JP2582859B2 - Static electricity, electromagnetic wave shielding material - Google Patents
Static electricity, electromagnetic wave shielding materialInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、各種電子、通信装置、たとえばデイスプ
レイデバイスなどを備えた装置に取り付けられる静電
気、電磁波シールド材に関する。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a static electricity and electromagnetic wave shielding material attached to various electronic and communication devices, for example, devices equipped with a display device or the like.
近年、上記電子、通信装置は、業務用だけでなく、一
般家庭にも導入されるようになつてきている。そして、
これらの装置は、その有用な機能などにより各種業務や
家事などを効率良く処理し社会の発展あるいは生活向上
に役立つものとして評価されている。In recent years, the electronic and communication devices have been introduced not only for business use but also for ordinary households. And
These devices have been evaluated as being useful for the development of society or the improvement of life by efficiently processing various tasks and household chores due to their useful functions.
しかし、その反面、これらの装置から発生する静電気
や電磁波ノイズなどにより、人体あるいは他の備品など
が影響を受け支障をきたすという問題が起こる。たとえ
ば、ディスプレイなどを備えた上記装置を操作する作業
員などが経験する目精疲労、目の充血、肩こり、偏頭痛
などの障害や、家庭におけるテレビやラジオの画像の乱
れやノイズの発生といつた障害が現れる。However, on the other hand, there arises a problem that the human body or other equipment is affected by static electricity or electromagnetic noise generated from these devices, which causes a problem. For example, problems such as eyestrain, redness of eyes, stiff shoulders, migraines, etc., experienced by workers operating the above devices equipped with a display, etc. Trouble appears.
このため、従来より、上記静電気や電磁波ノイズをシ
ールドするシールド材を各種装置内に組み込んで該装置
類から発生する静電気や電磁波ノイズをシールドするこ
とが行われている。For this reason, conventionally, a shielding material for shielding static electricity and electromagnetic noise has been incorporated into various devices to shield static electricity and electromagnetic noise generated from the devices.
このシールド材、たとえば上記デイスプレイデバイス
などを備えた装置における窓材などとして用いられるシ
ールド材としては、外部からデイスプレイ内部を目視で
きるような高い可視光線透過能を有しているとともに、
デイスプレイデバイスなどから発生する静電気（高電
圧）または電磁波などをシールドしうる良好なシールド
特性を有していることが要求される。This shield material, for example, as a shield material used as a window material or the like in an apparatus equipped with the display device and the like, while having a high visible light transmittance so that the inside of the display can be viewed from the outside,
It is required to have good shielding characteristics capable of shielding static electricity (high voltage) or electromagnetic waves generated from a display device or the like.
従来のこの種シールド材としては、一般にガラス基板
やポリカーボネート基板などの透明プラスチツク基板上
にメツシユタイプのカーボン繊維や金属コーテイング繊
維を貼り合わせたものや、上記透明基板上に透明導電層
を直接的に形成させたものなどが汎用されている。Conventional shield materials of this type generally include a transparent plastic substrate such as a glass substrate or a polycarbonate substrate on which a mesh type carbon fiber or metal coating fiber is bonded, or a transparent conductive layer formed directly on the transparent substrate. Those that have been used are widely used.
しかるに、上記従来のシールド材のうち、メツシユタ
イプのカーボン繊維や金属コーテイング繊維を用いたも
のは、基板を透過する像や物体が該メツシユ部で切断さ
れたり、光の反射による散乱によりゆらぎを生じ視認性
を悪くさせるといつた問題があり、またメツシユタイプ
のため静電気、電磁波シールド効果が低いという問題も
ある。However, among the above-mentioned conventional shield materials, those using mesh-type carbon fiber or metal-coated fiber have an image or an object passing through the substrate cut at the mesh portion, or fluctuate due to scattering due to light reflection. However, there is a problem that the performance is deteriorated, and there is also a problem that the electrostatic effect and the electromagnetic wave shielding effect are low due to the mesh type.
また、透明導電層を形成させたものは、その作製に際
し、遂一透明基板上に透明導電層を形成させる単一操作
を繰り返し行わねばならないので、生産性が悪くコスト
高となるだけでなく、使用中に上記導電層に傷がつくと
当然シールド能が低下するので、透明基板を含めたシー
ルド材全体を取り換えなければならず、コスト面および
作業上大きな支障をきたしていた。In addition, in the case where the transparent conductive layer is formed, a single operation for forming the transparent conductive layer on the transparent substrate must be repeated at the time of its production, so that not only productivity is low but cost is increased, If the conductive layer is damaged during use, the shielding ability is naturally deteriorated, so that the entire shield material including the transparent substrate must be replaced, which has caused great problems in terms of cost and work.
さらに、上記従来のシールド材は、いずれも、透明基
板におけるメツシユタイプの繊維や透明導電層を設けた
面とは反対側の面が裸の状態にあるため、まぶしさを感
じたり、使用中での表面傷の発生により、視認性が低下
するという難点もあつた。この解決のため、透明基板と
して、その一面に防眩処理を施したものを用いる試みも
なされているが、透明基板上に直接このような処理を施
したのでは、前記した透明導電層を透明基板上に直接形
成する場合と同様の生産性やコスト面，作業上の問題を
免れない。Furthermore, in the above-mentioned conventional shield materials, the surface opposite to the surface on which the mesh-type fibers and the transparent conductive layer are provided on the transparent substrate is in a bare state, so that the user feels glare or is in use. Another problem is that visibility is reduced due to the occurrence of surface scratches. To solve this problem, an attempt has been made to use a transparent substrate having one surface subjected to an anti-glare treatment. However, if such treatment is performed directly on the transparent substrate, the transparent conductive layer described above becomes transparent. The same problems in productivity, cost, and work as in the case of directly forming on a substrate are unavoidable.
この発明は、上記従来の問題点に鑑み、高い可視光線
透過能を有するとともに、デイスプレイデバイスなどか
ら発生する静電気や電磁波などをシールドしうるすぐれ
たシールド能を有し、しかも透明基板自体の防眩性や耐
擦傷性にすぐれて、かつ生産性やコスト面，作業上など
の問題のない、実用価値の高い静電気、電磁波シールド
材を提供することを目的としている。In view of the above-mentioned conventional problems, the present invention has a high visible light transmitting ability, an excellent shielding ability to shield static electricity and electromagnetic waves generated from a display device and the like, and furthermore, an anti-glare of the transparent substrate itself. An object of the present invention is to provide a static electricity and electromagnetic wave shielding material having high practical value, which has excellent properties and abrasion resistance and has no problems in productivity, cost, and work.
この発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意検
討した結果、透明基板の上下両面に透明粘着剤層を介し
て透明フイルム基材を貼り合わせ、その一方の透明フイ
ルム基材の一面に透明導電層を、他方の透明フイルム基
材の一面に特定の防眩処理層をそれぞれ設けてシールド
剤を構成させることにより、可視光線透過能、静電気お
よび電磁波に対するシールド能のいずれの機能をも兼ね
備え、かつ透明基板自体の防眩性および耐擦傷性が良好
で、しかも生産性やコスト面，作業上などの問題のない
シールド材が得られるものであることを知り、この発明
を完成させるに至つた。The present inventors have conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, bonded a transparent film substrate to the upper and lower surfaces of a transparent substrate via a transparent adhesive layer, and attached one surface of one of the transparent film substrates. By providing a transparent conductive layer and a specific anti-glare treatment layer on one surface of the other transparent film substrate to form a shielding agent, it has both functions of transmitting visible light, shielding against static electricity and electromagnetic waves. In addition, the present inventors have found that a transparent substrate having good anti-glare properties and scratch resistance and a shield material free from problems in terms of productivity, cost, and work can be obtained. I got it.
すなわち、この発明は、透明基板と、この基板の上下
両面に透明粘着剤層を介して貼り合わされた透明フィル
ム基材とを備え、かつ上記一方の透明フイルム基材の一
面に透明導電層が、他方の透明フイルム基材の一面に硬
化型樹脂にシリカ粒子を分散結着させた硬化被膜からな
る防眩処理層が、それぞれ設けられていることを特徴と
する静電気、電磁波シールド材に係るものである。That is, the present invention comprises a transparent substrate, a transparent film substrate bonded to the upper and lower surfaces of the substrate via transparent adhesive layers, and a transparent conductive layer on one surface of the one transparent film substrate, An anti-glare treatment layer comprising a cured film obtained by dispersing and binding silica particles to a curable resin on one surface of the other transparent film substrate, wherein each of the anti-glare and electromagnetic wave shielding materials is provided. is there.
この発明における透明基板としては、厚みが通常0.5
〜10mm程度の透明なガラス板や、ポリカーボネート、セ
ルロースプロピオーネ、アクリル樹脂などの透明なプラ
スチツク板などが用いられる。なお、ガラス板とプラス
チツク板とを積層させて透明基板を構成させてもよく、
この場合には比較的脆く破損され易いガラス板の破損時
の飛散防止効果が期待される。As the transparent substrate in the present invention, the thickness is usually 0.5
A transparent glass plate having a thickness of about 10 mm, a transparent plastic plate made of polycarbonate, cellulose propione, acrylic resin, or the like is used. In addition, a transparent substrate may be formed by laminating a glass plate and a plastic plate,
In this case, the effect of preventing scattering of the glass plate, which is relatively brittle and easily broken, is expected.
この発明における透明フイルム基材としては、可撓性
と透明性とを備えた厚みが通常３〜250μｍ、特に９〜1
88μｍ程度のプラスチツクフイルムが好ましく用いられ
る。このようなフイルムとしては、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステ
ル類、ビスフエノールＡ系ポリカーボネートの如きポリ
カーボネート類、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの
ポリオレフイン類、セルローストリアセテート、セルロ
ースジアセテートなどのセルロース誘導体類、ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリ
イミド類、ポリアミド類、ポリエーテルスルホン、ポリ
スルホンなどの各種プラスチツクからなるフィルムがあ
る。The thickness of the transparent film substrate having flexibility and transparency in the present invention is usually 3 to 250 μm, especially 9 to 1 μm.
A plastic film of about 88 μm is preferably used. Examples of such a film include polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polycarbonates such as bisphenol A-based polycarbonate; polyolefins such as polyethylene and polypropylene; cellulose derivatives such as cellulose triacetate and cellulose diacetate; There are films made of vinyl resins such as vinyl and polyvinylidene chloride, and various plastics such as polyimides, polyamides, polyethersulfone, and polysulfone.
透明フイルム基材の厚みが薄くなりすぎると機械的強
度が不足し、また厚くなりすぎるとフレキシブル性が欠
如し、たとえばロール状として連続的に該基材表面に透
明導電層や防眩処理層あるいは透明粘着剤層を形成する
ことが難しくなる。また、フレキシブル性がないため、
透明基板を貼り合わせる際、両者間に浮き現象や気泡が
生じ易くなり密着性を阻害するので好ましくない。When the thickness of the transparent film substrate is too thin, the mechanical strength is insufficient, and when the thickness is too large, flexibility is lacking.For example, a transparent conductive layer or an anti-glare treatment layer or It becomes difficult to form a transparent pressure-sensitive adhesive layer. Also, because there is no flexibility,
When a transparent substrate is bonded, a floating phenomenon and air bubbles are easily generated between the two, which hinders the adhesion, which is not preferable.
この発明においては、上述のように、透明フイルム基
材をロール状として、このフイルム基材上に連続して透
明導電層、防眩処理層あるいは透明粘着剤層を形成させ
ることができ、またこの状態において上記透明基板と適
宜貼り合わせることができるので、従来のような逐一透
明基板上に透明導電層や防眩処理層を直接的に形成させ
る単一操作を繰り返して行うといつた手数が省略でき、
これにより作業容易性と生産性の向上さらにコスト低減
が実現される。In the present invention, as described above, the transparent film substrate is formed into a roll, and a transparent conductive layer, an anti-glare treatment layer or a transparent pressure-sensitive adhesive layer can be continuously formed on the film substrate. In the state, since it can be appropriately bonded to the transparent substrate, it is unnecessary to repeatedly perform a single operation of directly forming a transparent conductive layer or an anti-glare treatment layer on the transparent substrate one by one as in the related art. Can,
As a result, workability and productivity are improved, and cost is reduced.
この発明において、上記の透明基板と透明フイルム基
材とを貼り合わせるための透明粘着剤層としては、透明
性を有するものであれば特に限定なく採用できるが、た
とえばアクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ゴム系粘
着剤などが好ましく用いられる。この粘着剤層は、透明
フイルム基材の一面に設けられる透明導電層および防眩
処理層に対してクツシヨン作用を発揮しこれら層の外的
要因による損傷を防ぐ役割をも有している。In the present invention, the transparent pressure-sensitive adhesive layer for bonding the transparent substrate and the transparent film substrate can be employed without particular limitation as long as it has transparency. For example, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a silicon-based pressure-sensitive adhesive Agents, rubber-based adhesives and the like are preferably used. The pressure-sensitive adhesive layer exerts a cushioning action on the transparent conductive layer and the anti-glare treatment layer provided on one surface of the transparent film substrate, and also has a role of preventing damage to these layers due to external factors.
このような透明粘着剤層の厚みは、上記役割をも考慮
して、通常５〜500μｍの範囲とするのが好ましい。薄
すぎると接着機能および上述の効果を期待できず、また
厚くしすぎると可視光線透過性や作業性などの面で不利
となる。The thickness of such a transparent pressure-sensitive adhesive layer is usually preferably in the range of 5 to 500 μm in consideration of the above role. If it is too thin, the adhesive function and the above-mentioned effects cannot be expected. If it is too thick, it is disadvantageous in terms of visible light transmittance and workability.
この発明において、透明基板の上下両面に上記の透明
粘着剤層を介して貼り合わされるふたつの透明フイルム
基材のうち、一方のフイルム基材の一面に設けられる透
明導電層としては、金、銀、白金、パラジウム、銅、ア
ルミニウム、ニツケル、クロム、チタン、鉄、コバル
ト、スズまたはこれらの合金などからなる金属薄膜、酸
化インジウム、酸化チタン、酸化第二スズ、酸化カドミ
ウムなどからなる金属酸化物薄膜のほか、ヨウ化銅など
の薄膜が好ましく用いられる。In the present invention, among the two transparent film substrates bonded to the upper and lower surfaces of the transparent substrate via the transparent pressure-sensitive adhesive layer, the transparent conductive layer provided on one surface of one of the film substrates includes gold, silver, and the like. Metal thin film made of platinum, palladium, copper, aluminum, nickel, chromium, titanium, iron, cobalt, tin or alloys thereof, and metal oxide thin film made of indium oxide, titanium oxide, stannic oxide, cadmium oxide, etc. In addition, a thin film such as copper iodide is preferably used.
透明導電層の厚みは、静電気、電磁波シールド性と透
明性を考慮して適宜の範囲に設定されるが、金属薄膜で
は通常30〜600Åの範囲、金属酸化物薄膜では通常80〜
5,000Åの範囲とするのが好ましい。また、この透明導
電層の表面抵抗は、静電気シールド用として用いる場合
は109Ω／□以下、電磁波シールド用として用いる場合
は103Ω／□以下とするのが好ましい。The thickness of the transparent conductive layer is set to an appropriate range in consideration of static electricity, electromagnetic wave shielding properties and transparency, but is usually in the range of 30 to 600 mm for metal thin films, and usually 80 to 600 mm for metal oxide thin films.
Preferably it is in the range of 5,000 mm. Further, the surface resistance of this transparent conductive layer is preferably 10 9 Ω / □ or less when used for electrostatic shielding, and 10 3 Ω / □ or less when used for electromagnetic wave shielding.
このような透明導電層は、たとば真空蒸着法、スパツ
タリング法、イオンプレーテイング法、化学蒸着法、ス
プレー熱分解法、化学メツキ法、電気メツキ法またはこ
れらの組み合わせ法などの公知の薄膜形成技術により、
容易に形成することができる。このうち、特に真空蒸着
法、スパツタリング法は、膜形成速度、大面積への適
用、生産性などの観点から好適に採用できる。Such a transparent conductive layer is formed by a known thin film forming technique such as a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition method, a spray pyrolysis method, a chemical plating method, an electric plating method or a combination thereof. By
It can be easily formed. Among them, in particular, the vacuum deposition method and the sputtering method can be suitably adopted from the viewpoints of film formation speed, application to a large area, productivity, and the like.
なお、このような透明導電層の形成に先立つて、被着
面、すなわち透明フイルム基材の表面に対し前処理とし
て、コロナ放電処理、紫外線照射処理、プラズマ処理、
スパツタエツチング処理、アンダーコート処理を施すこ
とにより、上記フイルム基材に対する透明導電層の密着
性を高めることができる。Prior to the formation of such a transparent conductive layer, the surface to be adhered, that is, the surface of the transparent film substrate, as a pretreatment, corona discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, plasma treatment,
By applying the sputter etching treatment and the undercoat treatment, the adhesion of the transparent conductive layer to the film substrate can be increased.
また、上記透明導電層の表面に、MgF2、SiO2、Al
2O3、TiO、TiO2、ZrO2などの誘電体薄膜層を形成して、
可視光線透過率の向上や酸化などによる透明導電層の性
能劣化を防ぐようにしてもよい。Further, on the surface of the transparent conductive layer, MgF 2 , SiO 2 , Al
Form a dielectric thin film layer of 2 O 3 , TiO, TiO 2 , ZrO 2 etc.,
The performance of the transparent conductive layer may be prevented from deteriorating due to an increase in visible light transmittance or oxidation.
この発明において、他方のフイルム基材の一面に設け
られる防眩処理層としては、メラミン系樹脂、ウレタン
系樹脂、アルキド系樹脂、アクリル系樹脂、シリコン系
樹脂などの硬化型樹脂にシリカ粒子を分散結着させてな
る硬化被膜が好ましく用いられる。In the present invention, as the antiglare treatment layer provided on one surface of the other film substrate, silica particles are dispersed in a curable resin such as a melamine resin, a urethane resin, an alkyd resin, an acrylic resin, and a silicon resin. A cured film formed by binding is preferably used.
この硬化被膜の形成に際しては、まず上述の硬化型樹
脂にシリカ粒子を配合し、必要に応じて帯電防止剤、重
合開始剤などの各種の添加剤を加えてなる組成物を、通
常溶剤で希釈して固型分が約20〜80重量％となる処理剤
を調製する。In forming the cured film, first, silica particles are blended with the curable resin described above, and a composition obtained by adding various additives such as an antistatic agent and a polymerization initiator as needed is diluted with a normal solvent. Thus, a treating agent having a solid content of about 20 to 80% by weight is prepared.
ここで用いるシリカ粒子は、非晶質で多孔性のもので
あり、代表例としてシリカゲルを挙げることができる。
平均粒子径としては、通常30μｍ以下、好ましくは２〜
15μｍ程度であるのがよい。また配合割合は、樹脂100
重量部に対してシリカ粒子が0.1〜10重量部となるよう
にするのが好ましい。少なすぎると防眩効果に乏しくな
り、また多くなりすぎると可視光線透過率や被膜強度を
失することになる。The silica particles used here are amorphous and porous, and a typical example thereof is silica gel.
The average particle size is usually 30 μm or less, preferably 2 to
It is preferably about 15 μm. The mixing ratio is 100
It is preferable that the amount of the silica particles be 0.1 to 10 parts by weight based on the weight part. If the amount is too small, the antiglare effect is poor, and if it is too large, the visible light transmittance and the film strength are lost.
つぎに、上記の処理剤を透明フイルム基材の一面に適
当な手段たとえば一般的な溶液塗工手段であるグラビヤ
コータ、リバースコータ、スプルーコータ、スロツトオ
リフイスコータなどの手段により、乾燥硬化後の膜厚が
通常５〜30μｍ程度となるように塗布し、加熱乾燥後紫
外線照射、電子線照射あるいは加熱により硬化させる。Next, the above-mentioned treating agent is dried and cured on one surface of the transparent film substrate by an appropriate means such as a general solution coating means such as a gravure coater, a reverse coater, a sprue coater, or a slot orifice coater. It is applied so that the film thickness is usually about 5 to 30 μm, and is dried by heating, and then cured by irradiation with ultraviolet rays, irradiation with an electron beam or heating.
このようにして得られるシリカ粒子含有の硬化被膜か
らなる防眩処理層は、この処理層を有する透明フイルム
基材を透明基板に貼り合わせたとき、この基材に対して
良好な防眩性を付与し、かつ硬化皮膜の硬度が高くて耐
スクラツチ性にすぐれているため、透明基板の耐擦傷性
の向上に大きく寄与することになる。The antiglare treatment layer composed of the cured film containing silica particles obtained in this manner has a good antiglare property with respect to this substrate when the transparent film substrate having the treatment layer is bonded to the transparent substrate. Since it is applied and the cured film has high hardness and excellent scratch resistance, it greatly contributes to improvement of the scratch resistance of the transparent substrate.
なお、このような防眩処理層の形成に先立つて、被着
面、すなわち透明フイルム基材の表面に対し、前処理と
してコロナ放電処理、紫外線照射処理、プラズマ処理、
スパツタエツチング処理、プライマ処理、易接着処理を
施してもよく、これにより上記フイルム基材と防眩処理
層との密着性を高めることができる。Prior to the formation of such an antiglare treatment layer, the surface to be adhered, that is, the surface of the transparent film substrate, is subjected to corona discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, plasma treatment as pretreatment,
A sputter etching treatment, a primer treatment, and an easy adhesion treatment may be performed, whereby the adhesion between the film substrate and the anti-glare treatment layer can be enhanced.
以上の構成要素からなるこの発明の静電気、電磁波シ
ールド材は、既述してきたことからも明らかなように、
通常は透明フイルム基材の一面に透明導電層を、他面に
透明粘着剤層を、それぞれ設けてなるシールド処理フイ
ルムと、透明フイルム基材の一面に防眩処理層を、他面
に透明粘着剤層を、それぞれ設けてなる防眩処理フイル
ムとを形成し、これら処理フイルムをそれぞれの透明粘
着剤層を介して透明基板の上下両面に貼り合わせること
により、作製される。The static electricity and electromagnetic wave shielding material of the present invention composed of the above components are, as is clear from the above description,
Usually, a transparent conductive layer is provided on one side of a transparent film substrate, a transparent adhesive layer is provided on the other side, and a shielded film is provided.An antiglare layer is provided on one side of the transparent film base, and a transparent adhesive is provided on the other side. An anti-glare treatment film provided with each of the agent layers is formed, and these treated films are bonded to the upper and lower surfaces of a transparent substrate via respective transparent adhesive layers.
第１図は、このようにして作製されるこの発明の静電
気、電磁波シールド材の構成例を示したもので、図中、
１は透明基板、2,2は透明粘着剤層、3,3は透明フイルム
基材、４は透明導電層、５は防眩処理層である。FIG. 1 shows a configuration example of the static electricity and electromagnetic wave shielding material of the present invention thus manufactured.
1 is a transparent substrate, 2 and 2 are transparent adhesive layers, 3 and 3 are transparent film base materials, 4 is a transparent conductive layer, and 5 is an antiglare treatment layer.
このシール材は、透明な構成素材からなるため良好な
可視光線透過率を有し、また片面の透明導電層４によつ
てすぐれた静電気、電磁波シールド機能を発揮し、かつ
他面の防眩処理層５によつて防眩性および耐擦傷性にも
すぐれており、さらに前記した２種の処理フイルムの形
成とその貼り合わせによつて作製できることから、生産
性およびコストや作業性の面で有利なものとなる。Since this sealing material is made of a transparent constituent material, it has a good visible light transmittance, exhibits excellent static electricity and electromagnetic wave shielding functions by the transparent conductive layer 4 on one side, and has an anti-glare treatment on the other side. The layer 5 has excellent anti-glare properties and abrasion resistance, and can be produced by forming the above-mentioned two kinds of processing films and laminating them, which is advantageous in terms of productivity, cost and workability. It becomes something.
また、このシールド材における透明導電層４または防
眩処理層５に傷が発生した場合には、損傷したフイルム
基材２のみを透明基板１より剥離して適宜取り替えるだ
けで新たなシールド材として使用できるから、その作業
性やコスト面で有利となるばかりかシールド材自体の寿
命を著しく延長させうるものとなる。Further, when the transparent conductive layer 4 or the anti-glare treatment layer 5 of this shield material is damaged, only the damaged film substrate 2 is peeled off from the transparent substrate 1 and replaced as appropriate to be used as a new shield material. As a result, not only is it advantageous in terms of workability and cost, but also the life of the shield material itself can be significantly extended.
さらに、このシールド材は、透明基板１の両面に前記
２種の処理フイルムが貼り合わされていることから、片
面のみの貼り合わせとは異なつて、シールド材のソリ現
象がほとんどみられないという特徴をも有している。Further, this shield material is characterized in that since the two kinds of processing films are bonded to both surfaces of the transparent substrate 1, unlike the bonding of only one surface, the warp phenomenon of the shield material is hardly observed. Also have.
すなわち、たとえば透明基板１の片面に前記したシー
ルド処理フイルムのみを貼り合わせたものでは、透明基
板１と上記処理フイルムとの線膨張係数、吸湿膨張率、
熱収縮率などの差異によりシールド材全体にソリが発生
しやすいが、この発明のように上記処理フイルムを貼り
あわせた透明基板１の他面側に前記した防眩処理フイル
ムを貼り合わせれば両処理フイルムによつて上述の差異
に起因したソリ現象がほとんどみられなくなるのであ
る。このような作用効果は、シールド材としての実際の
使用に際し、外観上および機能上非常に好ましい結果を
与えるものである。That is, for example, when only the above-mentioned shield processing film is bonded to one surface of the transparent substrate 1, the linear expansion coefficient, the hygroscopic expansion coefficient,
Although warpage is likely to occur on the entire shield material due to a difference in heat shrinkage and the like, both processes can be performed by bonding the anti-glare processing film to the other surface of the transparent substrate 1 on which the processing film is bonded as in the present invention. The warping phenomenon caused by the above-mentioned difference is hardly observed by the film. Such an effect gives a very favorable result in appearance and function when actually used as a shielding material.
以上のように、この発明によれば、高い可視光線透過
能を有するとともに、デイスプレイデバイスなどから発
生する静電気や電磁波をシールドしうるすぐれたシール
ド能を有し、しかも透明基板自体の防眩性や耐擦傷性に
すぐれて、かつ生産性やコスト面、作業上などの問題や
さらにソリ現象などの問題のない、実用価値の極めて高
い静電気、電磁波シールド材を提供することができる。As described above, according to the present invention, in addition to having high visible light transmission ability, having excellent shielding ability to shield static electricity and electromagnetic waves generated from a display device and the like, and the antiglare property of the transparent substrate itself and An extremely high practical value static electricity and electromagnetic wave shielding material having excellent scratch resistance and free from problems such as productivity, cost, work, and warping phenomenon can be provided.
以下に、この発明の実施例を記載してより具体的に説
明する。なお、以下の特性試験は、つぎの方法にて行つ
たものである。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail. In addition, the following characteristic test was performed by the following method.
＜表面抵抗＞ ４端子法にて測定した。<Surface resistance> It was measured by a four-terminal method.
＜光学特性＞ 全光線透過率およびヘイズは日本電色産業製のデジタ
ルヘーズメータNDH−20Dを用いて測定した。60度光沢度
はスガ試験機社製変角光度計UGV−5Dを用いて測定し
た。<Optical Characteristics> Total light transmittance and haze were measured using a digital haze meter NDH-20D manufactured by Nippon Denshoku Industries. The 60-degree glossiness was measured using a variable angle photometer UGV-5D manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.
＜静電気シールド特性＞ 春日電気社製の集電式電位測定器KS−325を用いて、
テレビのブラウン管（CRT）表面にシールド材を設置
（アース付き）し、表面の静電気（テレビのON時）を測
定した。なお、シールド材を放置しない場合は、40〜50
kVの静電気電位を持つ。<Electrostatic shielding characteristics> Using a current collector potential measuring instrument KS-325 manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd.
A shield material was installed (with ground) on the surface of the CRT of the TV, and the static electricity on the surface (when the TV was ON) was measured. If you do not leave the shield material, 40-50
Has kV electrostatic potential.
＜電磁波シールド特性＞ アドバンテスト社製電磁波シールド効果測定装置TR−
17301を用いて周波数107、108、109Hzの電磁波シールド
効果（dB）を測定した。<Electromagnetic wave shielding characteristics>Advantest's electromagnetic wave shielding effect measuring device TR-
Electromagnetic shielding effects (dB) at frequencies of 10 7 , 10 8 , and 10 9 Hz were measured using 17301.
＜ソリ特性＞ シールド材をフリーな状態にて、温度60℃，湿度95％
RHとした環境試験機内に24時間放置後、ガラス板上にお
いてソリ返りの高さを測定した。<Slipping characteristics> With the shield material free, temperature 60 ° C, humidity 95%
After standing for 24 hours in an environmental tester set to RH, the height of warpage was measured on a glass plate.
＜耐擦傷性＞ スチールウール＃0000を用いてシールド材表面（透明
導電層とは反対例の面）を強くこすることにより擦傷を
行い、その表面状況の変化を目視観察し、つぎの三段階
の評価を行つた。<Scratch resistance> Scratch was performed by strongly rubbing the surface of the shielding material (surface opposite to the transparent conductive layer) using steel wool # 0000, and visually observing the change in the surface condition, and the following three steps Was evaluated.
Ａ…強くこすつてもほとんど傷がつかない Ｂ…強くこすると傷がつく Ｃ…軽くこするだけで著しく傷がつく 実施例１ 厚さ75μｍの透明なポリエチレンテレフタレートフイ
ルムの片面に、In−Sn合金（Sn含有量10重量％）をター
ゲツトとして酸素ガスを導入した反応性マグネトロンス
パツタリング法により、In2O3−SnO2からなる厚さ約600
Åの透明導電層を形成した。つぎに、このフイルムの透
明導電層を有しない他面側にアクリル系粘着剤を用いて
厚さ20μｍの透明粘着剤層を形成して、シールド処理フ
イルムとした。A: hardly scratches even with strong rubbing B: scratches with strong rubbing C: severely scratches only with slight rubbing (Sn content 10% by weight) as a target, a reactive magnetron sputtering method in which oxygen gas is introduced, and a thickness of about 600 comprising In 2 O 3 -SnO 2.
A transparent conductive layer of 形成 was formed. Next, a transparent adhesive layer having a thickness of 20 μm was formed using an acrylic adhesive on the other side of the film having no transparent conductive layer, to obtain a shielded film.
このシールド処理フイルムを、厚さ2mmのアクリル板
（日東樹脂工業社製のクラレツクスＳクリアーフラツト
000）の一面に、透明粘着剤層を介して貼り合わせ、さ
らにこのアクリル板の他面側に、防眩処理フイルムとし
て日東電気工業社製のアンチグレアシートAG−30（厚さ
50μｍのポリエステルフイルムの一面にアクリル樹脂中
にシリカ粒子を分散結着させた厚さ７μｍの硬化被膜か
らなる防眩処理層が、他面に厚さ25μｍのアクリル系の
透明粘着剤層が、それぞれ形成されてなる処理フイル
ム）を、透明粘着剤層を介して貼り合わせ、この発明の
静電気、電磁波シールド材とした。A 2 mm thick acrylic plate (Kurarayx S Clear Flat, manufactured by Nitto Jushi Kogyo Co., Ltd.)
000) on one side with a transparent adhesive layer interposed therebetween, and on the other side of this acrylic plate, an anti-glare sheet AG-30 (thickness) manufactured by Nitto Denki Kogyo KK as an anti-glare film.
On one surface of a 50 μm polyester film, an antiglare treatment layer composed of a cured film having a thickness of 7 μm in which silica particles are dispersed and bound in an acrylic resin, and on the other surface, an acrylic transparent adhesive layer having a thickness of 25 μm, The formed processing film) was adhered through a transparent pressure-sensitive adhesive layer to obtain a static electricity and electromagnetic wave shielding material of the present invention.
比較例１ アクリル板の他面側に防眩処理フイルムを貼り合わせ
なかつた以外は、実施例１と同様にして比較用の静電
気、電磁波シールド材を作製した。Comparative Example 1 A static electricity and electromagnetic wave shielding material for comparison was produced in the same manner as in Example 1 except that the antiglare film was not bonded to the other surface of the acrylic plate.
比較例２ 一面側に防眩処理層を有するアクリル板（日東樹脂工
業社製のクラレツクスクリアノングレアNo.1001）を用
い、このアクリル板の防眩処理層を有しない他面側に、
実施例１と同様の方法で作製した透明粘着剤層、透明フ
イルム基材および透明導電層にて構成されるシールド処
理フイルムを、透明粘着剤層を介して貼り合わせ、比較
用の静電気、電磁波シールド材を作製した。Comparative Example 2 An acrylic plate having an anti-glare treatment layer on one surface side (Kuraraykusukuria non glare No. 1001 manufactured by Nitto Jushi Kogyo Co., Ltd.) was used, and on the other side of the acrylic plate having no anti-glare treatment layer,
A shielded film composed of a transparent pressure-sensitive adhesive layer, a transparent film substrate, and a transparent conductive layer produced in the same manner as in Example 1 was adhered via the transparent pressure-sensitive adhesive layer, and a static electricity and electromagnetic wave shield for comparison were used. Materials were produced.
実施例２ 真空蒸着装置のベルジャー内を１〜２×104Torrとな
るように排気したのち、タングステンボート内にAgをタ
ーゲツトとして収容し、この蒸着源から20cmの距離に透
明フイルム基材としての厚さ100μｍのポリエステルフ
イルムをセツトとして、抵抗加熱法によりこのフイルム
上に蒸着速度数十Å／秒にて厚さ120ÅのAg導電層を形
成し、以下実施例１と同様にしてこの発明の静電気、電
磁波シールド材を作製した。Example 2 After the inside of the bell jar of the vacuum evaporation apparatus was evacuated to 1 to 2 × 10 4 Torr, Ag was stored as a target in a tungsten boat, and a transparent film substrate was placed at a distance of 20 cm from this evaporation source. Using a polyester film having a thickness of 100 μm as a set, an Ag conductive layer having a thickness of 120 mm was formed on the film by a resistance heating method at a deposition rate of several tens of seconds / sec. Then, an electromagnetic wave shielding material was produced.
実施例３ 実施例２の方法で形成したAg導電層上に、さらに抵抗
加熱法により蒸着真空度１〜２×10-4Torr、蒸着速度数
十Å／秒の条件で500ÅのSiO薄膜からなる誘電体薄膜層
を蒸着形成し、以下実施例１と同様にしてこの発明の静
電気、電磁波シールド材を作製した。Example 3 On the Ag conductive layer formed by the method of Example 2, a 500 ° SiO thin film was further formed by a resistance heating method under the conditions of a degree of vacuum of 1 to 2 × 10 -4 Torr and a deposition rate of several tens of degrees / second. A dielectric thin film layer was formed by vapor deposition, and a static electricity and electromagnetic wave shielding material of the present invention was produced in the same manner as in Example 1.
上記実施例１〜３および比較例1,2で作製した各シー
ルド材の特性を調べた結果は、つぎの第１表に示される
とおりであつた。The results of examining the characteristics of the respective shield materials manufactured in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 are as shown in Table 1 below.
つぎに、実施例１〜３に係る静電気、電磁波シールド
材を、CRT、LCDなどのデイスプレイ前面に取り付けて実
用テストを行つたところ、高い可視光線透過率とすぐれ
た防眩性によつて良好な視認性が得られるとともに、静
電気および電磁波に対するすぐれたシールド性が発揮さ
れることが確認された。さらに、上記デイスプレイ前面
への取り付け時などにおいても、ソリなどの現象はみら
れず、また使用中のシールド材表面の耐擦傷性も良好で
あつた。 Next, the static electricity and electromagnetic wave shielding materials according to Examples 1 to 3 were attached to the front surface of a display such as a CRT or an LCD, and a practical test was performed. As a result, good visible light transmittance and excellent anti-glare properties were obtained. It was confirmed that visibility was obtained and excellent shielding properties against static electricity and electromagnetic waves were exhibited. Further, even when attached to the front surface of the display, no phenomenon such as warpage was observed, and the surface of the shield material in use had good scratch resistance.
第１図はこの発明の静電気、電磁波シールド材の構成例
を示す断面図である。 １……透明基板、２……透明粘着剤層、３……透明フイ
ルム基材、４……透明導電層、５……防眩処理層FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration example of a static electricity and electromagnetic wave shielding material of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent substrate, 2 ... Transparent adhesive layer, 3 ... Transparent film base material, 4 ... Transparent conductive layer, 5 ... Anti-glare treatment layer
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｆ 1/02 9470−5Ｇ Ｈ０５Ｆ 1/02 Ｋ Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Agency reference number FI Technical display location H05F 1/02 9470-5G H05F 1/02 K
Claims (1)
着剤層を介して貼り合わされた透明フィルム基材とを備
え、かつ上記一方の透明フイルム基材の一面に透明導電
層が、他方の透明フイルム基材の一面に硬化型樹脂にシ
リカ粒子を分散結着させた硬化被膜からなる防眩処理層
が、それぞれ設けられていることを特徴とする静電気、
電磁波シールド材。1. A transparent substrate, comprising: a transparent film substrate bonded to upper and lower surfaces of the substrate via transparent adhesive layers; and a transparent conductive layer on one surface of the one transparent film substrate and the other An anti-glare treatment layer composed of a cured coating obtained by dispersing and binding silica particles to a curable resin on one surface of a transparent film substrate, wherein static electricity,
Electromagnetic wave shielding material.
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