JP2002006106A - Filter for plasma display panel and plasma display panel display device - Google Patents
Filter for plasma display panel and plasma display panel display deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマデイスプ
レイパネル(以下、PDPという)に使用されるフイル
タと、これを使用したPDP表示装置とに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a filter used for a plasma display panel (hereinafter, referred to as a PDP) and a PDP display using the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】社会の情報化が著しく進む今日、端末と
して画像を表示するデイスプレイに要求される性能もま
すます多様化してきている。その中でも、PDPは、大
型化、薄型化が容易であり、CRT、液晶に続く、新規
なデイスプレイとして最も注目されており、すでに市場
に出回つている。2. Description of the Related Art In today's society, computerization has been remarkably progressing, and the performance required for displays for displaying images as terminals has been diversified. Among them, PDPs are easy to increase in size and thickness, are attracting the most attention as new displays following CRTs and liquid crystals, and are already on the market.
【0003】PDPは、パネル内に封入された希ガス、
とくにネオンを主体としたガス中で放電を発生させ、そ
の際に発生する真空紫外線により、パネルのセルに塗ら
れたR、G、Bの蛍光体を発生させる。この発光過程に
おいて、PDPの作動には不必要な電磁波と近赤外線が
同時に放出される。電磁波は、周辺機器への誤動作を引
き起こしたり、人体へ悪影響を及ぼすため、カツトする
必要がある。近赤外線は、波長が850〜1,200n
mで、家電製品、カラオケ、音響映像機器などのリモ―
トコントロ―ラの受光感度が700〜1,300nmの
ため、このコントロ―ラを誤動作させる問題があり、や
はりカツトする必要がある。[0003] PDP is a rare gas sealed in a panel,
In particular, a discharge is generated in a gas mainly composed of neon, and the R, G, B phosphors applied to the cells of the panel are generated by the vacuum ultraviolet rays generated at that time. In this light emission process, electromagnetic waves and near infrared rays unnecessary for the operation of the PDP are simultaneously emitted. Electromagnetic waves need to be cut because they cause malfunctions to peripheral devices and adversely affect the human body. Near infrared has a wavelength of 850 to 1,200 n
m, remote control of home appliances, karaoke, audiovisual equipment, etc.
Since the light receiving sensitivity of the controller is 700 to 1,300 nm, there is a problem that the controller malfunctions, and it is necessary to cut the controller.
【0004】電磁波および近赤外線をカツトするため
に、従来より、種々の方法が試みられている。たとえ
ば、透明基体の表面にシ―ルド層として金属薄膜を高屈
折率透明薄膜で挟んだ構成の透明多層膜を設け、このフ
イルタをPDPの前面に透明基体の裏面に設けた透明接
着剤層を介して直貼りするか、あるいはガラス板や硬質
樹脂板などの透明成形体に貼りつけてPDP用前面板と
し、これを空気層を介してPDPの前面に配設する方法
が知られている。ここで、上記のシ―ルド層では、金属
薄膜の有する導電性と赤外線反射特性を利用でき、高屈
折率透明薄膜により金属薄膜表面での可視光の反射を防
止する機能を付与できる。[0004] In order to cut electromagnetic waves and near infrared rays, various methods have hitherto been attempted. For example, a transparent multilayer film having a structure in which a metal thin film is sandwiched between high-refractive-index transparent thin films is provided as a shield layer on the surface of a transparent substrate, and this filter is provided on the front surface of a PDP with a transparent adhesive layer provided on the back surface of the transparent substrate. There is known a method in which a PDP front plate is attached directly to the front of a PDP via an air layer, or is attached to a transparent molded body such as a glass plate or a hard resin plate to form a front plate for a PDP. Here, in the above-mentioned shield layer, the conductivity and infrared reflection properties of the metal thin film can be utilized, and a function of preventing reflection of visible light on the surface of the metal thin film can be imparted by the high refractive index transparent thin film.
【0005】このようなPDP用フイルタでは、その導
電面とPDPとの間を電気的に導通させて、ア―スを取
る必要がある。ア―スを取らないと、上記フイルタに電
荷が帯電してフイルタ自体がアンテナとなり、新たに電
磁波を発振するなどの不都合を生じやすくなる。このた
め、従来では、上記のPDP用フイルタの周縁部に、金
属膜を形成したり、導電ペ―ストを塗布したり、導電性
粘着テ―プを貼り合わせるなどして、電極を形成するよ
うにしている。In such a PDP filter, it is necessary to electrically connect the conductive surface of the PDP to the PDP and to ground the PDP. If the filter is not taken, electric charges are charged to the filter, and the filter itself becomes an antenna, which tends to cause inconvenience such as newly oscillating electromagnetic waves. For this reason, conventionally, an electrode is formed by forming a metal film, applying a conductive paste, or bonding a conductive adhesive tape on the peripheral portion of the PDP filter. I have to.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のPDP
用フイルタは、シ―ルド層がPDPより遠ざかつた位
置、つまり透明基体上の透明接着剤層とは反対側の露出
表面側の位置にあり、またそのためにシ―ルド層上に表
面耐擦傷性や耐湿熱保存性を向上させる保護層などを設
けているため、フイルタ周縁部に形成する電極とシ―ル
ド層(の導電面)とを電気的に接続するのに面倒な加工
が必要となつたり、PDP側との電気的導通をとりにく
く、PDPへの組み付け性に劣つていた。However, conventional PDPs
The filter is located at a position where the shield layer is farther from the PDP, that is, at a position on the exposed surface side opposite to the transparent adhesive layer on the transparent substrate. And a protective layer to improve the heat and humidity storage stability, it requires troublesome processing to electrically connect the electrode formed on the periphery of the filter and (the conductive surface of) the shield layer. Or electrical conduction with the PDP side was difficult, and the assemblability to the PDP was poor.
【0007】本発明は、このような事情に照らして、P
DPとの間の電気的導通を容易に行うことができる、P
DPへの組み付け性にすぐれたPDP用フイルタとこれ
を使用したPDP表示装置を提供することを目的として
いる。[0007] In view of such circumstances, the present invention provides a P
An electrical connection with the DP can be easily performed.
It is an object of the present invention to provide a PDP filter excellent in assemblability into a DP and a PDP display device using the same.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するため、鋭意検討した結果、透明基体の表面に
透明多層膜などからなるシ―ルド層を設け、この上にP
DPに対向させる透明接着剤層を積層し、かつシ―ルド
層の導電面の周縁部に電極を形成して、これを透明接着
剤層の側面に沿つてPDPの前面側まで延設する構成と
すると、PDPとの電気的導通を容易にとれるPDP用
フイルタが得られることを見い出した。すなわち、この
PDP用フイルタは、シ―ルド層上の上記電極がPDP
側に位置してかつシ―ルド層の導電面に直接形成され、
さらにこれがPDPの前面側まで延設されていることか
ら、これとPDPとの電気的導通を容易にとれ、PDP
への組み付け性にすぐれたものとなることがわかつた。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, provided a shield layer made of a transparent multilayer film or the like on the surface of a transparent substrate.
A structure in which a transparent adhesive layer facing the DP is laminated, electrodes are formed on the periphery of the conductive surface of the shield layer, and the electrodes are extended to the front side of the PDP along the side surfaces of the transparent adhesive layer. Then, it was found that a PDP filter capable of easily establishing electrical conduction with the PDP was obtained. That is, in this PDP filter, the electrode on the shield layer is a PDP.
Side and directly on the conductive surface of the shield layer,
Further, since this extends to the front side of the PDP, electrical conduction between the PDP and the PDP can be easily achieved, and the PDP can be easily connected.
It has been found that it is easy to assemble into the device.
【0009】また、このように構成したPDP用フイル
タは、透明接着剤層を介してPDPの前面表示部に直貼
りできるので、軽量、薄型で、PDPとの間に空気層を
介する必要のない、したがつて、二重反射が起こるおそ
れのない、視認性にすぐれた直貼りタイプのフイルタと
して利用することができ、それによりシ―ルド層本来の
機能を良好に発現でき、とくに前記したPDPとの電気
的導通をとることで、電磁波シ―ルド効果をより良く発
現できることがわかつた。さらに、上記直貼り状態では
シ―ルド層が透明基体で覆われた状態となるため、従来
のようにシ―ルド層上に保護層を設けなくても良好な表
面耐擦傷性や耐湿熱保存性を得ることができ、また上記
直貼りによりPDPと一体化されるので、PDPが破損
した際の破片の飛散防止にも好結果が得られることもわ
かつた。The PDP filter thus configured can be directly attached to the front display of the PDP via the transparent adhesive layer, so that it is lightweight and thin, and does not require an air layer between the filter and the PDP. Therefore, the filter can be used as a direct-attached type filter having excellent visibility, which does not cause double reflection, and thereby the original function of the shield layer can be well exhibited. It has been found that by establishing electrical continuity with the electromagnetic wave, the electromagnetic shielding effect can be better exhibited. Furthermore, since the shield layer is covered with the transparent substrate in the above directly attached state, even if a protective layer is not provided on the shield layer as in the related art, good surface scratch resistance and moisture heat storage can be obtained. It was also found that good results could be obtained in that the PDP was integrated with the PDP by the above-mentioned direct bonding, and that fragments could be prevented from scattering when the PDP was damaged.
【0010】本発明は、以上の知見をもとに完成された
ものである。すなわち、本発明は、透明基体と、この透
明基体の表面に電磁波および/または近赤外線をシ―ル
ドするシ―ルド層を介して積層された透明接着剤層と、
上記シ―ルド層の導電面の周縁部に位置する電極とを備
え、上記の透明接着剤層を介してPDPの前面表示部に
直貼りされるPDP用フイルタであつて、上記の電極が
上記の透明接着剤層の側面に沿つてPDPの前面側まで
延設されていることを特徴とするPDP用フイルタに係
るものである。とくに、本発明は、上記の電極が、シ―
ルド層の側面を経て透明基体の側面および裏面の周縁部
を包み込む位置まで延設されている上記構成のPDP用
フイルタ、また上記の電極が、金属箔を構成材の少なく
ともひとつとする上記構成のPDP用フイルタを提供で
きるものである。The present invention has been completed based on the above findings. That is, the present invention provides a transparent substrate, a transparent adhesive layer laminated on a surface of the transparent substrate via a shield layer for shielding electromagnetic waves and / or near infrared rays,
An electrode located on the periphery of the conductive surface of the shield layer, and a PDP filter directly attached to the front display of the PDP via the transparent adhesive layer, wherein the electrode is And extending to the front side of the PDP along the side surface of the transparent adhesive layer. In particular, according to the present invention, the electrode
PDP filter of the above configuration extending to a position wrapping the peripheral portion of the side surface and the back surface of the transparent substrate through the side surface of the shield layer, and the above electrode, wherein the electrode has a metal foil as at least one of the constituent materials. A filter for a PDP can be provided.
【0011】また、本発明は、このようなPDP用フイ
ルタのとくに好ましい態様として、シ―ルド層が金属薄
膜と高屈折率透明薄膜を繰り返し積層した透明多層膜か
らなり、透明基体の裏面に反射防止層および/またはア
ンチグレア層を備えて、可視光透過率が50%以上、可
視光反射率が10%以下、近赤外線(波長:800〜
1,200nm)透過率が20%以下である上記構成の
PDP用フイルタを提供することができる。さらに、本
発明は、PDPの前面表示部に、上記各構成のPDP用
フイルタをその透明接着剤層を介して直貼りしてなるP
DP表示装置を提供することができる。According to the present invention, as a particularly preferred embodiment of such a filter for a PDP, a shield layer is formed of a transparent multilayer film in which a metal thin film and a high-refractive-index transparent thin film are repeatedly laminated, and the reflection on the back surface of the transparent substrate is provided. A visible light transmittance of 50% or more, a visible light reflectance of 10% or less, a near infrared ray (wavelength: 800 to
(1,200 nm) It is possible to provide a PDP filter having a transmittance of 20% or less. Further, the present invention provides a PDP having the above-described PDP filter directly attached to the front display portion of the PDP via the transparent adhesive layer.
A DP display device can be provided.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面に基づいて、説明する。図1は、本発明のPDP用フ
イルタの一例を示す断面図、図2は、同PDP用フイル
タをPDP側からみた正面図である。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view showing an example of the PDP filter of the present invention, and FIG. 2 is a front view of the PDP filter as viewed from the PDP side.
【0013】図1および図2において、本発明のPDP
用フイルタ100は、透明基体10と、この透明基体1
0の表面に形成された電磁波および/または近赤外線を
シ―ルドするシ―ルド層11と、このシ―ルド層11を
介して積層された透明接着剤層20と、このシ―ルド層
11の導電面の周縁部、たとえば4辺に位置する電極3
0とを備えて、上記の透明接着剤層20を介してPDP
の前面表示部に直貼りされるような構成となつており、
かつ上記の電極30が透明接着剤層20の側面に沿つて
PDPの前面側まで延設されている。Referring to FIGS. 1 and 2, the PDP of the present invention is shown.
The filter for use 100 includes a transparent substrate 10 and the transparent substrate 1.
0, a shield layer 11 for shielding electromagnetic waves and / or near-infrared rays formed on the surface, a transparent adhesive layer 20 laminated via the shield layer 11, and a shield layer 11 Electrodes 3 located on the periphery of the conductive surface of, for example, four sides
0 and PDP through the transparent adhesive layer 20 described above.
It is configured to be directly pasted on the front display section of
In addition, the electrode 30 extends along the side surface of the transparent adhesive layer 20 to the front surface side of the PDP.
【0014】このように構成すると、シ―ルド層11の
周縁部の電極30がPDP側に位置してかつシ―ルド層
11の導電面に直接形成され、またこれがPDPの前面
側まで延設されているため、シ―ルド層11とPDPと
の電気的導通を容易にとれ、PDPへの組み付け性が向
上する。また、透明接着剤層20を介してPDPの前面
表示部に直貼りすることで、シ―ルド層11本来の機能
を発現でき、とくに、PDPとの上記電気的導通で電磁
波シ―ルド効果をより良く発現できる。また、上記直貼
り状態でシ―ルド層11が透明基体10で覆われた状態
となるため、従来のように保護層を設けなくても表面耐
擦傷性や耐湿熱保存性が向上し、とくに外部の湿気や塩
素、硫黄などの雰囲気に対して強い抵抗性が得られる。With this configuration, the electrode 30 at the peripheral edge of the shield layer 11 is located on the PDP side and is formed directly on the conductive surface of the shield layer 11, and this extends to the front side of the PDP. Therefore, electrical conduction between the shield layer 11 and the PDP can be easily achieved, and the assembling property to the PDP is improved. In addition, by directly attaching the shield layer 11 to the front display portion of the PDP via the transparent adhesive layer 20, the original function of the shield layer 11 can be exhibited. Can be better expressed. In addition, since the shield layer 11 is covered with the transparent substrate 10 in the directly attached state, the surface abrasion resistance and the resistance to moist heat preservation can be improved without providing a protective layer as in the conventional case. Strong resistance to external moisture, chlorine and sulfur atmospheres.
【0015】透明基体10としては、可視光領域におけ
る透明性を有して、表面がある程度平滑なものであれば
よい。たとえば、ポリエチレンテレフタレ―ト、トリア
セチルセルロ―ス、ポリエチレンナフタレ―ト、ポリエ
―テルスルホン、ポリカ―ボネ―ト、ポリアクリレ―
ト、ポリエ―テルエ―テルケトン、ポリプロピレン、ポ
リステレン、ポリイミドなどの高分子フイルムが好まし
いが、これらに限定されない。厚さは、ドライプロセス
で熱じわが形成されるなどの問題がなければ、とくに制
限はないが、通常は10〜250μmであるのがよい。The transparent substrate 10 may be any as long as it has transparency in the visible light region and has a somewhat smooth surface. For example, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, polyethylene naphthalate, polyether sulfone, polycarbonate, polyacrylate
And polymer films such as polyetheretherketone, polypropylene, polysterene, and polyimide, but are not limited thereto. The thickness is not particularly limited as long as there is no problem such as formation of heat wrinkles in a dry process, but is usually preferably 10 to 250 μm.
【0016】また、透明基体10の片面もしくは両面に
はハ―ドコ―ト層を設けてもよい。ハ―ドコ―ト材は、
紫外線ないし電子線硬化タイプでも熱硬化タイプでもよ
い。紫外線ないし電子線硬化タイプには、エステル系、
アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコ―ン系、エ
ポキシ系、アクリル・ウレタン系、アクリル・エポキシ
系などのモノマ―やオリゴマ―に光重合開始剤を配合し
たものなどがあり、電子線硬化タイプでは光重合開始剤
は含ませなくてもよい。熱硬化タイプには、フエノ―ル
系、尿素系、メラミン系、不飽和ポリエステル系、ポリ
ウレタン系、エポキシ系などの樹脂に、必要に応じて架
橋剤、重合開始剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤など
を配合したものなどが挙げられる。ハ―ドコ―ト層の厚
さは、1〜10μmが適当であり、2〜7μmがより好
ましい。A hard coat layer may be provided on one or both sides of the transparent substrate 10. Hard coat material is
It may be an ultraviolet or electron beam curing type or a thermosetting type. For UV or electron beam curing type, ester type,
Acrylic, urethane, amide, silicone, epoxy, acrylic / urethane, acrylic / epoxy and other monomers and oligomers mixed with a photopolymerization initiator, etc. Then, the photopolymerization initiator may not be contained. The thermosetting type includes resins such as phenolic, urea, melamine, unsaturated polyester, polyurethane, and epoxy resins, if necessary, with a crosslinking agent, polymerization initiator, polymerization accelerator, solvent, and viscosity. Those containing a regulator and the like are included. The thickness of the hard coat layer is suitably from 1 to 10 μm, and more preferably from 2 to 7 μm.
【0017】透明基体10は、その表面にスパツタリン
グ処理、コロナ処理などのエツチング処理を施したり、
シ―ルド層11と透明基体10との密着性を向上させる
ような易接着層を形成したものであつてもよい。The surface of the transparent substrate 10 is subjected to an etching process such as a sputtering process or a corona process,
A layer in which an easy-adhesion layer for improving the adhesion between the shield layer 11 and the transparent substrate 10 may be formed.
【0018】シ―ルド層11は、電磁波および/または
近赤外線をシ―ルドする機能を有するものであればよい
が、好ましくは、金属薄膜と高屈折率透明薄膜を繰り返
し積層した透明多層膜からなるものがよく、とくに金属
薄膜を高屈折率透明薄膜で挟んだ構成の透明多層膜であ
るのが望ましい。図3は、透明基体10側から、高屈折
率透明薄膜1B/金属薄膜1A/高屈折率透明薄膜2B
/金属薄膜2A/高屈折率透明薄膜3B/金属薄膜3A
/高屈折率透明薄膜4B/金属薄膜4A/高屈折率透明
薄膜5Bからなる透明多層膜により、シ―ルド層11を
構成した例を示したものである。ここで、金属薄膜と高
屈折率透明薄膜との繰り返し数は、必要により、上記よ
りも増やしたり減らしたりすることができる。The shield layer 11 may have any function of shielding electromagnetic waves and / or near infrared rays. Preferably, the shield layer 11 is made of a transparent multilayer film in which a metal thin film and a high refractive index transparent thin film are repeatedly laminated. Preferably, the transparent multilayer film has a structure in which a metal thin film is sandwiched between transparent thin films having a high refractive index. FIG. 3 shows a high refractive index transparent thin film 1B / metal thin film 1A / high refractive index transparent thin film 2B from the transparent substrate 10 side.
/ Metal thin film 2A / High refractive index transparent thin film 3B / Metal thin film 3A
This is an example in which the shield layer 11 is constituted by a transparent multilayer film composed of a high refractive index transparent thin film 4B / metal thin film 4A / high refractive index transparent thin film 5B. Here, the number of repetitions of the metal thin film and the high-refractive-index transparent thin film can be increased or decreased as required.
【0019】上記の透明多層膜において、金属薄膜(1
A,2A,3A,4A)の材料は、銀と、金、銅、バラ
ジウム、白金、マンガン、カドニウムから選択される少
なくとも1種の元素とにより構成されたものが好ましい
が、とくに限定されない。これらの金属薄膜は、スパツ
タリング法、真空蒸着法、イオンプレ―テイング法など
の真空ドライプロセスなどを用いて形成することができ
るが、膜厚の制御性、均一性の観点から、とくにスパツ
タリング法が好ましい。In the above transparent multilayer film, the metal thin film (1)
The materials A, 2A, 3A, and 4A) are preferably, but not particularly limited to, silver and at least one element selected from gold, copper, palladium, platinum, manganese, and cadmium. These metal thin films can be formed by using a vacuum drying process such as a sputtering method, a vacuum evaporation method, or an ion plating method. From the viewpoint of controllability and uniformity of the film thickness, the sputtering method is particularly preferable. .
【0020】高屈折率透明薄膜(1B,2B,3B,4
B,5B)の材料には、光学的な透明性を有し、屈折率
が1.9〜2.5の範囲となるものが好ましい。単一の
材料でも複数材料を焼結した材料を用いてもよい。金属
薄膜に対するマイグレ―シヨン防止効果や水、酸素のバ
リア効果がある材料ならより好ましい。具体的には、酸
化インジウム、酸化錫、二酸化チタン、酸化セリウム、
酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化タンタル、五酸化ニ
オブ、二酸化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウム、フツ
化マグネシウム、酸化マグネシウムよりなる群から選ば
れる少なくとも1種の化合物が好ましく使用できる。と
くに、酸化インジウムを主成分とし、これに二酸化チタ
ン、酸化錫、酸化セリウムなどを少量含有させたもの
は、金属薄膜の劣化防止効果があるばかりか、電気導電
性を有するため、金属薄膜との間の電気的導通が取りや
すいという点で、好ましい。これらの高屈折率透明薄膜
は、スパツタリング法、真空蒸着法、イオンプレ―テイ
ング法などの真空ドライプロセスや湿式法などを用いて
形成することができるが、膜厚の制御性、均一性の観点
から、とくにスパツタリング法が好ましい。High refractive index transparent thin films (1B, 2B, 3B, 4
The materials B and 5B) preferably have optical transparency and a refractive index in the range of 1.9 to 2.5. A single material or a material obtained by sintering a plurality of materials may be used. It is more preferable that the material has a migration preventing effect on the metal thin film and a barrier effect of water and oxygen. Specifically, indium oxide, tin oxide, titanium dioxide, cerium oxide,
At least one compound selected from the group consisting of zirconium oxide, zinc oxide, tantalum oxide, niobium pentoxide, silicon dioxide, silicon nitride, aluminum oxide, magnesium fluoride, and magnesium oxide can be preferably used. In particular, those containing indium oxide as a main component and containing a small amount of titanium dioxide, tin oxide, cerium oxide, etc. not only have the effect of preventing the deterioration of the metal thin film, but also have electrical conductivity, so that the metal thin film is This is preferable in that electrical continuity between them is easy. These high-refractive-index transparent thin films can be formed using a vacuum dry process such as a sputtering method, a vacuum evaporation method, or an ion plating method, or a wet method, but from the viewpoint of controllability of film thickness and uniformity. Particularly, the spattering method is preferable.
【0021】シ―ルド層11の厚さは、とくに限定され
ないが、上記した透明多層膜からなるものでは、金属薄
膜(1A,2A,3A,4A)の各厚さが1〜30n
m、高屈折率透明薄膜(1B,2B,3B,4B,5
B)の各厚さが10〜150nmの範囲として、光学的
膜厚が得られるように、各薄膜の厚さを選択すればよ
く、通常は、全厚が100〜500nmとなるようにす
るのがよい。Although the thickness of the shield layer 11 is not particularly limited, in the case of the transparent multilayer film described above, the thickness of each of the metal thin films (1A, 2A, 3A, 4A) is 1 to 30 n.
m, high refractive index transparent thin film (1B, 2B, 3B, 4B, 5
The thickness of each thin film may be selected so that the optical thickness can be obtained by setting each thickness of B) to a range of 10 to 150 nm. Usually, the total thickness is set to 100 to 500 nm. Is good.
【0022】透明接着剤層20は、アクリル系ポリマ
―、シリコ―ン系ポリマ―、ポリエステル、ポリウレタ
ン、ポリエ―テル、合成ゴム、ポリアミド、ポリオレフ
イン、エチレン−酢酸ビニル共重合体などをベ―スポリ
マ―とした透明な粘着剤が好ましく用いられる。この粘
着剤のほかに、ホツトメルト接着剤などの適宜の接着剤
を使用することもでき、透明性や耐久性にすぐれるもの
であればよい。厚さは、適宜に決定してよいが、通常
は、2〜200μmであるのがよい。The transparent adhesive layer 20 is made of a base polymer such as an acrylic polymer, a silicone polymer, a polyester, a polyurethane, a polyether, a synthetic rubber, a polyamide, a polyolefin, and an ethylene-vinyl acetate copolymer. Transparent pressure sensitive adhesives are preferably used. In addition to this pressure-sensitive adhesive, an appropriate adhesive such as a hot melt adhesive can also be used, as long as it has excellent transparency and durability. The thickness may be determined as appropriate, but is usually preferably 2 to 200 μm.
【0023】電極30に用いる材料には、導電性があ
り、かつ耐腐食性、耐湿熱保存性が良好であり、シ―ル
ド層11に対する密着性が良いものであれば、とくに制
限はない。具体的には、銀ペ―ストのほか、金、銀、
銅、白金、バラジウムなどのうちの1種の金属または2
種以上の合金、有機系コ―ト材に上記同様の金属または
合金を混合したもの、銅メツシユに粘着剤を含浸するな
どの方法により作製される導電両面テ―プなどを挙げる
ことができる。The material used for the electrode 30 is not particularly limited as long as it is conductive, has good corrosion resistance, good resistance to wet heat storage, and has good adhesion to the shield layer 11. Specifically, in addition to silver paste, gold, silver,
One metal of copper, platinum, palladium, etc. or 2
Examples include alloys of more than one kind, mixtures of the same metals or alloys as above with organic coating materials, and double-sided conductive tapes prepared by impregnating a copper mesh with an adhesive.
【0024】電極30の形成は、導電両面テ―プの場
合、シ―ルド層11の導電面の周縁部(4辺)に直接貼
り合せればよく、銀ペ―ストや各種合金材料、合金混合
材料などの場合は、スクリ―ン印刷やマイクログラビア
塗工法などのウエツトプロセス法、真空蒸着法、スパツ
タリング法などのドライプロセス法、メツキ法などの公
知の方法を用いて、上記周縁部(4辺)に膜形成すれば
よい。これらの方法により形成される電極30は、透明
接着剤層20の側面に沿つてPDPの前面側まで延設さ
れる必要があり、そのため、電極30の厚さとしては、
透明接着剤層20の厚さと同等程度に設定されるのが望
ましい。In the case of a conductive double-sided tape, the electrode 30 may be directly bonded to the periphery (four sides) of the conductive surface of the shield layer 11, and may be made of silver paste, various alloy materials, alloys, or the like. In the case of a mixed material or the like, the above-mentioned peripheral portion (a wet process method such as screen printing or microgravure coating method, a dry process method such as a vacuum deposition method or a sputtering method, or a known method such as a plating method) is used. The film may be formed on the four sides). The electrode 30 formed by these methods needs to be extended to the front side of the PDP along the side surface of the transparent adhesive layer 20. Therefore, the thickness of the electrode 30 is as follows:
It is desirable that the thickness is set to be approximately equal to the thickness of the transparent adhesive layer 20.
【0025】また、電極30は、図4に示すように、シ
―ルド層11の側面を経て透明基体10の側面および裏
面の周縁部を包み込む位置まで延設してもよい。この場
合、上記延設部の一部または全部をアルミニウム箔など
の金属箔で構成してもよい。また、導電性、密着性など
の特性を満たせば、電極30全体を金属箔で構成するこ
ともできる。電極30を上記のように延設すると、PD
Pとの電気的接続が、シ―ルド層11の導電面側だけで
なく、その反対側である透明基体10の裏面側でも可能
となるため、組み付けの融通性が高くなる。なおまた、
電極30とPDPとの電気的接続にあたり、電極30と
PDPの筐体とを直接接続する以外に、PDP側に形成
された電極を介して接続してもよい。Further, as shown in FIG. 4, the electrode 30 may extend through the side surface of the shield layer 11 to a position surrounding the peripheral portion of the side surface and the back surface of the transparent substrate 10. In this case, a part or all of the extension may be made of a metal foil such as an aluminum foil. Further, as long as properties such as conductivity and adhesion are satisfied, the entire electrode 30 can be made of metal foil. When the electrode 30 is extended as described above, PD
Since electrical connection with P can be made not only on the conductive surface side of the shield layer 11 but also on the opposite side of the back surface of the transparent substrate 10, the flexibility of assembly is increased. Also,
In electrical connection between the electrode 30 and the PDP, in addition to directly connecting the electrode 30 and the housing of the PDP, connection may be made through an electrode formed on the PDP side.
【0026】このように構成されたPDP用フイルタ1
00は、その透明接着剤層20を介してPDPの前面表
示部(前面ガラス部)に直貼りし、電極30を介してP
DPと電気的接続を行うことで、既述のとおり、シ―ル
ド層11本来の機能、とくに改善された電磁波シ―ルド
効果を発揮し、シ―ルド層11の表面耐擦傷性や耐湿熱
保存性にもすぐれたPDP表示装置が得られる。このP
DP表示装置は、上記直貼りのため、PDPのガラスの
飛散防止、PDP自体の軽量化、薄型化、低コスト化な
どに寄与でき、さらにPDP前面フイルタを設置する場
合に比べて、屈折率の低い空気層を介さないため、余分
な界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの
問題を解決でき、視認性を向上できる。The PDP filter 1 thus constructed
No. 00 is directly attached to the front display portion (front glass portion) of the PDP via the transparent adhesive layer 20, and the P
By making an electrical connection with the DP, as described above, the original function of the shield layer 11, in particular, an improved electromagnetic shielding effect is exhibited, and the surface abrasion resistance and moisture heat resistance of the shield layer 11 are improved. A PDP display device having excellent storage properties can be obtained. This P
Since the DP display device is directly attached, the DP display device can contribute to preventing scattering of glass of the PDP, reducing the weight, thickness, and cost of the PDP itself. Further, the DP display device has a higher refractive index than a case where a PDP front filter is installed. Since a low air layer is not interposed, problems such as an increase in visible light reflectance due to extra interface reflection and double reflection can be solved, and visibility can be improved.
【0027】なお、上記直貼りタイプのPDP表示装置
は、前面ガラス部の強度不足が問題となることがあり、
これを回避するため、透明接着剤層20を厚くしてもよ
い。また、場合により、PDPの前面表示部と上記フイ
ルタとの間に、衝撃保護層として衝撃を有効に吸収でき
るフイルムや成形体などを介挿してもよい。これらの層
は、光学的に透明性を有し、衝撃を吸収、緩和するもの
であればよい。In the above-mentioned PDP display device of the directly attached type, insufficient strength of the front glass portion may cause a problem.
In order to avoid this, the thickness of the transparent adhesive layer 20 may be increased. In some cases, a film or a molded body capable of effectively absorbing impact may be interposed between the front display portion of the PDP and the filter as an impact protection layer. These layers need only be optically transparent and absorb and reduce impact.
【0028】また、上記直貼りタイプのPDP表示装置
の視認性をさらに向上させるため、図1〜図4に示され
るPDP用フイルタ100において、図5に示すよう
に、透明基体10の裏面(シ―ルド層11を設けた面と
は反対側の面)に、反射防止層および/またはアンチグ
レア層40を形成してもよい。これらの層は、その材料
として、金属酸化物、フツ化物、ケイ化物、窒化物、硫
化物、ホウ化物、炭化物などの無機化合物や、シリコン
樹脂、フツ素系樹脂などの有機化合物を使用し、スパツ
タリング法、真空蒸着法、イオンプレ―テイング法、湿
式塗工法などにより、厚さが通常0.05〜1μm程度
に形成すればよい。また、このような層をあらかじめフ
イルム基材上に形成した機能性フイルムを使用し、これ
を透明接着剤層を介して透明基体10上に接合すること
もできる。Further, in order to further improve the visibility of the directly attached type PDP display device, in the PDP filter 100 shown in FIGS. 1 to 4, as shown in FIG. The antireflection layer and / or the antiglare layer 40 may be formed on the surface opposite to the surface on which the shield layer 11 is provided). These layers use, as its material, an inorganic compound such as a metal oxide, a fluoride, a silicide, a nitride, a sulfide, a boride, and a carbide, and an organic compound such as a silicon resin and a fluorine-based resin. The thickness may usually be about 0.05 to 1 μm by a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, a wet coating method, or the like. Alternatively, a functional film having such a layer formed on a film substrate in advance may be used, and this may be bonded to the transparent substrate 10 via a transparent adhesive layer.
【0029】本発明において、とくに好ましいPDP用
フイルタ100は、図5に示すように、透明基体10の
裏面に反射防止層および/またはアンチグレア層40を
備えて、シ―ルド層11が、図3に示すような金属薄膜
(1A,2A,3A,4A)と高屈折率透明薄膜(1
B,2B,3B,4B,5B)とを繰り返し積層した透
明多層膜から構成されてなり、その光学特性として、可
視光透過率が50%以上、可視光反射率が10%以下、
近赤外線(波長:800〜1,200nm)透過率が2
0%以下(近赤外線カツト率が80%以上)となるもの
が挙げられる。このものは、導電面の表面抵抗を3Ω/
□以下に設定でき、前記したようなPDPとの電気的接
続により、すぐれた電磁波シ―ルド性を発揮する。In the present invention, a particularly preferred PDP filter 100 includes an antireflection layer and / or an antiglare layer 40 on the back surface of a transparent substrate 10 as shown in FIG. Metal thin films (1A, 2A, 3A, 4A) and high refractive index transparent thin films (1
B, 2B, 3B, 4B, and 5B) are repeatedly laminated, and the optical characteristics thereof include a visible light transmittance of 50% or more, a visible light reflectance of 10% or less,
Near infrared (wavelength: 800 to 1,200 nm) transmittance is 2
Those having 0% or less (the near-infrared cut rate is 80% or more) are exemplified. It has a surface resistance of 3Ω /
□ It can be set to the following, and exhibits excellent electromagnetic wave shielding properties due to the electrical connection with the PDP as described above.
【0030】[0030]
【実施例】つぎに、本発明を実施例により、さらに具体
的に説明する。ただし、本発明は、以下の実施例にのみ
限定されるものではない。なお、以下において、膜厚の
測定は、表面粗さ計(DEKTA3)による成膜速度の
検量線と透過型電子顕微鏡による精密測定により行つ
た。また、可視光透過率、可視光反射率、近赤外線カツ
ト率、導電面の表面抵抗、耐湿熱保存性、表面耐擦傷性
は、下記の方法により、測定したものである。Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited only to the following examples. In the following, the measurement of the film thickness was performed by a calibration curve of a film forming speed by a surface roughness meter (DEKTA3) and a precise measurement by a transmission electron microscope. The visible light transmittance, visible light reflectance, near-infrared cut rate, surface resistance of the conductive surface, storage resistance to heat and moisture, and surface scratch resistance were measured by the following methods.
【0031】<可視光透過率と可視光反射率>大塚電子
製の瞬間マルチ測光器「MCPD−3000」により、
0°入射透過および反射スペクトルを測定し、得られた
透過および反射スペクトルから、JIS R−3016
に準じ、可視光透過率および可視光反射率を算出した。<Visible Light Transmittance and Visible Light Reflectance> An instantaneous multiphotometer “MCPD-3000” manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.
0 ° incident transmission and reflection spectra were measured, and from the obtained transmission and reflection spectra, JIS R-3016
The visible light transmittance and the visible light reflectivity were calculated according to the above.
【0032】<近赤外線カツト率>日立製作所製の「U
−3410」を用いて、波長800〜1,200nmの
範囲の光線のカツト率を測定した。<Near-infrared cut rate>"U" manufactured by Hitachi, Ltd.
-3410 "was used to measure the cut rate of light having a wavelength in the range of 800 to 1,200 nm.
【0033】<導電面の表面抵抗>三菱油化製の「Lo
rester SP」を用いて、四端針法(JIS K
7194)により、表面抵抗値(Ω/□)を測定した。<Surface Resistance of Conductive Surface>"Lo" manufactured by Mitsubishi Yuka
using the four-point needle method (JIS K
7194), the surface resistance value (Ω / □) was measured.
【0034】<耐湿熱保存性>試験サンプルを60℃,
相対湿度90%の恒温恒湿器に1,000時間入れ、外
観劣化および光学特性の変化を観察した。<Moisture and heat storage stability>
The sample was placed in a thermo-hygrostat at a relative humidity of 90% for 1,000 hours, and appearance deterioration and changes in optical characteristics were observed.
【0035】<表面耐擦傷性>試験サンプルの表面に、
#0000スチ―ルウ―ルを2.45N/cm2 の荷重に
て10往復させ、傷の有無を目視で観察した。<Surface Scratch Resistance> On the surface of the test sample,
# 0000 steel wheel was reciprocated 10 times under a load of 2.45 N / cm 2 , and the presence or absence of scratches was visually observed.
【0036】実施例1 透明基体として厚さが125μmの透明ポリエチレンテ
レフタレ―ト(以下、PETいう)フイルムを用い、こ
の透明基体の片面にDCマグネトロンスパツタ法によ
り、高屈折率透明薄膜/金属薄膜/高屈折率透明薄膜の
順で繰り返し積層する手法により、透明多層膜からなる
シ―ルド層を形成した。高屈折率透明薄膜を形成するタ
―ゲツト材料にはln2 O3 −12.6重量%TiO2
を、金属薄膜を形成するタ―ゲツト材料にはAg−5重
量%Auを、それぞれ使用した。Example 1 A transparent polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as PET) film having a thickness of 125 μm was used as a transparent substrate, and a high refractive index transparent thin film / metal was formed on one surface of the transparent substrate by a DC magnetron sputter method. By a method of repeatedly laminating a thin film / a high refractive index transparent thin film in order, a shield layer composed of a transparent multilayer film was formed. The target material for forming the high refractive index transparent thin film is In 2 O 3 -12.6% by weight TiO 2
And Ag-5% by weight of Au was used as a target material for forming the metal thin film.
【0037】このように形成した透明多層膜は、透明基
体側から、高屈折率透明薄膜(35nm)/金属薄膜
(10nm)/高屈折率透明薄膜(70nm)/金属薄
膜(15nm)/高屈折率透明薄膜(70nm)/金属
薄膜(15nm)/高屈折率透明薄膜(70nm)/金
属薄膜(10nm)/高屈折率透明薄膜(35nm)の
構成であつた。上記( )内の数値は、各薄膜の膜厚を
示している。The transparent multilayer film thus formed is, from the transparent substrate side, a high-refractive-index transparent thin film (35 nm) / metal thin film (10 nm) / high-refractive-index transparent thin film (70 nm) / metal thin film (15 nm) / high refractive index The structure was as follows: high refractive index transparent thin film (70 nm) / metal thin film (15 nm) / high refractive index transparent thin film (70 nm) / metal thin film (10 nm) / high refractive index transparent thin film (35 nm). The numerical values in parentheses indicate the thickness of each thin film.
【0038】つぎに、屈折率1.65のアクリル・ウレ
タン樹脂からなる紫外線硬化型樹脂〔JSR(株)製の
「KZ7886B」〕100重量部に、日本化薬(株)
製の「KAYAMER」10重量部を加え、これをメチ
ルイソプチルケトンで希釈して、高屈折率ハ―ドコ―ト
層用溶液を調製した。この溶液を、上記片面にシ―ルド
層を形成した透明基体の裏面にワイヤ―バ―#6で塗工
し、80℃で乾燥したのち、超高圧水銀ランプにより紫
外線を200J/cm2 の照射量で照射して硬化させ、厚
さが5μmの高屈折率ハ―ドコ―ト層を形成した。Next, Nippon Kayaku Co., Ltd. was added to 100 parts by weight of an ultraviolet curable resin ("KZ7886B" manufactured by JSR Corporation) composed of an acrylic / urethane resin having a refractive index of 1.65.
Was added and diluted with methyl isobutyl ketone to prepare a solution for a high refractive index hard coat layer. This solution is coated on the back surface of the transparent substrate having a shield layer formed on one side with a wire bar # 6, dried at 80 ° C., and irradiated with ultraviolet rays at 200 J / cm 2 by an ultra-high pressure mercury lamp. Irradiation was carried out to cure the composition, thereby forming a high refractive index hard coat layer having a thickness of 5 μm.
【0039】ついで、この高屈折率ハ―ドコ―ト層上
に、屈折率1.36のアルコキシラン系ゾル液をワイヤ
―バ―で塗工し、120℃で10分硬化処理することに
より、厚さが0.1μmの低屈折率層を形成して、反射
防止層とした。Next, an alkoxysilane-based sol having a refractive index of 1.36 was applied on the high refractive index hard coat layer with a wire bar, and cured at 120 ° C. for 10 minutes. A low-refractive-index layer having a thickness of 0.1 μm was formed as an anti-reflection layer.
【0040】つぎに、透明基体の片面側に形成した透明
多層膜からなるシ―ルド層の周縁部(4辺)に、銀ペ―
スト〔藤倉化成(株)製の「ド―タイトFA−301C
A」〕をスクリ―ン印刷し、100℃,20分で硬化さ
せ、厚さが25μmの電極を形成した。さらに、上記シ
―ルド層の面上に、上記電極を被覆しないように、あら
かじめPETセパレ―タ上に塗工して形成した厚さが2
5μmのアクリル系透明粘着剤層をを貼り合わせて、P
DP用フイルタを作製した。ここで、上記電極はシ―ル
ド層の周縁部に位置して、上記アクリル系透明粘着剤層
の側面に沿つて延設されて上記粘着剤層と面一となるよ
うに構成されている。Next, a silver pad is formed on the periphery (four sides) of a shield layer made of a transparent multilayer film formed on one side of the transparent substrate.
Strike [Fujikura Kasei Co., Ltd. "Dootite FA-301C"
A ") was screen-printed and cured at 100 ° C. for 20 minutes to form an electrode having a thickness of 25 μm. Further, a thickness of 2 mm previously formed on a PET separator by coating on the surface of the shield layer so as not to cover the electrode.
A 5 μm acrylic transparent pressure-sensitive adhesive layer is adhered to
A filter for DP was produced. Here, the electrode is located at the periphery of the shield layer, extends along the side surface of the acrylic transparent pressure-sensitive adhesive layer, and is flush with the pressure-sensitive adhesive layer.
【0041】このPDP用フイルタについて、その透明
粘着剤層を介してスライドガラスに貼り合わせ、光学特
性を評価した。可視光透過率は62%、可視光反射率は
3%、近赤外線カツト率は94%であつた。可視光反射
率は、スライドガラスのPDP用フイルタを貼り合わせ
た面と反対の面を黒色塗装して行つた。導電面の表面抵
抗は、1.7Ω/□であつた。さらに、上記スライドガ
ラスに貼り合わせものを試験サンプルとして、表面耐擦
傷性と耐湿熱保存性を調べた。表面耐擦傷性試験では著
しい傷は認められず、耐湿熱保存性試験ではフイルタの
外観の状態は極めて良好で、外観劣化や光学特性の変化
は全くみられなかつた。This PDP filter was bonded to a slide glass via the transparent pressure-sensitive adhesive layer, and the optical characteristics were evaluated. The visible light transmittance was 62%, the visible light reflectance was 3%, and the near infrared cut rate was 94%. The visible light reflectance was measured by painting the surface of the slide glass opposite to the surface to which the filter for PDP was attached in black. The surface resistance of the conductive surface was 1.7Ω / □. Furthermore, the surface abrasion resistance and the heat and humidity storage stability were examined using the test sample bonded to the slide glass. No remarkable scratches were observed in the surface abrasion resistance test, and the appearance of the filter was extremely good in the moist heat storage resistance test, and no deterioration in appearance and no change in optical characteristics were observed.
【0042】つぎに、市販のPDP表示装置(富士通ゼ
ネラル社製の「42型ワイドプラズマディスプレイPD
S−4221−J−H」)に従来から取り付けられてい
るPDP用前面板を取り外し、上記のPDP用フイルタ
を、その透明粘着剤層を介して、PDPの前面ガラス表
示部に直貼りして設置し、PDPの筐体とシ―ルド層周
縁部(4辺)の電極全面が完全に接触するように、固定
用治具を使用して固定することにより、PDP表示装置
とした。Next, a commercially available PDP display device ("42-inch wide plasma display PD manufactured by Fujitsu General Limited") was used.
S-4221-JH "), remove the PDP front plate conventionally attached thereto, and directly attach the PDP filter to the front glass display portion of the PDP via the transparent adhesive layer. The PDP display device was obtained by installing and fixing the PDP housing using a fixing jig such that the entire surface of the electrode at the periphery (4 sides) of the shield layer and the shield layer was completely in contact with each other.
【0043】実施例2 電極の形成にあたり、銀ペ―スト(実施例1と同じも
の)に浸漬し、100℃で20分硬化させる手法を用
い、透明基体片面側のシ―ルド層の周縁部(4辺)と、
透明基体裏面側(の反射防止層)の周縁部(4辺)と、
シ―ルド層および透明基体の側面とにまたがる、つま
り、実施例1でシ―ルド層の周縁部に形成した電極がシ
―ルド層の側面を経て透明基体の側面および裏面の周縁
部を包み込む位置まで延設された構成の電極(フイルタ
厚み方向の全厚が100nm)を形成した以外は、実施
例1と同様にして、PDP用フイルタを作製した。Example 2 In forming an electrode, a technique of immersing in a silver paste (the same as in Example 1) and curing at 100 ° C. for 20 minutes was used. (4 sides),
A peripheral portion (four sides) on (the antireflection layer of) the back side of the transparent substrate;
The electrode straddles the shield layer and the side surface of the transparent substrate, that is, the electrode formed on the peripheral portion of the shield layer in Example 1 wraps the peripheral portion of the side surface and the rear surface of the transparent substrate through the side surface of the shield layer. A PDP filter was manufactured in the same manner as in Example 1, except that an electrode having a configuration extending to the position (the total thickness in the filter thickness direction was 100 nm) was formed.
【0044】このPDP用フイルタを、市販のPDP表
示装置に対し、実施例1と同様の操作により、その透明
粘着剤層を介して、PDPの前面ガラス表示部に直貼り
して設置し、PDPの筐体と透明基体裏面側の周縁部
(4辺)の電極全面が完全に接触するように、固定用治
具を用いて固定し、PDP表示装置とした。This PDP filter was directly attached to the front glass display portion of the PDP via the transparent adhesive layer thereof in the same manner as in Example 1 for a commercially available PDP display device. Then, the casing was fixed with a fixing jig such that the entire surface of the electrode at the peripheral portion (four sides) on the rear surface side of the transparent substrate was completely contacted to obtain a PDP display device.
【0045】実施例3 電極の形成にあたり、透明基体片面側のシ―ルド層の周
縁部(4辺)と、透明基体裏面側(の反射防止層)の周
縁部(4辺)に、銀ペ―スト(実施例1と同じもの)を
スクリ―ン印刷し、100℃,20分で硬化させる手法
により、厚さが25μmの電極を形成し、さらに透明基
体とシ―ルド層の側面をアルミ箔で覆つてこれと上記表
裏の両電極が完全に導通されるように導電テ―プを用い
て固定することにより、実施例2とほぼ同様構成の電極
を形成した以外は、実施例1と同様にして、PDP用フ
イルタを作製した。Example 3 In forming the electrodes, a silver pen was applied to the periphery (four sides) of the shield layer on one side of the transparent substrate and the periphery (four sides) of (the antireflection layer thereof) on the back side of the transparent substrate. A screen (same as in Example 1) was screen-printed and cured at 100 ° C. for 20 minutes to form an electrode having a thickness of 25 μm, and the transparent substrate and the side surfaces of the shield layer were formed of aluminum. Example 2 was repeated except that an electrode having almost the same configuration as that of Example 2 was formed by covering with a foil and fixing it with a conductive tape so that both electrodes on the front and back sides were completely electrically connected. Similarly, a filter for PDP was produced.
【0046】このPDP用フイルタを、市販のPDP表
示装置に対し、実施例1と同様の操作により、その透明
粘着剤層を介して、PDPの前面ガラス表示部に直貼り
して設置し、PDPの筐体と透明基体裏面側の周縁部
(4辺)の電極全面が完全に接触するように、固定用治
具を用いて固定し、PDP表示装置とした。This PDP filter was directly attached to a commercially available PDP display device via the transparent adhesive layer thereof on the front glass display portion of the PDP by the same operation as in the first embodiment. Then, the casing was fixed with a fixing jig such that the entire surface of the electrode at the peripheral portion (four sides) on the rear surface side of the transparent substrate was completely contacted to obtain a PDP display device.
【0047】上記の実施例1〜3の各PDP表示装置に
ついて、電磁波シ―ルド効果を調べるため、電波暗室に
おいて、妨害波電界強度を30〜1000MHzの範囲
にわたり、PDPより10m先に設置したアンテナにて
検出し測定した。結果は、表1に示されるとおりであつ
た。なお、表1には、「対照例1」としてVCC1クラ
スAの規制値を、「対照例2」としてPDP用フイルタ
を設置しない場合の放射電界強度を、「参考例1」とし
て実施例1において電極とPDPの筐体とを電気的に接
続しなかつた場合の放射電界強度を、それぞれ併記し
た。In order to examine the electromagnetic wave shielding effect of each of the PDP display devices of the first to third embodiments, in an anechoic chamber, an antenna installed at a distance of 10 m from the PDP in a range of 30 to 1000 MHz in an anechoic chamber. Was detected and measured. The results were as shown in Table 1. Table 1 shows the regulated value of VCC1 class A as “Comparative Example 1”, the radiated electric field strength when no filter for PDP is installed as “Comparative Example 2”, and Example 1 as “Reference Example 1”. The radiated electric field strength when the electrode and the casing of the PDP are not electrically connected is also shown.
【0048】 [0048]
【0049】上記の表1から明らかなように、実施例1
〜3のPDP表示装置では、十分な電磁波シ―ルド効果
が得られており、VCC1クラスAの規格を十分にクリ
アできる妨害電磁波放射レベルであることがわかつた。
なお、参考例1のPDP表示装置では、100MHz以
上の周波数では電磁波シ―ルド効果がみられるが、PD
Pにおいて放射強度が強く、とくに問題となる30〜1
00MHzの低周波数領域では、電磁波シ―ルド効果が
ほとんどみられなかつた。As apparent from Table 1 above, Example 1
In the PDP display devices of Nos. 1 to 3, it was found that a sufficient electromagnetic wave shielding effect was obtained, and that the electromagnetic wave emission level was sufficient to satisfy the VCC1 Class A standard.
In the PDP display device of Reference Example 1, an electromagnetic shielding effect is observed at a frequency of 100 MHz or more.
In P, the radiation intensity is strong, which is particularly problematic 30-1.
In the low frequency range of 00 MHz, almost no electromagnetic wave shielding effect was observed.
【0050】このように、実施例1〜3のPDP用フイ
ルタは、その電極とPDPとの電気的導通構造が簡単
で、組み付け性にすぐれており、またシ―ルド層を前記
した透明多層膜で構成して、透明基体の裏面側に反射防
止層を設けたことにより、電磁波シ―ルド性、近赤外線
カツト性、視認性(可視光透過性、可視光低反射性)、
表面耐擦傷性、耐湿熱保存性などをすべて満足させるこ
とができる。As described above, the filters for PDPs of Examples 1 to 3 have a simple electric conduction structure between their electrodes and the PDP, are excellent in assemblability, and have a transparent multilayer film having a shield layer as described above. By providing an anti-reflection layer on the back side of the transparent substrate, electromagnetic wave shielding, near-infrared cut, visibility (visible light transmission, visible light low reflection),
Surface scratch resistance, wet heat storage resistance, etc. can all be satisfied.
【0051】[0051]
【発明の効果】以上のように、本発明は、透明基体の表
面に、電磁波や近赤外線のシ―ルド層を介して、PDP
の前面表示部に直貼りさせる透明接着剤層を積層し、上
記シ―ルド層の導電面の周縁部に電極を形成して、これ
が透明接着剤層の側面に沿つてPDPの前面側まで延設
される構成としたことにより、PDPとの間の電気的導
通を容易に行うことができる、PDPへの組み付け性に
すぐれたPDP用フイルタとこれを使用したPDP表示
装置を提供することができる。As described above, according to the present invention, a PDP is provided on a surface of a transparent substrate via a shield layer of electromagnetic waves or near infrared rays.
A transparent adhesive layer to be directly adhered to the front display section is laminated, an electrode is formed on the periphery of the conductive surface of the shield layer, and this electrode extends along the side surface of the transparent adhesive layer to the front side of the PDP. With such a configuration, it is possible to provide a PDP filter which can easily perform electrical conduction with the PDP and has excellent assemblability to the PDP, and a PDP display device using the same. .
【図1】本発明のプラズマデイスプレイパネル用フイル
タの一例を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a plasma display panel filter of the present invention.
【図2】図1に示すフイルタをプラズマデイスプレイパ
ネル側からみた正面図である。FIG. 2 is a front view of the filter shown in FIG. 1 as viewed from a plasma display panel side.
【図3】図1に示すフイルタのシ―ルド層の構成を示す
断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a configuration of a shield layer of the filter shown in FIG.
【図4】本発明のプラズマデイスプレイパネル用フイル
タにおける電極構造の他の例を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing another example of an electrode structure in the plasma display panel filter of the present invention.
【図5】本発明のプラズマデイスプレイパネル用フイル
タの他の例(反射防止層を形成した例)を示す断面図で
ある。FIG. 5 is a sectional view showing another example (an example in which an antireflection layer is formed) of the filter for a plasma display panel of the present invention.
10 透明基体 11 シ―ルド層 1A,2A,3A,4A 金属薄膜 1B,2B,3B,4B,5B 高屈折率透明薄膜 20 透明接着剤層 30 電極 40 反射防止層および/またはアンチグレア層 100 プラズマデイスプレイパネル用フイルタ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Transparent base 11 Shield layer 1A, 2A, 3A, 4A Metal thin film 1B, 2B, 3B, 4B, 5B High refractive index transparent thin film 20 Transparent adhesive layer 30 Electrode 40 Antireflection layer and / or antiglare layer 100 Plasma display Panel filter
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮内 和彦 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 中村 年孝 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日東 電工株式会社内 Fターム(参考) 2H048 CA01 CA05 CA12 CA19 CA24 CA25 2K009 AA04 AA15 BB24 CC03 CC14 CC35 CC42 DD02 DD04 EE03 5G435 AA16 BB06 DD11 GG31 GG33 GG34 HH12 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Kazuhiko Miyauchi 1-1-2 Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka Nitto Denko Corporation (72) Inventor Toshitaka Nakamura 1-1-2 Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka No. Nitto Denko F-term (reference) 2H048 CA01 CA05 CA12 CA19 CA24 CA25 2K009 AA04 AA15 BB24 CC03 CC14 CC35 CC42 DD02 DD04 EE03 5G435 AA16 BB06 DD11 GG31 GG33 GG34 HH12
Claims (5)
波および/または近赤外線をシ―ルドするシ―ルド層を
介して積層された透明接着剤層と、上記シ―ルド層の導
電面の周縁部に位置する電極とを備え、上記の透明接着
剤層を介してプラズマデイスプレイパネルの前面表示部
に直貼りされるプラズマデイスプレイパネル用フイルタ
であつて、上記の電極が上記の透明接着剤層の側面に沿
つてプラズマデイスプレイパネルの前面側まで延設され
ていることを特徴とするプラズマデイスプレイパネル用
フイルタ。1. A transparent substrate, a transparent adhesive layer laminated on a surface of the transparent substrate via a shield layer for shielding electromagnetic waves and / or near infrared rays, and a conductive surface of the shield layer A filter for a plasma display panel directly attached to the front display section of the plasma display panel via the transparent adhesive layer, wherein the electrode is provided with the transparent adhesive. A filter for a plasma display panel, which extends along the side surface of the layer to the front side of the plasma display panel.
体の側面および裏面の周縁部を包み込む位置まで延設さ
れている請求項1に記載のプラズマデイスプレイパネル
用フイルタ。2. The filter for a plasma display panel according to claim 1, wherein the electrode extends to a position surrounding the peripheral portion of the side surface and the back surface of the transparent base via the side surface of the shield layer.
とつとする請求項1または請求項2に記載のプラズマデ
イスプレイパネル用フイルタ。3. The filter for a plasma display panel according to claim 1, wherein the electrode comprises a metal foil as at least one of the constituent materials.
薄膜を繰り返し積層した透明多層膜からなり、透明基体
の裏面に反射防止層および/またはアンチグレア層を備
え、可視光透過率が50%以上、可視光反射率が10%
以下、近赤外線(波長:800〜1,200nm)透過
率が20%以下である請求項1〜3のいずれかに記載の
プラズマデイスプレイパネル用フイルタ。4. The shield layer is composed of a transparent multilayer film in which a metal thin film and a high-refractive-index transparent thin film are repeatedly laminated, and has an antireflection layer and / or an antiglare layer on the back surface of the transparent substrate, and has a visible light transmittance. 50% or more, 10% visible light reflectance
The filter for a plasma display panel according to any one of claims 1 to 3, wherein a transmittance of near infrared rays (wavelength: 800 to 1,200 nm) is 20% or less.
部に、請求項1〜4のいずれかに記載のプラズマデイス
プレイパネル用フイルタを、その透明接着剤層を介して
直貼りしてなるプラズマデイスプレイパネル表示装置。5. A plasma display panel display device comprising the plasma display panel filter according to claim 1 directly attached to a front display portion of the plasma display panel via a transparent adhesive layer. .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000192645A JP2002006106A (en) | 2000-06-22 | 2000-06-22 | Filter for plasma display panel and plasma display panel display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2000192645A JP2002006106A (en) | 2000-06-22 | 2000-06-22 | Filter for plasma display panel and plasma display panel display device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002006106A true JP2002006106A (en) | 2002-01-09 |
Family
ID=18691751
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000192645A Withdrawn JP2002006106A (en) | 2000-06-22 | 2000-06-22 | Filter for plasma display panel and plasma display panel display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002006106A (en) |
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