50μm)の一方の主面に、大日本インキ
化学工業(株)製熱硬化ニス(SF−C−335)3g
をトルエン/メチルケトン(10:1)の混合溶媒10
0gに溶解して、塗布、自然乾燥後、150℃で20秒
間硬化させて1μm厚のアンチニュートンリング層を形
成し、アンチニュートンリングフィルムを作製し、これ
を貼り合わせることにより、アンチニュートンリングフ
ィルム/アクリル板/調光フィルム/アンチニュートン
リングフィルムの構成になる光学フィルターを作製し、
〔図3〕に示すディスプレイ用光学フィルターを得た。Further, 3 g of thermosetting varnish (SF-C-335) manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. was applied to one main surface of the polyethylene terephthalate film (thickness: 50 μm).
To a toluene / methyl ketone (10: 1) mixed solvent 10
0 g, applied, air dried, cured at 150 ° C. for 20 seconds to form an anti-Newton ring film having a thickness of 1 μm to form an anti-Newton ring film, which was laminated to form an anti-Newton ring film. / Acrylic plate / Light control film / Anti-Newton ring film
The optical filter for a display shown in FIG. 3 was obtained.
【0042】[実施例4]ベンゾイミダゾールの代わり
に、トリアジンアミン系化合物を用いた以外は実施例1
と同様の手順でディスプレイ用光学フィルターを作製
し、〔図2〕に示すディスプレイ用光学フィルターを得
た。Example 4 Example 1 was repeated except that a triazineamine compound was used instead of benzimidazole.
An optical filter for a display was produced in the same procedure as described above, and an optical filter for a display shown in FIG. 2 was obtained.
【0043】[実施例5]ベンゾイミダゾールの代わり
にチオカルバミン酸塩を用いた以外は実施例1と同様の
手順でディスプレイ用光学フィルターを作製し、〔図
2〕に示すディスプレイ用光学フィルターを得た。Example 5 An optical filter for a display was produced in the same procedure as in Example 1 except that thiocarbamate was used instead of benzimidazole, and an optical filter for a display shown in FIG. 2 was obtained. Was.
【0044】[比較例1]積層膜の表面処理をしなかっ
たことを除いて、実施例1と同様の手順でディスプレイ
用光学フィルターを製作した。Comparative Example 1 An optical filter for a display was manufactured in the same procedure as in Example 1 except that the surface treatment of the laminated film was not performed.
【0045】[比較例2]積層膜の表面処理をしなかっ
たのを除いて、実施例2と同様の手順でディスプレイ用
光学フィルターを製作した。Comparative Example 2 An optical filter for a display was manufactured in the same procedure as in Example 2 except that the surface treatment of the laminated film was not performed.
【0046】[比較例3]積層膜の表面処理をしなかっ
たのを除いて、実施例3と同様の手順でディスプレイ用
光学フィルターを製作した。Comparative Example 3 An optical filter for a display was manufactured in the same procedure as in Example 3 except that the surface treatment of the laminated film was not performed.
【0047】可視光線透過率(Tvis )及び近赤外線
透過率 (株)日立製作所製分光光度計(U−3400)により
300〜1000nmの平行光線透過率を測定した。こ
こで求めた透過率からTvis を計算した。近赤外線透過
率は820mn、850nm、1000nmで評価を行
った。以上の結果を〔表1〕に掲げる。Visible light transmittance (Tvis) and near-infrared light transmittance The parallel light transmittance of 300 to 1000 nm was measured with a spectrophotometer (U-3400) manufactured by Hitachi, Ltd. Tvis was calculated from the transmittance determined here. The near-infrared transmittance was evaluated at 820 nm, 850 nm, and 1000 nm. The above results are shown in [Table 1].
【0048】[0048]
【表1】 〔表1〕から明らかなように、実施例1〜5及び比較例
1〜3とも、大きな赤外線抑止能を有している。[Table 1] As is clear from Table 1, Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 have a large infrared ray suppressing ability.
【0049】湿熱試験 次に実施例1〜5および比較例1〜3で作製した光学フ
ィルターを60℃、相対湿度90%の湿熱槽に500時
間放置し、取り出して、光学特性を調べた。その結果を
〔表2〕に示す。Next, the optical filters produced in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3 were left in a wet heat tank at 60 ° C. and a relative humidity of 90% for 500 hours, taken out, and examined for optical characteristics. The results are shown in [Table 2].
【0050】[0050]
【表2】 [Table 2]
【0051】実施例1〜5においては特に外観上の変化
はなかったが、比較例1〜3ではフィルターの全面が5
00時間後には白化してしまった。上記実施例1〜5お
よび比較例1〜3より、本発明のディスプレイ用光学フ
ィルターは、優れた近赤外線遮断能力を持つばかりでな
く、優れた耐環境性を兼ね備えたものであることがわか
る。In Examples 1 to 5, there was no particular change in appearance, but in Comparative Examples 1 to 3, the entire surface of the filter was 5%.
After 00 hours, it turned white. From Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3, it can be seen that the optical filter for a display of the present invention not only has excellent near-infrared shielding ability but also has excellent environmental resistance.
【0052】[0052]
【発明の効果】以上のごとく本発明によれば、調光フィ
ルムの積層膜の表面がトリアジンアミン系化合物、メル
カプトベンゾイミダゾール系化合物、チオジプロピオン
酸エステル系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ベ
ンゾトリアゾール系化合物およびチオカルバミン酸塩よ
りなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物により処
理されている構成をとることにより、耐環境性に優れ、
かつ、近赤外線遮断能に優れた光学フィルターを提供す
ることができる。As described above, according to the present invention, the surface of the laminated film of the light control film has a triazineamine compound, a mercaptobenzimidazole compound, a thiodipropionate compound, a benzimidazole compound, a benzotriazole compound. By being treated with at least one compound selected from the group consisting of a compound and a thiocarbamate, the composition has excellent environmental resistance,
In addition, an optical filter having excellent near-infrared blocking ability can be provided.
【図1】本発明のディスプレイ用光学フィルターに用い
る調光フィルムの構成の一例を示す断面図FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of a light control film used for an optical filter for a display according to the present invention.
【図2】本発明のディスプレイ用光学フィルターの構成
の一例を示す断面図FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating an example of a configuration of an optical filter for a display according to the present invention.
【図3】本発明のディスプレイ用光学フィルターの構成
の一例を示す断面図FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating an example of the configuration of an optical filter for a display according to the present invention.
【図4】本発明のディスプレイ用光学フィルターの構成
の一例を示す断面図FIG. 4 is a sectional view showing an example of the configuration of the optical filter for a display of the present invention.
10 調光フィルム 20 透明基体 30 透明高分子フィルム 40 金属薄膜層(銀もしくは銀を主体とする合金の薄
膜層9 50 高屈折率透明薄膜層 60 透明樹脂層 70 粘着剤層または接着剤層 80 アンチニュートンリングフィルムもしくはアンチ
ニュートンリング層 90 処理面Reference Signs List 10 light control film 20 transparent substrate 30 transparent polymer film 40 metal thin film layer (silver or silver-based alloy thin film layer 9 50 high refractive index transparent thin film layer 60 transparent resin layer 70 adhesive layer or adhesive layer 80 anti Newton ring film or anti-Newton ring layer 90 Treated surface
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小山 正人 愛知県名古屋市南区丹後通2丁目1番地 三井東圧化学株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (72) Inventor Masato Koyama 2-1-1 Tango-dori, Minami-ku, Nagoya-shi, Aichi Mitsui Toatsu Chemicals Co., Ltd.
Claims (5)
くとも、調光フィルム(B)が貼り合わされたディスプ
レー用フィルターにして、該調光フィルム(B)が、透
明高分子フィルム(C)の一方の主面上に、少なくとも
高屈折率透明薄膜層(D)、金属薄膜層(E)が順次、
(D)/(E)を繰り返し単位として4回以上繰り返し
積層され、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜
層(D)が積層され、さらに、その上に透明樹脂層
(F)が形成されてなる、可視光線透過率50%以上で
あり、波長820nm〜1000nmの光に対する光線
透過率が10%以下であることを特徴とするフィルムで
あって、該透明樹脂層(F)を形成する前に積層膜表面
が、トリアジンアミン系化合物、メルカプトベンゾイミ
ダゾール系化合物、チオジプロピオン酸エステル系化合
物、ベンゾイミダゾール系化合物、ベンゾトリアゾール
系化合物およびチオカルバミン酸塩よりなる群から選ば
れる少なくとも1種の化合物で処理されているディスプ
レイ用光学フィルター。1. A display filter comprising at least one light control film (B) laminated on one main surface of a transparent substrate (A), wherein the light control film (B) is a transparent polymer film ( At least one high refractive index transparent thin film layer (D) and a metal thin film layer (E) are sequentially formed on one main surface of C).
(D) / (E) is repeated four or more times as a repeating unit, and at least a high-refractive-index transparent thin film layer (D) is further laminated thereon, and a transparent resin layer (F) is further formed thereon. A film having a visible light transmittance of 50% or more and a light transmittance of 10% or less for light having a wavelength of 820 nm to 1000 nm before forming the transparent resin layer (F). The laminated film surface has at least one compound selected from the group consisting of a triazineamine compound, a mercaptobenzimidazole compound, a thiodipropionate compound, a benzimidazole compound, a benzotriazole compound and a thiocarbamate. Optical filters for displays that have been treated with.
酸化インジウムで構成されることを特徴とする請求項1
記載のディスプレイ用光学フィルター。2. The high-refractive-index transparent thin film layer (D) is mainly composed of indium oxide.
The optical filter for a display according to the above.
とする合金であることを特徴とする請求項1又は2記載
のディスプレイ用光学フィルター。3. The optical filter for a display according to claim 1, wherein the metal thin film layer (E) is silver or an alloy mainly containing silver.
とも1つの主面にアンチニュートンリングフィルムをさ
らに張り合わせるか、もしくは、アンチニュートン層を
形成した構成のディスプレイ用光学フィルター。4. An optical filter for a display, wherein an anti-Newton ring film is further attached to at least one main surface of the optical filter according to claim 1, or an anti-Newton layer is formed.
る請求項1〜4のいずれかに記載のディスプレイ用光学
フィルター。5. The optical filter for a display according to claim 1, which can be suitably used for a plasma display.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8230122A JPH1073721A (en) | 1996-08-30 | 1996-08-30 | Optical filter for display |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8230122A JPH1073721A (en) | 1996-08-30 | 1996-08-30 | Optical filter for display |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1073721A true JPH1073721A (en) | 1998-03-17 |
Family
ID=16902919
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8230122A Pending JPH1073721A (en) | 1996-08-30 | 1996-08-30 | Optical filter for display |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1073721A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000098131A (en) * | 1998-09-28 | 2000-04-07 | Nitto Denko Corp | Filter for plasma display panel |
JP2000105312A (en) * | 1998-09-30 | 2000-04-11 | Nitto Denko Corp | Filter for plasma display panel |
JP2007206723A (en) * | 1998-12-04 | 2007-08-16 | Seiko Epson Corp | Electro-optical panel, electro-optical panel module, and projection display device |
-
1996
- 1996-08-30 JP JP8230122A patent/JPH1073721A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000098131A (en) * | 1998-09-28 | 2000-04-07 | Nitto Denko Corp | Filter for plasma display panel |
JP2000105312A (en) * | 1998-09-30 | 2000-04-11 | Nitto Denko Corp | Filter for plasma display panel |
JP2007206723A (en) * | 1998-12-04 | 2007-08-16 | Seiko Epson Corp | Electro-optical panel, electro-optical panel module, and projection display device |
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