JP2983989B2 - Static electricity, electromagnetic wave shielding material - Google Patents

Static electricity, electromagnetic wave shielding material

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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、各種電子、通信装置、たとえばデイスプ
レイデバイスなどを備えた装置に取付けられる静電気、
電磁波シールド材に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to various kinds of electronic and communication devices, for example, static electricity attached to a device having a display device and the like.
It relates to an electromagnetic wave shielding material.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来から上記デイスプレイデバイスなどを備えた装置
におけるたとえば窓材などとして用いられるシールド材
としては、外部からデイスプレイ内部を目視できるよう
な高い可視光線透過能、つまりすぐれた透明性(視認
性)を有しているとともに、デイスプレイデバイスなど
から発生する静電気(高電圧)または電磁波などをシー
ルドしうるシールド特性を有していることが要求され
る。
Conventionally, as a shield material used as, for example, a window material in an apparatus equipped with the above display device, etc., it has a high visible light transmittance so that the inside of the display can be seen from outside, that is, excellent transparency (visibility). In addition, it is required to have a shielding property capable of shielding static electricity (high voltage) or electromagnetic waves generated from a display device or the like.

上記この種のシールド材としては、ガラス基板やポリ
カーボネート基板などの透明部材上にメツシユタイプの
カーボン繊維や金属コーテイング繊維を貼り合わせたも
のや、上記透明部材上に金属酸化物薄膜を直接的に形成
させたものなどが汎用されている。
As this kind of shielding material, a material in which a mesh type carbon fiber or a metal coating fiber is bonded on a transparent member such as a glass substrate or a polycarbonate substrate, or a metal oxide thin film is directly formed on the transparent member. Are widely used.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

しかるに、上記従来のシールド材、すなわち、メツシ
ユタイプのカーボン繊維や金属コーテイング繊維を用い
たものは、基板を透過する像や物体が該メツシユ部で切
断されたり、光の反射による散乱によりゆらぎを生じ視
認性を悪くさせるといつた問題があり、一方、金属酸化
物を用いたものは、その作製に際し、遂一透明部材上に
金属酸化物膜を形成させる単一操作を繰返し行わねばな
らないので、生産性が悪くコスト高となるだけでなく、
上記のようにガラス基板を用いた場合、該基板自体の性
状から作業時や使用時に容易に破損したり、かつ曲げ加
工ができないといつた問題点を露呈する。さらに、プラ
スチック基板を用いた場合でも、その金属酸化物膜形成
作業時に該薄膜にキズがつき易く、擦傷性の悪いものと
なつていた。
However, the above-mentioned conventional shielding material, that is, the one using mesh type carbon fiber or metal coating fiber, causes an image or an object passing through the substrate to be cut at the mesh portion, or to fluctuate due to scattering due to light reflection. However, there is a problem when the metal oxide is made worse, while the production using a metal oxide requires a single operation of forming a metal oxide film on a transparent member at the time of its production. Not only is it bad and expensive,
When a glass substrate is used as described above, there are problems that the substrate itself is easily damaged at the time of work or use and that bending cannot be performed due to the properties of the substrate itself. Further, even when a plastic substrate is used, the thin film is easily scratched during the metal oxide film forming operation, and the scratch resistance is poor.

したがつて、この発明は、上記従来の問題点の解消の
ため、高い可視光線透過能を有するとともに、上記装置
のデイスプレイデバイスなどから発生する静電気や電磁
波などをシールドしうるすぐれたシールド能を有し、か
つ、その作製時の作業性および耐擦傷性の良好な静電
気、電磁波シールド材を提供することを目的とする。
Therefore, the present invention has a high visible light transmitting ability and an excellent shielding ability capable of shielding static electricity and electromagnetic waves generated from the display device of the above-mentioned apparatus in order to solve the above-mentioned conventional problems. Another object of the present invention is to provide a static electricity and electromagnetic wave shielding material having good workability and scratch resistance at the time of its production.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

この発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意検
討した結果、透明なフイルム基材の一方の面に透明な導
電層を設け、透明導電フイルムを構成させ、この透明導
電フイルムの導電層を有しない開放面に粘着剤層を設け
るとともに、他の透明基板をこの粘着剤層を介して貼り
合わせることにより、可視光線透過能、静電気および電
磁波に対するシールド能のいずれの機能をも兼ね備えた
部材が得られて、しかもその作製時の作業性および耐擦
傷性が良好なものであることを知り、この発明を完成さ
せるに至つた。
The present inventors have conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, provided a transparent conductive layer on one surface of a transparent film substrate to form a transparent conductive film, and formed a conductive layer of the transparent conductive film. A member having both functions of visible light transmitting ability, shielding property against static electricity and electromagnetic waves by providing an adhesive layer on an open surface having no adhesive and bonding another transparent substrate through the adhesive layer. Was obtained, and it was found that the workability and abrasion resistance at the time of its production were good, and the present invention was completed.

すなわち、この発明は、厚みが5〜300μmである透
明なフイルム基材の一方の面に、厚みが50〜5,000Åの
金属薄膜または金属酸化物薄膜からなる透明な導電層を
設け、他面に厚みが5〜500μmである透明な粘着剤層
を設けるとともに、この粘着剤層を介して厚みが1〜10
mmである他の透明基板を貼り合わせてなる静電気、電磁
波シールド剤に係る。
That is, the present invention provides a transparent film substrate having a thickness of 5 to 300 μm, on one surface, a transparent conductive layer made of a metal thin film or a metal oxide thin film having a thickness of 50 to 5,000 mm, and on the other surface. A transparent pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 5 to 500 μm is provided, and a thickness of 1 to 10
The present invention relates to an electrostatic and electromagnetic wave shielding agent obtained by bonding another transparent substrate having a thickness of mm.

〔発明の構成・作用〕[Structure and operation of the invention]

この発明において使用する透明フイルム基材として
は、透明性を有するフイルムであれば広く適用でき、た
とえばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリイミ
ド(PI)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリエー
テルエーテルケトン(PEEK)、ポリカーボネート(P
C)、ポリプロピレン(PP)、ポリアミド、アクリル、
セルロースプロピオーネ(CP)などの厚みが5〜300μ
m程度のプラスチツクフイルムなどが好ましく用いられ
る。
As the transparent film substrate used in the present invention, any film having transparency can be widely applied, for example, polyethylene terephthalate (PET), polyimide (PI), polyethersulfone (PES), polyetheretherketone (PEEK). ), Polycarbonate (P
C), polypropylene (PP), polyamide, acrylic,
The thickness of cellulose propione (CP) is 5-300μ
m of plastic film is preferably used.

上記フイルムの厚みが薄くなりすぎると、フイルムの
機械的強度が不足し、また厚くなりすぎるとフイルムの
フレキシブル性が欠如し、たとえば、ロール状として連
続的に該フイルム表面に上記透明導電層、あるいは粘着
剤層を形成させることが難しくなる。また、フレキシブ
ル性がないために、上記透明基板を貼り合わせる際、両
者間に浮き現象や気泡が生じ易くなり密着性を阻害する
ので好ましくない。
If the thickness of the film is too thin, the mechanical strength of the film is insufficient, and if the film is too thick, the flexibility of the film is lacking, for example, the transparent conductive layer on the film surface continuously as a roll, or It becomes difficult to form an adhesive layer. In addition, since there is no flexibility, when the transparent substrates are bonded to each other, a floating phenomenon and air bubbles are easily generated between the two, which hinders the adhesion, which is not preferable.

この発明において、上記フイルム基材の一方の面に設
けられる透明な導電層は、酸化第二スズ、酸化インジウ
ム、酸化チタン、酸化カドミウムなどの金属酸化物また
はこれらの混合物からなる金属酸化物薄膜であるが、あ
るいは、金属インジウム、金属スズ、金、銀、白金、パ
ラジウム、銅、アルミニウム、ニツケル、クロム、チタ
ン、鉄、コバルトなどの金属またはこれらの合金からな
る金属薄膜のいずれかであり、その厚みは50〜5,000Å
の範囲で適宜変更されるが、この発明に係る用途などか
ら勘案して、上記金属酸化物薄膜の場合は80〜5,000
Å、また上記金属薄膜の場合は50〜400Å程度とされ
る。
In the present invention, the transparent conductive layer provided on one surface of the film substrate is a metal oxide thin film made of a metal oxide such as stannic oxide, indium oxide, titanium oxide, cadmium oxide or a mixture thereof. There is, or, metal indium, metal tin, gold, silver, platinum, palladium, copper, aluminum, nickel, chromium, titanium, iron, metal such as cobalt or any of these metal thin films made of alloys thereof, The thickness is 50-5,000Å
Although it is appropriately changed in the range, in consideration of the use according to the present invention, in the case of the metal oxide thin film, 80 to 5,000
Å, and in the case of the above-mentioned metal thin film, it is about 50 to 400 °.

導電層が上記範囲より薄すぎると、膜構造上の欠陥に
より静電気や電磁波に対するシールド性が低下し、また
厚くなりすぎると可視光線透過率が低下するため、いず
れも好ましくない。
If the thickness of the conductive layer is too thin, the shielding properties against static electricity and electromagnetic waves are reduced due to defects in the film structure. If the thickness is too large, the visible light transmittance is reduced, and neither is preferable.

上記導電層の表面抵抗は、特に静電シールド用として
用いる場合は、109Ω/□以下、また電磁波シールド用
として用いる場合は、103Ω/□以下が好ましい。この
ような導電層は、金属薄膜または金属酸化物薄膜を形成
するための通常の技術、たとえば真空蒸着法、スパツタ
リング法、イオンプレーテイング法、化学蒸着法、スプ
レー熱分解法、化学メツキ法、電気メツキ法またはこれ
らの組み合わせ法などの公知の薄膜形成技術により、容
易に形成することができる。
The surface resistance of the conductive layer is preferably 10 9 Ω / □ or less when used for electrostatic shielding, and 10 3 Ω / □ or less when used for electromagnetic wave shielding. Such a conductive layer can be formed by a conventional technique for forming a metal thin film or a metal oxide thin film, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition method, a spray pyrolysis method, a chemical plating method, an electric plating method. It can be easily formed by a known thin film forming technique such as a plating method or a combination method thereof.

この発明において、フイルム基材の導電層を有しない
片面に設けられる粘着剤層としては、透明性を有するも
のであれば特に限定なく使用できるが、たとえばアクリ
ル系粘着剤などは好ましく用いられる。そして、この粘
着剤層の厚みは通常は5〜500μmとされる。
In the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer provided on one side of the film substrate having no conductive layer can be used without any particular limitation as long as it has transparency. For example, an acrylic pressure-sensitive adhesive is preferably used. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is usually 5 to 500 μm.

この粘着剤層の厚みは、この発明における重要な一つ
の要素となるもので、たとえばシールド材の像粘剤の厚
みを5μm未満とした場合には、前記デイスプレイデバ
イスなどを備えた装置への取付けなどの際、該シールド
材における粘着剤層のクツシヨン作用が期待できないた
め上記透明フイルム基材上の導電層が押圧操作などによ
り容易に損傷されるといつた弊害につながり、また500
μmより厚くすると、クツシヨン効果は保有するもの
の、可視光線透過性や作業性あるいはコストの面で好ま
しくないといつた問題がある。
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is an important factor in the present invention. For example, when the thickness of the image adhesive of the shielding material is less than 5 μm, the pressure-sensitive adhesive layer may be attached to an apparatus having the display device or the like. In such a case, since the cushioning action of the pressure-sensitive adhesive layer in the shield material cannot be expected, if the conductive layer on the transparent film base material is easily damaged by a pressing operation or the like, it may lead to an adverse effect.
When the thickness is more than μm, the cushioning effect is maintained, but there is a problem that it is not preferable in terms of visible light transmittance, workability and cost.

この発明における上記導電層を設けたフイルム基材の
担体となる透明基板は、その形状が平板状または曲形状
などのものが採用され、たとえば厚みが通常1〜10mm程
度のガラス板や、ポリカーボネート(PC)、セルロース
プロピオーネ(CP)、アクリルなどの透明なプラスチツ
ク板などが用いられる。
The transparent substrate serving as a carrier of the film substrate provided with the conductive layer according to the present invention has a plate shape or a curved shape, for example, a glass plate having a thickness of usually about 1 to 10 mm, or a polycarbonate ( A transparent plastic plate such as PC), cellulose propione (CP), or acrylic is used.

なお、上記ガラス板とプラスチツク板とを積層させて
透明基板を構成させてもよく、この場合には比較的脆く
破損され易いガラス板の破損時の飛散防止効果が付加さ
れる。
The transparent plate may be formed by laminating the glass plate and the plastic plate. In this case, an effect of preventing the glass plate, which is relatively brittle and easily damaged, from being scattered when the glass plate is damaged is added.

第1図は、上記この発明に係る静電気、電磁波シール
ド材の構成を示すもので、図中1は透明なフイルム基材
2の一方の面に設けられた透明な導電層で、3は上記フ
イルム基材2の他面に設けられた透明な粘着剤層であ
る。そして、4は上記粘着剤層3を介してフイルム基材
2に貼り合わされた透明基板である。
FIG. 1 shows the structure of an electrostatic and electromagnetic wave shielding material according to the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a transparent conductive layer provided on one surface of a transparent film substrate 2, and 3 denotes the film. It is a transparent pressure-sensitive adhesive layer provided on the other surface of the substrate 2. Reference numeral 4 denotes a transparent substrate bonded to the film substrate 2 via the pressure-sensitive adhesive layer 3.

このようなシールド材は、電磁波シールド性を向上さ
せる目的でその導電層1を接触させないように積層した
り、導電層1の保護などの目的で上記第1図のシールド
材を、さらに第2図に示すように、その導電層1面を互
いに接触させるようにして積層させて用いてもよい。
Such a shielding material is laminated so as not to contact the conductive layer 1 for the purpose of improving the electromagnetic wave shielding property, or the shielding material shown in FIG. As shown in (1), the conductive layers may be stacked so that their surfaces are in contact with each other.

また、透明基板4表面にアンチグレア−処理、すわな
ち成形、サンドマツド、塗工法などにより基板4表面を
凹凸形状にし、光の表面散乱および吸収を増加させるこ
とにより表面反射を少なくさせ、まぶしさをなくすよう
にして該基板4の視認性をさらに向上させるようにして
もよい。
In addition, the surface of the transparent substrate 4 is made uneven by anti-glare treatment, that is, molding, sand matting, coating method, etc., and the surface reflection and absorption are reduced by increasing surface scattering and absorption of light, thereby reducing glare. The visibility of the substrate 4 may be further improved by eliminating it.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のように、この発明の静電気、電磁波シールド材
は、可視光線透過能、静電気および電磁波シールド能の
いずれか機能をも兼ね備えたものであるため、たとえば
デイスプレイデバイスなどを備えた装置の窓材として適
用されれは、その透明性により装置内部の目視が容易と
なるとともに、装置内部から発生する静電気あるいは電
磁波を好適にシールドするという格別の効果が奏し得ら
れるものとなる。
As described above, since the static electricity and electromagnetic wave shielding material of the present invention also has one of the functions of transmitting visible light, static electricity and electromagnetic wave shielding ability, for example, as a window material of an apparatus having a display device or the like. When applied, the transparency facilitates visual inspection inside the device, and provides a special effect of suitably shielding static electricity or electromagnetic waves generated from inside the device.

また、上記シールド材は、上述のように透明フイルム
基材を用いて構成しているため、たとえばロール状とな
した透明フイルム基材を使用し連続的に該フイルム基材
上に導電層、あるいは粘着剤層を形成させることがで
き、かつ、該導電層と粘着剤層を形成したフイルム基材
と、上記透明基板とを連続して貼り合わせることも可能
となる。
Further, since the shielding material is configured using a transparent film substrate as described above, for example, a conductive layer is continuously formed on the film substrate by using a rolled transparent film substrate, or The pressure-sensitive adhesive layer can be formed, and the film substrate on which the conductive layer and the pressure-sensitive adhesive layer are formed and the transparent substrate can be continuously bonded.

したがつて、作業能率と、生産性の飛躍的な向上が期
待できるし、また作製されたシールド材は上記すぐれた
特性能とともに、既述した粘着剤層のクツシヨン効果に
より導電層の耐擦傷性が良好であるので、従来にない静
電気、電磁波シールド材として広い用途に適用され得る
ものとなる。
Therefore, a dramatic improvement in work efficiency and productivity can be expected.In addition, the produced shielding material has the above-mentioned excellent performance and the abrasion resistance of the conductive layer due to the cushioning effect of the pressure-sensitive adhesive layer described above. Is good, so that it can be applied to a wide range of uses as an unprecedented electrostatic and electromagnetic wave shielding material.

〔実施例〕〔Example〕

以下に、この発明の実施例を記載してより具体的に説
明する。なお、以下の特性試験は、つぎの方法にて行つ
たものである。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail. In addition, the following characteristic test was performed by the following method.

<表面抵抗> 4端子法にて測定した。<Surface resistance> It was measured by a four-terminal method.

<可視光線透過率> 分光分析装置UV−240(島津製作所社製)を用いて波
長550nmにおける透過率を測定した。
<Visible light transmittance> The transmittance at a wavelength of 550 nm was measured using a spectrophotometer UV-240 (manufactured by Shimadzu Corporation).

<静電気シールド特性> 集電式電位測定器KS−325型(春日電気社製)を用い
て、テレビのブラウン管(CRT)表面にシールド材を設
置(アース付き)し、シールド材表面の静電気量(テレ
ビON時)を測定した。なお、シールド材を設置しない場
合は、40〜50kVの静電気電位を持つ。
<Electrostatic shield characteristics> Using a collector-type potential meter KS-325 (manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd.), install a shield material (with a ground) on the surface of the CRT (CRT) of the TV, and measure the amount of static electricity ( (When the TV is ON). When no shielding material is installed, the static electricity potential is 40 to 50 kV.

<電磁波シールド特性> 電磁波シールド効果測定装置TR−17301(アドバンテ
スト社製)を用いて周波数107、108、109Hzの電界シー
ルド効果(dB)を測定した。
Was measured <electromagnetic shielding properties> electromagnetic shielding effect measuring device TR-17301 Frequency 10 7 using (manufactured by Advantest Corporation), 10 8, 10 9 Hz field shielding effect (dB).

実施例1 透明基材としての厚み75μmのPETフイルムの一面に
スパツタリング法により透明な導電層といて厚み約600
ÅのITO(In2O3:SnO2=9:1)からなる金属酸化物薄膜層
を形成した。そして、上記導電層を有しないPETフイル
ムの他面に厚み約20μmのアクリル系粘着剤層を形成し
た。つぎに、上記フイルムの粘着剤層を介して厚み2mm
のアクリル板を該フイルムと貼り合わせて静電気、電磁
波シールド材を作製した。
Example 1 A transparent conductive layer was formed on one surface of a PET film having a thickness of 75 μm as a transparent base material by a sputtering method to a thickness of about 600 μm.
A metal oxide thin film layer composed of ITO (In 2 O 3 : SnO 2 = 9: 1) was formed. Then, an acrylic pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of about 20 μm was formed on the other surface of the PET film having no conductive layer. Next, 2 mm thick through the adhesive layer of the film
Was laminated on the film to prepare a static electricity and electromagnetic wave shielding material.

実施例2 実施例1で用いた透明基材の一面に真空蒸着法により
導電層としてAuからなる厚さ約150Åの金属薄膜層を形
成した以外は、実施例1と同様な方法で静電気、電磁波
シールド材を作製した。
Example 2 Except that a metal thin film layer of about 150 mm thick made of Au was formed as a conductive layer on one surface of the transparent base material used in Example 1 by a vacuum evaporation method, static electricity and electromagnetic waves were produced in the same manner as in Example 1. A shield material was manufactured.

実施例3 実施例1で用いた透明基材の一面に真空蒸着法により
導電層としてAgからなる厚さ約180Åの金属薄膜層を形
成した以外は、実施例1と同様な方法で静電気、電磁波
シールド材を作製した。
Example 3 Except that a metal thin film layer made of Ag and having a thickness of about 180 ° made of Ag was formed as a conductive layer on one surface of the transparent substrate used in Example 1 by a vacuum evaporation method, static electricity and electromagnetic waves were obtained in the same manner as in Example 1. A shield material was manufactured.

上記実施例1〜3で作製した各シールド材の特性を第
1表に示す。
Table 1 shows the characteristics of each of the shield materials manufactured in Examples 1 to 3 above.

以上の実施例1〜3に係るシールド材を、CRT、LCDな
どのデイスプレイ前面に取付けて実用テストを行つたと
ころ、良好な視認性が得られるとともに、静電気および
電磁波に対するすぐれたシールド性が発揮されることが
確認された。
When the shielding materials according to the above Examples 1 to 3 were attached to the front of a display such as a CRT or an LCD and a practical test was performed, good visibility was obtained, and excellent shielding properties against static electricity and electromagnetic waves were exhibited. Was confirmed.

また、上記シールド材は、その製作に際し、上記導電
層を設けたフイルム基材を、該フイルム基材の粘着剤層
を介して透明基板と貼り合わせるだけでよく、作業性が
良好であるとともに、上記デイスプレイ前面への取付け
時においても、キズなどの発生はみられず、耐擦傷性も
良好であることが証明された。
In addition, the above-mentioned shielding material, in its manufacture, it is only necessary to bond the film substrate provided with the conductive layer to the transparent substrate via the adhesive layer of the film substrate, and the workability is good, No scratches or the like were observed even when attached to the front surface of the display, and it was proved that the scratch resistance was good.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図はこの発明の静電気、電磁波シールド材の一例を
示す断面図、第2図は第1図のシールド材を積層させた
状態を示す断面図である。 1……透明な導電層、2……透明なフイルム基材、3…
…透明な粘着剤層、4……透明基板
FIG. 1 is a sectional view showing an example of the electrostatic and electromagnetic shielding material of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view showing a state in which the shielding materials of FIG. 1 are stacked. 1 ... Transparent conductive layer, 2 ... Transparent film substrate, 3 ...
... Transparent adhesive layer, 4 ... Transparent substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川口 正明 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日 東電気工業株式会社内 (56)参考文献 実開 昭62−7112(JP,U) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Masaaki Kawaguchi 1-1-2 Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka Nitto Electric Industry Co., Ltd.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】厚みが5〜300μmである透明なフイルム
基材の一方の面に、厚みが5〜5,000Åの金属薄膜また
は金属酸化物薄膜からなる透明な導電層を設け、他面に
厚みが5〜500μmである透明な粘着剤層を設けるとと
もに、この粘着剤層を介して厚みが1〜10mmである他の
透明基板を貼り合わせてなることを特徴とする静電気、
電磁波シールド材。
1. A transparent film substrate having a thickness of 5 to 300 .mu.m is provided with a transparent conductive layer made of a metal thin film or a metal oxide thin film having a thickness of 5 to 5,000.degree. Is provided with a transparent pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 5 to 500 μm, and static electricity characterized by being bonded to another transparent substrate having a thickness of 1 to 10 mm through the pressure-sensitive adhesive layer,
Electromagnetic wave shielding material.
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